CN114744137B - 显示面板及其制备方法与显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种显示面板与制备方法与显示装置,制备方法包括步骤:提供一基板,在所述基板形成挡墙层,形成所述挡墙层的步骤包括:在所述基板上形成第一光阻层,所述第一光阻层对应形成于所述非显示区,所述第一光阻层包括环绕所述显示区的第一光阻条以及环绕所述第一光阻条且与所述第一光阻条间隔的第二光阻条,所述第一光阻条包括多个间隔设置的第一光阻部;烘烤所述第一光阻层使得所述第一光阻层回流直至多个所述第一光阻部相互连接,所述第一光阻条形成第一挡墙,所述第二光阻条形成第二挡墙;以及形成发光层与封装层,通过特殊的制备工艺仅使用普通的光罩由一次曝光工艺即可使得第一挡墙与第二挡墙形成所需的高度差,制备工艺简单。

Description

显示面板及其制备方法与显示装置
技术领域
本申请涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板及其制备方法与显示装置。
背景技术
随着显示技术的蓬勃发展,柔性有机发光二极管(OLED,Organic Light-EmittingDiode)显示面板的开发与量产应用已经成为显示行业发展的热门领域,由于OLED器件对水氧敏感,柔性封装技术直接关系到其寿命,目前常用的柔性封装结构是无机/有机/无机叠层结构,其中无机层用于阻隔外界的水氧,而有机层则用于覆盖制程中产生的微粒,同时释放弯折时的应力。
其中,柔性封装结构中的有机层可通过闪蒸、喷墨打印的方式实现,喷墨打印技术因耗时短,平坦化效果佳而被广泛应用。但是因为用于喷墨打印的有机材料流动性好而导致边缘不易控制,通常会在显示区域外围制作挡墙用于限定有机层材料,为了确保有机材料不溢出挡墙,目前多采用两个或两个以上的挡墙设计,挡墙设计可遵循以下原则:1)在确保内挡墙高度的前提下,两个挡墙的高度差越大越好;2)多个挡墙且高度呈梯度可确保材料不溢流。
在实际制备中,该挡墙通常由薄膜晶体管段的有机层制作,如平坦化层与像素定义层,则内圈挡墙与平坦化层同层设置形成,外圈挡墙与平坦化层以及像素定义层同层设置,但平坦化层的厚度通常较薄,不利于形成大的高度差;若要进一步增加高度差,则需使用多次光罩工艺或使用半色调掩膜工艺,导致制备方法繁杂,制备成本较高。
发明内容
本发明提供一种显示面板及其制备方法与显示装置,可解决制备方法繁杂与封装可靠性不佳的技术问题。
为解决上述问题,第一方面,本发明提供了一种显示面板的制备方法,所述显示面板包括显示区以及环绕所述显示区的非显示区,所述制备方法包括如下步骤:
S10:提供一基板,在所述基板形成挡墙层,形成所述挡墙层的步骤包括:
S101:在所述基板上形成第一光阻层,所述第一光阻层对应形成于所述非显示区,所述第一光阻层包括环绕所述显示区的第一光阻条以及环绕所述第一光阻条的且与所述第一光阻条间隔的第二光阻条,所述第一光阻条包括多个间隔设置的第一光阻部;
S102:烘烤所述第一光阻层使得所述第一光阻层回流直至多个所述第一光阻部相互连接,所述第一光阻条形成第一挡墙,所述第二光阻条形成第二挡墙;
S20:在所述基板上且对应所述显示区内形成发光层;
S30:在所述基板、所述发光层以及所述挡墙层上形成封装层。
在本发明一实施例提供的显示面板的制备方法中,所述第一光阻部在所述基板上的正投影为环形,多个所述第一光阻部依次环绕所述显示区设置。
在本发明一实施例提供的显示面板的制备方法中,至少一所述第一光阻部包括多个第一光阻子部,多个所述第一光阻子部环绕所述显示区依次间隔设置。
在本发明一实施例提供的显示面板的制备方法中,在所述S101中,形成所述第一光阻层还包括形成环绕所述第二光阻条且与所述第二光阻条间隔的第三光阻条;
在所述S102中,烘烤所述第一光阻层还使得所述第三光阻条形成第一子挡墙。
所述S10还包括S103:在所述第一子挡墙上形成第二子挡墙,所述第一子挡墙与所述第二子挡墙叠加形成第三挡墙。
在本发明一实施例提供的显示面板的制备方法中,在所述S101中,所述第二光阻条包括多个间隔设置的第二光阻部,所述第一光阻部在所述基板上的正投影面积小于所述第二光阻部在所述基板上的正投影面积且相邻两所述第一光阻部的间距大于相邻两所述第二光阻部的间距;
在所述S102中,烘烤所述第一光阻层使得所述第一光阻层回流直至多个所述第一光阻部相互连接且多个所述第二光阻部相互连接。
在本发明一实施例提供的显示面板的制备方法中,在所述S101中还包括:在所述基板上形成平坦化层,所述平坦化层包括形成于所述显示区内的平坦化部与所述第一光阻层。
在本发明一实施例提供的显示面板的制备方法中,在所述S103中还包括:在所述平坦化层上形成像素定义层,所述像素定义层包括形成于所述平坦化部上的像素定义部与所述第二子挡墙。
在本发明一实施例提供的显示面板的制备方法中,在所述S102中,所述第一光阻层的烘烤温度大于所述第一光阻层材料的玻璃化转移温度。
第二方面,本发明提供了一种显示面板,所述显示面板由上述的显示面板的制备方法制备而得。
第三方面,本发明提供了一种显示装置,所述显示装置包上述的显示面板。
有益效果:本发明提供了一种显示面板与制备方法,在所述制备方法中,将所述第一光阻条形成为多个间隔设置的第一光阻部,并使用光阻回流工艺,相邻的所述第一光阻部被填充使得所形成的第一挡墙的高度相较第一光阻部降低,进而使得第一挡墙与所述第二挡墙间形成高度差,所述第一光阻层仅使用普通的光罩由一次曝光工艺即可形成,使得该制备方法工艺简单且成本低廉;其次,可通过对所述第一光阻条的具体结构进行设置使得所述第一挡墙与所述第二挡墙形成所需的高度差,以满足不同显示面板的工艺需求;另外,还可使得形成的所述第一挡墙具有凹凸不平的上表面,以此增大所述第一挡墙与上层的所述封装层的接触面积,进而可有效增强所述挡墙层与封装层之间的粘结力,增强封装可靠性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供一种显示面板的制备方法的文字流程示意图;
图2a-2m是本发明实施例提供一种显示面板的制备方法的结构流程示意图;
图3是本发明实施例提供一种显示面板的平面结构示意图;
图4是图3所提供的显示面板中BB’位置的剖面结构示意图;
图5是本发明实施例提供另一种显示面板的平面结构示意图;
图6是图5所提供的显示面板中BB’位置的一种剖面结构示意图;
图7是图5所提供的显示面板中BB’位置的另一种剖面结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本申请中,“示例性”一词用来表示“用作例子、例证或说明”。本申请中被描述为“示例性”的任何实施例不一定被解释为比其它实施例更优选或更具优势。为了使本领域任何技术人员能够实现和使用本发明,给出了以下描述。在以下描述中,为了解释的目的而列出了细节。应当明白的是,本领域普通技术人员可以认识到,在不使用这些特定细节的情况下也可以实现本发明。在其它实例中,不会对公知的结构和过程进行详细阐述,以避免不必要的细节使本发明的描述变得晦涩。因此,本发明并非旨在限于所示的实施例,而是与符合本申请所公开的原理和特征的最广范围相一致。
本发明一实施例提供了一种显示面板的制备方法,请参阅图1,所述显示面板包括显示区以及环绕所述显示区的非显示区,所述制备方法包括如下步骤:
S10:提供一基板,在所述基板形成挡墙层,形成所述挡墙层的步骤包括:
S101:在所述基板上形成第一光阻层,所述第一光阻层对应形成于所述非显示区,所述第一光阻层包括环绕所述显示区的第一光阻条以及环绕所述第一光阻条且与所述第一光阻条间隔的第二光阻条,所述第一光阻条包括多个间隔设置的第一光阻部;
S102:烘烤所述第一光阻层使得所述第一光阻层回流直至多个所述第一光阻部相互连接,所述第一光阻条形成第一挡墙,所述第二光阻条形成第二挡墙;
S20:在所述基板上且对应所述显示区内形成发光层;
S30:在所述基板、所述发光层以及所述挡墙层上形成封装层。
如下结合图2a-2m进行详述:
所述显示面板包括显示区A1与环绕所述显示区的非显示区A2,所述制备方法包括下述步骤:
S10:提供一基板100,在所述基板形成挡墙层200,形成所述挡墙层200的步骤包括:
S101:请参阅图2a,在所述基板100上形成第一光阻层700,所述第一光阻层700对应形成于所述非显示区A2,所述第一光阻层700包括环绕所述显示区A1的第一光阻条710以及环绕所述第一光阻条710的且与所述第一光阻条710间隔的第二光阻条720,所述第一光阻条710包括多个间隔设置的第一光阻部711,多个所述第一光阻部711的形状与排布方式不限,保证所述第一光阻条710中存在一定的间隔区域即可;
S102:请参阅图2b,烘烤所述第一光阻层700使得所述第一光阻层700发生回流,直至多个所述第一光阻部711连接时停止烘烤,此时,所述第一光阻条710形成第一挡墙210,所述第二光阻条720形成第二挡墙220,在回流过程中,所述第一光阻层700呈现熔融转态,多个所述第一光阻部711的间隙被填补,使得形成的所述第一挡墙210的高度较所述第一光阻条710降低,而形成的第二挡墙220相较所述第二光阻条720基本不变或变化十分微小,使得所述第一挡墙210的高度低于所述第二挡墙220的高度,另外,由于所述第一光阻条710中存在间隔区域,使得回流形成的所述第一挡墙210的上表面凹凸不平,可看作包括多个第一凹陷部;
S20:请参阅图2c,在所述基板100上且对应所述显示区A1内形成发光层500,形成所述发光层500通常具体包括形成多个间隔设置的有机发光二极管或多个间隔设置的微型发光二极管;
S30:在所述基板100、所述发光层500以及所述挡墙层200上形成封装层600,形成所述封装层600通常具体包括依次形成无机封装层/有机封装层/无机封装层的叠层膜层,所述封装层600将所述发光层500完全包覆。
在本实施例所提供的显示面板的制备方法中,将所述第一光阻条形成为多个间隔设置的第一光阻部,并使用光阻回流工艺,相邻的所述第一光阻部被填充使得所形成的第一挡墙的高度相较第一光阻部降低,进而使得第一挡墙与所述第二挡墙间形成高度差,所述第一光阻层仅使用普通的光罩由一次曝光工艺即可形成,使得该制备方法工艺简单且成本低廉;其次,可通过对所述第一光阻条的具体结构进行设置使得所述第一挡墙与所述第二挡墙形成所需的高度差,以满足不同显示面板的工艺需求;另外,还可使得形成的所述第一挡墙具有凹凸不平的上表面,以此增大所述第一挡墙与上层的所述封装层的接触面积,进而可有效增强所述挡墙层与封装层之间的粘结力,增强封装可靠性。
在一些实施例中,烘烤所述第一光阻层700的温度大于所述第一光阻层700材料的玻璃化转移温度,以使得所述第一光阻层700发生回流。
在一些实施例中,所述第一光阻部711在所述基板100上的正投影为环形,多个所述第一光阻部711依次环绕所述显示区设置,示例性地,请参阅图2d,所述第一光阻条710包括三个所述第一光阻部711,所述第一光阻部711为方形环形。
进一步地,在一些实施例中,至少一所述第一光阻部711包括多个第一光阻子部7111,多个所述第一光阻子部7111环绕所述显示区A1依次间隔设置,请参阅图2e,示例性地,所述第一光阻子部7111在所述基板上的正投影为矩形,每一所述第一光阻部711均由多个所述第一光阻子部7111环绕形成。
在一些实施例中,在所述S101中,请参阅图2f,形成所述第一光阻层700还包括形成环绕所述第二光阻条720且与所述第二光阻条720间隔的第三光阻条730;
在所述S102中,请参阅图2g,烘烤所述第一光阻层700还使得所述第三光阻条730形成第一子挡墙231。
所述S10还包括S103:请参阅图2h,在所述第一子挡墙231上形成第二子挡墙232,所述第一子挡墙231与所述第二子挡墙232叠加形成第三挡墙230;
继续形成所述发光层500以及所述封装层600所得到的显示面板的结构请参阅图2i;
在本实施例所提供的制备方法中,最终形成的所述挡墙230还包括所述第三挡墙230,进一步增强了所述挡墙层200的阻挡效果。
在一些实施例中,在所述S101中,请参阅图2j,所述第二光阻条720包括多个间隔设置的第二光阻部721,所述第一光阻部711在所述基板100上的正投影面积小于所述第二光阻部721在所述基板100上的正投影面积且相邻两所述第一光阻部711的间距大于相邻两所述第二光阻部721的间距,即所述第一光阻条710中间隔区域占比大于第二光阻条720中间隔区域占比;
在所述S102中,请参阅图2k,烘烤所述第一光阻层700使得所述第一光阻层700回流直至多个所述第一光阻部711相互连接且多个所述第二光阻部721相互连接,又由于所述第一光阻条710中间隔区域占比大于第二光阻条720中间隔区域占比,使得所形成的第一挡墙210下降的高度大于所述第二挡墙220下降的高度,所述第一挡墙210的高度小于所述第二挡墙220的高度,又由于所述第三光阻条730未设置间隔区域,因此所述第二挡墙220的高度小于所述第一子挡墙231的高度,另外,所述第二挡墙220形成有与所述第一挡墙210类似的凹凸不平的上表面,即所述第二挡墙220远离所述基板100的表面可视为包括多个第二凹陷部;
请参阅图2l,在所述第一子挡墙231上形成第二子挡墙232,所述第一子挡墙231与所述第二子挡墙232叠加形成第三挡墙230;
请参阅图2m,继续形成所述发光层500以及所述封装层600制备得到的显示面板;
在本实施例所提供的制备方法中,使得形成的所述第一子挡墙231的高度大于所述第二挡墙220的高度,则所述第三挡墙230与所述第二挡墙220的高度差即为所述第一子挡墙231与所述第二挡墙220的高度差和所述第二子挡墙232的高度之和,即进一步增加了所述第三挡墙230与所述第二挡墙220的高度差;
另外,在所述第一挡墙210远离所述基板100的表面形成有多个第一凹陷部的基础上,所述第二挡墙220远离所述基板100的表面也形成有多个第二凹陷部,即所述第二挡墙220具有凹凸不平的上表面,以此增大所述第二挡墙220与上层的所述封装层600的接触面积,进而可进一步增强所述挡墙层200与封装层600之间的粘结力,从而增强封装可靠性。
在一些实施例中,请结合参阅图2i、图2m以及图2c,在所述S101中还包括:在所述基板100上形成平坦化层300,所述平坦化层300包括形成于所述显示区内的平坦化部310与所述第一光阻层700,即所述第一挡墙210、所述第二挡墙220以及所述第一子挡墙231与所述平坦化部310仅使用一普通掩膜版经一次曝光工艺形成;
进一步地,在所述S103中还包括:在所述平坦化层300上形成像素定义层400,所述像素定义层400包括形成于所述平坦化部上的像素定义部410与所述第二子挡墙232,即所述第二子挡墙232与所述像素定义部410仅使用一普通掩膜版经一次曝光工艺形成;
在本实施例所提供的制备方法中,所述挡墙层200中的各结构分别与显示面板中常规的有机膜层,如像素定义部410与平坦化部310一并形成,进一步简化制备工艺,降低制造成本。
本发明另一实施例提供了一种由上述制备方法制备而得的显示面板,以下结合图3与图4进行详细说明:
请参阅图3,所述显示面板包括显示区A1以及环绕所述显示区A1的非显示区A2,在所述非显示区A2内设置有挡墙层200,所述挡墙层200包括环绕所述显示区A1设置的第一挡墙210以及环绕所述第一挡墙210且与所述第一挡墙210间隔设置的第二挡墙220;
请参阅图4示出的该显示面板在BB’位置的剖面结构示意图,所述显示面板包括基板100,设置于所述基板100上的所述挡墙层200,设置于所述基板100上且对应设置于所述显示区A1内的发光层500,设置于所述基板100、所述发光层500以及所述挡墙层200上的封装层600;
其中,在所述挡墙层200中,所述第一挡墙210的高度小于所述第二挡墙220的高度,从而可有效阻挡所述封装层600中的有机材料外溢;另外,所述挡墙层200通过特定的制备工艺形成,具体详见后述制备方法实施例,使用普通的光罩经一次曝光工艺即可使得所述第一挡墙210与所述第二挡墙220形成所需的高度差,同时还使得所述第一挡墙210远离所述基板100的表面包括多个第一凹陷部,即所述第一挡墙210具有凹凸不平的上表面,以此增大所述第一挡墙与上层的所述封装层600的接触面积,进而可有效增强所述挡墙层200与封装层600之间的粘结力,增强封装可靠性。
在本实施例中,所述基板100根据所述显示面板的实际应用场景,可以为刚性基板或柔性基板;
所述发光层500包括多个间隔设置的有机发光二极管或多个间隔设置的微型发光二极管;
所述封装层600包括无机封装层与有机封装层,通常为无机封装层/有机封装层/无机封装层的叠层结构,所述封装层600将所述发光层500完全包覆。
在一些实施例中,请参阅图5,为了进一步增强所述挡墙层200的阻挡效果,所述阻挡层200还包括环绕所述第二挡墙220设置的第三挡墙230;
再请参阅图6示出的该显示面板在CC’位置的剖面结构示意图,所述第三挡墙230包括第一子挡墙231与设置在所述第一子挡墙231上的第二子挡墙232,所述第一子挡墙231的高度大于所述第一挡墙210的高度,且所述第一子挡墙231的高度等于所述第二挡墙220的高度,进而所述第三挡墙230的高度大于所述第二挡墙220的高度。
在一些实施例中,请参阅图7示出的该显示面板在CC’位置的另一种剖面结构示意图,为了进一步增加所述第三挡墙230与所述第二挡墙220的高度差,将所述第一子挡墙231的高度大于所述第二挡墙220的高度,则所述第三挡墙230与所述第二挡墙220的高度差即为所述第一子挡墙231与所述第二挡墙220的高度差和所述第二子挡墙232的高度之和;
另外,在所述第一挡墙210远离所述基板100的表面包括多个第一凹陷部的基础上,所述第二挡墙220远离所述基板100的表面还包括多个第二凹陷部,即所述第二挡墙220具有凹凸不平的上表面,以此增大所述第二挡墙220与上层的所述封装层600的接触面积,进而可进一步增强所述挡墙层200与封装层600之间的粘结力,从而增强封装可靠性。
