CN114746373A - 一体式玻璃反应容器、制造方法和分析方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于制造由玻璃制成的反应容器的方法以及通过所述方法获得的由玻璃制成的反应容器。所述方法具有步骤：1.将可透射第一玻璃板的波长的激光束入射到第一玻璃板的表面上，2.蚀刻第一玻璃板，3.其中，当凹槽仅在第一玻璃板的部分厚度上延伸时，第一玻璃板的蚀刻结束,并且因此凹槽具有一体式在第一玻璃板中形成的底部。

Description

一体式玻璃反应容器、制造方法和分析方法

本发明涉及一种制造由玻璃制成的反应容器的方法，所述反应容器构造为在玻璃中的凹槽的形式。反应容器在玻璃中以一种布局形成，所述玻璃是一体式的，使得反应容器在一体式的玻璃、尤其玻璃板中形成。该方法产生多个在一体式玻璃中形成的反应容器的布局，例如分别有8x12个反应容器的25x25的区域的布局。在由第一玻璃板构成的一体式的玻璃板中形成多个反应容器。

该方法的优点是，没有机械作用地在实心的玻璃上形成凹槽，凹槽形成反应容器，反应容器因此不具有机械损伤、例如微裂缝。反应容器具有较大的深度与直径的纵横比。另一个优点是，制造反应容器的方法至少可以在没有对玻璃表面的选择性涂层的情况下进行，在该玻璃表面中形成反应容器的横截面开口，可选的是在没有对玻璃的表面的任何涂层的情况下进行，在该玻璃中形成反应容器。

背景技术

多伊奇等人在文献Lab Chip，2006，69，995-1000中描述了通过在涂覆由铬和其上的光致抗蚀剂构成的掩膜后进行蚀刻在玻璃板中制造直径为20μm，深度为8μm的反应容器。

文献US 2003/0211014 A1描述了通过用超声波加载的工具和在工具与玻璃之间的磨料在玻璃中制造反应容器。

文献EP 1 867 612 A1描述了具有96个杯状件的微量滴定盘，微量滴定盘由紫外线可透过的并通过玻璃熔块与玻璃板连接的玻璃构成的底部构成，在玻璃板中连续的凹槽构成杯状件的侧壁。

文献EP 2 011 857 A1描述了通过光刻方法在微量滴定盘的底部上形成表面结构。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种替代的制造方法，其尤其适合于在玻璃中体积整体较小的情况下制造具有较大纵横比的反应容器，以及提供一种多个这种反应容器在玻璃中的布局。优选的是，所述方法应适于提供这种反应容器的布局，其中玻璃在用光照射时形成与反应容器中的细胞的较高的光学对比。

发明的说明

本发明以权利要求的特征并且尤其以用于制造由玻璃制成的反应容器的方法以及用所述方法得到的由玻璃制成的反应容器解决上述技术问题。所述方法具有步骤：

1.将可透射玻璃板的波长的激光束入射、优选点状并且进一步优选垂直地入射到玻璃板的表面的位置上，在所述位置处应分别形成作为反应容器的凹槽，其中，激光束优选由激光脉冲构成，例如具有最大100μs的脉冲长度，并且激光脉冲的焦点位置被这样设置，即激光脉冲的焦点尤其在激光辐射的传播方向上不在玻璃板的整个厚度上延伸，并且第一玻璃板在应形成凹槽的位置处在多个相互间隔的部位处被激光脉冲照射，

2.蚀刻玻璃板以形成凹槽，优选持续时间足以产生沿所述位置优选至少40μm或至少30μm深度的凹槽，优选具有深度与直径的纵横比为至少2、至少4、至少5或至少6，所述直径在第一表面的平面内测量，

其中，当凹槽仅在第一玻璃板的部分厚度上延伸时玻璃板的蚀刻结束，并且因此凹槽具有在第一玻璃板中一体式构成的底部，使得形成反应容器的凹槽的底部优选在激光脉冲入射的每个部位处都具有凹槽，或在激光脉冲入射的每个部位处由凹槽形成或由凹槽构成。

激光脉冲的焦点位置的设置“其焦点尤其在激光辐射的传播方向上不在玻璃板的整个厚度上延伸”可以由此实现，即这样设置激光脉冲的焦点位置，使得激光脉冲的焦点尤其在激光辐射的传播方向上仅在玻璃板的部分厚度上延伸，例如在玻璃板的第一厚度部段上延伸。

