CN115007496A - 一种背光基板的检测装置 - Google Patents

Abstract

本申请涉及检测技术的领域，尤其是涉及一种背光基板的检测装置。包括；检测平台机构、检测罩体机构、X轴传动机构、Y轴传动机构、Z轴传动机构；检测平台机构设置下真空连接管；检测罩体机构与检测平台机构闭合形成真空状态时，光源发生组件和第一拍照组件遍历待检测基板的上表面以形成检测待检测基板的图像。本申请通过将检测罩体机构运动至检测平台机构上方、且与检测平台机构闭合，检测组件遍历基板的上表面，形成检测图像。分析单元对拍摄的照片分析处理，即可获得检测分析结果信息；本申请通过设置反射镜实现对基板下表面的检测；设置等离子清洁机构对基板进行清洁处理，进一步提高检测效果。

Description

一种背光基板的检测装置

技术领域

本申请涉及检测技术的领域，尤其是涉及一种背光基板的检测装置。

背景技术

背光基板为液晶显示器面板的关键零组件之一，功能在于供应充足的亮度与分布均匀的光源，使其能正常显示影像。

背光基板作为用来确保液晶显示屏背后发出光亮的光源装置，对于液晶显示屏的发光质量起到了决定性的影响作用。然后在背光基板的生产过程中，即使使用等级较高的无尘室生产车间并严格遵守防尘流程，依然无法完全避免空气中的小颗粒异物附着于背光基板表面。

目前的背光基板表面异物的检测方法为采用散射光照射于背光基板后，通过人工肉眼目视检查基板外观是否具有缺陷。通过人工肉眼观测，经常会出现漏检、误判的情况，并且，人工肉眼检测效率低下，无法满足连续生产的需求。

针对上述中的相关技术，发明人认为如何有效检测背光基板，并提高检测效率是当前应该解决的问题。

发明内容

为了有效检测背光基板，本申请提供一种背光基板的检测装置。

本申请提供的一种背光基板的检测装置采用如下的技术方案：

一种背光基板的检测装置，包括；

检测平台机构，设置有具有一容置空间下腔体、 一端与所述下腔体贯通的下真空连接管，所述下真空连接管的另一端与真空泵连接；待检测基板放置在所述下腔体内；

检测罩体机构，设置有具有一容置空间上腔体、设置在所述上腔体侧壁上的破真空组件、设置在所述上腔体内部的光源发生组件，与所述光源发生组件并排设置的第一拍照组件、用以控制所述光源发生组件和所述第一拍照组件经位移的移动控制组件；所述移动控制组件设置在所述上腔体内部，以可带动所述光源发生组件和所述第一拍照组件遍历待检测基板的上表面；

所述检测罩体机构具有以可运动至所述检测平台机构上方、且与所述检测平台机构闭合的真空状态，及，以远离所述检测平台机构的常压状态；

所述检测罩体机构与所述检测平台机构闭合形成真空状态时，所述光源发生组件和所述第一拍照组件遍历待检测基板的上表面以形成检测待检测基板的图像。

通过采用上述技术方案，通过将检测罩体机构运动至检测平台机构上方、且与所述检测平台机构闭合，移动控制组件带动光源发生组件、第一拍照组件遍历基板的上表面，光源发生组件的激光发生器，通过激光发生器形成光路，照射在背光基板上，所述第一拍照组件自动聚焦拍照，对光路在基板处进行拍摄，形成图像。对拍摄的照片传输至分析模块进行分析处理，获得检测分析结果信息。并且检测平台机构的下腔体连接有真空连接管，在上料的过程中就可以提供负压状态，既能保证待检测基板在检测平台机构上放置的稳定性，又能出去一部分灰尘颗粒等，以减少检测结果中的颗粒物的影响，提高检测结论的准确性，从而能够有效的待检测基板质量。

可选的，所述检测罩体机构上设置上真空连接管。

通过采用上述技术方案，当只有下真空连接管时，由于下真空连接管在非闭合状态下，就需要通过真空吸附给待检测基板处形成一个负压环境。为实现高效的闭合，在闭合式就需要提供一个较高的抽真空压力。而当破真空组件对处于真空状态的检测罩体机构与检测平台机构打开时，需要将真空状态变为常压态以使检测罩体机构能够升起，同时还是要保持给待检测基板处形成一个负压环境，实现较为复杂，控制难度相对较大，破真空效率低，且对真空泵形成一定的影响。在检测罩体机构上设置上真空连接管，破真空时可同时关闭上真空连接管。只有一个较低压力的下真空连接管处于工作状态，较容易实现破真空，并控制，避免真空态干扰。

