CN114879413A - 一种显示面板和显示装置 - Google Patents

一种显示面板和显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN114879413A
CN114879413A CN202210449447.1A CN202210449447A CN114879413A CN 114879413 A CN114879413 A CN 114879413A CN 202210449447 A CN202210449447 A CN 202210449447A CN 114879413 A CN114879413 A CN 114879413A
Authority
CN
China
Prior art keywords
central axis
quadrant
outer edge
photo
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202210449447.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114879413B (zh
Inventor
吴潘强
神户诚
张勇
彭林
李凡
刘聪聪
任驹
李林
王志刚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu CEC Panda Display Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu CEC Panda Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Chengdu CEC Panda Display Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN202210449447.1A priority Critical patent/CN114879413B/zh
Publication of CN114879413A publication Critical patent/CN114879413A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114879413B publication Critical patent/CN114879413B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133753—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle
    • G02F1/133757—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle with different alignment orientations

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本公开实施例提供一种显示面板和显示装置，显示面板包括第一基板和第二基板，以及位于第一基板和第二基板之间的液晶层，显示面板包括多个子像素区域，子像素区域被第一中心轴和第二中心轴划分为依次相邻的第一象限区、第二象限区、第三象限区和第四象限区，各象限区均设置有光配向方向，四个象限区中的第一对相邻的两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称，第二对相邻的两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称；第一对相邻的两个象限区与第二对相邻的两个象限区为不同的象限区，第一中心轴和第二中心轴均经过子像素区域的中心，且相互垂直。本公开的技术方案，可以缩短暗线长度，提高显示面板的透过率。

