CN114999966A - 一种链式湿法刻蚀设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种链式湿法刻蚀设备，涉及光伏电池生产设备技术领域。该设备的酸洗池上设有延长道，延长道延伸至水洗池位置，酸洗池上方设有用于清洁晶片的清洁件，清洁件外设有用于将晶片传送至水洗池内的传送件，酸洗池内设有抬升组件，用于将酸洗池内的晶片抬升至清洁件上。本发明中，在晶片经过酸洗池后，通过抬升组件将其抬升至酸洗池顶部的清洁位，以清洁组件将晶片表面的酸性液体冲下并吹干，冲下的酸性液体自酸洗池一侧的延长道重新回流至酸洗池内，而吹干后的晶片经过清洁位上的传送辊进入水洗池中进行水洗，使得晶片携带进入水洗池中的酸性液体含量极少，避免对水洗池中的清洁水产生影响，防止影响清洁效果。

Description

一种链式湿法刻蚀设备
技术领域
本发明涉及光伏电池生产设备技术领域，特别是涉及一种链式湿法刻蚀设备。
背景技术
太阳能电池是通过光电效应或者光化学效应直接把光能转化成电能的装置。可分为单晶硅、多晶硅、非晶硅太阳能电池。在能量转换效率和使用寿命等综合性能方面，单晶硅和多晶硅电池优于非晶硅电池。多晶硅比单晶硅转换效率低，但价格更便宜。
光伏电池在生产过程中需要对硅片进行刻蚀，主要在较为平整的膜面上刻出绒面，从而增加光程，减少光的反射。一般采用湿法刻蚀的方式生产。湿法刻蚀是利用合适的化学试剂先将未被光刻胶覆盖的晶片部分分解，然后转成可溶性的化合物以达到去除的目的。
当前市面上，湿法刻蚀一般被用于工艺流程前面的晶圆片准备、清洗等不涉及图形的环节，而在图形转移中干法刻蚀已占据主导地位。
目前，公开号为CN204760404U的中国专利公开了一种链式湿法刻蚀机，包括烘干槽、第一水洗槽、酸洗槽、第二水洗槽、风刀、进气管，烘干槽、第一水洗槽、酸洗槽和第二水洗槽依次连接，第二水洗槽设有风刀，第二水洗槽和烘干槽通过进气管连接。
该刻蚀机通过改变水洗槽风刀的结构，在原有风刀使用压缩空气的进气管道上直接连接到后面烘干槽管道，使用热风吹干，减少碱结晶堵塞的机率，热风也能提升风刀的吹干效果，从而降低不良品产生的机率。
但是使用这种刻蚀机生产的晶片，在经过酸洗槽后酸性液体无法及时清除，容易携带较多的酸性液体进入水洗槽中，造成水洗槽中清洗水呈酸性，影响之后的清洗效果。
发明内容
本发明针对上述技术问题，克服现有技术的缺点，提供一种链式湿法刻蚀设备。
为了解决以上技术问题，本发明提供一种链式湿法刻蚀设备。
技术效果：在晶片经过酸洗池后，通过抬升组件将其抬升至酸洗池顶部的清洁位，以清洁组件将晶片表面的酸性液体冲下并吹干，冲下的酸性液体自酸洗池一侧的延长道重新回流至酸洗池内，而吹干后的晶片经过清洁位上的传送辊进入水洗池中进行水洗，使得晶片携带进入水洗池中的酸性液体含量极少，避免对水洗池中的清洁水产生影响，防止影响清洁效果。
本发明进一步限定的技术方案是：一种链式湿法刻蚀设备，包括酸洗池和水洗池，酸洗池上设有延长道，延长道延伸至水洗池位置，酸洗池上方设有用于清洁晶片的清洁件，清洁件外设有用于将晶片传送至水洗池内的传送件，酸洗池内设有抬升组件，用于将酸洗池内的晶片抬升至清洁件上，清洁件包括等距固定在清洁道上方的清洁管，清洁管上开设有若干个直线分布的气孔，清洁管设有平行设置的两行，晶片从两行清洁管之间通过，清洁管上的气孔均朝向晶片设置，传送件包括设于清洁管间隔位置上的传送辊，传送辊的直径与清洁管直径相同，并通过设于酸洗池一侧的驱动件驱动旋转。
进一步的，传送辊设有若干根，传送件包括固定在传送辊末端的传动轮，若干个传动轮上依次绕设传送带，通过传送带传递旋转扭矩，末端位置的传送辊上设有延长轴，延长轴上套设固定有从动齿轮。
前所述的一种链式湿法刻蚀设备，驱动件包括驱动电机，驱动电机的输出轴上设有主动齿轮，主动齿轮与从动齿轮相互啮合，两行清洁管相互错位，其上的气孔朝向中间位置倾斜设置，清洁管均连通至外界的鼓风机。
前所述的一种链式湿法刻蚀设备，抬升组件包括垂直于水平面滑移连接在酸洗池侧壁上的升降块，升降块上设有用于抓取晶片的机械手，升降块通过开设在酸洗池侧壁上的滑槽滑移连接在酸洗池侧壁上，并通过设于酸洗池上的升降件驱动升降。
前所述的一种链式湿法刻蚀设备，升降件包括固定在酸洗池侧面顶部位置的升降电机，升降电机的输出轴上一体形成有升降丝杠，升降丝杠垂直于水平面向下设置，升降块上通过固定杆连接有驱动块，升降丝杠穿透驱动块并与之螺纹连接。
前所述的一种链式湿法刻蚀设备，升降块和固定杆均由耐酸材质制成，固定杆设有环绕升降块设置的四根。
前所述的一种链式湿法刻蚀设备，传送辊外套设有耐酸橡胶制成的传送垫，传送垫外设有若干个凸出设置的防滑凸起，延长道倾斜设置。
本发明的有益效果是：
(1)本发明中，晶片经过酸洗池刻蚀后，抬升组件上的机械手下沉，将晶片抓取出酸洗池，再将晶片抬升并置于两行清洁管之间，清洁管间隔中设置的传送辊能够带动晶片向着水洗池输送，而同时清洁管上的气孔能够向晶片的顶面和底面持续喷出气流，气流能够将晶片表面残留的酸性溶液冲下并将晶片吹干，从而保证晶片表面的洁净，吹干后的晶片通过传送件进入水洗池内，不会对水洗池中的清洁水产生过大影响；
(2)本发明中，驱动电机的输出轴带动主动齿轮旋转，联动从动齿轮和末端位置的传送辊转动，由于传送辊上设有传送轮，其余位置的传送辊能够通过传送带同步旋转，实现若干个传送辊的同步传输，将晶片从清洁管之间送向水洗池内，而清洁管冲下的酸性溶液能够落入延长道中，重新进入酸洗池内；
(3)本发明中，升降电机带动升降丝杠旋转，在螺纹作用下能够驱使驱动块上下活动，由于驱动块与升降块之间通过固定杆连接，驱动块即可带动升降块完成抬升或下降，方便机械手对晶片的抓取；
(4)本发明中，在晶片经过酸洗池后，通过抬升组件将其抬升至酸洗池顶部的清洁位，以清洁组件将晶片表面的酸性液体冲下并吹干，冲下的酸性液体自酸洗池一侧的延长道重新回流至酸洗池内，而吹干后的晶片经过清洁位上的传送辊进入水洗池中进行水洗，使得晶片携带进入水洗池中的酸性液体含量极少，避免对水洗池中的清洁水产生影响，防止影响清洁效果。
附图说明
图1为实施例1的结构图；
图2为实施例1中传送件和驱动件的结构图。
其中：1、酸洗池；11、延长道；2、水洗池；3、清洁件；31、清洁管；32、气孔；4、抬升组件；41、升降块；42、机械手；43、固定杆；5、传送件；51、传送辊；511、传动轮；52、传送带；53、延长轴；54、传送垫；55、防滑凸起；6、驱动件；61、驱动电机；62、主动齿轮；63、从动齿轮；7、升降件；71、升降电机；72、升降丝杠；73、驱动块。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面结合附图及具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其他方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
需要说明的是，当元件被称为“固设于”另一元件，它可以直接在另一元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一元件，它可以是直接连接到一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。
本实施例提供的一种链式湿法刻蚀设备，结构如图1-2所示，包括酸洗池1和水洗池2，酸洗池1上设有延长道11，延长道11延伸至水洗池2位置，酸洗池1上方设有用于清洁晶片的清洁件3，清洁件3外设有用于将晶片传送至水洗池2内的传送件5。
如图1-2所示，酸洗池1内设有抬升组件4，用于将酸洗池1内的晶片抬升至清洁件3上，清洁件3包括等距固定在清洁道上方的清洁管31，清洁管31上开设有若干个直线分布的气孔32，清洁管31设有平行设置的两行，晶片从两行清洁管31之间通过，清洁管31上的气孔32均朝向晶片设置。
如图1-2所示，传送件5包括设于清洁管31间隔位置上的传送辊51，传送辊51的直径与清洁管31直径相同，并通过设于酸洗池1一侧的驱动件6驱动旋转。传送辊51设有若干根，传送件5包括固定在传送辊51末端的传动轮511，若干个传动轮511上依次绕设传送带52，通过传送带52传递旋转扭矩，末端位置的传送辊51上设有延长轴53，延长轴53上套设固定有从动齿轮63。
如图1-2所示，驱动件6包括驱动电机61，驱动电机61的输出轴上设有主动齿轮62，主动齿轮62与从动齿轮63相互啮合，两行清洁管31相互错位，其上的气孔32朝向中间位置倾斜设置，清洁管31均连通至外界的鼓风机。升组件包括垂直于水平面滑移连接在酸洗池1侧壁上的升降块41，升降块41上设有用于抓取晶片的机械手42。
如图1-2所示，升降块41通过开设在酸洗池1侧壁上的滑槽滑移连接在酸洗池1侧壁上，并通过设于酸洗池1上的升降件7驱动升降。升降件7包括固定在酸洗池1侧面顶部位置的升降电机71，升降电机71的输出轴上一体形成有升降丝杠72，升降丝杠72垂直于水平面向下设置，升降块41上通过固定杆43连接有驱动块73，升降丝杠72穿透驱动块73并与之螺纹连接。
如图1-2所示，升降块41和固定杆43均由耐酸材质制成，固定杆43设有环绕升降块41设置的四根。传送辊51外套设有耐酸橡胶制成的传送垫54，传送垫54外设有若干个凸出设置的防滑凸起55。
晶片经过酸洗池1刻蚀后，抬升组件4上的机械手42下沉，将晶片抓取出酸洗池1，再将晶片抬升并置于两行清洁管31之间，清洁管31间隔中设置的传送辊51能够带动晶片向着水洗池2输送，而同时清洁管31上的气孔32能够向晶片的顶面和底面持续喷出气流，气流能够将晶片表面残留的酸性溶液冲下并将晶片吹干，从而保证晶片表面的洁净，吹干后的晶片通过传送件5进入水洗池2内，不会对水洗池2中的清洁水产生过大影响。
本发明中，在晶片经过酸洗池1后，通过抬升组件4将其抬升至酸洗池1顶部的清洁位，以清洁组件将晶片表面的酸性液体冲下并吹干，冲下的酸性液体自酸洗池1一侧的延长道11重新回流至酸洗池1内，而吹干后的晶片经过清洁位上的传送辊51进入水洗池2中进行水洗，使得晶片携带进入水洗池2中的酸性液体含量极少，避免对水洗池2中的清洁水产生影响，防止影响清洁效果。
除上述实施例外，本发明还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本发明要求的保护范围。

Claims (7)

1.一种链式湿法刻蚀设备，包括酸洗池(1)和水洗池(2)，其特征在于：所述酸洗池(1)上设有延长道(11)，延长道(11)延伸至水洗池(2)位置，酸洗池(1)上方设有用于清洁晶片的清洁件(3)，清洁件(3)外设有用于将晶片传送至水洗池(2)内的传送件(5)，酸洗池(1)内设有抬升组件(4)，用于将酸洗池(1)内的晶片抬升至清洁件(3)上，清洁件(3)包括等距固定在清洁道上方的清洁管(31)，清洁管(31)上开设有若干个直线分布的气孔(32)，清洁管(31)设有平行设置的两行，晶片从两行清洁管(31)之间通过，清洁管(31)上的气孔(32)均朝向晶片设置，传送件(5)包括设于清洁管(31)间隔位置上的传送辊(51)，传送辊(51)的直径与清洁管(31)直径相同，并通过设于酸洗池(1)一侧的驱动件(6)驱动旋转。
2.根据权利要求1所述的一种链式湿法刻蚀设备，其特征在于：所述传送辊(51)设有若干根，传送件(5)包括固定在传送辊(51)末端的传动轮(511)，若干个传动轮(511)上依次绕设传送带(52)，通过传送带(52)传递旋转扭矩，末端位置的传送辊(51)上设有延长轴(53)，延长轴(53)上套设固定有从动齿轮(63)。
3.根据权利要求2所述的一种链式湿法刻蚀设备，其特征在于：所述驱动件(6)包括驱动电机(61)，驱动电机(61)的输出轴上设有主动齿轮(62)，主动齿轮(62)与从动齿轮(63)相互啮合，两行清洁管(31)相互错位，其上的气孔(32)朝向中间位置倾斜设置，清洁管(31)均连通至外界的鼓风机。
4.根据权利要求1所述的一种链式湿法刻蚀设备，其特征在于：所述抬升组件(4)包括垂直于水平面滑移连接在酸洗池(1)侧壁上的升降块(41)，升降块(41)上设有用于抓取晶片的机械手(42)，升降块(41)通过开设在酸洗池(1)侧壁上的滑槽滑移连接在酸洗池(1)侧壁上，并通过设于酸洗池(1)上的升降件(7)驱动升降。
5.根据权利要求4所述的一种链式湿法刻蚀设备，其特征在于：所述升降件(7)包括固定在酸洗池(1)侧面顶部位置的升降电机(71)，升降电机(71)的输出轴上一体形成有升降丝杠(72)，升降丝杠(72)垂直于水平面向下设置，升降块(41)上通过固定杆(43)连接有驱动块(73)，升降丝杠(72)穿透驱动块(73)并与之螺纹连接。
6.根据权利要求5所述的一种链式湿法刻蚀设备，其特征在于：所述升降块(41)和固定杆(43)均由耐酸材质制成，固定杆(43)设有环绕升降块(41)设置的四根。
7.根据权利要求1所述的一种链式湿法刻蚀设备，其特征在于：所述传送辊(51)外套设有耐酸橡胶制成的传送垫(54)，传送垫(54)外设有若干个凸出设置的防滑凸起(55)，延长道(11)倾斜设置。
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