CN114713099A - 一种高锰酸钾添加缸以及添加方法 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及电子元器件加工技术领域，尤其是涉及一种高锰酸钾添加缸以及添加方法，旨在解决现有技术高锰酸钾溶液在使用时在溶液中溶解缓慢，容易出现沉积的问题，导致胶渣清理效果差的问题，其技术方案是一种高锰酸钾添加缸，包括缸体，缸体上设有用于加热溶液的加热管，缸体中还设有打气管，打气管用于向缸内溶液中打入空气，缸体的底部设有用于向除胶渣槽内输出溶液的输液管，本申请具有增强高锰酸钾溶液的溶解效率，进而改善高锰酸钾溶液的溶解效果的效果。
Description
技术领域
本申请涉及电子元器件加工技术领域，尤其是涉及一种高锰酸钾添加缸以及添加方法。
背景技术
PCB（printed circuit board）即印制线路板，是电子工业的重要部件之一，只要有集成电路等电子元件，为了使各个元件之间的电气互连，都需要使用到PCB。PCB由绝缘底板、连接导线和装配焊接电子元器件的焊盘组成，具有导电线路和绝缘底板的双重作用。
在PCB的生产加工过程中，常见的品质问题有孔内无铜、铜瘤、通孔盲孔开路等，这些问题通常都是由于在除胶渣工序中孔壁上的胶渣没能咬噬掉或胶团塞孔等，加上溶液的黏度厘泊值随着不断产生而升高，继而导致出现上述的孔内无铜等品质问题。
目前，为了在制程中拦截过滤杂质来改善产品品质，通常会采用高锰酸钾溶液对胶渣进行咬噬。
在实现本申请的过程中，发明人发现上述技术至少存在以下问题：
高锰酸钾溶液在使用时在溶液中溶解缓慢，容易出现沉积的问题，导致胶渣清理效果差。
发明内容
为了增强高锰酸钾溶液的溶解效率，进而改善高锰酸钾溶液的溶解效果，本申请提供一种高锰酸钾添加缸以及添加方法。
第一方面，本申请提供的一种高锰酸钾添加缸，采用如下的技术方案：
一种高锰酸钾添加缸，包括缸体，所述缸体上设有用于加热溶液的加热管，所述缸体中还设有打气管，所述打气管用于向缸内溶液中打入空气，所述缸体的底部设有用于向除胶渣槽内输出溶液的输液管。
通过采用上述技术方案，在高锰酸钾溶液的添加缸中设置加热管和打气管，其中加热管可以对高锰酸钾溶液进行加热，使得溶液的整体温度上升，进而使得高锰酸钾的活性随着溶液温度而提高，有助于使得高锰酸钾充分地溶入溶液中，降低了沉积的可能性，打气管在溶液中打入空气，空气进入溶液后在大气压的作用下上浮，在溶液中形成翻滚的气泡，有助于增强溶液中物质的流动性，进而有助于使得高锰酸钾充分溶解，最终有助于改善溶液清理胶渣的效果。
在一个具体的可实施方式中，所述打气管包括主管体，所述主管体沿缸体的底部设置，所述主管体的两侧分别设有至少一根分管体。
通过采用上述技术方案，在缸体中设置多个管体用来打气，有助于扩大空气对溶液的流动的催动效果，进而有助于进一步提高高锰酸钾溶液的溶解效率。
在一个具体的可实施方式中，所述缸体内设有液位感应器以及控制器，所述缸体内还设有进水管，所述进水管中设有电磁阀，所述电磁阀以及液位感应器同时与控制器连接，所述控制器被配置为接收液位感应器传输的液位信号，并根据接收到的液位信号控制所述电磁阀的开启与关闭。
通过采用上述技术方案，通过液位感应器、控制器以及电磁阀构成的系统，有助于智能化地控制添加缸中的溶液的进料和出料，进而减少了溶液添加过程中需要介入的人工操作，有助于提高溶液添加的精确度，同时降低生产成本。
在一个具体的可实施方式中，所述缸体内还设有温度传感器以及控制器，所述温度传感器以及加热管均与控制器连接，所述控制器被配置为接收温度传感器传输的温度信号，并根据接收到的温度信号控制加热管的开启与关闭。
通过采用上述技术方案，通过温度传感器、控制器以及加热管构成的温度控制系统，有助于自动对添加缸中的溶液温度进行检测并感根据检测到的数据控制加热管的工作，有助于提高温度控制的智能化长度，进而提高生产效率。
在一个具体的可实施方式中，所述缸体的底部还设有排污管，所述排污管用于排放缸体内的沉积物。
通过采用上述技术方案，可以通过排污管排放缸体内的沉积物，有助于对沉积物进行及时地清理，进而有助于降低沉积物对溶液反应效率的影响。
第二方面，本申请提供一种高锰酸钾添加方法，采用如下的技术方案：
一种高锰酸钾添加方法，所述高锰酸钾添加方法是基于如第一方面中任一所述的一种高锰酸钾添加缸实现的，包括以下步骤：
S11、添加预设分量的纯水；
S12、启动向打气管供应气流的气泵，向添加缸中持续打入空气；
S13、启动加热管进行加热纯水，将纯水加热至80摄氏度；
S14、当纯水加热至80摄氏度以后，向纯水中加入高锰酸钾溶液；
S15、加入高锰酸钾溶液后开始计时，当溶液达到预设的溶解时间后，将添加缸内的溶液输入到除胶渣槽内。
通过采用上述技术方案，加热管可以对高锰酸钾溶液进行加热，使得溶液的整体温度上升，进而使得高锰酸钾的活性随着溶液温度而提高，有助于使得高锰酸钾充分地溶入溶液中，降低了沉积的可能性，打气管在溶液中打入空气，空气进入溶液后在大气压的作用下上浮，在溶液中形成翻滚的气泡，有助于增强溶液中物质的流动性，进而有助于使得高锰酸钾充分溶解，最终有助于改善溶液清理胶渣的效果。
在一个具体的可实施方式中，所述步骤S14包括以下子步骤：
S141、当纯水加热至80摄氏度以后，按照预设的时间间隔分批向纯水中加入高锰酸钾。
通过采用上述技术方案，有助于避免大量高锰酸钾同时加入到溶液中导致溶液溶解出现异常的情况，有助于分批将高锰酸钾溶液进行溶解，进而提高总的溶液的溶解效果。
在一个具体的可实施方式中，所述步骤S15之后，还包括：
S16、溶液输入到除胶渣槽内后，排除添加缸内沉积物；
S17、排除添加缸内沉积物后，返回步骤S11。
通过采用上述技术方案，在单次溶解完成之后，排出沉积物，有助于对沉积物进行及时地清理，进而有助于降低沉积物对溶液反应效率的影响。
综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：
在高锰酸钾溶液的添加缸中设置加热管和打气管，其中加热管可以对高锰酸钾溶液进行加热，使得溶液的整体温度上升，进而使得高锰酸钾的活性随着溶液温度而提高，有助于使得高锰酸钾充分地溶入溶液中，降低了沉积的可能性，打气管在溶液中打入空气，空气进入溶液后在大气压的作用下上浮，在溶液中形成翻滚的气泡，有助于增强溶液中物质的流动性，进而有助于使得高锰酸钾充分溶解，最终有助于改善溶液清理胶渣的效果；
通过液位感应器、控制器以及电磁阀构成的系统，有助于智能化地控制添加缸中的溶液的进料和出料，进而减少了溶液添加过程中需要介入的人工操作，有助于提高溶液添加的精确度，同时降低生产成本；
通过温度传感器、控制器以及加热管构成的温度控制系统，有助于自动对添加缸中的溶液温度进行检测并感根据检测到的数据控制加热管的工作，有助于提高温度控制的智能化长度，进而提高生产效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例中示出的一种高锰酸钾添加缸的整体结构示意图；
图2是本申请实施例中示出的一种高锰酸钾添加缸的温度控制的流程示意图；
图3是本申请实施例中示出的一种高锰酸钾添加缸的液位控制的流程示意图；
图4是本申请实施例中示出的一种高锰酸钾添加方法的方法流程示意图。
附图标记说明：1、缸体；2、加热管；3、打气管；4、输液管；5、主管体；6、分管体；7、液位感应器；8、控制器；9、进水管；10、电磁阀；11、温度传感器；12、排污管。
具体实施方式
本具体实施例仅仅是对本申请的解释，其并不是对本申请的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本申请的权利要求范围内都受到专利法的保护为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图1-3，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。
本申请实施例公开一种高锰酸钾添加缸。
参考图1，一种高锰酸钾添加缸包括缸体1，缸体1上设有用于添加反应溶液的进水管9、用于向除胶渣槽内输送溶液的输液管4以及用于排放缸体1内反应沉积物的排污管12，进水管9设有缸体1的上端，输液管4以及排污管12设于缸体1的底部。
参考图1，缸体1中还设有沿竖直方向延伸至缸体1的底面后沿缸体1的底面分布的打气管3，打气管3沿缸体1底面延伸的部分包括主管体5和分管体6，分管体6设于主管体5的两侧，分管体6可以设置有多个，在本实施例中分管体6设有两个，两个分管体6对称分布在主管体5的两侧。主管体5和所有分管体6均与打气管3的气道连通，用于输送打气管3中传输的空气。
这样，在缸体1中设置多个管体用来打气，有助于扩大空气对溶液的流动的催动效果，进而有助于进一步提高高锰酸钾溶液的溶解效率。
参考图2，缸体1中还设有用于加热溶液的加热管2、控制器8以及温度传感器11，控制器8设置为PLC控制器8，控制器8同时与加热管2、温度传感器11电连接，并共同构成温度控制系统，控制器8被配置为接收温度传感器11检测到的信号并根据检测到的信号控制加热管2的开启和关闭。具体的，温度传感器11可以检测溶液的信号，当溶液的信号低于预设的温度值时，控制加热管2持续开启，当温度传感器11检测到溶液温度达到预设的温度值时，控制加热管2暂停工作。这样预设的温度值由工作人员进行设置，可以为80摄氏度。
这样，有助于自动对添加缸中的溶液温度进行检测并感根据检测到的数据控制加热管2的工作，有助于提高温度控制的智能化长度，进而提高生产效率。
参考图3，缸体1中还设有用于检测液位高低的液位感应器7，在进水管9中还设有电磁阀10，电磁阀10用于控制进水管9的流通和闭合，控制器8还同时与电磁阀10和液位感应器7连接，且控制器8被配置为接收液位感应器7检测到的液位信号，并根据接收到的液位信号控制电磁阀10的开启与关闭，具体的，当液位低于预设的液位时，保持电磁阀10开启，当液位达到预设的液位时，控制电磁阀10关闭。
这样，有助于智能化地控制添加缸中的溶液的进料和出料，进而减少了溶液添加过程中需要介入的人工操作，有助于提高溶液添加的精确度，同时降低生产成本。
基于相同的技术构思，本发明实施例还提供了一种高锰酸钾添加方法，参考图4，所述高锰酸钾添加方法是基于上述的高锰酸钾添加缸实现的，包括以下步骤：
S11、添加预设分量的纯水；
S12、启动向打气管3供应气流的气泵，向添加缸中持续打入空气；
S13、启动加热管2进行加热纯水，将纯水加热至80摄氏度；
S14、当纯水加热至80摄氏度以后，向纯水中加入高锰酸钾溶液；
S15、加入高锰酸钾溶液后开始计时，当溶液达到预设的溶解时间后，将添加缸内的溶液输入到除胶渣槽内。
在一个具体的实施例中，步骤S14中还可以包括如下处理：
S141、当纯水加热至80摄氏度以后，按照预设的时间间隔分批向纯水中加入高锰酸钾。
这样，有助于避免大量高锰酸钾同时加入到溶液中导致溶液溶解出现异常的情况，有助于分批将高锰酸钾溶液进行溶解，进而提高总的溶液的溶解效果。
在一个具体的实施例中，所述高锰酸钾添加方法还可以包括如下处理：
S16、溶液输入到除胶渣槽内后，排除添加缸内沉积物；
S17、排除添加缸内沉积物后，返回步骤S11。
这样，在单次溶解完成之后，排出沉积物，有助于对沉积物进行及时地清理，进而有助于降低沉积物对溶液反应效率的影响。
以上所述，以上实施例仅用以对本申请的技术方案进行了详细介绍，但以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想，不应理解为对本申请的限制。本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种高锰酸钾添加缸，其特征在于：包括缸体(1)，所述缸体(1)上设有用于加热溶液的加热管(2)，所述缸体(1)中还设有打气管(3)，所述打气管(3)用于向缸内溶液中打入空气，所述缸体(1)的底部设有用于向除胶渣槽内输出溶液的输液管(4)。
2.根据权利要求1所述的一种高锰酸钾添加缸，其特征在于：所述打气管(3)包括主管体(5)，所述主管体(5)沿缸体(1)的底部设置，所述主管体(5)的两侧分别设有至少一根分管体(6)。
3.根据权利要求1所述的一种高锰酸钾添加缸，其特征在于：所述缸体(1)内设有液位感应器(7)以及控制器(8)，所述缸体(1)内还设有进水管(9)，所述进水管(9)中设有电磁阀(10)，所述电磁阀(10)以及液位感应器(7)同时与控制器(8)连接，所述控制器(8)被配置为接收液位感应器(7)传输的液位信号，并根据接收到的液位信号控制所述电磁阀(10)的开启与关闭。
4.根据权利要求1所述的一种高锰酸钾添加缸，其特征在于：所述缸体(1)内还设有温度传感器(11)以及控制器(8)，所述温度传感器(11)以及加热管(2)均与控制器(8)连接，所述控制器(8)被配置为接收温度传感器(11)传输的温度信号，并根据接收到的温度信号控制加热管(2)的开启与关闭。
5.根据权利要求1所述的一种高锰酸钾添加缸，其特征在于：所述缸体(1)的底部还设有排污管(12)，所述排污管(12)用于排放缸体(1)内的沉积物。
6.一种高锰酸钾添加方法，其特征在于：所述高锰酸钾添加方法是基于如权利要求1-5中任一所述的一种高锰酸钾添加缸实现的，包括以下步骤：
S11、添加预设分量的纯水；
S12、启动向打气管（3）供应气流的气泵，向添加缸中持续打入空气；
S13、启动加热管（2）进行加热纯水，将纯水加热至80摄氏度；
S14、当纯水加热至80摄氏度以后，向纯水中加入高锰酸钾溶液；
S15、加入高锰酸钾溶液后开始计时，当溶液达到预设的溶解时间后，将添加缸内的溶液输入到除胶渣槽内。
7.根据权利要求6所述的一种高锰酸钾添加方法，其特征在于：所述步骤S14包括以下子步骤：
S141、当纯水加热至80摄氏度以后，按照预设的时间间隔分批向纯水中加入高锰酸钾。
8.根据权利要求6所述的一种高锰酸钾添加方法，其特征在于：所述步骤S15之后，还包括：
S16、溶液输入到除胶渣槽内后，排除添加缸内沉积物；
S17、排除添加缸内沉积物后，返回步骤S11。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20220708 |