每个玻璃板在此可以是由具有大于其厚度的横向尺寸的玻璃制成的物体。因此，玻璃板可以具有矩形、圆形或其他形状的周部，该周部将玻璃板的相对的表面限界。

反应容器由玻璃板中的凹槽形成，其中，凹槽具有正好一个开口，开口位于玻璃板的第一表面的平面内。反应容器的应用不限于化学反应，还包括生物化学、生物和物理过程。这些可以是通过单个细胞、细菌、病毒、蛋白质等或它们的集群的过程，所述细胞可以是动物或植物细胞或酵母细胞。

点状照射通过将激光辐射聚焦在尺寸为几微米、例如1到10μm或直至5μm的点上实现。在此有利的是，激光辐射的焦点在沿激光束的传播方向的长度上延伸，该长度明显大于具有高斯型廓的相应激光束的瑞利长度。这可以通过适当的光学装置，例如衍射光学元件实现。入射(Einstrahlen)可以不是穿透玻璃板的入射，而是深度较小地直至第一玻璃板的邻接在第一表面上的第一厚度部段，例如方式是激光辐射的焦点在激光辐射的传播方向上不在玻璃板的整个厚度上延伸，而激光辐射从玻璃板的第一表面仅延伸至邻接在第一表面上的第一厚度部段，并在第一厚度部段中结束，使得激光辐射没有延伸到玻璃板的与第一厚度部段相接的第二厚度部段。因为在激光辐射和玻璃板的材料之间的交互作用仅在焦点中进行，因此可行的是，使得交互作用区域在玻璃板的第一厚度部段内终结。激光辐射优选由激光脉冲构成。

第一玻璃板的第一表面，以及在没有由抗蚀剂构成的涂层的情况下的与第一表面相对置的第二表面，在蚀刻过程中在激光入射到玻璃板上和激光束相对地射出的位置处明显比相邻的区域更快地被去除。因此，玻璃板的第一表面的区域由于没有例如由抗蚀剂构成的涂层而与点状激光照射的位置有间距地被更缓慢和均匀地去除。因此，第一表面除了凹槽外由布置在平面中的多个表面部段形成，凹槽从该平面出发延伸到玻璃板的玻璃体积中。表面部段由位于凹槽之间的壁的端面形成，所述表面部段布置在共同的平面内并形成第一表面，所述凹槽从所述第一表面内凹。

一般可选的是，在具有或由所述步骤组成的所述方法中，用抗蚀剂完全地为玻璃板的第二表面涂层，以便避免构造从第二表面向玻璃板内的凹陷或者说避免从该表面均匀地去除。根据本发明，在入射时控制脉冲状的激光束，使强度仅足以穿过第一玻璃板的厚度的第一部分，以沿光路将玻璃板修改或者编辑，例如方式是设置焦点位置相对于玻璃板的第一表面的距离。为此，例如设置激光脉冲的焦点位置，使得激光脉冲仅进入第一玻璃板到一厚度部段。

可选的是，在步骤1中点状入射的、在步骤2中被蚀刻的、应形成反应容器的凹槽的位置布置在玻璃板的第一表面的平面中，间距至少或正好是其中一个反应容器的直径加上反应容器之间的壁的厚度。反应容器的直径可以通过反应条件和蚀刻的持续时间设置，因为蚀刻集中围绕入射的激光束穿过玻璃板的线性路径地进行。布置在反应容器之间的壁在共同的平面中结束。这些壁的端面位于共同的平面内并形成第一表面或在共同的平面内形成第一表面，其中，第一表面被凹槽中断。第一表面优选仅被凹槽的横截面中断。

激光束优选在其入射到玻璃板上的每个位置处都是脉冲式的，例如具有1064nm至515nm的波长，优选具有最大100ps或最大50ps，优选最大10ps的脉冲长度。一般激光器布置为使激光束在这些位置之间不碰到玻璃板。优选的是，激光束点状并垂直于玻璃板的表面入射。优选第一激光束照射的表面形成第一玻璃板的第一表面。

一般也将玻璃板称为第一玻璃板。

蚀刻例如用例如1至48重量百分比的氢氟酸和/或硫酸和/或盐酸和/或磷酸和/或硝酸或氢氧化钾例如在不高于140℃条件下进行。

玻璃板例如可以在蚀刻前有高达1000μm，优选100至1000μm，例如高达800μm、300至500μm的厚度；在蚀刻后具有减少50至700μm的更小的厚度，例如直至200μm更小的厚度。

