CN115041447A - 光罩版清洁系统 - Google Patents

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CN115041447A CN202210587229.4A CN202210587229A CN115041447A CN 115041447 A CN115041447 A CN 115041447A CN 202210587229 A CN202210587229 A CN 202210587229A CN 115041447 A CN115041447 A CN 115041447A
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    • F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
    • F26B5/12—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by suction

Abstract

本发明公开了一种光罩版清洁系统，用于清洁光罩版，所述清洁装置包括：机架、第一槽和第二槽；所述第一槽设于所述机架，所述第一槽用于盛装清洗药液，所述光罩版浸入清洗药液；所述第二槽设于所述机架，第二槽与所述第一槽间隔设置，所述第二槽用于冲洗所述光罩版。利用第一槽盛装清洗药液，并将光罩版浸入清洗药液中，从而可以全面、彻底的溶解污染物，再利用第二槽对光罩版进行冲洗，可以更加彻底的清理光罩版上的污染物，可以避免光罩版残留杂物，进而能够提高光刻工艺产品良率，减少光刻制程缺陷的产生。同时，设置第一槽和第二槽，可以同步完成两个光罩版的清洁操作，能够提高清洁装置的清洁效率。

Description

光罩版清洁系统
技术领域
本发明涉及芯片制造领域，特别涉及一种光罩版清洁系统。
背景技术
光罩版也叫光掩膜版、掩膜版，光罩版是光刻工艺所使用的图形母版。光罩版可以在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，从而便于光致抗蚀剂涂层选择性曝光。光罩版应用十分广泛，涉及光刻工艺的领域几乎都需要使用掩膜版，如IC(Integrated Circuit，集成电路)、FPD(Flat Panel Display，平板显示器)、PCB(PrintedCircuit Boards，印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统)等。
在光刻制程过程中，常常会产生光刻制程灰尘，光罩版可能会被灰尘或其他原因污染，从而影响光刻工艺产品的良率。
发明内容
本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术中光罩版在使用过程中会被污染的上述缺陷，提供一种光罩版清洁系统。
本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题：
一种光罩版清洁系统，用于清洁光罩版，所述光罩版清洁系统包括清洁装置及干燥装置，所述清洁装置用于清洗光罩版，所述干燥装置用于干燥经所述清洁装置处理后的所述光罩版。
在本方案中，通过采用以上结构，利用光罩版清洁系统的清洁装置对光罩版进行物理或化学清洗，然后将清洗后的光罩版放入干燥装置，利用干燥装置取出光罩版的残液液体等杂质，实现光罩版的清洁，可以避免光罩版出现杂物或残液，能够提高光刻工艺产品良率，减少光刻制程缺陷的产生。
清洗后的光罩版可以放置到干燥架上，同时利用排风部抽取箱体内的气体，从而带走光罩版上的残余液体，实现光罩版的干燥，可以避免光罩版出现残液，进而能够提高光刻工艺产品良率，减少光刻制程缺陷的产生。