可选的，所述上真空连接管、所述下真空连接管上设置有电磁阀，以控制所述下腔体与真空泵的连通与否；所述下真空连接管上设置的电磁阀上设置有时间继电器。

通过采用上述技术方案，通过电磁阀控制与真空泵的连通与否，控制精准可靠。通过设置时间继电器控制时间来实现真空保压时间。

可选的，所述上真空连接管、所述下真空连接管的电磁阀前设置压力开关，用以控制抽真空的压力。

通过采用上述技术方案，通过设置压力开关控制抽真空的压力，从而保证负压压力、闭合压力处于合理的状态。

可选的，所述检测平台机构还包括吸板，所述吸板设置在所述下腔体内部，具有吸附孔；待检测基板放置在所述吸板上方。

通过采用上述技术方案，通过设置吸板，吸板上设置吸附孔，从而均化负压。

可选的，所述光源发生组件包含激光发生器，所述激光发生器形成光路并照射在背光基板上；所述第一拍照组件包括具有自动聚焦的拍照单元，对光路在基板处进行拍摄，形成图像。

通过采用上述技术方案，通过公开了检测组件方式，并实现对基本上表面的检测和记录。

可选的，所述下腔体内设置有反射镜、载物架，所述反射镜设置在所述下腔体内的所述吸板上，所述载物架设置在所述反射镜上；待检测基板放置在所述反射镜上，待检测基板和反射镜之间形成一个间隙；在所述反射镜处设置有反射拍照组件，所述反射拍摄组件以可拍摄待检测基板下表面形成图像。

通过采用上述技术方案，实现对基板下表面的检测状态的记录。由于背板的结构设置特点，可能存在部分位置不透明，因此通过背时反射镜记录基板下表面的检测状态，实现检测无遗漏。

可选的，所述背光基板的检测装置还包括X轴传动机构、Y轴传动机构、Z轴传动机构；

所述检测平台机构设置在所述X轴传动机构上，所述X轴传动机构以可带动所述检测平台机构沿X轴方向往复运动；

所述Z轴传动机构设置在所述Y轴传动机构上，所述Y轴传动机构以可带动所述Z轴传动机构沿Y轴方向往复运动；

所述检测罩体机构设置在所述Z轴传动机构上，所述Z轴传动机构以可带动所述检测罩体机构升降运动。

通过采用上述技术方案，公开了X轴传动机构、Y轴传动机构、Z轴传动机构的连接关系。

可选的，所述背光基板的检测装置还包括等离子清洁机构；

所述等离子清洁机构包括清洁头组件、清洁头移动组件、清洁头调节组件、排气组件、清洁头支撑架；所述清洁头支撑架跨设在所述X轴传动机构上，所述检测平台机构能够自所述清洁头支撑架下部空间穿过；

所述清洁头组件设置在清洁头调节组件上，所述清洁头调节组件设置在所述清洁头移动组件上，所述清洁头移动组件设置在所述清洁头支撑架上，所述排气组件与所述清洁头组件连接；所述清洁头移动组件用以控制所述清洁头调节组件移动；所述清洁头调节组件用以调节所述清洁头组件与待检测基板之间的距离。

通过采用上述技术方案，公开了为了进一步提高检测效果，避免基板表面的污染影响检测结果，设置了等离子清洁机构对基板进行清洁处理。

可选的，所述X轴传动机构侧设置有机械手，所述机械手设置有旋转组件、抓取组件，所述旋转组件用以控制所述抓取组件将经过检测的基板样品分别自所述检测平台机构上抓取并放置在转用运输皮带或检修运输皮带上。

通过采用上述技术方案，公开了检测平台机构具有上料工作位、清洗工作位、检测工作位、取料工作位，经过检测的基板通过机械手根据检测结果实现分拣，从而实现对不同质量的基板的分类，从而提高了检测整个工序的效率，也提高了后续工作的效率。

本申请包括以下至少一种有益技术效果：

1.本申请通过将检测罩体机构运动至检测平台机构上方、且与所述检测平台机构闭合，检测组件遍历基板的上表面，形成检测图像。分析单元对拍摄的照片分析处理，即可获得检测分析结果信息。

2.本申请设置真空连接管，在上料的过程中就可以提供负压状态，检测过程提供真空环境，提高检测结论的准确性，从而能够有效的待检测基板质量。

3.本申请通过电磁阀控制与真空泵的连通与否，控制精准可靠；通过设置时间继电器控制时间来实现真空保压时间。

4.本申请通过设置反射镜实现对基板下表面的检测。

5.本申请为了进一步提高检测效果，避免基板表面的污染影响检测结果，设置了等离子清洁机构对基板进行清洁处理。

附图说明

图1是本申请的一种背光基板的检测装置的一种实施例结构示意图。

图2是本申请的一种背光基板的检测装置的一种实施例结构示意图。

图3是本申请的检测平台机构的一种实施例结构示意图。

图4是本申请的检测罩体机构的一种实施例结构示意图。

图5是本申请的X轴传动机构和检测罩体机构组合态的一种实施例结构示意图。

图6是本申请的X/Y/Z轴传动机构和检测罩体机构、检测平台机构组合态的一种实施例结构示意图。

图7是本申请的X轴传动机构、检测罩体机构和等离子清洁机构组合态的一种实施例结构示意图。

图8是本申请的吸板、反射镜、载物架、反射拍照组件组合态的一种实施流程示意图。

图9是本申请的检测罩体机构的又一种实施例结构示意图。

图10是本申请的一种背光基板的检测装置的一种实施流程示意图。

附图标记说明

1、X轴传动机构；101、第一驱动电机；102、第一直线导轨；103、第一丝杠；2、Y轴传动机构；201、第二驱动电机；202、第二直线导轨；203、第二丝杠；3、Z轴传动机构；301、滚珠丝杆升降机；302、连接座；4、检测罩体机构；401、上腔体；402、移动控制组件；403、光源发生组件；404、第一拍照组件；405、破真空组件；406、下真空连接管；5、待检测基板；6、检测平台机构；601、下腔体；602、吸板；6021、吸附孔；603、上真空连接管；604、电磁阀；605、反射镜；606、载物架；607、反射拍照组件；7、等离子清洁机构；701、清洁头支撑架；702、清洁头组件；704、清洁头移动组件；703、清洁头调节组件；705、排气组件。

具体实施方式

以下结合附图对本申请作进一步详细说明。

实施例1

本申请实施例公开一种背光基板的检测装置。

参照图1,一种背光基板的检测装置，包括：检测平台机构、检测罩体机构、X轴传动机构、Y轴传动机构、Z轴传动机构。检测平台机构设置在X轴传动机构上，X轴传动机构以可带动检测平台机构沿X轴方向往复运动；Z轴传动机构设置在Y轴传动机构上，Y轴传动机构以可带动Z轴传动机构沿Y轴方向往复运动；检测罩体机构设置在Z轴传动机构上，Z轴传动机构以可带动检测罩体机构升降运动。待检测基板放置在检测平台机构上。检测罩体机构可运动至检测平台机构上方、且与检测平台机构闭合。

参照图2,检测平台机构包括下腔体、吸板、真空连接管。下腔体形成一个具有容置空间的腔体；吸板设置在下腔体内部，具有吸附孔；真空连接管设置在下腔体的侧壁外侧，与下腔体贯通；真空连接管另一端与真空泵连接；真空连接管上设置有电磁阀以控制下腔体与真空泵的连通与否。真空连接管上设置的电磁阀上设置有时间继电器，通过设置控制时间来实现真空保压时间。在电磁阀前设置压力开关，用以控制抽真空的压力。

参考图3，检测罩体机构包括上腔体，上腔体形成一个与下腔体相适配的具有容置空间的腔体，上腔体与下腔体能够密闭。在下腔体与上腔体的密封处设置有密封圈。上腔体外侧壁上设置有腔体破真空组件，破真空组件包括真空破坏阀。上腔体内设置有光源发生组件、第一拍照组件、移动控制组件，光源发生组件、第一拍照组件设置在移动控制组件上；移动控制组件能够带动光源发生组件、第一拍照组件遍历基板的上表面。光源发生组件包含激光发生器，通过激光发生器形成光路，照射在背光基板上；第一拍照组件包括具有自动聚焦的拍照单元，能够对光路在基板处进行拍摄，形成图像。激光照射于背光基板时，获取背光基板表面的图像数据；基于图像数据提取阴影区域图像数据；并基于阴影区域图像数据分析获得基板可能存在的问题。

参考图4，X轴传动机构包括第一驱动电机、第一直线导轨、第一丝杠，第一驱动电机与第一丝杠连接，检测平台机构与第一直线导轨、第一丝杠连接，第一驱动电机用以带动第一丝杠转动进而带动检测平台机构沿着第一直线导轨移动。

参考图5-6，Y轴传动机构包括第二驱动电机、第二直线导轨、第二丝杠，第二驱动电机与第二丝杠连接，Z轴传动机构与第二直线导轨、第二丝杠连接，第二驱动电机用以带动第二丝杠转动进而带动Z轴传动机构沿着第二直线导轨移动。第一驱动电机、第二驱动电机为伺服电机。

参考图5-6，Z轴传动机构包括滚珠丝杆升降机、连接座，滚珠丝杆升降机通过连接座与Y轴传动机构的第二直线导轨、第二丝杠连接。滚珠丝杆升降机下端与检测罩体机构连接。

检测时，X轴传动机构将检测平台机构移动至上料工位，将待检测基板放置在检测平台机构上，X轴传动机构移动至检测罩体机构下方，检测罩体机构通过Y轴传动机构移动、Z轴传动机构升降，使检测罩体机构运动至检测平台机构上方、且与检测平台机构闭合。移动控制组件带动光源发生组件、第一拍照组件遍历基板的上表面。光源发生组件的激光发生器，通过激光发生器形成光路，照射在背光基板上；第一拍照组件自动聚焦拍照，对光路在基板处进行拍摄，形成图像。对拍摄的照片传输至分析模块进行分析处理，获得检测分析结果信息，并形成分析报告。破真空组件对处于真空状态的检测罩体机构与检测平台机构打开。

实施例2

参考图7，与实施例1的区别在于，由于在检测的过程中，背光基板上存在的颗粒物可能使的获得的图像中产生阴影，从而影响对背光基板质量的判断，因此，在本实施例中，设置等离子清洁机构。

等离子清洁机构包括清洁头组件、清洁头移动组件、清洁头调节组件、排气组件、清洁头支撑架；清洁头支撑架跨设在X轴传动机构上，检测平台机构能够自清洁头支撑架下部空间穿过。

清洁头组件设置在清洁头调节组件上，清洁头调节组件设置在清洁头移动组件上，清洁头移动组件设置在清洁头支撑架上，排气组件与清洁头组件连接；清洁头移动组件用以控制清洁头调节组件移动；清洁头调节组件用以调节清洁头组件与基板之间的距离。

实施例3

参考图8，与实施例1的区别在于，在下腔体内设置有反射镜、载物架，反射镜设置在下腔体内的吸板上侧；载物架设置在反射镜上，用以放置背光基板。待检测基板和反射镜之间形成一个间隙。

在检测时，待检测基板通过载物架放置在反射镜上，光路透过基板，并自反射镜处发生反射。待检测基板的下方设反射镜，该反射镜可以形成待检测透明基板上不透明处下表面的缺陷的图像。 在反射镜处设置有反射拍照组件，反射拍摄组件能够拍摄下表面的缺陷的图像。

载物架可适应各种不同尺寸/形状的基板，也可放置标准尺寸的基板。未提供实施例示意图。

实施例4

参考图9，与实施例1的区别在于，在检测罩体机构上设置上真空连接管。当只有下真空连接管时，由于下真空连接管在非闭合状态下，就需要通过真空吸附给待检测基板处形成一个负压环境。为实现高效的闭合，在闭合式就需要提供一个较高的抽真空压力。而当破真空组件对处于真空状态的检测罩体机构与检测平台机构打开时，需要将真空状态变为常压态以使检测罩体机构能够升起，同时还是要保持给待检测基板处形成一个负压环境，实现较为复杂，控制难度相对较大，破真空效率低，且对真空泵形成一定的影响。在检测罩体机构上设置上真空连接管，破真空时可同时关闭上真空连接管。只有一个较低压力的下真空连接管处于工作状态，较容易实现破真空，并控制，避免真空态干扰。

在本申请的实施例中，破真空后，在Z轴传动机构、Y轴传动机构的控制下，检测罩体机构4与检测平台机构6分离，X轴传动机构将检测平台机构6带动移动至取料工作位，通过机械手交经过检测的基板样品取下，进行分送。对检测结果符合质检标准的基板，通过转用运输皮带至下道工序。对检测结果不符合质检标准的基板，通过检修运输皮带至检修工序。机械手上设置有旋转组件、抓取组件，旋转组件能够控制抓取组件将经过检测的基板样品分别放置在转用运输皮带或检修运输皮带上。从而实现高效分拣和输送，提高生产效率。

以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种背光基板的检测装置，其特征在于,包括；

检测平台机构（6），设置有具有一容置空间下腔体（601）、 一端与所述下腔体（601）贯通的下真空连接管（406），所述下真空连接管（406）的另一端与真空泵连接；待检测基板（5）放置在所述下腔体（601）内；

