CN114721533B - 一种用于tft液晶书写装置的书写笔迹显示方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,属于TFT液晶书写技术领域,在书写平面内,保留矩形内的笔迹,擦除矩形以外且当前笔迹范围以内的笔迹,且矩形边穿过的像素作为笔迹保留;之前被保留的笔迹与当前欲擦除区域重叠时,不擦除之前被保留的笔迹,擦除后保持视觉上笔迹的连续性;矩形的第一边穿过其中一个中心点,第二边穿过另一个中心点,且第一边和第二边分别与两个相邻采样中心点的连线垂直;矩形的第三边和第四边与两个相邻采样中心点的连线平行;第一边和第二边的长度为设定值,第三边和第四边的长度与两个相邻采样中心点的连线长度相同;本发明避免了对每个位置中心依次进行画圆以进行细笔迹显示时的延迟问题。
Description
技术领域
本发明涉及TFT液晶书写技术领域,特别涉及一种用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法。
背景技术
本部分的陈述仅仅是提供了与本发明相关的背景技术,并不必然构成现有技术。
电子书写和显示屏的工作原理一般是根据检测到的书写状态,在内嵌软件的控制下实现笔迹的粗细显示。而TFT双稳态液晶书写显示装置的工作原理是利用液晶的双稳态特性实现书写、显示和/或擦除,双稳态液晶的流动性较大,书写膜较为柔软,在一定的书写压力下液晶的变化范围较大。
发明人发现,在较小的TFT液晶书写板上进行小字书写时,容易发生字迹较粗引起的字迹模糊甚至无法识别;除了液晶配方的改进之外,还可以对每个书写工具笔头的位置中心进行依次画圆以擦除圆范围以外的笔迹,进而实现细笔迹显示,但是这种方案需要对每个位置中心依次进行画圆,效率较低,容易出现笔迹延迟显示的问题。
发明内容
为了解决现有技术的不足,本发明提供了一种用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,提高了细笔迹的显示效率,避免了对每个位置中心依次进行画圆以进行细笔迹显示时的延迟问题。
为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
本发明第一方面提供了一种用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法。
一种用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,包括以下过程:
获取笔迹书写过程中书写工具与书写平面接触位置的采样中心点坐标,所述坐标为以书写平面构建的直角坐标系下的坐标;
在书写平面内,保留矩形内的笔迹,擦除矩形以外且当前笔迹范围以内的笔迹,且矩形边穿过的像素作为笔迹保留;之前被保留的笔迹与当前欲擦除区域重叠时,不擦除之前被保留的笔迹,擦除后保持视觉上笔迹的连续性;
其中,矩形的第一边穿过其中一个中心点,第二边穿过另一个中心点,且第一边和第二边分别与两个相邻采样中心点的连线垂直;矩形的第三边和第四边与两个相邻采样中心点的连线平行;第一边和第二边的长度为设定值,第三边和第四边的长度与两个相邻采样中心点的连线长度相同。
作为可选的一种实现方式,当前笔迹范围在相邻采样中心点连线的垂线方向上表现为笔头的宽度、液晶的流动宽度和安全距离的加和。
本发明第二方面提供了一种用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法。
一种用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,包括以下过程:
获取笔迹书写过程中书写工具与书写平面接触位置的采样中心点坐标,所述坐标为以书写平面构建的直角坐标系下的坐标;
在书写平面内,保留矩形内的笔迹,擦除矩形以外且当前笔迹范围以内的笔迹,且矩形边穿过的像素作为笔迹保留;之前被保留的笔迹与当前欲擦除区域重叠时,不擦除之前被保留的笔迹,擦除后保持视觉上笔迹的连续性;
其中,矩形的第一边穿过其中一个中心点,第二边穿过另一个中心点,且第一边和第二边分别与两个相邻采样中心点的连线垂直;矩形的第三边和第四边与两个相邻采样中心点的连线平行;第三边和第四边的长度与两个相邻采样中心点的连线长度相同;第一个矩形的第一边与第二边的长度与笔头的书写压力正相关,其他矩形的第一边与第二边的长度根据笔头的压力以及相邻前一矩形的第一边与第二边的长度确定。
作为可选的一种实现方式,当前笔迹范围在相邻采样中心点连线的垂线方向上表现为笔头的宽度、液晶的流动宽度和安全距离的加和。
作为可选的一种实现方式,对第一个矩形:L=kpF+kq;
对连续书写的除第一个矩形的其他矩形:L=k1Lu+k2F+k3;
其中,其中,L为矩形的第一边与第二边的长度,Lu为相邻前一矩形的第一边与第二边的长度,F为笔头压力,k1、k2、k3、kp和kq为参数。
作为可选的一种实现方式,根据笔迹变化速度对L进行修正:Lt=(Lu+sL)/(1+s),其中,Lt为修正值,s为权重,笔迹变化速度越快则s越大。
作为可选的一种实现方式,采用电驱动擦除的方式进行笔迹擦除。
作为可选的一种实现方式,当书写工具为光书写工具时,采用光定位的方式进行书写工具的定位,进而获取到书写笔迹。
作为可选的一种实现方式,当书写工具为电磁书写工具时,采用电磁定位的方式进行书写工具的定位,进而获取到书写笔迹。
作为可选的一种实现方式,坐标系为以书写平面构建的直角坐标系或者斜坐标系。
本发明第三方面提供了一种控制器,所述控制器加载并执行上述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法。
本发明第四方面提供了一种TFT液晶书写装置,包括控制器,所述控制器加载并执行上述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
1、本发明根据两个位置中心的坐标连线,在书写平面内,保留矩形内的笔迹,擦除矩形以外且当前笔迹范围以内的笔迹,且当矩形穿过某个像素时,此像素对应的笔迹保留,实现了书写笔迹的随写随擦,在不改变原始液晶配方的前提下实现了细笔迹的显示,提高了书写体验,提高了细笔迹的显示效率,避免了对每个位置中心依次进行画圆以进行细笔迹显示时的延迟问题。
2、本发明中,擦除矩形以外且笔迹范围以内的笔迹,之前被保留的笔迹与当前欲擦除区域重叠时不予擦除,避免了其他书写笔迹对已书写完笔迹的影响。
3、第一个矩形的第一边与第二边的长度与书写压力正相关,其他矩形的第一边与第二边的长度根据笔头的压力以及相邻前一矩形的第一边与第二边的长度确定,有效的保证了书写笔迹的连续性和顺畅性。
本发明附加方面的优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
附图说明
构成本发明的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。
图1为本发明实施例1提供的书写笔迹显示方法的流程示意图。
图2为本发明实施例2提供的书写笔迹显示方法的流程示意图。
图3为本发明实施例1或实施例2提供的笔迹擦除示意图。
图4为本发明实施例1或实施例2提供的坐标系下的矩形示意图。
其中,1-第一笔迹;2-第二笔迹;3-第一笔迹保留范围;4-第二笔迹保留范围。
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本发明作进一步说明。
应该指出,以下详细说明都是示例性的,旨在对本发明提供进一步的说明。除非另有指明,本文使用的所有技术和科学术语具有与本发明所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。
需要注意的是,这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式,而非意图限制根据本发明的示例性实施方式。如在这里所使用的,除非上下文另外明确指出,否则单数形式也意图包括复数形式,此外,还应当理解的是,当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时,其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
在不冲突的情况下,本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
实施例1:
如图1和图3所示,本发明实施例1提供了一种用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,包括以下过程:
获取笔迹书写过程中书写工具与书写平面接触位置的采样中心点坐标,所述坐标为以书写平面构建的直角坐标系下的坐标;
在书写平面内,保留矩形内的笔迹,擦除矩形以外且当前笔迹范围以内的笔迹,且矩形边穿过的像素作为笔迹保留;之前被保留的笔迹与当前欲擦除区域重叠时,不擦除之前被保留的笔迹,擦除后保持视觉上笔迹的连续性;
其中,矩形的第一边穿过其中一个中心点,第二边穿过另一个中心点,且第一边和第二边分别与两个相邻采样中心点的连线垂直;矩形的第三边和第四边与两个相邻采样中心点的连线平行;第一边和第二边的长度为设定值,第三边和第四边的长度与两个相邻采样中心点的连线长度相同。
本实施例中,书写工具为书写笔或者其他任意能够在书写板上实现书写且能够实现定位的工具,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
本实施例中,当前笔迹范围在采样点连线的垂线方向上表现为笔头的宽度、液晶的流动宽度和安全距离的加和,在其他一些实施方式中,安全距离可以为零,即不设置安全距离,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
具体的设定值可以根据偏好设定,或者根据书写板的大小进行设定以清晰显示小字体,具体设定值本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
本实施例中,像素是指由图像的小方格组成的,这些小方块都有一个明确的位置和被分配的色彩数值,小方格颜色和位置就决定该图像所呈现出来的样子。可以将像素视为整个图像中不可分割的单位或者是元素。不可分割的意思是它不能够再切割成更小单位抑或是元素,它是以一个单一颜色的小格存在。每一个点阵图像包含了一定量的像素,这些像素决定图像在屏幕上所呈现的大小。
如图3所示,第一笔迹1和第二笔迹2交叉,第一笔迹保留范围3和第二笔迹保留范围4内的笔迹保留,第一笔迹1范围内且第一笔迹保留范围3外的区域擦除,第二笔迹2范围内且第二笔迹保留范围4外的区域擦除。
本实施例中,两个相邻采样中心点指的是在在笔迹书写过程中按照时间顺序顺次采样的相邻的中心点;如图4所示,(X1,Y1)和(X2,Y2)为两个相邻的采样点,L1为第一边,L2为第二边,L3为第三边,L4为第四边,第三边L3和第四边L4均与(X1,Y1)和(X2,Y2)的坐标连线平行。
本实施例中,最优的,第三边L3和第四边L4沿(X1,Y1)和(X2,Y2)的坐标连线对称设置;可以理解的,在其他一些实施方式中,第三边L3与(X1,Y1)和(X2,Y2)的坐标连线的距离D1大于或小于第四边L4与(X1,Y1)和(X2,Y2)的坐标连线的距离D2,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
具体的,本实施例中,以书写板的某个角为坐标原点构建直角坐标系,可以理解的,在其他一些实施方式中,也可以是以书写板中心点为坐标原点构建的直角坐标系或者以其他任意点作为坐标原点构建直角坐标系或者斜坐标系,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
本实施例中,采用电驱动擦除的方式对预设像素范围以外的笔迹进行擦除,具体的可以采用中国专利CN202110196522.3(一种局部擦除液晶书写装置及方法)中的擦除策略,具体为:
所述液晶书写装置包括依次设置的导电层、双稳态液晶层和基底层;所述基底层上集成有:阵列状排布的若干像素单元,每个像素单元内设有像素电极以及与所述像素电极连接的开关元件;
被供给开关元件导通或关断的控制电压的若干第一导线;
被供给开关元件输入电压的若干第二导线;
所述开关元件被配置为在接收到设定的控制电压和输入电压时实现导通,从而为相应的像素电极输入设定的电压,以使所述像素电极与导电层在空间重叠的位置形成擦除电场,实现局部擦除。
可以理解的,在其他一些实施方式中,也可以采用其他任意的电驱动擦除方案,只要能够实现笔迹的电驱动擦除即可,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
本实施所述的书写工具可以是光书写工具,也可以是电磁书写工具。
当书写工具为光书写工具时,采用光定位的方式进行书写工具的定位,进而获取到书写笔迹,具体的可以采用中国专利CN202110988745.3(一种基于TFT的快速光定位方法及装置)的光定位方案。
具体为:在TFT基板上集成设置按设定规则排布的用于定位的TFT阵列;每一个第一方向上TFT由至少一根第一导线连接并供给控制电压;每一个第二方向上TFT由至少一根第二导线连接并供给输入电压;每一个第一方向上TFT的输出端由至少一根第三导线连接。控制TFT处于临界状态,通过检测TFT电流或电压是否发生变化,确定TFT是否受到设定强度范围的光照照射,从而确定光照射的区域。
可以理解的,在其他一些实施方式中,也可以采用其他任意的光定位方案,只要能够书写工具的光定位即可,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
当书写工具为电磁书写工具时,采用电磁定位的方式进行书写工具的定位,进而获取到书写笔迹,具体的可以采用中国专利CN202111024801.8(一种基于TFT的电磁定位方法及系统)的电磁定位方案。
具体为:包括TFT基板,所述TFT基板上包括多条行驱动线和多条列驱动线;控制相邻的两根行驱动线电连接,形成多个用于感应电磁信号的第一方向线圈;控制相邻的两根列驱动线电连接,形成多个用于感应电磁信号的第二方向线圈;通过检测各第一方向线圈和各第二方向线圈感应信号的强度及频率,确定电磁信号发射件的位置及电磁信号频率。
可以理解的,在其他一些实施方式中,也可以采用其他任意的电磁定位方案,只要能够书写工具的电磁定位即可,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
将笔头的定位结果与预设的坐标系相融合,即可得到笔头位置的中心点处的坐标。
实施例2:
如图2、图3和图4所示,本发明实施例2提供了一种用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,包括以下过程:
获取笔迹书写过程中书写工具与书写平面接触位置的采样中心点坐标,所述坐标为以书写平面构建的直角坐标系下的坐标;
在书写平面内,保留矩形内的笔迹,擦除矩形以外且当前笔迹范围以内的笔迹,且矩形边穿过的像素作为笔迹保留;之前被保留的笔迹与当前欲擦除区域重叠时,不擦除之前被保留的笔迹,擦除后保持视觉上笔迹的连续性;
其中,矩形的第一边穿过其中一个中心点,第二边穿过另一个中心点,且第一边和第二边分别与两个相邻采样中心点的连线垂直;矩形的第三边和第四边与两个相邻采样中心点的连线平行;第三边和第四边的长度与两个相邻采样中心点的连线长度相同;第一个矩形的第一边与第二边的长度与笔头的书写压力正相关,其他矩形的第一边与第二边的长度根据笔头的压力以及相邻前一矩形的第一边与第二边的长度确定。
本实施例中,两个相邻采样中心点指的是在在笔迹书写过程中按照时间顺序顺次采样的相邻的中心点;如图4所示,(X1,Y1)和(X2,Y2)为两个相邻的采样点,L1为第一边,L2为第二边,L3为第三边,L4为第四边,第三边L3和第四边L4均与(X1,Y1)和(X2,Y2)的坐标连线平行。
本实施例中,最优的,第三边L3和第四边L4沿(X1,Y1)和(X2,Y2)的坐标连线对称设置;可以理解的,在其他一些实施方式中,第三边L3与(X1,Y1)和(X2,Y2)的坐标连线的距离D1大于或小于第四边L4与(X1,Y1)和(X2,Y2)的坐标连线的距离D2,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
本实施例中,当前笔迹范围在采样点连线的垂线方向上可以表现笔头的宽度、液晶的流动宽度和安全距离的加和,在其他一些实施方式中,安全距离可以为零,即不设置安全距离,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
具体的,本实施例中,以书写板的某个角为坐标原点构建直角坐标系,可以理解的,在其他一些实施方式中,也可以是以书写板中心点为坐标原点构建的直角坐标系或者以其他任意点作为坐标原点构建直角坐标系或者斜坐标系,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