较佳地，所述清洁装置包括机架、第一槽及第二槽，所述第一槽设于所述机架，所述第一槽用于盛装清洗药液，所述光罩版浸入清洗药液；所述第二槽设于所述机架，第二槽与所述第一槽间隔设置，所述第二槽用于冲洗所述光罩版。
在本方案中，通过采用以上结构，利用第一槽盛装清洗药液，并将光罩版浸入清洗药液中，从而可以全面、彻底的溶解污染物，再利用第二槽对光罩版进行冲洗，可以更加彻底的清理光罩版上的污染物，可以避免光罩版残留杂物，进而能够提高光刻工艺产品良率，减少光刻制程缺陷的产生。同时，设置第一槽和第二槽，可以同步完成两个光罩版的清洁操作，能够提高清洁装置的清洁效率。
较佳地，所述清洁装置还包括帘部，所述帘部设于所述第一槽，所述帘部用于喷出清洗液以对所述光罩版冲洗。
在本方案中，通过采用以上结构，利用帘部对光罩版进行冲洗，可以更加彻底的冲掉光罩版上的残留清洗药液及污染物。
较佳地，所述帘部包括顺次相连通的进管、储液腔及出口，清洗液经所述进管流入所述储液腔，清洗液经所述出口喷至所述光罩版。
在本方案中，通过采用以上结构，利用储液腔可以稳定清洗液的压力，使得清洗液流动更加稳定、可控。帘部包括顺次相连通的进管、储液腔及出口，结构简单，便于装配。
较佳地，所述第一槽的底面与水平面的夹角的范围为7°-25°；所述第一槽的底面沿所述光罩版放入的方向向下倾斜；
所述第二槽的底面与水平面的夹角的范围为7°-25°；所述第二槽的底面沿所述光罩版放入的方向向下倾斜。
在本方案中，通过采用以上结构，夹角的范围为7°-25°，便于汇集清洗药液及清洗液。
较佳地，所述清洁装置还包括若干支撑件，若干所述支撑件间隔设于所述第一槽的底部，所述光罩版放置于所述支撑件的上侧面；
或者，所述支撑件的上侧面设于防滑台阶；
和/或，所述清洁装置还包括矩形槽，所述矩形槽设于所述第一槽的侧面；
和/或，所述清洁装置还包括圆形槽，所述圆形槽设于所述第一槽的侧面。
在本方案中，通过采用以上结构，通过将光罩版放置到支撑件上，便于光罩版的取、放，也便于更好地清洗光罩版。
防滑台阶可以提高光罩版的稳定性，避免光罩版在清洗过程中意外滑动。
矩形槽可以放置清洗药液，比如NAOH等，圆形槽可以放置盛放硫酸的烧杯。
较佳地，所述干燥装置包括箱体、干燥架及排风部，所述干燥架设于所述箱体内，所述干燥架用于固定所述光罩版；所述排风部用于将所述箱体内的气体排放置所述箱体的外部。
在本方案中，通过采用以上结构，清洗后的光罩版可以放置到干燥架上，同时利用排风部抽取箱体内的气体，从而带走光罩版上的残余液体，实现光罩版的干燥，可以避免光罩版出现残液，进而能够提高光刻工艺产品良率，减少光刻制程缺陷的产生。
较佳地，所述干燥架包括相连接的竖撑部及底部，所述底部用于支撑所述光罩版的下侧边，所述竖撑部用于支撑所述光罩版的上侧边，所述光罩版斜靠于所述底部及所述竖撑部之间。
在本方案中，通过采用以上结构，干燥架包括相连接的竖撑部及底部，结构简单、稳固，光罩版可以稳固地斜靠在竖撑部与底部之间，也便于光罩版放入干燥架或者自干燥架取出。
较佳地，所述干燥装置还包括纵隔板，所述纵隔板设于所述箱体内，所述纵隔板将所述箱体分为前部空间及后部空间，所述干燥架设于所述前部空间。
在本方案中，通过采用以上结构，纵隔板将箱体分为前部空间及后部空间，实现箱体内部空间划分，便于在不同的空间实现不同的功能，可以避免前部空间内的腐蚀性气体对后部空间的部件造成伤害。
较佳地，所述干燥装置还包括送风过滤部，所述送风过滤部用于过滤空气并将过滤后的空气通入箱体内的前部空间。
在本方案中，通过采用以上结构，送风过滤部将外部空气过滤，随后通入箱体，能够避免空气中的杂质污染光罩版。
在符合本领域常识的基础上，上述各优选条件，可任意组合，即得本发明各较佳实例。
本发明的积极进步效果在于：