检测罩体机构（4），设置有具有一容置空间上腔体（401）、设置在所述上腔体（401）侧壁上的破真空组件（405）、设置在所述上腔体（401）内部的光源发生组件（403），与所述光源发生组件（403）并排设置的第一拍照组件（404）、用以控制所述光源发生组件（403）和所述第一拍照组件（404）经位移的移动控制组件（402）；所述移动控制组件（402）设置在所述上腔体（401）内部，以可带动所述光源发生组件（403）和所述第一拍照组件（404）遍历待检测基板（5）的上表面；

所述检测罩体机构（4）具有以可运动至所述检测平台机构（6）上方、且与所述检测平台机构（6）闭合的真空状态，及，以远离所述检测平台机构（6）的常压状态；

所述检测罩体机构（4）与所述检测平台机构（6）闭合形成真空状态时，所述光源发生组件（403）和所述第一拍照组件（404）遍历待检测基板（5）的上表面以形成检测待检测基板（5）的图像。

2.根据权利要求1所述的一种背光基板的检测装置，其特征在于,

所述检测罩体机构（4）上设置上真空连接管（603）。

3.根据权利要求2所述的一种背光基板的检测装置，其特征在于,

所述上真空连接管（603）、所述下真空连接管（406）上设置有电磁阀（604），以控制所述下腔体（601）与真空泵的连通与否；所述下真空连接管（406）上设置的电磁阀（604）上设置有时间继电器。

4.根据权利要求3所述的一种背光基板的检测装置，其特征在于,

所述上真空连接管（603）、所述下真空连接管（406）的电磁阀（604）前设置压力开关，用以控制抽真空的压力。

5.根据权利要求1所述的一种背光基板的检测装置，其特征在于,

所述检测平台机构（6）还包括吸板（602），所述吸板（602）设置在所述下腔体（601）内部，具有吸附孔（6021）；待检测基板（5）放置在所述吸板（602）上方。

6.根据权利要求5所述的一种背光基板的检测装置，其特征在于,

所述光源发生组件（403）包含激光发生器，所述激光发生器形成光路并照射在背光基板上；所述第一拍照组件（404）包括具有自动聚焦的拍照单元，对光路在基板处进行拍摄，形成图像。

7.根据权利要求6所述的一种背光基板的检测装置，其特征在于,

所述下腔体（601）内设置有反射镜（605）、载物架（606），所述反射镜（605）设置在所述下腔体（601）内的所述吸板（602）上，所述载物架（606）设置在所述反射镜（605）上；待检测基板（5）放置在所述反射镜（605）上，待检测基板（5）和反射镜（605）之间形成一个间隙；在所述反射镜（605）处设置有反射拍照组件（607），所述反射拍摄组件以可拍摄待检测基板（5）下表面形成图像。

8.根据权利要求1-7任一项所述的一种背光基板的检测装置，其特征在于,

所述背光基板的检测装置还包括X轴传动机构（1）、Y轴传动机构（2）、Z轴传动机构（3）；

所述检测平台机构（6）设置在所述X轴传动机构（1）上，所述X轴传动机构（1）以可带动所述检测平台机构（6）沿X轴方向往复运动；

所述Z轴传动机构（3）设置在所述Y轴传动机构（2）上，所述Y轴传动机构（2）以可带动所述Z轴传动机构（3）沿Y轴方向往复运动；

所述检测罩体机构（4）设置在所述Z轴传动机构（3）上，所述Z轴传动机构（3）以可带动所述检测罩体机构（4）升降运动。

9.根据权利要求8所述的一种背光基板的检测装置，其特征在于,

所述背光基板的检测装置还包括等离子清洁机构（7）；

所述等离子清洁机构（7）包括清洁头组件（702）、清洁头移动组件（704）、清洁头调节组件（703）、排气组件（705）、清洁头支撑架（701）；所述清洁头支撑架（701）跨设在所述X轴传动机构（1）上，所述检测平台机构（6）能够自所述清洁头支撑架（701）下部空间穿过；

所述清洁头组件（702）设置在清洁头调节组件（703）上，所述清洁头调节组件（703）设置在所述清洁头移动组件（704）上，所述清洁头移动组件（704）设置在所述清洁头支撑架（701）上，所述排气组件（705）与所述清洁头组件（702）连接；所述清洁头移动组件（704）用以控制所述清洁头调节组件（703）移动；所述清洁头调节组件（703）用以调节所述清洁头组件（702）与待检测基板（5）之间的距离。

10.根据权利要求8所述的一种背光基板的检测装置，其特征在于,

所述X轴传动机构（1）侧设置有机械手，所述机械手设置有旋转组件、抓取组件，所述旋转组件用以控制所述抓取组件将经过检测的基板样品分别自所述检测平台机构（6）上抓取并放置在转用运输皮带或检修运输皮带上。

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