在步骤3中，当凹槽仅在玻璃板的厚度的一部分上延伸时，玻璃板的蚀刻结束，使得凹槽进入第一玻璃板中的深度仅是玻璃板的厚度的一部分，并且凹槽因此具有一体式在玻璃板中形成的底部。

凹槽优选以例如角度为0°至15°的锥形或者截锥形汇聚并且从玻璃板的第一表面出发延伸到其体积中。

可选的是，一般第一玻璃板可以在没有涂层的情况下，例如没有掩膜和/或没有抗蚀剂的情况下经历蚀刻，使得该方法具有的优点是，在不施加和不从玻璃板去除抗蚀剂的情况下进行。一般至少玻璃板的第一表面保持没有抗蚀剂和没有掩膜，并且在没有抗蚀剂的情况下蚀刻。

一般可选的是，尤其在具有或由步骤1至3组成的方法中，玻璃板的第二表面完全用抗蚀剂涂层，使得仅从第一表面进行蚀刻，或者设置照射激光束的激光器，使激光束仅穿过玻璃板的厚度的一部分，或者使激光束在玻璃板的厚度内结束。在该实施方式中，玻璃板的要产生凹槽的每个位置都在多个相互间隔的部位处，例如在至少2个或至少3个或至少10个或至少30个部位处用激光束点状地照射，其中，激光束优选相互平行并垂直地相继或同时照射到玻璃板上。这些部位形成了蚀刻去除玻璃板的速度比离得较远的表面区域更快的位置。激光照射的部位在蚀刻时导致玻璃的均匀快速去除并共同形成凹槽。在一位置的区域内被照射并形成位置的部位例如以1至10μm的间距布置。优选的是，这些部位布置在围绕其中要分别形成凹槽的每个位置的区域内。优选的是，激光束围绕一位置在多个部位处入射或为了形成一位置而在多个部位处入射，所述部位优选以1至10μm，例如2至5μm或直至3μm的间距布置，该间距尤其在第一玻璃板的第一表面的平面中确定。

一般，凹槽可以通过单个激光脉冲或多个激光脉冲产生。在单个激光脉冲的情况中，凹槽的直径尤其通过蚀刻持续时间确定。在用多个激光脉冲产生凹槽时，凹槽的直径由部位的数量和间距确定，激光束在该部位处为了位置照射并进入第一玻璃板。第一玻璃板的体积中的凹槽的深度可以由蚀刻的持续时间确定，并且以此确定，即激光束只进入玻璃板中至厚度的一部分而不完全穿透玻璃板。

可选的是，围绕每个要形成凹槽的位置在优选环形、矩形或六边形的周向闭合的路径上照射激光束，激光束例如通过相邻照射的激光束脉冲形成。在此，激光束脉冲可以在周向闭合的路径上照射到第一玻璃表面上，例如以激光束脉冲在第一玻璃板的第一表面上确定的3μm的间距相邻。因此可选的是，玻璃板可以在每个位置处在多个相互间隔的部位处用激光束分别点状地照射，并且围绕这些部位例如通过相邻地照射的激光束脉冲形成的激光束可以沿周向闭合的路径照射。激光束沿周向闭合的路径照射的优点是，在随后的蚀刻中形成具有壁的凹槽，所述壁从第一表面起延伸并且具有横截面，横截面包围周向闭合的路径。

因此玻璃板可以一体式地具有反应容器作为凹部。在此实施方式中反应容器的底部由玻璃板的材料构成。在此优选，反应容器的底部由多个相互邻接的凹槽形成，这些凹槽并列地或者说相邻地基本上布置在平行于第一表面和平行于玻璃板的第二表面的平面的平面中。

在此实施方式中，凹槽的底部可以具有微结构，微结构设置用于凹槽的内部体积的近场照明。这种微结构例如可以具有细、高的玻璃尖的形式并且因此作为用于照明的光波导体发挥作用，或者能够在方位和或位置方面影响单个细胞或细胞集合。可以制造这种结构，方式是例如通过蚀刻多个部位形成凹槽，在这些部位处入射间隔紧密的激光脉冲。若在凹槽的中心省略单个的激光脉冲，则在蚀刻过程后玻璃尖在此留在凹槽内。一般，在方法中通过相邻地在多个部位处入射激光脉冲和后续的蚀刻产生凹部，其中，所述部位以分别相同的、彼此最大为10μm，例如1至5μm或直至3μm的间距布置，并共同形成位置，其中，至少2个或至少3个部位以较大的间距布置，例如以10至30μm的间距，例如15至20μm的间距布置。激光脉冲的所述以较大间距布置的至少2个或3个部位在它们之间例如具有区域，在该区域中在相同的间距上省略激光脉冲，或者所述部位该区域(在蚀刻时在所述区域中留出玻璃尖)。