Description

一种显示面板和显示装置
技术领域
本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
相关技术中，液晶显示面板采用光配向技术为液晶提供初始方位角，例如，采用紫外光配向技术(Ultraviolet induced multi-domain vertical alignment，UV2A)对基板的光配向层进行曝光来形成光配向方向，这样的液晶显示面板在显示中存在暗线，并且暗线长度较长，降低了液晶显示面板的透过率。
发明内容
本公开实施例提供一种显示面板和显示装置，以解决现有技术中存在的一项或多项技术问题。
作为本公开实施例的第一个方面，本公开实施例提供一种显示面板，包括相对设置的第一基板和第二基板，以及位于第一基板和第二基板之间的液晶层，显示面板包括多个子像素区域，子像素区域被第一中心轴和第二中心轴划分为依次相邻的第一象限区、第二象限区、第三象限区和第四象限区，各象限区均设置有光配向方向，四个象限区中的第一对相邻的两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称，第二对相邻的两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称；
其中，第一对相邻的两个象限区与第二对相邻的两个象限区为不同的象限区，第一中心轴经过子像素区域的中心，第二中心轴经过子像素区域的中心且与第一中心轴相垂直。
在一些可能的实现方式中，各象限区的光配向方向均设置在第一基板或第二基板上，在设置有光配向方向的基板上，每相邻两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称，各象限区的光配向方向均与第二中心轴成预设角度，预设角度大于0度且小于90度。
在一些可能的实现方式中，显示面板的显示侧位于第二基板的背离第一基板的一侧，各象限区的光配向方向均设置在第一基板上，各象限区的光配向方向均自第一中心轴朝向与第一中心轴相平行的外边缘，且逐渐远离第二中心轴。
在一些可能的实现方式中，显示面板的显示侧位于第二基板的背离第一基板的一侧，各象限区的光配向方向均设置在第二基板上，各象限区的光配向方向均自与第一中心轴相平行的外边缘朝向第一中心轴，且逐渐靠近第二中心轴。
在一些可能的实现方式中，显示面板的显示侧位于第二基板的背离第一基板的一侧，各象限区的光配向方向均设置在第一基板上，各象限区的光配向方向均自第一中心轴朝向与第一中心轴相平行的外边缘，且逐渐靠近第二中心轴。
在一些可能的实现方式中，显示面板的显示侧位于第二基板的背离第一基板的一侧，各象限区的光配向方向均设置在第二基板上，各象限区的光配向方向均自与第一中心轴相平行的外边缘朝向第一中心轴，且逐渐远离第二中心轴。
在一些可能的实现方式中，在无光配向方向的基板上设置有狭缝电极，各象限区的狭缝电极中的狭缝的延伸方向与对应象限区内的光配向方向相平行。
在一些可能的实现方式中，第一基板的朝向液晶层的一侧设置有第一光配向层，第二基板的朝向液晶层的一侧设置有第二光配向层，第一光配向层和第二光配向层中的一个的四个象限区均设置有光配向方向，另一个的至少第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
在一些可能的实现方式中，显示面板的显示侧位于第二基板的背离第一基板的一侧，第一光配向层中的光配向方向远离子像素区域的中心，第二光配向层中的光配向方向靠近子像素区域的中心。
在一些可能的实现方式中，
第二光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在第二光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与第一中心轴相平行的外边缘朝向第一中心轴，且与第二中心轴成预设角度并逐渐靠近第二中心轴，预设角度大于0度且小于90度，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第一中心轴或第二中心轴，且与另一个中心轴相平行；
第一光配向层的第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，在第一光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴或第二中心轴的方向，且与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
在一些可能的实现方式中，
第二光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在第二光配向层中，四个象限区的光配向方向均与第一中心轴或第二中心轴相平行，且四个象限区的光配向方向的趋向方向相同；
第一光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，第一光配向层中的四个象限区的光配向方向与第二光配向层中的四个象限区的光配向方向相垂直，第一光配向层中的四个象限区的光配向方向的趋向方向与第二光配向层中的四个象限区的光配向方向的趋向方向相反；
其中，趋向方向包括远离子像素区域的中心的方向和靠近子像素区域的中心的方向。
在一些可能的实现方式中，
第一光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在第一光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自第一中心轴朝向与第一中心轴相平行的外边缘，且与第二中心轴成预设角度并逐渐远离第二中心轴，预设角度大于0度且小于90度，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴或第二中心轴的方向，且与另一个中心轴相平行；
第二光配向层的第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，在第二光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第一中心轴或第二中心轴，且与第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
在一些可能的实现方式中，显示面板的显示侧位于第二基板的背离第一基板的一侧，
第二光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在第二光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与第一中心轴相平行的外边缘朝向第一中心轴，且与第二中心轴成预设角度并逐渐远离第二中心轴，预设角度大于0度且小于90度，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴或第二中心轴相平行；
第一光配向层的第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，在第一光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直，第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向相同，趋向方向包括远离子像素区域的中心的方向和靠近子像素区域的中心的方向。
在一些可能的实现方式中，显示面板的显示侧位于第二基板的背离第一基板的一侧，
第二光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在第二光配向层中，四个象限区的光配向方向均与第一中心轴或第二中心轴相平行，且四个象限区的光配向方向的趋向方向相同；
第一光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，第一光配向层中的四个象限区的光配向方向与第二光配向层中的四个象限区的光配向方向相垂直，第一光配向层中的四个象限区的光配向方向的趋向方向与第二光配向层中的四个象限区的光配向方向的趋向方向相同；
其中，趋向方向包括远离子像素区域的中心的方向和靠近子像素区域的中心的方向。
在一些可能的实现方式中，显示面板的显示侧位于第二基板的背离第一基板的一侧，
第一光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在第一光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自第一中心轴朝向与第一中心轴相平行的外边缘，且与第二中心轴成预设角度并逐渐靠近第二中心轴，预设角度大于0度且小于90度，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴或第二中心轴相平行；
第二光配向层的第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，在第二光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
作为本公开实施例的第一个方面，本公开实施例提供一种显示装置，包括本公开任一实施例中的显示面板。
本公开实施例的技术方案，四个象限区中的第一对相邻的两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称，第二对相邻的两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称，使得在各象限区的光配向方向的作用下，每相邻两个象限区的中间态液晶分子自第一基板朝向第二基板的倾倒方向关于对应的中心面对称，缩短了暗线长度，提高了显示面板的透过率。
上述概述仅仅是为了说明书的目的，并不意图以任何方式进行限制。除上述描述的示意性的方面、实施方式和特征之外，通过参考附图和以下的详细描述，本公开进一步的方面、实施方式和特征将会是容易明白的。
附图说明
在附图中，除非另外规定，否则贯穿多个附图相同的附图标记表示相同或相似的部件或元素。这些附图不一定是按照比例绘制的。应该理解，这些附图仅描绘了根据本公开的一些实施方式，而不应将其视为是对本公开范围的限制。
图1为本公开一实施例中显示面板的截面结构示意图；
图2为图1所示显示面板在一个实施例中的A向视图；
图3为图2所示子像素区域中暗线的状态示意图；
图4为相关技术中显示面板的一个子像素区域的平面示意图；
图5a为图2所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图5b为一个实施例中形成图5a所示第一基板的过程示意图；
图5c为图2所示显示面板中的第二基板在一个实施例中的示意图；
图6为一种狭缝电极的结构示意图；
图7为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图8a为图7所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图8b为一个实施例中形成图8a所示第二基板的过程示意图；
图8c为图7所示显示面板中的第一基板在一个实施例中的示意图；
图9为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图10a为图9所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图10b为一个实施例中形成图10a所示第一基板的过程示意图；
图10c为图9所示显示面板中的第二基板在一个实施例中的示意图；
图11为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图12a为图11所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图12b为一个实施例中形成图12a所示第二基板的过程示意图；
图12c为图11所示显示面板中的第一基板在一个实施例中的示意图；
图13为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图14a为图13所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图14b为一个实施例中形成图14a所示第二基板的过程示意图；
图14c为图13所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图14d为一个实施例中形成图14c所示第一基板的过程示意图；
图15为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图16a为图15所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图16b为一个实施例中形成图16a所示第二基板的过程示意图；
图16c为图15所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图16d为一个实施例中形成图16c所示第一基板的过程示意图；
图17为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图18a为图17所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图18b为一个实施例中形成图18a所示第二基板的过程示意图；
图18c为图17所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图18d为一个实施例中形成图18c所示第一基板的过程示意图；
图19为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图20a为图19所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图20b为一个实施例中形成图20a所示第二基板的过程示意图；
图20c为图19所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图20d为一个实施例中形成图20c所示第一基板的过程示意图；
图21为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图22a为图21所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图22b为一个实施例中形成图22a所示第二基板的过程示意图；
图22c为图21所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图22d为一个实施例中形成图22c所示第一基板的过程示意图；
图23为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图24a为图23所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图24b为一个实施例中形成图24a所示第一基板的过程示意图；
图24c为图23所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图24d为一个实施例中形成图24c所示第二基板的过程示意图；
图25为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图26a为图25所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图26b为一个实施例中形成图26a所示第一基板的过程示意图；
图26c为图25所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图26d为一个实施例中形成图26c所示第二基板的过程示意图；
图27为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图28a为图27所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图28b为一个实施例中形成图28a所示第一基板的过程示意图；
图28c为图27所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图28d为一个实施例中形成图28c所示第二基板的过程示意图；
图29为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图30a为图29所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图30b为一个实施例中形成图30a所示第一基板的过程示意图；
图30c为图29所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图30d为一个实施例中形成图30c所示第二基板的过程示意图；
图31为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图32a为图31所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图32b为一个实施例中形成图32a所示第一基板的过程示意图；
图32c为图31所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图32d为一个实施例中形成图32c所示第二基板的过程示意图；
图33为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图34a为图33所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图34b为一个实施例中形成图34a所示第二基板的过程示意图；
图34c为图33所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图34d为一个实施例中形成图34c所示第一基板的过程示意图；
图35为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图36a为图35所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图36b为一个实施例中形成图36a所示第二基板的过程示意图；
图36c为图35所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图36d为一个实施例中形成图36c所示第一基板的过程示意图；
图37为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图38a为图37所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图38b为一个实施例中形成图38a所示第二基板的过程示意图；
图38c为图37所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图38d为一个实施例中形成图38c所示第一基板的过程示意图；
图39为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图40a为图39所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图40b为一个实施例中形成图40a所示第二基板的过程示意图；
图40c为图39所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图40d为一个实施例中形成图40c所示第一基板的过程示意图；
图41为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图42a为图41所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图42b为一个实施例中形成图42a所示第二基板的过程示意图；
图42c为图41所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图42d为一个实施例中形成图42c所示第一基板的过程示意图；
图43为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图44a为图43所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图44b为一个实施例中形成图44a所示第一基板的过程示意图；
图44c为图43所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图44d为一个实施例中形成图44c所示第二基板的过程示意图；
图45为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图46a为图45所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图46b为一个实施例中形成图46a所示第一基板的过程示意图；
图46c为图45所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图46d为一个实施例中形成图46c所示第二基板的过程示意图；
图47为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图48a为图47所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图48b为一个实施例中形成图48a所示第一基板的过程示意图；
图48c为图47所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图48d为一个实施例中形成图48c所示第二基板的过程示意图；
图49为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图50a为图49所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图50b为一个实施例中形成图50a所示第一基板的过程示意图；
图50c为图49所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图50d为一个实施例中形成图50c所示第二基板的过程示意图；
图51为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图；
图52a为图51所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图52b为一个实施例中形成图52a所示第一基板的过程示意图；
图52c为图51所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；
图52d为一个实施例中形成图52c所示第二基板的过程示意图；
图53为本公开另一实施例显示面板的子像素区域的暗线状态示意图。
附图标记说明：
10、第一基板；20、第二基板；30、液晶层；411、第一象限区；412、第二象限区；413、第三象限区；414、第四象限区；421、第一中心轴；422、第二中心轴；100、显示面板。
具体实施方式
在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本公开的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例，不同的实施例在不冲突的情况下可以任意结合。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。
图1为本公开一实施例中显示面板的截面结构示意图。本公开实施例提供一种显示面板，如图1所示，显示面板包括相对设置的第一基板10和第二基板20，以及位于第一基板10和第二基板20之间的液晶层30，第一基板10和第二基板20中的至少一个的朝向液晶层30的一侧设置有光配向层。显示面板的显示侧位于第二基板20的背离第一基板的一侧，图1中，显示面板的显示侧位于第二基板的上侧。示例性地，第一基板和第二基板中的一个可以为薄膜晶体管(TFT)基板，另一个可以为彩膜(CF)基板。
示例性地，光配向层的材质可以为聚酰亚胺(PI)，可以采用光配向技术例如采用UV2A技术对光配向薄膜进行曝光，在光配向薄膜上形成预设的光配向方向，从而形成光配向层。
图2为图1所示显示面板在一个实施例中的A向视图。在一种实施方式中，显示面板100可以包括多个像素区域，各像素区域可以包括多个子像素区域，示例性地，位于同一个像素区域中的多个子像素区域可以并排为一行或一列。图2中示出了其中的一个子像素区域，如图2所示，子像素区域可以被第一中心轴421和第二中心轴421划分为依次相邻的第一象限区411、第二象限区412、第三象限区413和第四象限区414。图2中，第一象限区411、第二象限区412、第三象限区413和第四象限区414围绕子像素区域的中心逆时针排列。需要说明的是，四个象限区并不限于如图2所示排列，四个象限区可以围绕子像素区域的中心顺时针排列，可以根据需要设定各象限区的名称，只要各象限区的光配向方向与本公开实施例相同均属于本公开的保护范围。
对于显示面板，如图2所示，子像素区域的各象限区均设置有光配向方向，四个象限区中的第一对相邻的两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称，第二对相邻的两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称。其中，第一对相邻的两个象限区与第二对相邻的两个象限区为不同的象限区，第一中心轴421经过子像素区域的中心，第二中心轴421经过子像素区域的中心且与第一中心轴421相垂直。示例性地，第一中心轴421可以与子像素区域的长度方向相平行，第一中心轴421可以为子像素区域的一个对称轴，第二中心轴421可以为子像素区域的一个对称轴。
示例性地，第一对相邻的两个象限区可以为四个象限区中两个相邻的象限区，第二对相邻的两个象限区可以为四个象限区中两外两个相邻的象限区。例如，在图2中，第一对相邻的两个象限区可以为第一象限区411和第二象限区412，第一象限区411和第二象限区412的光配向方向关于第一中心轴421对称；第二对相邻的两个象限区可以为第三象限区413和第四象限区414，第三象限区413和第四象限区414的光配向方向可以关于第一中心轴421对称。
图3为图2所示子像素区域中暗线的状态示意图。采用本公开实施例的光配向方向，在各象限区的光配向方向的作用下，每相邻两个象限区的中间态液晶分子自第一基板10朝向第二基板20的倾倒方向关于对应的中心面对称，如图3所示。其中，中心面包括第一中心面和第二中心面，第一中心面为经过第一中心轴421且与第一基板10相垂直的平面，第二中心面为经过第二中心轴421且与第一基板10相垂直的平面。图3中用粗实线示出了暗线，图3中的暗线呈“十”字状。图3中暗线的长度为(4/3)a，其中，a为子像素区域的长度(子像素区域在竖直方向的尺寸)，子像素区域的宽度(子像素区域在水平方向的尺寸)为(1/3)a。
图4为相关技术中显示面板的一个子像素区域的平面示意图。如图4所示，在相关技术中，子像素区域的四个象限区中，每相邻两个象限区的光配向方向均相对于对应的中心轴不对称。第一象限区411和第二象限区412的光配向方向关于第一中心轴421不对称，第二象限区412和第三象限区413的光配向方向关于第二中心轴421不对称，第三象限区413和第四象限区414的光配向方向关于第一中心轴421不对称，第四象限区414和第一象限区411的光配向方向关于第二中心轴421不对称。这就导致每相邻两个象限区的中间态液晶分子的倾倒方向相对于对应的中心面不对称，使得显示面板在显示时暗线较长。图4中用粗实线示出了暗线状态，图4中暗线呈倒“卍”状，图4中暗线的长度为(8/3)a，其中，a为子像素区域的长度(子像素区域在竖直方向的尺寸)，子像素区域的宽度(子像素区域在水平方向的尺寸)为(1/3)a。
本公开实施例的技术方案，四个象限区中的第一对相邻的两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称，第二对相邻的两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称，使得在各象限区的光配向方向的作用下，每相邻两个象限区的中间态液晶分子自第一基板10朝向第二基板20的倾倒方向关于对应的中心面对称，缩短了暗线长度，提高了显示面板的透过率。
在一种实施方式中，各象限区的光配向方向均设置在第一基板10或第二基板20上，在设置有光配向方向的基板上，每相邻两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称，各象限区的光配向方向均与第二中心轴421成预设角度θ，预设角度θ大于0度且小于90度。在一个实施例中，预设角度θ的范围可以为37度～45度(包括端点值)，这样的预设角度θ可以提高显示面板的左右视角效果，提升显示面板的感官效果。
在图2所示实施例中，显示面板的显示侧位于第二基板20的背离第一基板10的一侧，各象限区的光配向方向均设置在第一基板10上。如图2所示，每相邻两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称，例如，第一象限区411和第二象限区412的光配向方向关于第一对称轴对称，第二象限区412和第三象限区413的光配向方向关于第二对称轴对称，第三象限区413和第四象限区414的光配向方向关于第一对称轴对称，第四象限区414和第一象限区411的光配向方向关于第二对称轴对称。
示例性地，如图2所示，在第一光配向层中，各象限区的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且逐渐远离第二中心轴421。例如，图2中，第一象限区411的光配向方向自第一中心轴421朝向右侧外边缘，且逐渐远离第二中心轴421；第二象限区412的光配向方向自第一中心轴421朝向左侧外边缘，且逐渐远离第二中心轴421。