如图3所示,第一笔迹1和第二笔迹2交叉,第一笔迹保留范围3和第二笔迹保留范围4内的笔迹保留,第一笔迹1范围内且第一笔迹保留范围3外的区域擦除,第二笔迹2范围内且第二笔迹保留范围4外的区域擦除。
具体的,按照如下方式进行矩形在坐标连线的垂线方向的长度L的选择:
参数定义:
对第一个定位点,当F≥FN时,
此时L即为最终的矩形的第一边与第二边的长度,这里的k为0.5像素尺寸,当然,也可以根据具体工况进行设定,为一人为设定的常数。
对连续书写的除第一个矩形的其他矩形:
L=k1Lu+k2F+k3
其中,Lu为上一个矩形的第一边与第二边的长度,F为笔头压力,k1、k2和k3为常系数,其中,k1与笔迹的书写速度相关,书写速度越快则k1越小,书写速度越慢则k1越大。
对第一个矩形,当F<FN时:
此时,L即为最终的矩形的第一边与第二边的长度,这里的k为0.5像素尺寸,当然,也可以根据具体工况进行设定,为一人为设定的常数。
对连续书写的除第一个矩形的其他矩形:
L=k1Lu+k2F+k3
其中,Lu为上一个矩形的第一边与第二边的长度,F为笔头压力,k1、k2和k3为常系数,其中,k1与笔迹的书写速度相关,书写速度越快则k1越小,书写速度越慢则k1越大。
可以理解的,在其他一些实施方式中,直接使得L=kpF+kq,kp和kq均为根据书写习惯设定,这里不再赘述;同时,上述的k1、k2和k3等参数也可以完全进行人为设定以符合相应的书写习惯,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
本实施例中,根据笔迹变化速度对L进行修正:Lt=(Lu+sL)/(1+s),其中,Lt为修正值,s为权重,笔迹变化速度越快则s越大。
在一种特殊的示例中,当书写速度较快时:
Lt=(Lu+L)/2
当书写速度较慢时:
Lt=(Lu+2L)/3。
其中,Lt为修正值,L为计算值,具体的,根据具体的速度变化情况进行L的系数设定,书写笔迹变化速度越慢,则s越小;否则,则s越大。
本实施例中,β为字体偏好系数,取值可以为0.5、0.6或者0.7等小于1的常数(或者设定β的取值区间为0.5-1),β值越大笔迹越粗,可以根据需要进行设定,这里不再赘述。
可以理解的,在其他一些实施方式中,直接根据偏好自定义的设置L=k1Lu+k2F+k3中k1、k2和k3值,当为第一个定位点时,设置k1为零即可。
可以理解的,在其他一些实施方式中,也可以根据偏好直接的进行设定范围宽的自定义设置,这里不再赘述。
可以理解的,在其他一些实施方式中,也可以预先设定笔头的微小移动距离阈值,或者按照像素进行微小距离标定,例如5个像素、6个像素、7个像素或者其他像素值。此时,实时的进行笔头在书写板上的位置检测,在笔头移动预设的微小移动距离后,确定此微小移动距离范围内的所有定位点,然后上述方法依次进行定位点的连线,然后进行设定范围以外的笔迹的擦除。
可以理解的,在其他一些实施方式中,也可以是设定预设的时间间隔,实时的进行笔头在书写板上的位置检测,确定在预设时间间隔内的笔头定位点,依次进行定位点的连接,按照上述方法进行擦除。
可以理解的,在其他一些实施方式中,也可以识别笔头接触书写板开始书写到结束书写工具头离开书写板的时间间隔,根据此时间间隔进行笔迹擦除控制,每次结束书写工具头离开书写板之后,确定所有的笔头定位点,依次进行定位点的连接,按照上述方法进行擦除。
本实施例中,定位点连线两侧的预设像素范围的宽度相同,能够实现更好的原笔迹还原,在保证细笔迹的前提下避免了与原笔迹的差异。
可以理解的,在其他一些实施方式中,书写笔迹中心线两侧的预设像素范围的宽度也可以不相同,本领域技术人员可以根据具体工况进行两侧保留区域的范围设定,只要能够保证实现细笔迹显示即可,这里不再赘述。
本实施例中,预设像素范围内的笔迹被保留后直接进行保存,在进行其他笔迹的书写时不进入其他书写笔迹的擦除范围,避免了其他书写笔迹对已书写完笔迹的影响。
本实施例中,采用电驱动擦除的方式对预设像素范围以外的笔迹进行擦除,具体的可以采用中国专利CN202110196522.3(一种局部擦除液晶书写装置及方法)中的擦除策略,具体为:
所述液晶书写装置包括依次设置的导电层、双稳态液晶层和基底层;所述基底层上集成有:阵列状排布的若干像素单元,每个像素单元内设有像素电极以及与所述像素电极连接的开关元件;
被供给开关元件导通或关断的控制电压的若干第一导线;
被供给开关元件输入电压的若干第二导线;
所述开关元件被配置为在接收到设定的控制电压和输入电压时实现导通,从而为相应的像素电极输入设定的电压,以使所述像素电极与导电层在空间重叠的位置形成擦除电场,实现局部擦除。
可以理解的,在其他一些实施方式中,也可以采用其他任意的电驱动擦除方案,只要能够实现笔迹的电驱动擦除即可,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
本实施所述的书写工具可以是光书写工具,也可以是电磁书写工具。
当书写工具为光书写工具时,采用光定位的方式进行书写工具的定位,进而获取到书写笔迹,具体的可以采用中国专利CN202110988745.3(一种基于TFT的快速光定位方法及装置)的光定位方案。
具体为:在TFT基板上集成设置按设定规则排布的用于定位的TFT阵列;每一个第一方向上TFT由至少一根第一导线连接并供给控制电压;每一个第二方向上TFT由至少一根第二导线连接并供给输入电压;每一个第一方向上TFT的输出端由至少一根第三导线连接。控制TFT处于临界状态,通过检测TFT电流或电压是否发生变化,确定TFT是否受到设定强度范围的光照照射,从而确定光照射的区域。
可以理解的,在其他一些实施方式中,也可以采用其他任意的光定位方案,只要能够书写工具的光定位即可,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
当书写工具为电磁书写工具时,采用电磁定位的方式进行书写工具的定位,进而获取到书写笔迹,具体的可以采用中国专利CN202111024801.8(一种基于TFT的电磁定位方法及系统)的电磁定位方案。
具体为:包括TFT基板,所述TFT基板上包括多条行驱动线和多条列驱动线;控制相邻的两根行驱动线电连接,形成多个用于感应电磁信号的第一方向线圈;控制相邻的两根列驱动线电连接,形成多个用于感应电磁信号的第二方向线圈;通过检测各第一方向线圈和各第二方向线圈感应信号的强度及频率,确定电磁信号发射件的位置及电磁信号频率。
可以理解的,在其他一些实施方式中,也可以采用其他任意的电磁定位方案,只要能够书写工具的电磁定位即可,本领域技术人员可以根据具体工况进行选择,这里不再赘述。
将笔头的定位结果与预设的坐标系相融合,即可得到笔头位置的中心点处的坐标。
实施例3:
本发明实施例3提供了一种控制器,所述控制器加载并执行本发明实施例1或者实施例2所述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法。
实施例4:
本发明实施例4提供了一种TFT液晶书写装置,包括控制器,所述控制器加载并执行本发明实施例1或者实施例2所述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法。
在上述液晶书写装置的基础上,本实施还公开了液晶书写装置的具体应用产品,比如:
将本实施例的液晶书写装置应用于写字板、画板或者黑板上,实现局部擦除功能或者显示功能或者上述公开的其他功能。
具体地,可以将本实施例的液晶书写装置应用于光能写字板、光能液晶手写板、光能大液晶写字黑板、光能无尘写字板、光能便携黑板、电子画板、LCD电子写字板、电子手写板、电子记事笔迹本、涂鸦板、儿童手写板、儿童涂鸦画板、橡皮擦功能速写板、液晶电子绘画板或者彩色液晶手写板或者本领域技术人员能够获知的其他相关产品中。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (12)
1.一种用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,其特征在于:
包括以下过程:
获取笔迹书写过程中书写工具与书写平面接触位置的采样中心点坐标,所述坐标为以书写平面构建的直角坐标系下的坐标;
在书写平面内,保留矩形内的笔迹,擦除矩形以外且当前笔迹范围以内的笔迹,且矩形边穿过的像素作为笔迹保留;之前被保留的笔迹与当前欲擦除区域重叠时,不擦除之前被保留的笔迹,擦除后保持视觉上笔迹的连续性;
其中,矩形的第一边穿过其中一个中心点,第二边穿过另一个中心点,且第一边和第二边分别与两个相邻采样中心点的连线垂直;矩形的第三边和第四边与两个相邻采样中心点的连线平行;第一边和第二边的长度为设定值,第三边和第四边的长度与两个相邻采样中心点的连线长度相同。
2.如权利要求1所述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,其特征在于:
当前笔迹范围在相邻采样中心点连线的垂线方向上表现为笔头的宽度、液晶的流动宽度和安全距离的加和。
3.一种用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,其特征在于:
包括以下过程:
获取笔迹书写过程中书写工具与书写平面接触位置的采样中心点坐标,所述坐标为以书写平面构建的直角坐标系下的坐标;
在书写平面内,保留矩形内的笔迹,擦除矩形以外且当前笔迹范围以内的笔迹,且矩形边穿过的像素作为笔迹保留;之前被保留的笔迹与当前欲擦除区域重叠时,不擦除之前被保留的笔迹,擦除后保持视觉上笔迹的连续性;
其中,矩形的第一边穿过其中一个中心点,第二边穿过另一个中心点,且第一边和第二边分别与两个相邻采样中心点的连线垂直;矩形的第三边和第四边与两个相邻采样中心点的连线平行;第三边和第四边的长度与两个相邻采样中心点的连线长度相同;第一个矩形的第一边与第二边的长度与笔头的书写压力正相关,其他矩形的第一边与第二边的长度根据笔头的压力以及相邻前一矩形的第一边与第二边的长度确定。
4.如权利要求3所述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,其特征在于:
当前笔迹范围在相邻采样中心点连线的垂线方向上表现为笔头的宽度、液晶的流动宽度和安全距离的加和。
5.如权利要求3所述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,其特征在于:对第一个矩形:L=kpF+kq;
对连续书写的除第一个矩形的其他矩形:L=k1Lu+k2F+k3;
其中,其中,L为矩形的第一边与第二边的长度,Lu为相邻前一矩形的第一边与第二边的长度,F为笔头压力,k1、k2、k3、kp和kq为参数。
6.如权利要求5所述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,其特征在于:
根据笔迹变化速度对L进行修正:Lt=(Lu+sL)/(1+s),其中,Lt为修正值,s为权重,笔迹变化速度越快则s越大。
7.如权利要求1-6任一项所述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,其特征在于:
采用电驱动擦除的方式进行笔迹擦除。
8.如权利要求1-6任一项所述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,其特征在于:
当书写工具为光书写工具时,采用光定位的方式进行书写工具的定位,进而获取到书写笔迹。
9.如权利要求1-6任一项所述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,其特征在于:
当书写工具为电磁书写工具时,采用电磁定位的方式进行书写工具的定位,进而获取到书写笔迹。
10.如权利要求1-6任一项所述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法,其特征在于:
坐标系为以书写平面构建的直角坐标系或者斜坐标系。
11.一种控制器,其特征在于:所述控制器加载并执行权利要求1-6任一项所述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法。
12.一种TFT液晶书写装置,其特征在于:包括控制器,所述控制器加载并执行权利要求1-6任一项所述的用于TFT液晶书写装置的书写笔迹显示方法。
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