一般激光脉冲可以在形成位置的部位处以不同深度照射到玻璃板中，在所述位置通过蚀刻形成凹槽。例如激光脉冲可以在部位处更深地或者说深度较大地入射到玻璃板的厚度中并且更深地进入，其他激光脉冲在部位处不太深地或者说深度较小地入射到玻璃板的厚度中。在后续的蚀刻中，在激光脉冲更深地入射到玻璃板中的部位处形成更深或另外的凹槽，在激光脉冲不太深地入射到玻璃板中的部位处，凹槽的底部以较小的深度形成。一般，根据部位的间距，可以在每个部位处形成在底部中凹形的凹部。具有底部和在底部中另外的更深的凹槽的凹槽可以以此制造，激光脉冲在应形成底部的一部分部位中以较小深度入射到玻璃板中，并且激光脉冲在要形成另外的凹槽的一部分部位中更深地入射到玻璃板中，所述另外的凹槽从底部出发更深地延伸到玻璃板中，以及随后进行蚀刻。对于从凹槽的底部出发更深地延伸到玻璃板中的另外的凹槽的更大的直径，更深地照射到玻璃板中的激光脉冲可以在相邻的部位处例如以1μm至10μm、例如2μm至5μm或者直至3μm的间距布置，使得在这些部位处蚀刻更深地进入玻璃板中。因此，在一部分部位处激光脉冲不太深地入射到玻璃板中，并且在一部分部位处激光脉冲较深地入射到玻璃板中，以便在蚀刻时在激光脉冲不太深地入射到玻璃板中的部位处以较小深度产生带有凹形的凹部的底部，在激光脉冲较深地入射的部位处产生另外的凹槽，其更深地延伸到玻璃板中。

在此用于制造在一体式玻璃板中或者说由仅一个玻璃板形成的反应容器的实施方式中，蚀刻以持续时间执行，该持续时间足以实现玻璃板的玻璃体积中的凹槽的期望的深度，所述凹槽与第二表面有间距，或者仅以一持续时间蚀刻，在该持续时间之后玻璃板仍具有封闭的第二表面。在此可选的是，反应容器的底部可以具有凹形的凹部，其具有抛物线或锥形的横截面。这种凹形的凹部可以在激光束点状照射的任何部位处形成。优选的是，这种凹形的凹部具有横截面开口和几微米的深度，例如1到5μm。优选的是，每个凹槽或每个反应容器的底部具有至少3个凹形的凹部。

在第一玻璃板的第二表面完全用抗蚀剂涂层的设计方案中，蚀刻只从第一表面作用。第二表面的涂层导致形成凹槽，所述凹槽从第一表面筒式或者锥形向第二表面的方向延伸并防止第二表面的蚀刻去料，使凹槽仅延伸至玻璃板的厚度的一部分。通常，在此实施方式中可以使得蚀刻仅作用于玻璃板的第一表面，直到凹槽延伸到玻璃板的第二表面的平面中。已经表明，在第二表面用抗蚀剂涂层时，蚀刻在玻璃板厚度的一部分中产生凹槽，凹槽的壁垂直于第二表面的平面或构成锥形或截锥形的角度。

一般凹槽垂直于第一表面延伸到玻璃板中，其对于每个凹槽相对于第一表面形成厚度部段作为一体式的底部。

反应容器例如具有至少40μm、至少50μm或至少100μm或至少150μm，例如直至250μm或直至200μm的深度。反应容器例如具有至少10μm或至少30μm的直径，例如直至200μm或直至1mm，一般优选具有深度与直径的纵横比为至少2、至少4、至少5或至少6。第一玻璃板的凹槽例如具有在第一玻璃板内1pL至1μL的内部容积。

形成在玻璃板中的凹槽在与第一表面邻接的上厚度部段20中可以具有更大的横截面，其大于与其邻接的下厚度部段21中的横截面，凹槽被分为至少两个子凹槽。在延伸在下厚度部段21上的子凹槽之间，可选地布置有一体式由玻璃板在下厚度部段21上形成的子壁22。子壁22相互间隔子凹槽。这些子壁22以此产生，即照射在子壁22的区域中仅最大进入玻璃板的上厚度部段20中的激光脉冲，和照射在子凹槽的区域中的更深地进入玻璃板中的激光脉冲，然后蚀刻玻璃板。在蚀刻时，邻接在玻璃板的第一表面4上的上厚度部段20中形成凹槽2，凹槽2在至少两个子凹槽2'的区域上延伸。子凹槽2'的的纵向中轴线7可以例如以10至100μm的间距布置。子壁22在子凹槽2'之间的下厚度部段上延伸，其中，子凹槽2'可以在玻璃板1的第二表面的平面中具有例如1到50的直径。上厚度部段20在此也被称为第一厚度部段，下厚度部段21也被称为第二厚度部段。上厚度部段20和下厚度部段21从玻璃板1的第一表面4开始相互独立地延伸，例如延伸到原始玻璃板1的厚度的至少20％或至少30％或至少40或至少50％，例如延伸到80％或70％或60％。在此，下厚度部段21比上厚度部段20以更小或更大的程度延伸到玻璃板1的厚度中。一般，厚度部段20、21不在玻璃板1的整个厚度上延伸。例如，第一厚度部段20和尤其第二厚度部段21可以这样预先确定，即在蚀刻之后，在凹槽的区域中玻璃板1的厚度或者在凹槽2和第二表面5之间保留至少5％、至少10％或者至少15％或者至少20％。

本发明还涉及一种用于分析的方法，其中，在玻璃中的反应容器被用光照射并且从反应容器发出的光被探测，本发明还涉及一种玻璃反应容器在分析方法中的应用。

在此，用于分析的光优选可以近似垂直地照射到玻璃板上，照射到玻璃板的第一表面上和/或玻璃板中的开口的凹槽中，或照射到与玻璃板的其第一表面相对的第二表面上。

已经表明，凹槽，尤其锥形从第一表面延伸到玻璃板的体积中的凹槽在用例如可见光照射时通过其壁形成与凹槽的底部的明显的对比。因此在光学探测中，凹槽的周部可以被记录和显示，尤其与凹槽底部对比作为较暗的环。

本发明还涉及一种用于分析的方法，其具有步骤：提供根据本发明的制造方法制造的反应容器或根据本发明的反应容器；将样品引入根据本发明的反应容器，例如病人样品，其可以是无细胞的，例如血浆，或含有细胞的，例如全血或从全血中分离的细胞，或组织材料；在此之前、同时或者然后将至少一个反应物加入反应容器中；进行分析。用所述方法制造的反应容器和根据本发明的反应容器具有的优点是，反应容器的底部具有凹形的凹部并且细胞可以单独布置在凹形的凹部中。

可选的是，至少一个反应物可以单次或先后多次以不同的量加入到多个反应容器中。反应物可以是例如药物有效成分，分析可以包括测量有效成分对样品的作用。可选的是，所述方法可包括一个或多个潜伏步骤，例如在细胞培养条件下(37℃，5％CO2氛围，静止或移动)。

分析可以是对反应容器的光学测量，例如在加入用于测序的反应物后对反应容器中DNA和/或RNA和/或蛋白质测序期间或之后，可选地在细胞溶解后的光学测量，或确定蛋白质，例如在与作为反应物加入的结合分子，例如抗体反应后，其优选用颜料标记。优选地，例如对于含有细胞的样品，分析包括确定转录RNAs和/或翻译的蛋白质，尤其对于没有添加有效成分的样品与添加有效成分的样品的对比。可选的是，用于分析的方法可以包括从反应容器取出一部分样品，进一步可选的是，将取出的样品部分装入另外的根据本发明的或根据本发明制造的反应容器中。

将样品和/或反应物添加到反应容器中例如可以通过移动样品的液滴和/或反应物的液滴完成，其中，液滴例如作为液体射流的一部分产生和移动，例如通过电磁辐射的作用，通过声音或超声波的加载，通过施加电场或通过加载压力完成。液滴的产生作为喷墨打印方法或吸移已知。替选的是，也可以使用基于激光的打印方法，例如激光转移打印。优选的是，样品和/或反应物的添加在计量装置与反应容器不接触的情况下完成。

在凹槽上布置有印制导线的实施方式中，在用于分析的方法中可以对凹槽的内部体积施加电压并且可以测量印制导线之间存在于内部体积中的电参数。

附图中：

图1在垂直于第一玻璃板的表面的横截面中示出在一体式玻璃板中反应容器的实施方式，

图2在对玻璃板的第一表面的俯视图中示出根据本发明制造的反应容器的光学分析，

图3a)、b)、c)在垂直于第一玻璃板的表面的横截面中示出另外的实施方式。

图1示出第一玻璃板1中的凹槽2，它可以通过在脉冲激光束照射后蚀刻第一玻璃板1产生。在此底部3示出凹形的凹部，所述凹部具有基本上抛物线形的横截面。这种凹形的凹部在激光束点状照射的任何部位12处形成。在此，通过在部位处保持间距地点状照射激光束得到具有凹形的凹部的底部3，所述间距与凹部的中心的间距一致。通过在照射之后完成的蚀刻将第一玻璃板1的在部位之间的区域去除。对于这个一体式的实施方式，照射到第一表面4的激光束可以设置成仅部分进入到第一玻璃板1的体积中，和/或与第一表面4相对的第二表面5可以正面用抗蚀剂涂层。

图2在玻璃板1的俯视图中示出凹槽2，其壁与底部3形成强烈的光学对比，使得壁清楚呈现为底部3的周部边界。在通过底部3定向照明时，颗粒，例如生物细胞Z可以与底部3形成很好对比地被看到，尤其当细胞Z通过染料，例如荧光染料标记时。

图3示出一体式在玻璃板1中制造的相应凹槽2的实施方式。其示出，激光脉冲在多位部位照射到玻璃板1的第一表面4上，这些部位的间距例如为1到10μm，并且因此形成位置，在这个位置处通过蚀刻产生正好一个凹槽2。在此，通过蚀刻可以在凹槽2的底部3的每个部位12处分别产生凹形的凹部作为子凹槽2'。

如图3a)所示，若至少3个激光脉冲照射的部位12以较大的间距布置，例如20μm的间距布置，在蚀刻中就产生垂直于第一表面4从底部3伸入凹槽2中的玻璃尖端11。在此，激光脉冲照射的每个位置12在蚀刻时都构成底部3中凹形的凹部或者子凹槽2'。

图3b)示出，在个别部位13照射并且更深地进入玻璃板1的厚度中的激光脉冲在那里在蚀刻时形成另外的凹槽14，另外的凹槽比在其他部位12处的凹部更深地延伸到玻璃板1中，在所述其他部位中激光脉冲照射到玻璃板1中的深度较小。激光脉冲进入玻璃板1的深度可以通过设置焦点位置和/或激光脉冲的脉冲能量强度预先确定。

图3c)示出，更深地照射到玻璃板1中的激光脉冲在相邻布置的部位13处在蚀刻时在那里形成另外的凹槽14，与底部3在蚀刻时由其他的激光脉冲不太深地照射到玻璃板1中的部位12形成的凹槽相比，另外的凹槽14更深地延伸到玻璃板1的厚度中。

附图标记列表：

1 玻璃板

2 凹槽

2' 子凹槽

3 底部

4 第一表面

5 第二表面

7 纵向中轴线

8 抗蚀剂

11 玻璃尖

12 照射的激光脉冲的部位

13 更深照射的激光脉冲的部位

14 另外的凹槽

20 第一上厚度部段

21 第二下厚度部段

Z 细胞

Claims (18)

1.一种用于制造多个由玻璃制成的反应容器的方法，反应容器构造为在一体式的第一玻璃板(1)中的凹槽(2)，所述方法具有步骤：

1.将可透射玻璃板(1)的波长的激光脉冲在间隔的部位(12)处分别入射到玻璃板(1)的位置上，在所述位置处应分别形成作为反应容器的凹槽(2)，其中，激光脉冲的焦点位置被设置为，激光脉冲的焦点不在第一玻璃板(1)的整个厚度上延伸，

2.蚀刻玻璃板(1)以形成凹槽(2)，蚀刻的持续时间足以形成沿所述位置具有深度的凹槽(2)，

3.其中，当凹槽(2)的深度仅为第一玻璃板(2)的部分厚度时，结束对玻璃板(1)的蚀刻，并且因此凹槽(2)具有在第一玻璃板(1)中一体式构成的底部(3)，其中，在位置的每个部位(12)处都形成在底部中凹形的凹部。