在图2所示的显示面板中，第二基板20上可以不设置光配向方向。第一基板10的朝向液晶层30的一侧可以设置第一光配向层，各象限区的光配向方向均设置在第一光配向层上。
图5a为图2所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；图5b为一个实施例中形成图5a所示第一基板的过程示意图，图5b示出了第一基板的朝向液晶层的一侧，图5c为图2所示显示面板中的第二基板在一个实施例中的示意图，图5c示出了的第二基板的朝向液晶层的一侧。可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图5b示出了对第一光配向层进行8次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图5b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图5b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图5b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图5b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第五次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图5b中⑤所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的上侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的左侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图5b中⑥所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的上侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的右侧外边缘。
第七次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图5b中⑦所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的下侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的右侧外边缘。
第八次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图5b中⑧所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的下侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的左侧外边缘。
对第一基板10的子像素区域进行如图5b所示的8次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的各象限区的光配向方向如图5a所示。第一基板10的子像素区域中，如图5a所示，各象限区的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，各象限区的光配向方向均与第二中心轴421成预设角度θ，且逐渐远离第二中心轴421。例如，第一象限区411的光配向方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘(右侧外边缘)，第一象限区411的光配向方向与第二中心轴421成预设角度θ，且逐渐远离第二中心轴421。
需要说明的是，在对基板进行多次曝光后，基板的各象限区的光配向方向为多次曝光后的光配向合成方向。例如，图5a所示的第一基板10中，第一象限区411的光配向方向为采用图5b中的第一次曝光、第二次曝光、第五次曝光和第六次曝光后，在第一象限区411形成的四次曝光方向合成后的曝光方向。
需要说明的是，在对基板进行多次曝光时，曝光顺序可以根据实际需要设置，曝光顺序不会影响基板的最终光配向方向。
在一种实施方式中，在各象限区的光配向方向均设置在第一基板10或第二基板20上的情况下，在另一个基板即无光配向方向的基板上可以设置有狭缝电极，各象限区的狭缝电极中的狭缝的延伸方向与对应象限区内的光配向方向相平行。
图6为一种狭缝电极的结构示意图。示例性地，狭缝电极可以包括电极层以及开设在电极层上的相互平行的多个狭缝。例如，可以在基板的一侧形成电极层，对电极层进行图案化处理，去除位于狭缝位置的电极材料，在电极层上开设出多个狭缝，从而形成狭缝电极。狭缝电极的材料可以为透明导电材料，例如氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌等。图6中示出的狭缝沿水平方向，可以理解的是，具体实施中，狭缝的延伸方向可以根据需要设置。
如图5c所示，第二基板20上无光配向方向，可以在第二基板20的朝向液晶层30的一侧设置第二狭缝电极，第二狭缝电极中的狭缝的延伸方向可以与第一基板10中对应象限区内的光配向方向相平行。例如，在第一象限区411，第二基板20上的第二狭缝电极中的狭缝的延伸方向与第一基板10中第一象限区411的光配向方向相平行。
图7为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图7示出了其中的一个子像素区域。在图7所示实施例中，各象限区的光配向方向均设置在第二基板20上，各象限区的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且逐渐靠近第二中心轴421。示例性地，第二基板20的朝向液晶层30的一侧可以设置第二光配向层，各象限区的光配向方向均设置在第二光配向上。
需要说明的是，在显示面板的A向视图中，设置在第一基板10上的光配向方向采用实线箭头绘制，设置在第二基板20上的光配向方向采用虚线箭头绘制。
图8a为图7所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图8b为一个实施例中形成图8a所示第二基板的过程示意图，图8b示出了第二基板的朝向液晶层的一侧，图8c为图7所示显示面板中的第一基板在一个实施例中的示意图，图8c示出了的第一基板的朝向液晶层的一侧。可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图8b示出了对第二光配向层进行8次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图8b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图8b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图8b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图8b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第五次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图8b中⑤所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的上侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的左侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图8b中⑥所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的上侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的右侧外边缘。
第七次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图8b中⑦所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的下侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的右侧外边缘。
第八次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图8b中⑧所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的下侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的左侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图8b所示的8次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的各象限区的光配向方向如图8a所示。第二基板20的子像素区域中，如图8a所示，各象限区的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且逐渐靠近第二中心轴421，各象限区的光配向方向均与第二中心轴421成预设角度θ。例如，第一象限区411的光配向方向自与第一中心轴421相平行的外边缘(左侧外边缘)朝向第一中心轴421，第一象限区411的光配向方向与第二中心轴421成预设角度θ，且逐渐靠近第二中心轴421。
如图8c所示，第一基板10上无光配向方向，可以在第一基板10的朝向液晶层30的一侧设置第一狭缝电极，第一狭缝电极中的狭缝的延伸方向可以与第二基板20中对应象限区内的光配向方向相平行。例如，在第一象限区411，第一基板10上的第一狭缝电极中的狭缝的延伸方向与第二基板20中第一象限区411的光配向方向相平行。
图9为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图9示出了其中的一个子像素区域。在图9所示实施例中，各象限区的光配向方向均设置在第一基板10上，各象限区的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且逐渐靠近第二中心轴421。示例性地，第一基板10的朝向液晶层30的一侧可以设置第一光配向层，各象限区的光配向方向均设置在第一光配向上。
图10a为图9所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；图10b为一个实施例中形成图10a所示第一基板的过程示意图，图10b示出了第一基板的朝向液晶层的一侧，图10c为图9所示显示面板中的第二基板在一个实施例中的示意图，图10c示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧。可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图10b示出了对第一光配向层进行8次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图10b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图10b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图10b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图10b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第五次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图10b中⑤所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的上侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的左侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图10b中⑥所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的上侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的右侧外边缘。
第七次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图10b中⑦所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的下侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的左侧外边缘。
第八次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图10b中⑧所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的下侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的右侧外边缘。
对第一基板10的子像素区域进行如图10b所示的8次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的各象限区的光配向方向如图10a所示。第一基板10的子像素区域中，如图10a所示，各象限区的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且逐渐靠近第二中心轴421，各象限区的光配向方向均与第二中心轴421成预设角度θ。例如，第一象限区411的光配向方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘(左侧外边缘)，第一象限区411的光配向方向与第二中心轴421成预设角度θ，且逐渐靠近第二中心轴421。
如图10c所示，第二基板20上无光配向方向，可以在第二基板20的朝向液晶层30的一侧设置第二狭缝电极，第二狭缝电极中的狭缝的延伸方向可以与第一基板10中对应象限区内的光配向方向相平行。例如，在第一象限区411，第二基板20上的第二狭缝电极中的狭缝的延伸方向与第一基板10中第一象限区411的光配向方向相平行。
图11为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图11示出了其中的一个子像素区域。在图11所示实施例中，各象限区的光配向方向均设置在第二基板20上，各象限区的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且逐渐远离第二中心轴421。示例性地，第二基板20的朝向液晶层30的一侧可以设置第二光配向层，各象限区的光配向方向均设置在第二光配向上。
图12a为图11所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图12b为一个实施例中形成图12a所示第二基板的过程示意图，图12b示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧，图12c为图11所示显示面板中的第一基板在一个实施例中的示意图，图12c示出了的第一基板10的朝向液晶层30的一侧。可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图12b示出了对第二光配向层进行8次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图12b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图12b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图12b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图12b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第五次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图12b中⑤所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的上侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的左侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图12b中⑥所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的上侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的右侧外边缘。
第七次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图12b中⑦所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的下侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的左侧外边缘。
第八次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图12b中⑧所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的下侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的右侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图12b所示的8次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的各象限区的光配向方向如图12a所示。第二基板20的子像素区域中，如图12a所示，各象限区的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且逐渐远离第二中心轴421，各象限区的光配向方向均与第二中心轴421成预设角度θ。例如，第一象限区411的光配向方向自与第一中心轴421相平行的外边缘(左侧外边缘)朝向第一中心轴421，第一象限区411的光配向方向与第二中心轴421成预设角度θ，且逐渐远离第二中心轴421。
如图12c所示，第一基板10上无光配向方向，可以在第一基板10的朝向液晶层30的一侧设置第一狭缝电极，第一狭缝电极中的狭缝的延伸方向可以与第二基板20中对应象限区内的光配向方向相平行。例如，在第一象限区411，第一基板10上的第一狭缝电极中的狭缝的延伸方向与第二基板20中第一象限区411的光配向方向相平行。
上述实施例中，通过将显示面板的光配向方向设置在第一基板10和第二基板20的其中一个基板上，在另一个基板上设置狭缝电极，各象限区的狭缝电极中的狭缝的延伸方向与对应象限区内的光配向方向相平行，可以有效减小暗线的宽度，提高显示面板的响应时间。
示例性地，可以在第一基板10和第二基板20上均设置光配向方向，也可以在第一基板10和/或第二基板20上设置狭缝电极，第一基板10和/或第二基板20上设置的狭缝电极的结构可以根据需要设置。
在一种实施方式中，第一基板10的朝向液晶层30的一侧设置有第一光配向层，第二基板20的朝向液晶层30的一侧设置有第二光配向层，第一光配向层和第二光配向层中的一个的四个象限区均设置有光配向方向，另一个的至少第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
在一种实施方式中，显示面板的显示侧位于第二基板20的背离第一基板10的一侧，第一光配向层中的光配向方向远离子像素区域的中心，第二光配向层中的光配向方向靠近子像素区域的中心。
在一种实施方式中，第二光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在第二光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第一中心轴421或第二中心轴421，且与另一个中心轴相平行。
第一光配向层的第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，在第一光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴421或第二中心轴421的方向，且与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
图13为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图13示出了其中的一个子像素区域。图14a为图13所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图14b为一个实施例中形成图14a所示第二基板的过程示意图，图14b示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧，图14c为图13所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图，图14d为一个实施例中形成图14c所示第一基板的过程示意图，图14d示出了第一基板10的朝向液晶层30的一侧。
在图13所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第一象限区411和第四象限区414，第二对相邻的两个象限区为第二象限区412和第三象限区413。
如图13和图14a所示，在第二光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第二中心轴421，且与第一中心轴421相平行。
如图13和图14c所示，在第一光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴421的方向，且与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图14b示出了对第二光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图14b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图14b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图14b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图14b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第五次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图14b中⑤所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的下侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的右侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图14b中⑥所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的下侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的左侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图14b所示的6次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的各象限区的光配向方向如图14a所示。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图14d示出了对第一光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ。如图14d中①所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的下侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ。如图14d中②所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的上侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图14d所示的2次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的光配向方向如图14c所示。
图15为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图15示出了其中的一个子像素区域。图16a为图15所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图16b为一个实施例中形成图16a所示第二基板的过程示意图，图16b示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧，图16c为图15所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图，图16d为一个实施例中形成图16c所示第一基板的过程示意图，图16d示出了第一基板10的朝向液晶层30的一侧。
在图15所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第二象限区412和第三象限区413，第二对相邻的两个象限区为第一象限区411和第四象限区414。
如图15和图16a所示，在第二光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第二中心轴421，且与第一中心轴421相平行。
如图15和图16c所示，在第一光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴421的方向，且与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图16b示出了对第二光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图16b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图16b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图16b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图16b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第五次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图16b中⑤所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的上侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的右侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图16b中⑥所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的上侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的左侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图16b所示的6次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的各象限区的光配向方向如图16a所示。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图16d示出了对第一光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ。如图16d中①所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的下侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ。如图16d中②所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的上侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图16d所示的2次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的光配向方向如图16c所示。
图17为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图17示出了其中的一个子像素区域。图18a为图17所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图18b为一个实施例中形成图18a所示第二基板的过程示意图，图18b示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧；图18c为图17所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；图18d为一个实施例中形成图18c所示第一基板的过程示意图，图18d示出了第一基板10的朝向液晶层30的一侧。