本发明通过利用光罩版清洁系统的清洁装置对光罩版进行物理或化学清洗，然后将清洗后的光罩版放入干燥装置，利用干燥装置取出光罩版的残液液体等杂质，实现光罩版的清洁，可以避免光罩版出现杂物或残液，能够提高光刻工艺产品良率，减少光刻制程缺陷的产生。
附图说明
图1为本发明实施例光罩版清洁系统中光罩版清洁装置的结构示意图。
图2为图1光罩版清洁装置的剖视结构示意图。
图3为图1光罩版清洁装置中第一槽、帘部的结构示意图。
图4为图3第一槽、帘部另一视角的结构示意图。
图5为图1光罩版清洁装置中第一槽侧视的结构示意图。
图6为图1光罩版清洁装置中帘部侧视的结构示意图。
图7为图1光罩版清洁装置中第二槽、冲洗口的结构示意图。
图8为图7第二槽、冲洗口侧视的结构示意图。
图9为本发明实施例光罩版清洁系统中光罩版干燥装置的结构示意图。
图10为图9光罩版干燥装置的剖视结构示意图。
图11为图9光罩版干燥装置的剖视另一视角的结构示意图。
图12为图9光罩版干燥装置中干燥架的结构示意图。
附图标记说明：
光罩版清洁装置100
机架11
矩形槽12
圆形槽13
抽气组件14
隔板15
进气口16
操作空间17
下层空间18
提升门19
第一槽20
底面21
支撑件22
防滑台阶221
第一排废管道23
第一脚踏操作部24
第二槽30
冲洗口31
第二排废管道32
第二脚踏操作部33
气枪34
水枪35
帘部40
进管41
干管411
支管412
储液腔42
出口43
调节阀44
电磁阀45
光罩版干燥装置500
箱体51
箱门511
纵隔板52
前部空间53
后部空间54
支撑杆55
通风口56
送风过滤部57
干燥架60
竖撑部61
底部62
凸出件63
阻挡件64
排风部70
底排组件80
汇流舱81
出液口82
进液口83
光罩版90
具体实施方式
下面通过实施例的方式并结合附图来更清楚完整地说明本发明，但并不因此将本发明限制在实施例的范围之中。
如图1-图12，本实施例为一种光罩版清洁系统，用于清洁光罩版90，光罩版清洁系统包括光罩版清洁装置100及光罩版干燥装置500，光罩版清洁装置100用于清洗光罩版90，光罩版干燥装置500用于干燥经光罩版清洁装置100处理后的光罩版90。利用光罩版清洁系统的光罩版清洁装置100对光罩版90进行物理或化学清洗，然后将清洗后的光罩版90放入光罩版干燥装置500，利用光罩版干燥装置500取出光罩版90的残液液体等杂质，实现光罩版90的清洁，可以避免光罩版90出现杂物或残液，能够提高光刻工艺产品良率，减少光刻制程缺陷的产生。
作为一种实施方式，光罩版清洁系统的光罩版清洁装置100及光罩版干燥装置500可以相对独立设置，也可以将光罩版清洁装置100及光罩版干燥装置500设置为一整体结构。
通过采用光罩版清洁系统进行采用清洗光罩版90，平均清洗时间可以控制在20min左右，能够提高清洗效率与黄光工站制程的品质良率，光罩版90清洗一次的成本大致150元，常规的清洗处理成本大致为300元，使用本实施例的光罩版清洁系统能够明显降低光罩版90清洁成本。
如图1-图8，本实施例为一种光罩版清洁系统，用于清洁光罩版90，光罩版清洁系统包括光罩版清洁装置100及光罩版干燥装置500，光罩版清洁装置100用于清洗光罩版90，光罩版干燥装置500用于干燥经光罩版清洁装置100处理后的光罩版90。利用光罩版清洁系统的光罩版清洁装置100对光罩版90进行物理或化学清洗，然后将清洗后的光罩版90放入光罩版干燥装置500，利用光罩版干燥装置500取出光罩版90的残液液体等杂质，实现光罩版90的清洁，可以避免光罩版90出现杂物或残液，能够提高光刻工艺产品良率，减少光刻制程缺陷的产生。
作为一种实施方式，光罩版清洁系统的光罩版清洁装置100及光罩版干燥装置500可以相对独立设置，也可以将光罩版清洁装置100及光罩版干燥装置500设置为一整体结构。