2.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，凹槽(2)的深度是至少30μm。

3.按照上述权利要求之一所述的方法，其特征在于，所述凹槽(2)具有深度与直径的纵横比为至少2，所述直径在第一表面(4)的平面内测得。

4.按照上述权利要求之一所述的方法，其特征在于，第一玻璃板(1)在应形成凹槽(2)的位置处在多个以相同间距相互间隔的部位(12)处被激光脉冲照射。

5.按照上述权利要求之一所述的方法，其特征在于，在一部分部位(12)处激光脉冲深度较小地入射到第一玻璃板(1)中直至第一厚度部段(20)，方式是激光脉冲的焦点位置设置成激光脉冲的焦点仅延伸至第一厚度部段(20)，并且在一部分部位(12)处激光脉冲深度较大地入射到玻璃板(1)中直至邻接的第二厚度部段(21)，方式是激光脉冲的焦点位置设置成激光脉冲的焦点仅延伸至第二厚度部段(21)，其中，在蚀刻过程中构成在第一厚度部段(20)上延伸的凹槽(2)和被子壁(22)间隔开的多个子凹槽(2')，所述子凹槽在第二厚度部段(21)上延伸。

6.按照上述权利要求之一所述的方法，其特征在于，所述位置(12)以最大10μm的间距布置，其中，至少三个部位相互间隔至少20μm。

7.按照上述权利要求之一所述的方法，其特征在于，激光脉冲以一定的强度入射到玻璃板上，使激光脉冲处理玻璃板(1)，直至焦点位置。

8.按照上述权利要求之一所述的方法，其特征在于，在第一玻璃板(1)的应形成凹槽(2)的位置处，激光束在周向闭合的路径上入射。

9.按照权利要求8所述的方法，其特征在于，在周向闭合的路径上入射的激光束通过并列入射的激光束脉冲形成。

10.按照上述权利要求之一所述的方法，其特征在于，第一玻璃板(1)的至少一侧在步骤2之前用抗蚀剂(10)涂层。

11.按照权利要求10所述的方法，其特征在于，进行蚀刻，直至与用抗蚀剂(10)涂层的表面相邻地形成围绕凹槽的倒棱(9)。

12.按照上述权利要求之一所述的方法，其特征在于，在玻璃板(1)上布设有印刷电路，所述印刷电路覆盖凹槽(2)的内壁的至少一部分。

13.一种反应容器，其构造成由玻璃制成的凹槽，尤其根据按照上述权利要求之一所述的方法获得，所述反应容器具有在玻璃板(1)中至少为30μm的凹槽深度和至少为2的深度与直径的纵横比，所述直径在玻璃板(1)的第一表面(4)的平面内测得，其中，凹槽(2)由壁包围，所述壁的端面布置在共同的平面内并且形成第一玻璃板(1)的第一表面(4)，凹槽(2)从第一表面内凹，其特征在于，凹槽(2)不在玻璃板(1)的整个厚度上延伸并且凹槽的底部(3)由玻璃板(1)的材料形成，并且在至少一个凹槽的底部中分别形成至少三个凹形的凹部。

14.按照权利要求13所述的反应容器，其特征在于，反应容器的底部(3)由在平面中并列布置的相互邻接的凹槽(2)形成，所述平面平行于第一表面(4)且平行于与第一表面相对置的第二表面(5)的平面。

15.按照权利要求13至14之一所述的反应容器，其特征在于，在凹槽(2)的底部(3)中形成有至少一个另外的凹槽(14)，所述另外的凹槽在第一玻璃板(1)中以更大的深度延伸。

16.按照权利要求13至15之一所述的反应容器，其特征在于，底部(3)具有至少一个由第一玻璃板(1)一体式形成的玻璃尖，所述玻璃尖用作用于凹槽(2)的近场照明的光波导体，所述玻璃尖垂直于第一玻璃板(1)的第一表面(4)延伸到凹槽(2)中。

17.一种用于分析样品的方法，其包括步骤：提供按照根据权利要求1至12之一所述的方法制造的反应容器或者根据权利要求13至16之一所述的反应容器；将无细胞或含细胞的样品引入反应容器中；将至少一个反应物加入反应容器中；并且对反应容器进行光学测量。

18.按照权利要求17所述的方法，其特征在于，所述样品是含细胞的并且细胞被单独地布置在凹形的凹部中。

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