在图17所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第三象限区413和第四象限区414，第二对相邻的两个象限区为第一象限区411和第二象限区412。
如图17和图18a所示，在第二光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第一中心轴421，且与第二中心轴421相平行。
如图17和图18c所示，在第一光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第二中心轴421的方向，且与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图18b示出了对第二光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图18b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图18b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图18b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的上侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的右侧外边缘。
第四次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图18b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的上侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的左侧外边缘。
第五次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图18b中⑤所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的下侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的右侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图18b中⑥所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的下侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的左侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图18b所示的6次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的各象限区的光配向方向如图18a所示。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图18d示出了对第一光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图18d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图18d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
对第一基板10的子像素区域进行如图18d所示的2次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的光配向方向如图18c所示。
图19为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图19示出了其中的一个子像素区域。图20a为图19所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图20b为一个实施例中形成图20a所示第二基板的过程示意图，图20b示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧；图20c为图19所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图，图20d为一个实施例中形成图20c所示第一基板的过程示意图，图20d示出了第一基板10的朝向液晶层30的一侧。
在图19所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第一象限区411和第二象限区412，第二对相邻的两个象限区为第三象限区413和第四象限区414。
如图19和图20a所示，在第二光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第一中心轴421，且与第二中心轴421相平行。
如图19和图20c所示，在第一光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第二中心轴421的方向，且与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图20b示出了对第二光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图20b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图20b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图20b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的上侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的右侧外边缘。
第四次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图20b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的上侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的左侧外边缘。
第五次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图20b中⑤所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的下侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的右侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图20b中⑥所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的下侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的左侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图20b所示的6次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的各象限区的光配向方向如图20a所示。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图20d示出了对第一光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图20d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图20d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
对第二基板20的子像素区域进行如图20d所示的2次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的光配向方向如图20c所示。
在一种实施方式中，第二光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在第二光配向层中，四个象限区的光配向方向均与第一中心轴421或第二中心轴421相平行，且四个象限区的光配向方向的趋向方向相同。其中，趋向方向包括远离子像素区域的中心的方向和靠近子像素区域的中心的方向。
第一光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，第一光配向层中的四个象限区的光配向方向与第二光配向层中的四个象限区的光配向方向相垂直，第一光配向层中的四个象限区的光配向方向的趋向方向与第二光配向层中的四个象限区的光配向方向的趋向方向相反。
图21为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图21示出了其中的一个子像素区域。图22a为图21所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图22b为一个实施例中形成图22a所示第二基板的过程示意图，图22b示出了第二基板的朝向液晶层的一侧；图22c为图21所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图，图22d为一个实施例中形成图22c所示第一基板的过程示意图，图22d示出了第一基板10的朝向液晶层30的一侧。
在图21所示实施例中，第一对相邻的两个象限区可以为第一象限区411和第二象限区412，第二对相邻的两个象限区可以为第三象限区413和第四象限区414。
如图21和图22a所示，在第二光配向层中，四个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，且四个象限区的光配向方向的趋向方向相同。例如，第一对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，并且均朝向第二中心轴421。各象限区的光配向方向的趋向方向均为靠近子像素区域的中心的方向。
如图21和图22c所示，第一配向层中各象限区的光配向方向与第二光配向层中对应象限区的光配向方向相垂直。第一光配向层中各象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴421的方向。第一光配向层中各象限区的光配向方向的趋向方向均为远离子像素区域的中心的方向，与第二光配向层中各象限区的光配向方向的趋向方向相反。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图22b示出了对第二光配向层进行4次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图22b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图22b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图22b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图22b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
对第二基板20的子像素区域进行如图22b所示的4次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的各象限区的光配向方向如图22a所示。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图22d示出了对第一光配向层进行4次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图22d中①所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图22d中②所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第三次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图22d中③所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第四次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图22d中④所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图22d所示的4次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的光配向方向如图22c所示。
图23为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图23示出了其中的一个子像素区域。图24a为图23所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；图24b为一个实施例中形成图24a所示第一基板的过程示意图，图24b示出了第一基板的朝向液晶层的一侧；图24c为图23所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图，图24d为一个实施例中形成图24c所示第二基板的过程示意图，图24d示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧。
在图23所示实施例中，第一对相邻的两个象限区可以为第一象限区411和第二象限区412，第二对相邻的两个象限区可以为第三象限区413和第四象限区414。
如图23和图24a所示，在第一光配向层中，四个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，且四个象限区的光配向方向的趋向方向相同。例如，第一对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，并且均朝向远离第二中心轴421的方向。各象限区的光配向方向的趋向方向均为远离子像素区域的中心的方向。
如图23和图24c所示，第二配向层中各象限区的光配向方向与第一光配向层中对应象限区的光配向方向相垂直。第二光配向层中各象限区的光配向方向均朝向第一中心轴421。第二光配向层中各象限区的光配向方向的趋向方向均为靠近子像素区域的中心的方向，与第一光配向层中各象限区的光配向方向的趋向方向相反。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图24b示出了对第一光配向层进行4次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图24b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图24b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图24b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图24b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
对第一基板10的子像素区域进行如图24b所示的4次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的各象限区的光配向方向如图24a所示。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图24d示出了对第二光配向层进行4次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图24d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图24d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第三次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图24d中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第四次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图24d中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图24d所示的4次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的光配向方向如图24c所示。
在一种实施方式中，第一光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在第一光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度并逐渐远离第二中心轴421，预设角度大于0度且小于90度，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴421或第二中心轴421的方向，且与另一个中心轴相平行；
第二光配向层的第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，在第二光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第一中心轴421或第二中心轴421，且与第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
图25为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图25示出了其中的一个子像素区域。图26a为图25所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；图26b为一个实施例中形成图26a所示第一基板的过程示意图，图26b示出了第一基板10的朝向液晶层30的一侧；图26c为图25所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图26d为一个实施例中形成图26c所示第二基板的过程示意图，图26d示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧。
在图25所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第二象限区412和第三象限区413，第二对相邻的两个象限区为第一象限区411和第四象限区414。
如图25和图26a所示，在第一光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐远离第二中心轴421，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第二中心轴421的方向，且与第一中心轴421相平行。
如图25和图26c所示，在第二光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第一中心轴421的方向，且与第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图26b示出了对第一光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图26b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图26b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图26b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图26b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第五次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图26b中⑤所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的下侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的右侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图26b中⑥所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的下侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的左侧外边缘。
对第一基板10的子像素区域进行如图26b所示的6次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的各象限区的光配向方向如图26a所示。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图26d示出了对第二光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图26d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的下侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图26d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的上侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图26d所示的2次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的光配向方向如图26c所示。
图27为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图27示出了其中的一个子像素区域。图28a为图27所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；图28b为一个实施例中形成图28a所示第一基板的过程示意图，图28b示出了第一基板的朝向液晶层的一侧；图28c为图27所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图28d为一个实施例中形成图28c所示第二基板的过程示意图，图28d示出了第二基板的朝向液晶层的一侧。
在图27所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第一象限区411和第四象限区414，第二对相邻的两个象限区为第二象限区412和第三象限区413。
如图27和图28a所示，在第一光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐远离第二中心轴421，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第二中心轴421的方向，且与第一中心轴421相平行。
如图27和图28c所示，在第二光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第一中心轴421的方向，且与第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图28b示出了对第一光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图28b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图28b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图28b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图28b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第五次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图28b中⑤所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的上侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的右侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图28b中⑥所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的上侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的左侧外边缘。
对第一基板10的子像素区域进行如图28b所示的6次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的各象限区的光配向方向如图28a所示。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图28d示出了对第二光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，如图28d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的下侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，如图28d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的上侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图28d所示的2次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的光配向方向如图28c所示。
图29为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图29示出了其中的一个子像素区域。图30a为图29所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；图30b为一个实施例中形成图30a所示第一基板的过程示意图，图30b示出了第一基板的朝向液晶层的一侧；图30c为图29所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图30d为一个实施例中形成图30c所示第二基板的过程示意图，图30d示出了第二基板的朝向液晶层的一侧。
在图29所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第三象限区413和第四象限区414，第二对相邻的两个象限区为第一象限区411和第二象限区412。
如图29和图30a所示，在第一光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐远离第二中心轴421，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴421的方向，且与第二中心轴421相平行。
如图29和图30c所示，在第二光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第二中心轴421的方向，且与第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图30b示出了对第一光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘。如图30b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘。如图30b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图30b中③所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的上侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的右侧外边缘。
第四次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图30b中④所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的上侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的左侧外边缘。