如图1-图8所示，本实施例为一种光罩版清洁装置100，用于清洁光罩版90，光罩版清洁装置100包括：机架11、第一槽20和第二槽30；第一槽20设于机架11，第一槽20用于盛装清洗药液，光罩版90浸入清洗药液；第二槽30设于机架11，第二槽30与第一槽20间隔设置，第二槽30用于冲洗光罩版90。利用第一槽20盛装清洗药液，并将光罩版90浸入清洗药液中，从而可以全面、彻底的溶解污染物，再利用第二槽30对光罩版90进行冲洗，可以更加彻底的清理光罩版90上的污染物，可以避免光罩版90残留杂物，进而能够提高光刻工艺产品良率，减少光刻制程缺陷的产生。同时，设置第一槽20和第二槽30，可以同步完成两个光罩版90的清洁操作，能够提高光罩版清洁装置100的清洁效率。
光罩版清洁装置100还包括帘部40，帘部40设于第一槽20，帘部40用于喷出清洗液以对光罩版90冲洗。利用帘部40对光罩版90进行冲洗，可以更加彻底的冲掉光罩版90上的残留清洗药液及污染物。帘部40具体可以为能够形成水帘状的结构件，比如可以包括喷嘴、类似花洒状结构。具有条状缝隙的结构等，均可形成水帘。
如图3-图6所示，帘部40包括顺次相连通的进管41、储液腔42及出口43，清洗液经进管41流入储液腔42，清洗液经出口43喷至光罩版90。利用储液腔42可以稳定清洗液的压力，使得清洗液流动更加稳定、可控。帘部40包括顺次相连通的进管41、储液腔42及出口43，结构简单，便于装配。
进管41包括干管411及若干支管412，干管411通过支管412与储液腔42相连通，若干支管412沿储液腔42的长度方向均匀间隔设置。若干支管412沿储液腔42的长度方向均匀间隔设置，使得清洗液能够多个位置同时进入储液腔42，使得清洗液更加均匀地流入储液腔42，避免储液腔42内部清洗液大范围波动。
出口43的高度与光罩版90靠近出口43的侧边的高度相应；出口43的高度与光罩版90靠近出口43的侧边的高度相应，使得清洗液能够直接冲洗光罩版90。
出口43的长度大于光罩版90靠近出口43的侧边的长度；出口43的长度大于光罩版90靠近出口43的侧边的长度，能够更加全面地清洗光罩版90，避免光罩版90出现死角。
作为一种实施方式，储液腔42整体可以为长方体状，干管411并联3个均匀间隔设置的支管412。每个支管412上均安装有调节阀44，调节阀44可以控制每个支管412的流速，从而可以使得位置不同的三个支管412能够以可控的流速向储液腔42供液。出口43呈长条缝状，清洗液经出口43流出，形成帘状，出口43的高度与光罩版90的高度一致，清洗液可以直接流至光罩版90上。
干管411上也可以设置电磁阀45，电磁阀45可以控制帘部40的打开或关闭。
第一槽20的底面21与水平面的夹角的范围为7°-25°；第一槽20的底面21沿光罩版90放入的方向向下倾斜。第二槽30的底面21与水平面的夹角的范围为7°-25°；第二槽30的底面21沿光罩版90放入的方向向下倾斜。夹角的范围为7°-25°，便于汇集清洗药液及清洗液。具体的，第一槽20的底面21与水平面的夹角及第二槽30的底面21与水平面的夹角均可以为10°、15°或20°。
如图4所示，光罩版清洁装置100还包括若干支撑件22，若干支撑件22间隔设于第一槽20的底部，光罩版90放置于支撑件22的上侧面；通过将光罩版90放置到支撑件22上，便于光罩版90的取、放，也便于更好地清洗光罩版90。作为一种实施方式，支撑件22具体可以为板材，支撑件22还可以与第一槽20一体成型。支撑件22的上侧面低于帘部40的出液口，支撑件22的上侧面与帘部40的出液口之间的距离的范围可以小于13mm。支撑件22的厚度可以为5mm，长度可以为700mm，相邻的两个支撑件22之间的距离可以为40mm。在光罩版90冲洗时，光罩版90放在支撑件22上冲洗，提可以高清洗效果，避免出现清洗死角。