在一些实施例中,所述显示面板包括设置于所述基板100上的平坦化层300以及设置于所述平坦化层300上的像素定义层400;
其中,所述平坦化层300包括设置于所述显示区的平坦化部310与所述第一挡墙210、所述第二挡墙220以及所述第一子挡墙231,即所述第一挡墙210、所述第二挡墙220以及所述第一子挡墙231与所述平坦化部310由一道制程一并形成,该制程采用特殊的制备方法,仅使用普通的光罩由一次曝光工艺即可使得所述第一挡墙210、所述第二挡墙220以及所述第一子挡墙231形成两种或三种不同的高度,具体详见前述制备方法实施例;
所述像素定义层400包括设置于所述平坦化部上的像素定义部410与所述第二子挡墙232,即所述第二子挡墙232与所述像素定义部410,由一道制程一并形成。
需要说明的是,上述显示面板实施例中仅描述了上述结构,可以理解的是,除了上述结构之外,本发明实施例显示面板中,还可以根据需要包括任何其他的必要结构,具体此处不作限定。
在本发明另一实施例中,还提供了一种显示装置,所述显示装置包括上述实施例所提供的显示面板,所述显示面板包括但不限于手机、智能手表、平板电脑、笔记本电脑以及电视机等。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见上文针对其他实施例的详细描述,此处不再赘述。
以上对本发明实施例所提供的一种显示面板及其制备方法进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (8)

1.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述显示面板包括显示区以及环绕所述显示区的非显示区,所述制备方法包括如下步骤:
S10:提供一基板,在所述基板形成挡墙层,形成所述挡墙层的步骤包括:
S101:在所述基板上形成第一光阻层,所述第一光阻层对应形成于所述非显示区,所述第一光阻层包括环绕所述显示区的第一光阻条、环绕所述第一光阻条且与所述第一光阻条间隔的第二光阻条、及环绕所述第二光阻条且与所述第二光阻条间隔的第三光阻条,所述第一光阻条包括多个间隔设置的第一光阻部,所述第二光阻条包括多个间隔设置的第二光阻部,所述第一光阻部在所述基板上的正投影面积小于所述第二光阻部在所述基板上的正投影面积且相邻两所述第一光阻部的间距大于相邻两所述第二光阻部的间距;
S102:烘烤所述第一光阻层,使得所述第一光阻层回流直至多个所述第一光阻部相互连接且多个所述第二光阻部相互连接、及使得所述第三光阻条形成第一子挡墙,所述第一光阻条形成第一挡墙,所述第二光阻条形成第二挡墙;
S103:在所述第一子挡墙上形成第二子挡墙,所述第一子挡墙与所述第二子挡墙叠加形成第三挡墙;
S20:在所述基板上且对应所述显示区内形成发光层;
S30:在所述基板、所述发光层以及所述挡墙层上形成封装层。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述第一光阻部在所述基板上的正投影为环形,多个所述第一光阻部依次环绕所述显示区设置。
3.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,至少一所述第一光阻部包括多个第一光阻子部,多个所述第一光阻子部环绕所述显示区依次间隔设置。
4.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述S101中还包括:在所述基板上形成平坦化层,所述平坦化层包括形成于所述显示区内的平坦化部与所述第一光阻层。
5.根据权利要求4所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述S103中还包括:在所述平坦化层上形成像素定义层,所述像素定义层包括形成于所述平坦化部上的像素定义部与所述第二子挡墙。
6.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述S102中,所述第一光阻层的烘烤温度大于所述第一光阻层材料的玻璃化转移温度。
7.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板由权利要求1-6任意一项所述的显示面板的制备方法制备而得。
8.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求7所述的显示面板。
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