第五次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图30b中⑤所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的下侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的右侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图30b中⑥所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的下侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的左侧外边缘。
对第一基板10的子像素区域进行如图30b所示的6次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的各象限区的光配向方向如图30a所示。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图30d示出了对第二光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘。如图30d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘。如图30d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
对第二基板20的子像素区域进行如图30d所示的2次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的光配向方向如图30c所示。
图31为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图31示出了其中的一个子像素区域。图32a为图31所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；图32b为一个实施例中形成图32a所示第一基板的过程示意图，图32b示出了第一基板的朝向液晶层的一侧；图32c为图31所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图32d为一个实施例中形成图32c所示第二基板的过程示意图，图32d示出了第二基板的朝向液晶层的一侧。
在图31所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第一象限区411和第二象限区412，第二对相邻的两个象限区为第三象限区413和第四象限区414。
如图31和图32a所示，在第一光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐远离第二中心轴421，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴421的方向，且与第二中心轴421相平行。
如图31和图32c所示，在第二光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第二中心轴421的方向，且与第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图32b示出了对第一光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，如图32b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，如图32b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图32b中③所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的上侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的左侧外边缘。
第四次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图32b中④所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的上侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的右侧外边缘。
第五次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图32b中⑤所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的下侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的右侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图32b中⑥所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的下侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的左侧外边缘。
对第一基板10的子像素区域进行如图32b所示的6次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的各象限区的光配向方向如图32a所示。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图32d示出了对第二光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，如图32d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，如图32d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
对第二基板20的子像素区域进行如图32d所示的2次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的光配向方向如图32c所示。
在一种实施方式中，显示面板的显示侧位于第二基板20的背离第一基板10的一侧。
第二光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在第二光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐远离第二中心轴421。第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴421或第二中心轴421相平行。
第一光配向层的第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，在第一光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向相同，趋向方向包括远离子像素区域的中心的方向和靠近子像素区域的中心的方向。
图33为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图33示出了其中的一个子像素区域。图34a为图33所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图34b为一个实施例中形成图34a所示第二基板的过程示意图，图34b示出了第二基板的朝向液晶层的一侧，图34c为图33所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图，图34d为一个实施例中形成图34c所示第一基板的过程示意图，图34d示出了第一基板10的朝向液晶层30的一侧。
在图33所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第二象限区412和第三象限区413，第二对相邻的两个象限区为第一象限区411和第四象限区414。
如图33和图34a所示，在第二光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐远离第二中心轴421。第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，且均朝向远离第二中心轴421的方向。第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向为远离子像素区域的中心的方向。
如图33和图34c所示，在第一光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴421的方向，并且与第二中心轴421相平行，也就是说，与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向为远离子像素区域的中心的方向。也就是说，第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向相同。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图34b示出了对第二光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图34b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图34b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图34b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图34b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第五次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图34b中⑤所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的下侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的右侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第四象限区414和第一象限区411进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图34b中⑥所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的下侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的左侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图34b所示的6次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的各象限区的光配向方向如图34a所示。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图34d示出了对第一光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ。如图34d中①所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的下侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ。如图34d中②所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的上侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图34d所示的2次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的光配向方向如图34c所示。
图35为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图35示出了其中的一个子像素区域。图36a为图35所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图36b为一个实施例中形成图36a所示第二基板的过程示意图，图36b示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧，图36c为图35所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图，图36d为一个实施例中形成图36c所示第一基板的过程示意图，图36d示出了第一基板10的朝向液晶层30的一侧。
在图35所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第一象限区411和第四象限区414，第二对相邻的两个象限区为第二象限区412和第三象限区413。
如图35和图36a所示，在第二光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐远离第二中心轴421。第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，且均朝向远离第二中心轴421的方向。第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向为远离子像素区域的中心的方向。
如图35和图36c所示，在第一光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴421的方向，并且与第二中心轴421相平行，也就是说，与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向为远离子像素区域的中心的方向。第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向相同。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图36b示出了对第二光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图36b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图36b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图36b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图36b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第五次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图36b中⑤所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的上侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的右侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图36b中⑥所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的上侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的左侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图36b所示的6次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的各象限区的光配向方向如图36a所示。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图36d示出了对第一光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ。如图36d中①所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的下侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ。如图36d中②所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的上侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图36d所示的2次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的光配向方向如图36c所示。
在图34和图35所示实施例中，第二基板20中各象限区的光配向方向的趋向方向均为远离子像素区域的中心的方向，第一基板10中的光配向方向的趋向方向与第二基板20中的光配向方向的趋向方向相同。
图37为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图37示出了其中的一个子像素区域。图38a为图37所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图38b为一个实施例中形成图38a所示第二基板的过程示意图，图38b示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧，图38c为图37所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图，图38d为一个实施例中形成图38c所示第一基板的过程示意图，图38d示出了第一基板10的朝向液晶层30的一侧。
在图37所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第一象限区411和第二象限区412，第二对相邻的两个象限区为第三象限区413和第四象限区414。
如图37和图38a所示，在第二光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐远离第二中心轴421。第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第二中心轴421相平行，且均朝向第一中心轴421。第一对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向为远离子像素区域的中心的方向。第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向为靠近子像素区域的中心的方向。
如图37和图38c所示，在第一光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第二中心轴421的方向，并且与第一中心轴421相平行，也就是说，与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向为靠近子像素区域的中心的方向。第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向相同。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图38b示出了对第二光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图38b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图38b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第三次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图38b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二象限区412的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第四次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图38b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第五次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图38b中⑤所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第六次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图38b中⑥所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
对第二基板20的子像素区域进行如图38b所示的6次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的各象限区的光配向方向如图38a所示。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图38d示出了对第一光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ。如图38d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ。如图38d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
对第二基板20的子像素区域进行如图38d所示的2次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的光配向方向如图38c所示。
图39为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图39示出了其中的一个子像素区域。图40a为图39所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图40b为一个实施例中形成图40a所示第二基板的过程示意图，图40b示出了第二基板的朝向液晶层的一侧，图40c为图39所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图，图40d为一个实施例中形成图40c所示第一基板的过程示意图，图40d示出了第一基板10的朝向液晶层30的一侧。
在图39所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第三象限区413和第四象限区414，第二对相邻的两个象限区为第一象限区411和第二象限区412。
如图39和图40a所示，在第二光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐远离第二中心轴421。第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第二中心轴421相平行，且均朝向第一中心轴421。第一对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向为远离子像素区域的中心的方向。第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向为靠近子像素区域的中心的方向。
如图39和图40c所示，在第一光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第二中心轴421的方向，并且与第一中心轴421相平行，也就是说，与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向为靠近子像素区域的中心的方向。第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向与第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向相同。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图40b示出了对第二光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图40b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图40b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第三次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图40b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二象限区412的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第四次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向第一中心轴421，且曝光方向逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图40b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第五次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图40b中⑤所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第六次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐远离第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421呈预设角度θ。如图40b中⑥所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
对第二基板20的子像素区域进行如图40b所示的6次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的各象限区的光配向方向如图40a所示。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图40d示出了对第一光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ。如图40d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，且曝光方向逐渐靠近第二中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ。如图40d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
对第二基板20的子像素区域进行如图40d所示的2次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的光配向方向如图40c所示。
在一种实施方式中，第二光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在第二光配向层中，四个象限区的光配向方向均与第一中心轴421或第二中心轴421相平行，且四个象限区的光配向方向的趋向方向相同。其中，趋向方向包括远离子像素区域的中心的方向和靠近子像素区域的中心的方向。第一光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，第一光配向层中的四个象限区的光配向方向与第二光配向层中的四个象限区的光配向方向相垂直，第一光配向层中的四个象限区的光配向方向的趋向方向与第二光配向层中的四个象限区的光配向方向的趋向方向相同。
图41为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图41示出了其中的一个子像素区域。图42a为图41所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图42b为一个实施例中形成图42a所示第二基板的过程示意图，图42b示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧；图42c为图41所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图，图42d为一个实施例中形成图42c所示第一基板的过程示意图，图42d示出了第一基板10的朝向液晶层30的一侧。
在图41所示实施例中，第一对相邻的两个象限区可以为第一象限区411和第二象限区412，第二对相邻的两个象限区可以为第三象限区413和第四象限区414。
如图41和图42a所示，在第二光配向层中，四个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，且四个象限区的光配向方向的趋向方向相同。例如，第一对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，并且均朝向远离第二中心轴421的方向。各象限区的光配向方向的趋向方向均为远离子像素区域的中心的方向。