支撑件22的上侧面设于防滑台阶221；防滑台阶221可以提高光罩版90的稳定性，避免光罩版90在清洗过程中意外滑动。
光罩版清洁装置100还包括矩形槽12，矩形槽12设于第一槽20的侧面。光罩版清洁装置100还包括圆形槽13，圆形槽13设于第一槽20的侧面。矩形槽12可以放置清洗药液，比如NAOH等，圆形槽13可以放置盛放硫酸的烧杯。矩形槽12与圆形槽13顺次排列，圆形槽13更靠近操作者。
作为一种实施方式，矩形槽12的底部也可以设置排液管，用于排出矩形槽12内的废液。
如图1，圆形槽13的侧面还设有气枪34及水枪35，可以更加彻底地清洁光罩版90。
如图7和图8所示，光罩版清洁装置100还包括冲洗口31，冲洗口31设于第二槽30，冲洗口31用于流出冲洗液。利用冲洗口31，可以更加彻底地清洗光罩版90。
光罩版清洁装置100还包括第一排废管道23，第一排废管道23用于将第一槽20内的液体排放置光罩版清洁装置100的外部。光罩版清洁装置100还包括第二排废管道32，第二排废管道32用于将第二槽30内的液体排放置光罩版清洁装置100的外部。利用第一排废管道23、第二排废管道32排出残液，可以使得光罩版90清洗更加干净。第一排废管道23、第二排废管道32各自独立排液，便于清洗药液的回收，也可以避免化学试剂药液落到工作台面。
作为一种实施方式，第一槽20及第二槽30整体均可以为矩形槽12。
光罩版清洁装置100还包括抽气组件14，抽气组件14设于机架11的顶部，第一槽20及第二槽30的上方形成操作空间17，抽气组件14用于将操作空间17内的气体排放置光罩版清洁装置100的外部。利用抽气组件14抽取操作空间17内的气体，可以使得操作空间17形成负压，避免操作空间17内的气体外溢。
如图1及图2所示，光罩版清洁装置100整体呈立方体状，光罩版清洁装置100的四种具有围板，从而形成相对于独立的空间。第一槽20及第二槽30的上方为操作空间17，第一槽20及第二槽30的下方为下层空间18。下层空间18可以放置光罩版清洁装置100的气动、电动设备。
光罩版清洁装置100还包括隔板15，隔板15将光罩版清洁装置100内部分为前后两个部分，第一槽20及第二槽30均在隔板15前方。隔板15上设有若干进气口16，抽气组件14设置在隔板15后方。抽气组件14的排气口设置在光罩版清洁装置100顶部。隔板15后方还可以设置光罩版清洁装置100需要的其他部件。隔板15可以避免操作空间17内的腐蚀性气体进入隔板15后方，能够避免隔板15后方的零部件被腐蚀。
为便于操作，光罩版清洁装置100还可以具有提升门19，通过打开提升门19，操作人员可以将光罩版90放入第一槽20或第二槽30。
光罩版清洁装置100还包括通信连接的第一脚踏操作部24、第一控制部及第一执行部，第一脚踏操作部24设于靠近第一槽20的地面，第一脚踏操作部24用于向第一控制部发出开启信号；第一控制部用于接收开启信号，第一控制部还用于向第一执行部发出启动信号；第一执行部用于接收启动信号，第一执行部还用于打开第一槽20的帘部40；
光罩版清洁装置100还包括通信连接的第二脚踏操作部33、第二控制部及第二执行部，第二脚踏操作部33设于靠近第二槽30的地面，第二脚踏操作部33用于向第二控制部发出开启信号；第二控制部用于接收开启信号，第二控制部还用于向第二执行部发出启动信号；第二执行部用于接收启动信号，第二执行部还用于打开第二槽30的冲洗口31。
通过设置第一脚踏操作部24、第二脚踏操作部33，从而可以利用脚部实现对第一执行部、第二执行部的控制，不耽误操作人员手部作业。作为一种实施方式，第一脚踏操作部24、第二脚踏操作部33均可以为脚踏开关，第一控制部、第二控制部均可以控制电路部件，第一执行部及第二执行部均可以为电磁阀45，电磁阀45可以实现对帘部40及冲洗口31的控制。