如图41和图42c所示，第一配向层中各象限区的光配向方向与第二光配向层中对应象限区的光配向方向相垂直。第一光配向层中各象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴421的方向。第一光配向层中各象限区的光配向方向的趋向方向均为远离子像素区域的中心的方向，与第二光配向层中各象限区的光配向方向的趋向方向相同。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图42b示出了对第二光配向层进行4次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图42b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图42b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图42b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图42b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
对第二基板20的子像素区域进行如图42b所示的4次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的各象限区的光配向方向如图42a所示。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图42d示出了对第一光配向层进行4次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图42d中①所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图42d中②所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第三次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图42d中③所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第四次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图42d中④所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图42d所示的4次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的光配向方向如图42c所示。
图43为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图43示出了其中的一个子像素区域。图44a为图43所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；图44b为一个实施例中形成图44a所示第一基板的过程示意图，图44b示出了第一基板的朝向液晶层的一侧；图44c为图43所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图，图44d为一个实施例中形成图44c所示第二基板的过程示意图，图44d示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧。
在图43所示实施例中，第一对相邻的两个象限区可以为第一象限区411和第二象限区412，第二对相邻的两个象限区可以为第三象限区413和第四象限区414。
如图43和图44a所示，在第一光配向层中，四个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，且四个象限区的光配向方向的趋向方向相同。例如，第一对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴421相平行，并且均朝向第二中心轴421。各象限区的光配向方向的趋向方向均为靠近子像素区域的中心的方向。
如图43和图44c所示，第二配向层中各象限区的光配向方向与第一光配向层中对应象限区的光配向方向相垂直。第二光配向层中各象限区的光配向方向均朝向第一中心轴421。第二光配向层中各象限区的光配向方向的趋向方向均为靠近子像素区域的中心的方向，与第一光配向层中各象限区的光配向方向的趋向方向相同。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图44b示出了对第一光配向层进行4次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图44b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图44b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图44b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图44b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
对第一基板10的子像素区域进行如图44b所示的4次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的各象限区的光配向方向如图44a所示。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图44d示出了对第二光配向层进行4次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图44d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图44d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第三次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图44d中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第四次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图44d中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图44d所示的4次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的光配向方向如图44c所示。
在一种实施方式中，第一光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在第一光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421。第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一中心轴421或第二中心轴421相平行。
第二光配向层的第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，在第二光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
图45为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图45示出了其中的一个子像素区域。图46a为图45所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；图46b为一个实施例中形成图46a所示第一基板的过程示意图，图46b示出了第一基板的朝向液晶层的一侧；图46c为图45所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图46d为一个实施例中形成图46c所示第二基板的过程示意图，图46d示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧。
在图45所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第三象限区413和第四象限区414，第二对相邻的两个象限区为第一象限区411和第二象限区412。
如图45和图46a所示，在第一光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421。第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴421的方向，且与第二中心轴421相平行。第一光配向层中第一对相邻的两个象限区中的光配向方向的趋向方向为靠近子像素区域的中心的方向，第一光配向层中第二对相邻的两个象限区中的光配向方向的趋向方向为远离子像素区域的中心的方向。
如图45和图46c所示，在第二光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第二中心轴421，并与第一中心轴421相平行。第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向为靠近子像素区域的中心的方向。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图46b示出了对第一光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图46b中①所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图46b中②所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第三次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图46b中③所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第四次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图46b中④所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第五次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图46b中⑤所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第六次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图46b中⑥所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
对第一基板10的子像素区域进行如图46b所示的6次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的各象限区的光配向方向如图46a所示。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图46d示出了对第二光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图46d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图46d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
对第二基板20的子像素区域进行如图46d所示的2次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的光配向方向如图46c所示。
图47为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图47示出了其中的一个子像素区域。图48a为图47所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；图48b为一个实施例中形成图48a所示第一基板的过程示意图，图48b示出了第一基板的朝向液晶层的一侧；图48c为图47所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图48d为一个实施例中形成图48c所示第二基板的过程示意图，图48d示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧。
在图47所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第一象限区411和第二象限区412，第二对相邻的两个象限区为第三象限区413和第四象限区414。
如图47和图48a所示，在第一光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421。第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第一中心轴421的方向，且与第二中心轴421相平行。
如图47和图48c所示，在第二光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离第二中心轴421的方向，并与第一中心轴421相平行。第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向为远离子像素区域的中心的方向。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图48b示出了对第一光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图48b中①所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图48b中②所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第三次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图48b中③所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第四次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图48b中④所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第五次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图48b中⑤所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第六次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图48b中⑥所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
对第一基板10的子像素区域进行如图48b所示的6次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的各象限区的光配向方向如图48a所示。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图48d示出了对第二光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图48d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。如图48d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐远离第二中心轴421。
对第二基板20的子像素区域进行如图48d所示的2次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的光配向方向如图48c所示。
图49为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图49示出了其中的一个子像素区域。图50a为图49所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；图50b为一个实施例中形成图50a所示第一基板的过程示意图，图50b示出了第一基板10的朝向液晶层30的一侧；图50c为图49所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图50d为一个实施例中形成图50c所示第二基板的过程示意图，图50d示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧。
在图49所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第二象限区412和第三象限区413，第二对相邻的两个象限区为第一象限区411和第四象限区414。
如图49和图50a所示，在第一光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421。例如，第二象限区412的光配向方向自第一中心轴421朝向第二象限区412的与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421。第三象限区413的光配向方向自第一中心轴421朝向第三象限区413的与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421。第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第二中心轴421，且与第一中心轴421相平行。
如图49和图50c所示，在第二光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第一中心轴421，并与第二中心轴421相平行。第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图50b示出了对第一光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图50b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图50b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图50b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图50b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第五次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图50b中⑤所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图50b中⑥所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
对第一基板10的子像素区域进行如图50b所示的6次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的各象限区的光配向方向如图50a所示。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图50d示出了对第二光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图50d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图50d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图50d所示的2次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的光配向方向如图50c所示。
图51为图1所示显示面板在另一个实施例中的A向视图，图51示出了其中的一个子像素区域。图52a为图51所示显示面板中的第一基板的朝向液晶层一侧的示意图；图52b为一个实施例中形成图52a所示第一基板的过程示意图，图52b示出了第一基板的朝向液晶层的一侧；图52c为图51所示显示面板中的第二基板的朝向液晶层一侧的示意图；图52d为一个实施例中形成图52c所示第二基板的过程示意图，图52d示出了第二基板20的朝向液晶层30的一侧。
在图51所示实施例中，第一对相邻的两个象限区为第一象限区411和第四象限区414，第二对相邻的两个象限区为第二象限区412和第三象限区413。
如图51和图52a所示，在第一光配向层中，第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421。例如，第一象限区411的光配向方向自第一中心轴421朝向第一象限区411的与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421。第四象限区414的光配向方向自第一中心轴421朝向第四象限区414的与第一中心轴421相平行的外边缘，且与第二中心轴421成预设角度θ并逐渐靠近第二中心轴421。第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第二中心轴421，且与第一中心轴421相平行。
如图51和图52c所示，在第二光配向层中，第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向第一中心轴421，并与第二中心轴421相平行。第二光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与第一光配向层中第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
可以采用UV2A技术对第一光配向层进行曝光，图52b示出了对第一光配向层进行6次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图52b中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第二次曝光中，可以对第一象限区411和第二象限区412进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图52b中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第三次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图52b中③所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的左侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第四次曝光中，可以对第三象限区413和第四象限区414进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的一侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的另一侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。如图52b中④所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向与第一中心轴421相平行的左侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二中心轴421。
第五次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图52b中⑤所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第四象限区414的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
第六次曝光中，可以对第一象限区411和第四象限区414进行曝光，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图52b中⑥所示，曝光方向自第一中心轴421朝向与第一中心轴421相平行的右侧外边缘，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第一象限区411的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
对第一基板10的子像素区域进行如图52b所示的6次曝光后，获得第一基板10的子像素区域的各象限区的光配向方向如图52a所示。
可以采用UV2A技术对第二光配向层进行曝光，图52d示出了对第二光配向层进行2次曝光的曝光方向。
第一次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图52d中①所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第二象限区412的与第二中心轴421相平行的上侧外边缘。
第二次曝光中，可以对第二象限区412和第三象限区413进行曝光，曝光方向自与第一中心轴421相平行的外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的外边缘。如图52d中②所示，曝光方向自与第一中心轴421相平行的右侧外边缘朝向第一中心轴421，曝光方向与第二中心轴421成预设角度θ且逐渐靠近第三象限区413的与第二中心轴421相平行的下侧外边缘。
对第二基板20的子像素区域进行如图52d所示的2次曝光后，获得第二基板20的子像素区域的光配向方向如图52c所示。
需要说明的是，对于液晶显示面板，在第一基板10和第二基板20均设置有光配向方向的情况下，靠近第一基板10表面的液晶分子的旋转状态与第一基板10侧的光配向方向一致，靠近第二基板20表面的液晶分子的旋转状态与第二基板20侧的光配向方向一致。液晶层30中，由第一基板10朝向第二基板20，液晶分子的状态由靠近第一基板10表面的旋转状态过渡到靠近第二基板20表面的旋转状态。
本公开实施例中，图2、图7、图13、图15、图17、图19、图21、图23、图25、图27、图29和图31所示的显示面板中，液晶层30的中间态液晶分子的倾倒状态如图3所示。这些实施例中，显示面板的暗线长度为(4/3)a。
本公开实施例中，图9、图11、图33、图35、图37、图39、图41、图43、图45、图47、图49和图51所示的显示面板中，液晶层30的中间态液晶分子的倾倒状态如图53所示，图53为本公开另一实施例显示面板的子像素区域的暗线状态示意图。图53中用粗实线示出了暗线，图53中的暗线呈“王”字状。图53中暗线的长度为2a，其中，a为子像素区域的长度(子像素区域在竖直方向的尺寸)，子像素区域的宽度(子像素区域在水平方向的尺寸)为(1/3)a。
相比于相关技术中的暗线长度(8/3)a，本公开实施例的显示面板，缩短了暗线长度，提高了显示面板的透过率。
上述实施例中，在第一基板10和第二基板20同时设置光配向方向的情况下，可以在第一基板10和/或第二基板20上设置狭缝电极，狭缝电极的结构可以根据需要设置，在此不作具体限定。
需要说明的是，上述实施例中，对形成各第一基板的光配向方向和各第二基板的光配向方向的曝光过程进行了有限列举。本领域技术人员可以理解，获得各第一基板的光配向方向和各第二基板的光配向方向的曝光过程并不限于上述实施例，本领域技术人员可以对上述实施例中的曝光过程进行任意组合、配置，只要最终获得本公开实施例中第一基板的光配向方向或第二基板的光配向方向，均属于本公开的保护范围。
需要说明的是，本公开实施例列出的曝光过程可以采用UV2A模式曝光技术，但本公开实施例并不对具体的曝光模式进行限定，只要可以形成本公开实施例中第一基板的光配向方向或第二基板的光配向方向，均属于本公开的保护范围。
基于前述实施例的发明构思，本公开实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括前述实施例的显示面板。显示装置可以为液晶显示装置，显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
在本说明书的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本公开和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者多个该特征。在本公开的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本公开中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接，还可以是通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。
在本公开中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
上文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本公开的不同结构。为了简化本公开，上文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本公开。此外，本公开可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。
以上，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到其各种变化或替换，这些都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (16)

1.一种显示面板，其特征在于，包括相对设置的第一基板和第二基板，以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层，所述显示面板包括多个子像素区域，所述子像素区域被第一中心轴和第二中心轴划分为依次相邻的第一象限区、第二象限区、第三象限区和第四象限区，各象限区均设置有光配向方向，四个象限区中的第一对相邻的两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称，第二对相邻的两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称；
其中，所述第一对相邻的两个象限区与所述第二对相邻的两个象限区为不同的象限区，所述第一中心轴经过所述子像素区域的中心，所述第二中心轴经过所述子像素区域的中心且与所述第一中心轴相垂直。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，各象限区的光配向方向均设置在所述第一基板或所述第二基板上，在设置有光配向方向的基板上，每相邻两个象限区的光配向方向关于对应的中心轴对称，各象限区的光配向方向均与所述第二中心轴成预设角度，所述预设角度大于0度且小于90度。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板的显示侧位于所述第二基板的背离所述第一基板的一侧，各象限区的光配向方向均设置在所述第一基板上，各象限区的光配向方向均自所述第一中心轴朝向与所述第一中心轴相平行的外边缘，且逐渐远离所述第二中心轴。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板的显示侧位于所述第二基板的背离所述第一基板的一侧，各象限区的光配向方向均设置在所述第二基板上，各象限区的光配向方向均自与所述第一中心轴相平行的外边缘朝向所述第一中心轴，且逐渐靠近所述第二中心轴。
5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板的显示侧位于所述第二基板的背离所述第一基板的一侧，各象限区的光配向方向均设置在所述第一基板上，各象限区的光配向方向均自所述第一中心轴朝向与所述第一中心轴相平行的外边缘，且逐渐靠近所述第二中心轴。
6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板的显示侧位于所述第二基板的背离所述第一基板的一侧，各象限区的光配向方向均设置在所述第二基板上，各象限区的光配向方向均自与所述第一中心轴相平行的外边缘朝向所述第一中心轴，且逐渐远离所述第二中心轴。
7.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，在无光配向方向的基板上设置有狭缝电极，各象限区的所述狭缝电极中的狭缝的延伸方向与对应象限区内的光配向方向相平行。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一基板的朝向所述液晶层的一侧设置有第一光配向层，所述第二基板的朝向所述液晶层的一侧设置有第二光配向层，所述第一光配向层和所述第二光配向层中的一个的四个象限区均设置有光配向方向，另一个的至少所述第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，所述第一光配向层中所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向与所述第二光配向层中所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板的显示侧位于所述第二基板的背离所述第一基板的一侧，所述第一光配向层中的光配向方向远离所述子像素区域的中心，所述第二光配向层中的光配向方向靠近所述子像素区域的中心。
10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，
所述第二光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在所述第二光配向层中，所述第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与所述第一中心轴相平行的外边缘朝向所述第一中心轴，且与所述第二中心轴成预设角度并逐渐靠近所述第二中心轴，所述预设角度大于0度且小于90度，所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向所述第一中心轴或所述第二中心轴，且与另一个中心轴相平行；
所述第一光配向层的所述第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，在所述第一光配向层中，所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离所述第一中心轴或所述第二中心轴的方向，且与所述第二光配向层中所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
11.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，
所述第二光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在所述第二光配向层中，四个象限区的光配向方向均与所述第一中心轴或所述第二中心轴相平行，且四个象限区的光配向方向的趋向方向相同；
所述第一光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，所述第一光配向层中的四个象限区的光配向方向与所述第二光配向层中的四个象限区的光配向方向相垂直，所述第一光配向层中的四个象限区的光配向方向的趋向方向与所述第二光配向层中的四个象限区的光配向方向的趋向方向相反；
其中，所述趋向方向包括远离所述子像素区域的中心的方向和靠近所述子像素区域的中心的方向。
12.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，
所述第一光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在所述第一光配向层中，所述第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自所述第一中心轴朝向与所述第一中心轴相平行的外边缘，且与所述第二中心轴成预设角度并逐渐远离所述第二中心轴，所述预设角度大于0度且小于90度，所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向远离所述第一中心轴或所述第二中心轴的方向，且与另一个中心轴相平行；
所述第二光配向层的所述第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，在所述第二光配向层中，所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向均朝向所述第一中心轴或所述第二中心轴，且与所述第一光配向层中所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
13.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板的显示侧位于所述第二基板的背离所述第一基板的一侧，
所述第二光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在所述第二光配向层中，所述第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自与所述第一中心轴相平行的外边缘朝向所述第一中心轴，且与所述第二中心轴成预设角度并逐渐远离所述第二中心轴，所述预设角度大于0度且小于90度，所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与所述第一中心轴或所述第二中心轴相平行；
所述第一光配向层的所述第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，在所述第一光配向层中，所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与所述第二光配向层中所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直，所述第一光配向层中所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向与所述第二光配向层中所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向的趋向方向相同，所述趋向方向包括远离所述子像素区域的中心的方向和靠近所述子像素区域的中心的方向。
14.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板的显示侧位于所述第二基板的背离所述第一基板的一侧，
所述第二光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在所述第二光配向层中，四个象限区的光配向方向均与所述第一中心轴或所述第二中心轴相平行，且四个象限区的光配向方向的趋向方向相同；
所述第一光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，所述第一光配向层中的四个象限区的光配向方向与所述第二光配向层中的四个象限区的光配向方向相垂直，所述第一光配向层中的四个象限区的光配向方向的趋向方向与所述第二光配向层中的四个象限区的光配向方向的趋向方向相同；
其中，所述趋向方向包括远离所述子像素区域的中心的方向和靠近所述子像素区域的中心的方向。
15.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板的显示侧位于所述第二基板的背离所述第一基板的一侧，
所述第一光配向层的四个象限区均设置有光配向方向，在所述第一光配向层中，所述第一对相邻的两个象限区中的光配向方向均自所述第一中心轴朝向与所述第一中心轴相平行的外边缘，且与所述第二中心轴成预设角度并逐渐靠近所述第二中心轴，所述预设角度大于0度且小于90度，所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与所述第一中心轴或所述第二中心轴相平行；
所述第二光配向层的所述第二对相邻的两个象限区设置有光配向方向，在所述第二光配向层中，所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向均与所述第一光配向层中所述第二对相邻的两个象限区的光配向方向相垂直。
16.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-15中任一项所述的显示面板。
CN202210449447.1A 2022-04-26 2022-04-26 一种显示面板和显示装置 Active CN114879413B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210449447.1A CN114879413B (zh) 2022-04-26 2022-04-26 一种显示面板和显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210449447.1A CN114879413B (zh) 2022-04-26 2022-04-26 一种显示面板和显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114879413A true CN114879413A (zh) 2022-08-09
CN114879413B CN114879413B (zh) 2023-12-29