作为一种实施方式，可以通过手持或机械臂夹持光罩版90，并将光罩版90放入第一槽20，第一槽20内可以放入硫酸等清洗剂，同步利用刷子刷洗光罩版90，刷洗时间可以为60s，同时利用帘部40对光罩版90进行冲洗，冲洗液可以为去离子水，随后可以将光罩版90放入第二槽30，继续对光罩版90冲洗，冲洗时间可以为2min。
如图9-图12所示，图中为光罩版清洁系统中的光罩版干燥装置500，用于干燥光罩版90，光罩版干燥装置500包括：箱体51、干燥架60及排风部70，干燥架60设于箱体51内，干燥架60用于固定光罩版90；排风部70用于将箱体51内的气体排放至箱体51的外部。清洗后的光罩版90可以放置到干燥架60上，同时利用排风部70抽取箱体51内的气体，从而带走光罩版90上的残余液体，实现光罩版90的干燥，可以避免光罩版90出现残液，进而能够提高光刻工艺产品良率，减少光刻制程缺陷的产生。
干燥架60包括相连接的竖撑部61及底部62，底部62用于支撑光罩版90的下侧边，竖撑部61用于支撑光罩版90的上侧边，光罩版90斜靠于底部62及竖撑部61之间。干燥架60包括相连接的竖撑部61及底部62，结构简单、稳固，光罩版90可以稳固地斜靠在竖撑部61与底部62之间，也便于光罩版90放入干燥架60或者自干燥架60取出。在本实施例中，竖撑部61及底部62均可以为板状、网状、篱笆状等，竖撑部61及底部62也可以成L状拼接，在其他实施例中，干燥架60也可以为其他结构形式。
干燥架60的宽度小于箱体51的宽度。干燥架60的宽度小于箱体51的宽度，使得干燥架60与箱体51的侧壁之间具有空隙，从而便于箱体51内气体流动，可以提高干燥效率。
光罩版干燥装置500还包括若干凸出件63，若干凸出件63间隔设于竖撑部61的侧面，光罩版90通过凸出件63斜靠至竖撑部61。若干凸出件63间隔设于底部62的上侧面，光罩版90的下侧边压设于凸出件63。凸出件63使得光罩版90与竖撑部61、底部62之间相隔开，便于光罩版90与竖撑部61、底部62之间气体的流动，也便于光罩版90上残液流出。在本实施例中，凸出件63可以为长条板状，在其他实施例中，凸出件63也可以为柱状或三角形状等。
光罩版干燥装置500还包括阻挡件64，阻挡件64沿底部62的长度方向设置，阻挡件64用于阻止光罩版90滑动。阻挡件64可以避免光罩版90滑动，提高光罩版90的稳固性。在本实施例中，阻挡件64具体可以为长条状的角钢、方管等。阻挡件64横贯底部62，凸出件63设于阻挡件64的两侧。
光罩版干燥装置500还包括底排组件80，底排组件80用于排出干燥架60内的液体，底排组件80的进液口83设于底部62。底排组件80便于排出自光罩版90流下来的残液。
如图11及图12所示，底排组件80还包括汇流舱81及出液口82，进液口83的数量为多个，多个进液口83均设于底部62，干燥架60内的液体经顺次经进液口83、汇流舱81及出液口82流出。底排组件80包括多个进液口83、汇流舱81及出液口82，结构简单。作为一种实施方式，两个阻挡件64之间可以均设有进液口83，便于残液及时流入汇流舱81。
如图10及图11所示，光罩版干燥装置500还包括纵隔板52，纵隔板52设于箱体51内，纵隔板52将箱体51分为前部空间53及后部空间54，干燥架60设于前部空间53。纵隔板52将箱体51分为前部空间53及后部空间54，实现箱体51内部空间划分，便于在不同的空间实现不同的功能，可以避免前部空间53内的腐蚀性气体对后部空间54的部件造成伤害。在本实施例中，纵隔板52自箱体51的底部62向上延伸至箱体51的顶部。前部空间53设有干燥架60，后部空间54可以设置光罩版干燥装置500的辅助部件，比如各种管路、线路、电动部件、照明部件等。纵隔板52与干燥架60的竖撑部61之间也设有空隙，便于箱体51内部气体流体。
光罩版干燥装置500还包括若干支撑杆55，若干支撑杆55设于干燥架60与纵隔板52之间。干燥架60通过支撑杆55连接至纵隔板52，可以提高干燥架60的稳固性。在本实施例中，支撑杆55可以为型材、板材等。多个支撑杆55均匀间隔设置。
纵隔板52上具有若干通风口56，排风部70通过通风口56抽出前部空间53内的气体。具体的，通风口56可以为长缝状或圆孔状，多个通风口56间隔设置。
光罩版干燥装置500还包括送风过滤部57，送风过滤部57用于过滤空气并将过滤后的空气通入箱体51内的前部空间53。送风过滤部57将外部空气过滤，随后通入箱体51，能够避免空气中的杂质污染光罩版90。
作为一种实施方式，箱体51整体呈立方体状，箱体51设有便于光罩版90进入的箱门511。打开箱门511，可以将光罩版90放入或取出。
虽然以上描述了本发明的具体实施方式，但是本领域的技术人员应当理解，这仅是举例说明，本发明的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本发明的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，但这些变更和修改均落入本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种光罩版清洁系统，用于清洁光罩版，其特征在于，所述光罩版清洁系统包括清洁装置及干燥装置，所述清洁装置用于清洗光罩版，所述干燥装置用于干燥经所述清洁装置处理后的所述光罩版。
2.如权利要求1所述的光罩版清洁系统，其特征在于，所述清洁装置包括：
机架；
第一槽，所述第一槽设于所述机架，所述第一槽用于盛装清洗药液，所述光罩版浸入清洗药液；
第二槽，所述第二槽设于所述机架，第二槽与所述第一槽间隔设置，所述第二槽用于冲洗所述光罩版。
3.如权利要求2所述的光罩版清洁系统，其特征在于，所述清洁装置还包括帘部，所述帘部设于所述第一槽，所述帘部用于喷出清洗液以对所述光罩版冲洗。
4.如权利要求3所述的光罩版清洁系统，其特征在于，所述帘部包括顺次相连通的进管、储液腔及出口，清洗液经所述进管流入所述储液腔，清洗液经所述出口喷至所述光罩版。
5.如权利要求2所述的光罩版清洁系统，其特征在于，所述第一槽的底面与水平面的夹角的范围为7°-25°；所述第一槽的底面沿所述光罩版放入的方向向下倾斜；
所述第二槽的底面与水平面的夹角的范围为7°-25°；所述第二槽的底面沿所述光罩版放入的方向向下倾斜。
6.如权利要求2所述的光罩版清洁系统，其特征在于，所述清洁装置还包括若干支撑件，若干所述支撑件间隔设于所述第一槽的底部，所述光罩版放置于所述支撑件的上侧面；
或者，所述支撑件的上侧面设于防滑台阶；
和/或，所述清洁装置还包括矩形槽，所述矩形槽设于所述第一槽的侧面；
和/或，所述清洁装置还包括圆形槽，所述圆形槽设于所述第一槽的侧面。
7.如权利要求1所述的光罩版清洁系统，其特征在于，所述干燥装置包括：
箱体，
干燥架，所述干燥架设于所述箱体内，所述干燥架用于固定所述光罩版；
排风部，所述排风部用于将所述箱体内的气体排放置所述箱体的外部。
8.如权利要求7所述的光罩版清洁系统，其特征在于，所述干燥架包括相连接的竖撑部及底部，所述底部用于支撑所述光罩版的下侧边，所述竖撑部用于支撑所述光罩版的上侧边，所述光罩版斜靠于所述底部及所述竖撑部之间。
9.如权利要求7所述的光罩版清洁系统，其特征在于，所述干燥装置还包括纵隔板，所述纵隔板设于所述箱体内，所述纵隔板将所述箱体分为前部空间及后部空间，所述干燥架设于所述前部空间。
10.如权利要求1-9中任意一项所述的光罩版清洁系统，其特征在于，所述干燥装置还包括送风过滤部，所述送风过滤部用于过滤空气并将过滤后的空气通入箱体内的前部空间。
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