Family

ID=82672753

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210449447.1A Active CN114879413B (zh) 2022-04-26 2022-04-26 一种显示面板和显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114879413B (zh)

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990000032A (ko) * 1997-06-02 1999-01-15 구자홍 액정셀의 배향처리방법
JP2006154735A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Samsung Sdi Co Ltd 液晶表示装置
US20070030429A1 (en) * 2003-09-29 2007-02-08 Japan Science And Technology Liquid crystal display element
CN101226308A (zh) * 2007-06-08 2008-07-23 友达光电股份有限公司 液晶显示面板、光电装置及其制造方法
JP2009282366A (ja) * 2008-05-23 2009-12-03 Sharp Corp 液晶表示パネルおよびその製造方法
JP2011085738A (ja) * 2009-10-15 2011-04-28 Sharp Corp 液晶表示装置
WO2014042081A1 (ja) * 2012-09-13 2014-03-20 シャープ株式会社 液晶表示装置
US20170212388A1 (en) * 2016-01-22 2017-07-27 Samsung Display Co. Ltd. Curved liquid crystal display device and method for manufacturing the same
CN108027539A (zh) * 2015-10-02 2018-05-11 夏普株式会社 液晶显示面板及其制造方法
CN108139639A (zh) * 2015-09-25 2018-06-08 夏普株式会社 液晶显示装置
CN108139631A (zh) * 2015-10-02 2018-06-08 夏普株式会社 液晶显示面板、液晶显示面板的制造方法以及液晶显示面板的制造装置
CN112703446A (zh) * 2018-09-14 2021-04-23 堺显示器制品株式会社 液晶显示面板及其制造方法
US20220057677A1 (en) * 2019-05-08 2022-02-24 Jsr Corporation Liquid crystal display device and manufacturing method therefor
CN114326219A (zh) * 2022-01-21 2022-04-12 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、其制作方法、配向方法、配向设备及显示装置

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990000032A (ko) * 1997-06-02 1999-01-15 구자홍 액정셀의 배향처리방법
US20070030429A1 (en) * 2003-09-29 2007-02-08 Japan Science And Technology Liquid crystal display element
JP2006154735A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Samsung Sdi Co Ltd 液晶表示装置
CN101226308A (zh) * 2007-06-08 2008-07-23 友达光电股份有限公司 液晶显示面板、光电装置及其制造方法
JP2009282366A (ja) * 2008-05-23 2009-12-03 Sharp Corp 液晶表示パネルおよびその製造方法
JP2011085738A (ja) * 2009-10-15 2011-04-28 Sharp Corp 液晶表示装置
WO2014042081A1 (ja) * 2012-09-13 2014-03-20 シャープ株式会社 液晶表示装置
CN108139639A (zh) * 2015-09-25 2018-06-08 夏普株式会社 液晶显示装置
CN108027539A (zh) * 2015-10-02 2018-05-11 夏普株式会社 液晶显示面板及其制造方法
CN108139631A (zh) * 2015-10-02 2018-06-08 夏普株式会社 液晶显示面板、液晶显示面板的制造方法以及液晶显示面板的制造装置
US20170212388A1 (en) * 2016-01-22 2017-07-27 Samsung Display Co. Ltd. Curved liquid crystal display device and method for manufacturing the same
CN112703446A (zh) * 2018-09-14 2021-04-23 堺显示器制品株式会社 液晶显示面板及其制造方法
US20220057677A1 (en) * 2019-05-08 2022-02-24 Jsr Corporation Liquid crystal display device and manufacturing method therefor
CN114326219A (zh) * 2022-01-21 2022-04-12 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、其制作方法、配向方法、配向设备及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN114879413B (zh) 2023-12-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9715148B2 (en) Pixel structure of display panel
KR100482468B1 (ko) 프린지 필드 구동 액정 표시 장치
TWI301218B (en) Vertically aligned active matrix liquid crystal display device
US8830427B2 (en) Liquid crystal display
CN109459891B (zh) 显示面板的光配向方法及显示面板和显示装置
US20170052396A1 (en) Liquid crystal display panel and method of liquid crystal alignment thereof
CN108027539B (zh) 液晶显示面板及其制造方法
US9915838B2 (en) Display panel and method for fabricating the same
JP2007249178A (ja) 液晶表示装置及びその画素電極アレイ
JP2009237541A (ja) 液晶装置および電子機器
US7675595B2 (en) Liquid crystal display panel having rectangular liquid crystal domain arranging layers including crossed slits
JP2013225098A (ja) 液晶表示装置
WO2020248646A1 (zh) 液晶面板的配向方法、液晶面板及显示装置
KR20030048865A (ko) 멀티도메인 액정표시소자
CN111176021A (zh) 垂直配向的液晶显示面板及显示装置
EP3680711B1 (en) Array substrate, liquid crystal display panel and display device
US20180224687A1 (en) Pixel structure, display device and display panel having the display device
JP6772001B2 (ja) 液晶表示装置
CN103513472A (zh) 基板、具有其的显示装置及其制造方法
CN114879413A (zh) 一种显示面板和显示装置
US20140043576A1 (en) Liquid crystal display panel and liquid crystal display device
US20190265525A1 (en) Liquid crystal panel and fabricating method thereof
WO2017057208A1 (ja) 液晶表示パネル及びその製造方法
US9063377B2 (en) Liquid crystal display device
KR20010077571A (ko) 광시야각을 가지는 액정표시장치 및 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB02 Change of applicant information
CB02 Change of applicant information

Address after: 610000 No. 1778, Qinglan Road, Huangjia street, Shuangliu District, Chengdu, Sichuan

Applicant after: Chengdu BOE Display Technology Co.,Ltd.

Applicant after: BOE TECHNOLOGY GROUP Co.,Ltd.

Address before: 610000 No. 1778, Qinglan Road, Huangjia street, Shuangliu District, Chengdu, Sichuan

Applicant before: CHENGDU ZHONGDIAN PANDA DISPLAY TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Applicant before: BOE TECHNOLOGY GROUP Co.,Ltd.

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant