CN114709192B - 显示模组及其制备方法、掩膜板组件 - Google Patents

显示模组及其制备方法、掩膜板组件

Info

Publication number
CN114709192B
CN114709192B CN202210343650.0A CN202210343650A CN114709192B CN 114709192 B CN114709192 B CN 114709192B CN 202210343650 A CN202210343650 A CN 202210343650A CN 114709192 B CN114709192 B CN 114709192B
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
optical
mark
optical mark
mask plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202210343650.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114709192A (zh
Inventor
陈南豪
陈军涛
张毅
徐倩
黄琰
李灵通
魏立恒
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN202210343650.0A priority Critical patent/CN114709192B/zh
Publication of CN114709192A publication Critical patent/CN114709192A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114709192B publication Critical patent/CN114709192B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H10W46/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • H10W46/301

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本申请实施例提供了一种显示模组,包括:基板、以及层叠的第一标记组层和第二标记组层;第一标记组层设置于基板的一侧,第二标记组层用于朝向对位装置并与对位装置具有第一识别距离,层叠的第一标记组层和第二标记组层用于供对位装置识别并对位。本申请实施例中的第一标记组层与第二标记组层层叠设置,第二标记组层较薄时,第一标记组层能够对第二标记组层起到垫高的作用,缩短第二标记组层与对位装置的距离,提高第二标记组层的对比度,进而提高第二标记组层的识别准确率。

Description

显示模组及其制备方法、掩膜板组件
技术领域
本申请涉及显示模组技术领域,具体而言,本申请涉及一种显示模组及其制备方法、掩膜板组件。
背景技术
蒸镀掩膜板组件通常由框架、遮挡用掩膜板、精细掩膜板等组装而成,遮挡用掩膜板、精细掩膜板均焊接固定于框架上,且遮挡用掩膜板需置于精细掩膜板下方支撑精细掩膜板及基板,并且对非发光区域的有机材料进行遮挡。由于精细掩膜板很薄,精度要求高,在温度较高的蒸镀腔室中容易变形,因此,需要对精细掩膜板进行张网操作,提高精细掩膜板的精度,使发光材料通过精细掩膜板的像素开口落在基板对应的位置上。
在张网的过程中由于制作偏差等原因无法完全保证所有的发光材料都通过开口落在基板所对应的位置上,因此,大多采用测试标记(Pattern Position Accuracy Teg,PPA Teg)示出实际蒸镀位置与理想蒸镀位置的差距,再通过差距重新调整精细掩膜板焊接的张力、反作用力或补偿值等。
测试标记是在蒸镀过程中通过开设于精细掩膜板上的标记开口沉积发光材料得到的,但是,随着显示技术的不断技术升级,蒸镀得到的发光材料形成的测试标记存在厚度较薄,导致难以识别的缺陷。
发明内容
本申请针对现有方式的缺点,提出一种显示模组及其制备方法、掩膜板组件,用以解决现有技术存在的测试标记厚度较薄,导致难以识别的缺陷的技术问题。
第一个方面,本申请实施例提供了一种显示模组,包括:基板、以及层叠的第一标记组层和第二标记组层;
第一标记组层设置于基板的一侧,第二标记组层用于朝向对位装置并与对位装置具有第一识别距离,层叠的第一标记组层和第二标记组层用于供对位装置识别并对位。
可选地,第一标记组层包括:第一光学标记组层;第二标记组层包括:第二光学标记组层;
第一光学标记组层与第二光学标记组层中尺寸较小的一个在基板上的正投影,落入第一光学标记组层与第二光学标记组层中尺寸较大的一个在基板上的正投影范围内。
可选地,第一光学标记组层的材料与第二光学标记组层的材料相同。
可选地,第一光学标记组层包括:同层设置的第一层第一光学标记和第一层第二光学标记;第二光学标记组层包括:同层设置的第二层第一光学标记和第二层第二光学标记;
第一层第一光学标记的尺寸小于第一层第二光学标记的尺寸;第二层第二光学标记的尺寸小于第二层第一光学标记的尺寸;
第一层第一光学标记在第二层第一光学标记上的正投影,落于第二层第一光学标记范围内;
第二层第二光学标记在第一层第二光学标记上的正投影,落入第一层第二光学标记范围内。
可选地,显示模组还包括:第三光学标记组层;第一光学标记组层还包括:第一层第三光学标记;第三光学标记组层包括:第三层第三光学标记;
第一层第一光学标记的尺寸小于第一层的其他光学标记的尺寸;第二层第二光学标记的尺寸小于第二层的其他光学标记的尺寸;第三层第三光学标记的尺寸小于第一层第三光学标记的尺寸。
可选地,第二光学标记组层还包括:第二层第三光学标记;第三光学标记组层还包括:第三层第一光学标记和第三层第二光学标记;
第三层第三光学标记的尺寸小于第三层的其他光学标记的尺寸。
可选地,每一层的各个光学标记的尺寸均不相同。
可选地,第一光学标记组层的材料与第二光学标记组层的材料为第一颜色发光材料、第二颜色发光材料和第三颜色发光材料中的两种。
可选地,第一标记组层包括:垫层;第二标记组层包括:同层设置的至少一个光学标记;
光学标记在垫层上的正投影,均落入垫层范围内。
可选地,第一标记组层包括:同层设置的至少一个电极标记;第二标记组层包括:同层设置的至少一个光学标记;
电极标记位于光学标记的中间区域与基板之间;光学标记的边缘区域与基板连接。
第二个方面,本申请实施例提供一种用于制备上述第一个方面提供的显示模组的掩膜板组件,包括:第一层掩膜板和第二层掩膜板;
第一层掩膜板与第二层掩膜板具有对应且尺寸一致的像素开口;
第一层掩膜板还具有第一层第一光学标记开口和第一层第二光学标记开口;第一层第一光学标记开口的尺寸小于第一层第二光学标记开口的尺寸;
第二层掩膜板还具有第二层第一光学标记开口和第二层第二光学标记开口;第二层第二光学标记开口的尺寸小于第二层第一光学标记开口的尺寸。
可选地,掩膜板组件还包括:第三层掩膜板;
第三层掩膜板具有与第一层掩膜板的像素开口对应且尺寸一致的像素开口;
第一层掩膜板还具有第一层第三光学标记开口;第一层第一光学标记开口的尺寸小于第一层掩膜板上的其他光学标记开口的尺寸;
第三层掩膜板还具有第三层第三光学标记开口;第三层第三光学标记开口的尺寸小于第一层第三光学标记开口的尺寸。
第三个方面,本申请实施例还提供一种显示模组的制备方法,包括:
基于第一层掩膜板对基板进行蒸镀,得到设置于基板一侧的第一层第一光学标记和第一层第二光学标记;掩膜板组件包括第一层掩膜板和第二层掩膜板;
基于第二层掩膜板对基板进行蒸镀,得到第二层第一光学标记和第二层第二光学标记;第一层第一光学标记在第二层第一光学标记上的正投影,落入于第二层第一光学标记范围内;第二层第二光学标记在第一层第二光学标记上的正投影,落入于第一层第二光学标记范围内。
可选地,基于第一层掩膜板对基板进行蒸镀,得到设置于基板一侧的第一层第一光学标记和第一层第二光学标记,包括:
基于第一层掩膜板对基板进行蒸镀,得到设置于基板一侧的第一层第一光学标记、第一层第二光学标记和第一层第三光学标记;
以及,基于第二层掩膜板对基板进行蒸镀,得到第二层第一光学标记和第二层第二光学标记,包括:
基于第二层掩膜板对基板进行蒸镀,得到第二层第一光学标记、第二层第二光学标记和第二层第三光学标记;
在基于第二层掩膜板对基板进行蒸镀,得到第二层第一光学标记和第二层第二光学标记之后,还包括:
基于第三层掩膜板对基板进行蒸镀,得到第三层第一光学标记、第三层第二光学标记和第三层第三光学标记;掩膜板组件还包括:第三层掩膜板;第一层第一光学标记的尺寸小于第一层的其他光学标记的尺寸;第二层第二光学标记的尺寸小于第二层的其他光学标记的尺寸;第三层第三光学标记的尺寸小于第三层其他光学标记的尺寸;第三层第三光学标记在第一层第三光学标记或第二层第三光学标记上的正投影,落入于第一层第三光学标记或第二层第三光学标记的范围内。
本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括:
本申请实施例提供的显示模组包括:基板、以及层叠的第一标记组层和第二标记组层;第一标记组层设置于基板的一侧,第二标记组层用于朝向对位装置并与对位装置具有第一识别距离,层叠的第一标记组层和第二标记组层用于供对位装置识别并对位。本申请实施例中的第一标记组层与第二标记组层层叠设置,第二标记组层较薄时,第一标记组层能够对第二标记组层起到垫高(或增厚)的作用,能够缩短第二标记组层与对位装置的距离,有利于提高第二标记组层的对比度,进而有利于提高第二标记组层的识别准确率,提高掩膜板组件的张网准确率,提高显示模组的成品率。
本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,这些将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实践了解到。
附图说明
本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1为本申请实施例提供的一种显示模组与对位装置的结构示意图;
图2为本申请实施例提供的一种第一光学标记组层与第二光学标记组层的对应结构示意图;
图3为本申请实施例提供的另一种第一光学标记组层与第二光学标记组层的对应结构示意图;
图4为本申请实施例提供的又一种第一光学标记组层与第二光学标记组层的对应结构示意图;
图5为本申请实施例提供的还一种第一光学标记组层与第二光学标记组层的对应结构示意图;
图6为本申请实施例提供的一种显示模组的结构的剖面示意图;
图7为本申请实施例提供的另一种显示模组的结构的剖面示意图;
图8为本申请实施例提供的又一种显示模组的结构的俯视示意图;
图9为本申请实施例提供的再一种显示模组的结构的俯视示意图;
图10为本申请实施例提供的还一种显示模组的结构的俯视示意图;
图11为图10中直线B处的截面示意图;
图12为本申请实施例提供的一种第一层掩膜板的结构示意图;
图13为本申请实施例提供的一种第二层掩膜板的结构示意图;
图14为本申请实施例提供的一种第三层掩膜板的结构示意图;
图15为本申请实施例提供的一种显示模组的制备方法的流程图;
图16为本申请实施例提供的另一种显示模组的制备方法的流程图。
附图标记:
100-显示模组;
101-基板;
110-第一标记组层;
111-第一光学标记组层;
1111-第一层第一光学标记;1111a-第一层第一颜色第一子标记;1111b-第一层第二颜色第一子标记;1111c-第一层第三颜色第一子标记;
1112-第一层第二光学标记;1112a-第一层第一颜色第二子标记;1112b-第一层第二颜色第二子标记;1111c-第一层第三颜色第二子标记;
1113-第一层第三光学标记;
112-垫层;113-电极标记;
120-第二标记组层;
121-第二光学标记组层;
1211-第二层第一光学标记;1211a-第二层第一颜色第一子标记;1211b第二层第二颜色第一子标记;1211c-第二层第三颜色第一子标记;
1212-第二层第二光学标记;1212a-第二层第一颜色第二子标记;1212b-第二层第二颜色第二子标记;1212c-第二层第三颜色第二子标记;
1213-第二层第三光学标记;
122-光学标记;
131-第三光学标记组层;1311-第三层第一光学标记;1312-第三层第二光学标记;1313-第三层第三光学标记;
140-基准标记;
102-第一层发光层;103-第二层发光层;104-第一层空穴传输层;105-第二层空穴传输层;106-阳极层;107-阴极层;
200-对位装置;
310-第一层掩膜板;311-第一层第一光学标记开口;312-第一层第二光学标记开口;313-第一层第三光学标记开口;320-第二层掩膜板;321-第二层第一光学标记开口;322-第二层第二光学标记开口;330-第三层掩膜板;331-第三层第三光学标记开口;301-像素开口;
A-第一识别距离。
具体实施方式
下面结合本申请中的附图描述本申请的实施例。应理解,下面结合附图所阐述的实施方式,是用于解释本申请实施例的技术方案的示例性描述,对本申请实施例的技术方案不构成限制。
本技术领域技术人员可以理解,除非特意声明,这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是,本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件,但不排除实现为本技术领域所支持其他特征、信息、数据、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合等。应该理解,当我们称一个元件被“连接”或“耦接”到另一元件时,该一个元件可以直接连接或耦接到另一元件,也可以指该一个元件和另一元件通过中间元件建立连接关系。这里使用的术语“和/或”指该术语所限定的项目中的至少一个,例如“A和/或B”可以实现为“A”,或者实现为“B”,或者实现为“A和B”。
为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。
本申请的研发思路包括:随着显示技术的不断升级,显示模组中的发光层的堆叠结构有所改变,串式(Tandem)器件结构中显示模组将发光层分两层甚至多层进行蒸镀,得到具有至少两层发光层的串式器件结构。而串式器件结构中每一层发光层比传统的单层器件结构中发光层薄,导致与每一层发光层同层制备得到的测试标记对比度低,难以被对位装置识别,进而影响精细掩膜板张网补差的过程。
本申请提供的显示模组及其制备方法、掩膜板组件,旨在解决现有技术的如上技术问题。
下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。需要指出的是,下述实施方式之间可以相互参考、借鉴或结合,对于不同实施方式中相同的术语、相似的特征以及相似的实施步骤等,不再重复描述。
本申请实施例提供了一种显示模组100,请参考图1,显示模组100包括:基板101、以及层叠的第一标记组层110和第二标记组层120。
第一标记组层110设置于基板101的一侧,第二标记组层120用于朝向对位装置200并与对位装置200具有第一识别距离A,层叠的第一标记组层110和第二标记组层120用于供对位装置200识别并对位。
在本实施例中,第一标记组层110设置于基板101的一侧,第二标记组层120朝向对位装置200并与对位装置200具有第一识别距离A,层叠的第一标记组层110和第二标记组层120用于供对位装置200识别并对位。当第二标记组层120较薄时,第一标记组层110能够对第二标记组层120起到垫高(或增厚)的作用,能够缩短第二标记组层120与对位装置200的距离,有利于提高第二标记组层120的对比度,进而有利于提高第二标记组层120的识别准确率,提高掩膜板组件的张网准确率,提高显示模组的成品率。
在一些可能的实施方式中,请参考图2,第一标记组层110包括:第一光学标记组层111。第二标记组层120包括:第二光学标记组层121。
第一光学标记组层111与第二光学标记组层121中尺寸较小的一个在基板101上的正投影,落入第一光学标记组层111与第二光学标记组层121中尺寸较大的一个在基板101上的正投影范围内。
在本实施例中,显示模组100包括层叠设置于基板101的一侧的两层发光层,第一光学标记组层111是在制备第一层发光层102时得到,第二光学标记组层121是在制备第二层发光层103时得到,第一光学标记组层111与第二光学标记组层121的尺寸不一致,当两层较薄的光学标记组层层叠时,第一光学标记组层111与第二光学标记组层121具有常规的有效识别厚度,容易识别。换言之,较薄的光学标记组层颜色较浅,难以识别,两层光学标记组层叠加后,颜色较深,便于识别。
可选地,第一光学标记组层111的材料与第二光学标记组层121的材料相同。
在本实施例中,第一光学标记组层111是在制备第一层发光层102的第一颜色发光像素时通过同一块掩膜板同时制备得到的,第二光学标记组层121是在制备第二层发光层103的第一颜色发光像素时通过同一块掩膜板同时制备得到的,由于都是制备的第一颜色像素,因此采用的发光材料相同,都是第一颜色发光材料,使标记的制备过程简便,无需使用其他复杂的步骤。
可选地,第一颜色像素可以是红色像素、绿色像素或蓝色像素。
可以理解的是,在现有技术中,制备具有两层发光层的显示模组100时,在制备每一层发光层的第一颜色时只会同时制备留下一个光学标记,由于第一颜色较薄,相应地,光学标记也较薄,难以识别。在一些可能的实施方式中,请参考图2,第一光学标记组层111包括:同层设置的第一层第一光学标记1111和第一层第二光学标记1112。第二光学标记组层121包括:同层设置的第二层第一光学标记1211和第二层第二光学标记1212。
第一层第一光学标记1111的尺寸小于第一层第二光学标记1112的尺寸。第二层第二光学标记1212的尺寸小于第二层第一光学标记1211的尺寸。
第一层第一光学标记1111在第二层第一光学标记1211上的正投影,落于第二层第一光学标记1211范围内。
第二层第二光学标记1212在第一层第二光学标记1112上的正投影,落入第一层第二光学标记1112范围内。
在本实施例中,请参考图6,在制备第一层发光层102时,同时制备得到第一层第一光学标记1111和第一层第二光学标记1112,在制备第二层发光层103时,同时制备得到第二层第一光学标记1211和第二层第二光学标记1212,第一层第一光学标记1111与第二层第一光学标记1211层叠设置,尺寸较小的第一层第一光学标记1111所在的区域颜色具有叠加效果,颜色较深,容易被识别,尺寸较大的第二层第一光学标记1211在未与第一层第一光学标记1111叠加的区域内,颜色较浅,难以识别。
同样地,第一层第二光学标记1112与第二层第二光学标记1212层叠设置,颜色较深的第二层第二光学标记1212所对应的区域容易被识别,颜色较浅的第一层第二光学标记1112未与第二层第二光学标记1212叠加的区域不易被识别。
因此,能够识别的第一层第一光学标记1111、第二层第二光学标记1212中,层数与光学标记序数一致,确保光学标记的位置信息不会发生变化,保证了光学标记识别的准确性。
可选地,请参考图8,第一层第一光学标记1111包括:第一层第一颜色第一子标记1111a、第一层第二颜色第一子标记1111b和第一层第三颜色第一子标记1111c。第一层第二光学标记1112包括:第一层第一颜色第二子标记1112a,第一层第二颜色第二子标记1112b和第一层第三颜色第二子标记1112c。第二层第一光学标记1211包括:第二层第一颜色第一子标记1211a、第二层第二颜色第一子标记1211b和第二层第三颜色第一子标记1211c。第二层第二光学标记1212包括:第二层第一颜色第二子标记1212a、第二层第二颜色第二子标记1212b和第二层第三颜色第二子标记1212c。显示模组100还包括基准标记140,本申请通过对位装置200识别基准标记140与各光学标记之间的偏移量,预估掩膜板组件的偏移量。基准标记140的颜色或形状再此不做限定,只要便于比对与光学标记之间的偏移量即可。
可选地,基准标记140为与阳极层106一起制备得到的阳极标记。
第一层第一颜色第一子标记1111a与第二层第一颜色第一子标记1211a层叠且对应,第一层第一颜色第一子标记1111a的尺寸小于第二层第一颜色第一子标记1211a的尺寸,因此,第一层第一颜色第一子标记1111a所对应的区域颜色较深,便于识别。并且层数与光学标记序数一致,不会影响各个标记的位置信息。
第二颜色、第三颜色与第一颜色的标记类似,第一层第二颜色第一子标记1111b与第二层第二颜色第一子标记1211b层叠且对应,第一层第二颜色第一子标记1111b所对应的颜色较深,便于识别。第一层第三颜色第一子标记1111c与第二层第三颜色第一子标记1211c层叠且对应,第一层第三颜色第一子标记1111c的颜色较深,便于识别。
同样地,根据层数与光学标记序数一致的原则,第一层第一颜色第二子标记1112a与第二层第一颜色第二子标记1212a层叠且对应,第二层第一颜色第二子标记1212a尺寸较小,所对应的区域颜色较深,便于识别。第二层的第二颜色与第三颜色的子标记同理,再此不再赘述。
可选地,请参考图7,显示模组100还包括:第一层空穴传输层104标记和第二层空穴传输层105标记;第一层空穴传输层104标记位于基板101与第一层第一颜色第一子标记1111a之间,第二层空穴传输层105标记位于第一层第一颜色第一子标记1111a与第二层第一颜色第一子标记1211a之间。相应地,显示模组100还包括位于基板101与第一层发光层102之间的第一层空穴传输层104、和位于第一层发光层102与第二层发光层103之间的第二层空穴传输层105。
当显示模组100具有三层发光层时,可随着三层发光层制备得到三层光学标记。请参考图3,在一些可能的实施方式中,显示模组100还包括:第三光学标记组层131。第一光学标记组层111还包括:第一层第三光学标记1113。第三光学标记组层131包括:第三层第三光学标记1313。
第一层第一光学标记1111的尺寸小于第一层的其他光学标记的尺寸。第二层第二光学标记1212的尺寸小于第二层的其他光学标记的尺寸。第三层第三光学标记1313的尺寸小于第一层第三光学标记1113的尺寸。
在本实施例中,第二光学标记组层121只需要包括第二层第一光学标记1211和第二层第二光学标记1212即可,层数与标记序数一致的第二层第二光学标记1212尺寸在第二层中最小,所对应的区域颜色最深,便于识别。第三光学标记组层131只需包括第三层第三光学标记1313,并且,第三层第三光学标记1313的尺寸比第一层第三光学标记1113的尺寸小,在制备第一光学标记组层111的过程中,第一层第三光学标记1113形成于基板101上,再在制备第三光学标记组层131的过程中,在第一层第三光学标记1113上形成第三层第三光学标记1313,第三层第三光学标记1313与第一层第三光学标记1113对应重叠的区域颜色较深,便于识别。
在一些可能的实施方式中,请参考图4,第二光学标记组层121还包括:第二层第三光学标记1213。第三光学标记组层131还包括:第三层第一光学标记1311和第三层第二光学标记1312。
第三层第三光学标记1313的尺寸小于第三层的其他光学标记的尺寸。
本实施例与前一实施例的区别在于,本实施例提供的每一层标记组层均具备三个光学标记,每一层的三个光学标记中,层数与标记序数一致的光学标记尺寸最小,可称之为第一尺寸,其他两个光学标记的尺寸不做限定,均大于第一尺寸即可。最后得到的整个层叠的测试标记中,第一尺寸的那一光学标记所对应的区域颜色最深,最易识别。
可选地,第三层的每一光学标记均可包括三种颜色的光学标记,最终形成具有九个光学标记的第一光学标记组层111,每种颜色的光学标记均具有三个,例如第一层第一颜色第一子标记1111a、第一层第一颜色第二子标记1112a、第一层第一颜色第三子标记、第一层第二颜色第一子标记1111b、第一层第二颜色第二子标记1112b、第一层第二颜色第三子标记、第一层第三颜色第一子标记1111c、第一层第三颜色第二子标记1112c、第一层第三颜色第三子标记共九个光学标记。同样地,第二层也具有与第一层的九个光学标记一一对应的九个光学标记,第三层也具有与前两层光学标记一一对应的九个光学标记。
可选地,请参考图5,每一层的各个光学标记的尺寸均不相同。
在本实施例中,第一层第一光学标记1111为第一尺寸,第二层第一光学标记1211的尺寸为第二尺寸,第三层第一光学标记1311的尺寸为第三尺寸,第一尺寸、第二尺寸、第三尺寸依次递增,最后得到层叠的测试标记中,第一层第一光学标记1111所在的区域颜色最深,即颜色最深的区域为第一尺寸,与第一光学标记的层数(即第一层)对应,能够作为第一层的标记进行识别对位。
同样地,第一层第二光学标记1112的尺寸为第三尺寸,第二层第三光学标记1213的尺寸为第二尺寸。第三层第一光学标记1311的尺寸为第二尺寸,第三层第二光学标记1312的尺寸为第三尺寸。最终得到的层叠的测试标记中,第二层第二光学标记1212所对应的区域、第三层第三光学标记1313所对应的区域,在各自所在的层叠结构中颜色最深,便于识别。
可选地,第一光学标记组层111的材料与第二光学标记组层121的材料为第一颜色发光材料、第二颜色发光材料和第三颜色发光材料中的两种。
在本实施例中,层叠的发光标记也可以是不同的颜色发光材料所组成的,例如第一尺寸的第一层第一光学标记1111为红色,第二尺寸的第二层第一光学标记1211为蓝色,第三尺寸的第三层第一光学标记1311为绿色,最后得到具有三种颜色深浅的标记组件,第一尺寸的红色所对应的区域颜色最深,容易识别。
本申请的光学标记的尺寸或形状可自由组合,不仅局限于上述实施例或本申请的附图所列举的情况。
在一些可能的实施方式中,请参考图9,第一标记组层110包括:垫层112。第二标记组层120包括:同层设置的至少一个光学标记122。
光学标记122在垫层112上的正投影,均落入垫层112范围内。
在本实施例中,通过提前在基板101上制备一层垫层112,再通过传统的蒸镀技术在垫层112上沉积得到至少一个光学标记122,垫层112对较薄的光学标记122起到了垫高的作用,拉近了光学标记122与对位装置200的距离,增加了光学标记122的对比度,提高了光学标记122的识别率。图9中具有8个光学标记122,本申请提供一种实施方式,第一个垫层112对应的光学标记122分别可以是第一层红色光学标记122、第一层蓝色光学标记122和第一层绿色光学标记122,第二个垫层112对应的两个光学标记122分别为第一层空穴传输层104标记和第二层绿色光学标记122,第三个垫层112对应的两个光学标记122分别为第二层红色光学标记122和第二层蓝色光学标记122,最后一个垫层112对应即为第二层空穴传输层105标记。
可选地,第一层空穴传输层104标记位于第一层红色子像素与基板101之间,第二层空穴传输层105标记位于第二层红色子像素与第一层红色子像素之间,而蓝色和绿色子像素则无需具备对应的空穴传输层。
可以理解的是,一般的测试标记包括发光材料形成的标记和电极材料形成的标记,电极材料形成的标记是在制备发光层之前,在基板101上制备阳极层106或阴极层107的过程中得到的,一般地,把电极材料形成的标记作为标准位置,通过比对发光材料形成的标记与电极材料形成的标记之间的偏差,预估精细掩膜板的偏移量,进而对精细掩膜板进行张网补差。在一些可能的实施方式中,请参考图10和图11,第一标记组层110包括:同层设置的至少一个电极标记113。第二标记组层120包括:同层设置的至少一个光学标记122。
电极标记113位于光学标记122的中间区域与基板101之间。光学标记122的边缘区域与基板101连接。
在本实施例中,将发光材料形成的光学标记122制备于电极材料形成的电极标记113之上,电极标记113能够起到对位预估偏差的作用的同时,垫高了光学标记122,缩短了光学标记122与对位装置200之间的距离。并且,光学标记122覆盖于电极标记113之上,能够防止电极材料漏出。
基于同一发明构思,本申请实施例还提供一种用于制备上述实施例提供的显示模组100的掩膜板组件,包括:第一层掩膜板310和第二层掩膜板320。
第一层掩膜板310与第二层掩膜板320具有对应且尺寸一致的像素开口301。
第一层掩膜板310还具有第一层第一光学标记开口311和第一层第二光学标记开口312。第一层第一光学标记开口311的尺寸小于第一层第二光学标记开口312的尺寸。
第二层掩膜板320还具有第二层第一光学标记开口321和第二层第二光学标记开口322。第二层第二光学标记开口322的尺寸小于第二层第一光学标记开口321的尺寸。
请参考图12和图13,本实施例中的第一层掩膜板310用于制备第一层发光层102,相比于现有技术,第一层掩膜板310上具有尺寸不一致的第一层第一光学标记开口311和第一层第二光学标记开口312,并且,在制备第一层发光层102的过程中,不对第一层第二光学标记开口312进行遮挡,使第一层第一光学标记1111与第一层第二光学标记1112,与第一层发光层102同时蒸镀得到。第二层掩膜板320用于制备第二层发光层103,相比于现有技术,第二层掩膜板320上具有尺寸不一致的第二层第一光学标记开口321和第二层第二光学标记开口322,并且,在制备第二层发光层103的过程中,不对第二层第一光学标记开口321进行遮挡,使第二层第一光学标记1211与第二层第二光学标记1212,与第二层发光层103同时蒸镀得到。最终在基板101上形成具有两层发光层、两层光学标记组层的显示模组100。本申请无需重新制备用于制备光学标记组层的掩膜板,只需在现有的掩膜板中,增大层数与光学标记序数不一致(例如第一层第二光学标记1112)的光学标记对应的开口,增加沉积得到的光学标记组层的厚度,便于被对位装置200进行识别。
可选地,请参考图14,掩膜板组件还包括:第三层掩膜板330。
第三层掩膜板330具有与第一层掩膜板310的像素开口301对应且尺寸一致的像素开口301。
第一层掩膜板310还具有第一层第三光学标记开口313。第一层第一光学标记开口311的尺寸小于第一层掩膜板310上的其他光学标记开口的尺寸。
第三层掩膜板330还具有第三层第三光学标记开口331。第三层第三光学标记开口331的尺寸小于第一层第三光学标记开口313的尺寸。
本实施例对应具有三层发光层的显示模组100,分别通过第一层掩膜板310、第二层掩膜板320和第三层掩膜板330对基板101进行蒸镀,得到具有三层发光层和三层光学标记组层的显示模组100。
可选地,第二层掩膜板320还具有第二层第三光学标记开口,对应蒸镀得到第二层第三光学标记,第三层掩膜板330还具有第三层第一光学标记开口和第三层第二光学标记开口,分别对应蒸镀得到第三层第一光学标记1311和第三层第二光学标记1312。
可选地,第一层掩膜板310、第二层掩膜板320或第三层掩膜板330均可以是制备同一颜色子像素的精细金属掩膜板,因此像素开口一致,区别只在于制作的是第一层发光层、第二层发光层或第三层发光层。
可选地,掩膜板组件还包括:遮挡用掩膜板。遮挡用掩膜板能够在蒸镀过程中对精细金属掩膜板上的其他开口进行遮挡,或对精细金属掩膜板无法遮挡的区域进行遮挡,使蒸镀材料通过精细金属掩膜板上开口沉积在基板101上,得到需要图案。
基于同一发明构思,请参考图15,本申请实施例还提供一种显示模组100的制备方法,包括:
S101:基于第一层掩膜板310对基板101进行蒸镀,得到设置于基板101一侧的第一层第一光学标记1111和第一层第二光学标记1112。如前述实施例中的掩膜板组件包括第一层掩膜板310和第二层掩膜板320。
在本实施例中,第一层第一光学标记1111和第一层第二光学标记1112分别在通过第一层第一光学标记开口311和第一层第二光学标记开口312沉积得到的。S102:基于第二层掩膜板320对基板101进行蒸镀,得到第二层第一光学标记1211和第二层第二光学标记1212。第一层第一光学标记1111在第二层第一光学标记1211上的正投影,落入于第二层第一光学标记1211范围内。第二层第二光学标记1212在第一层第二光学标记1112上的正投影,落入于第一层第二光学标记1112范围内。
在本实施例中,第二层第一光学标记1211和第二层第二光学标记1212分别在通过第二层第一光学标记开口321和第二层第二光学标记开口322沉积得到的。
基于同一发明构思,请参考图16的方法流程图,本申请实施例还提供一种显示模组100的制备方法,包括:
S201:基于第一层掩膜板310对基板101进行蒸镀,得到设置于基板101一侧的第一层第一光学标记1111、第一层第二光学标记1112和第一层第三光学标记1113。
S202:基于第二层掩膜板320对基板101进行蒸镀,得到第二层第一光学标记1211、第二层第二光学标记1212和第二层第三光学标记1213。
S203:基于第三层掩膜板310对基板进行蒸镀,得到第三层第一光学标记1311、第三层第二光学标记1312和第三层第三光学标记1313;掩膜板组件还包括第三层掩膜板310;第一层第一光学标记1111的尺寸小于第一层的其他光学标记的尺寸;第二层第二光学标记1212的尺寸小于第二层的其他光学标记的尺寸;第三层第三光学标记1313的尺寸小于第三层其他光学标记的尺寸;第三层第三光学标记1313在第一层第三光学标记1113或第二层第三光学标记1213上的正投影,落入于第一层第三光学标记1113或第二层第三光学标记1213的范围内。
在本实施例中,在得到了第一光学标记组层111和第二光学标记组层121之后,继续对基板101进行蒸镀,得到了具有三层发光层、三层光学标记组层层叠的测试标记的显示模组100,其中,每一层光学标记组层中尺寸最小的一个光学标记所对应的区域颜色最深,最容易识别。
本实施例采用了前述实施例中的掩膜板组件,关于掩膜板组件在前述实施例已有详细的解释,再此不再赘述。
应用本申请实施例,至少能够实现如下有益效果:
1、本申请实施例中的第一标记组层110设置于基板101的一侧,第二标记组层120朝向对位装置200并与对位装置200具有第一识别距离A,层叠的第一标记组层110和第二标记组层120用于供对位装置200识别并对位。当第二标记组层120较薄时,第一标记组层110能够对第二标记组层120起到垫高的作用,缩短第二标记组层120与对位装置200的距离,提高第二标记组层120的对比度,进而提高第二标记组层120的识别准确率。
2、第一光学标记组层111与第二光学标记组层121的尺寸不一致,当两层较薄的光学标记组层层叠时,第一光学标记组层111与第二光学标记组层121具有常规的有效识别厚度,容易识别。换言之,较薄的光学标记组层颜色较浅,难以识别,两层光学标记组层叠加后,颜色较深,便于识别。
3、在制备第一层发光层102时,同时制备得到第一层第一光学标记1111和第一层第二光学标记1112,在制备第二层发光层103时,同时制备得到第二层第一光学标记1211和第二层第二光学标记1212,第一层第一光学标记1111与第二层第一光学标记1211层叠设置,尺寸较小的第一层第一光学标记1111所在的区域颜色具有叠加效果,颜色较深,容易被识别,尺寸较大的第二层第一光学标记1211在未与第一层第一光学标记1111叠加的区域内,颜色较浅,难以识别。
4、第二光学标记组层121只需要包括第二层第一光学标记1211和第二层第二光学标记1212即可,层数与标记序数一致的第二层第二光学标记1212尺寸在第二层中最小,所对应的区域颜色最深,便于识别。第三光学标记组层131只需包括第三层第三光学标记1313,并且,第三层第三光学标记1313的尺寸比第一层第三光学标记1113的尺寸小,在制备第一光学标记组层111的过程中,第一层第三光学标记1113形成于基板101上,再在制备第三光学标记组层131的过程中,在第一层第三光学标记1113上形成第三层第三光学标记1313,第三层第三光学标记1313与第一层第三光学标记1113对应重叠的区域颜色较深,便于识别。
5、将发光材料形成的光学标记制备于电极材料形成的电极标记113之上,电极标记113能够起到对位预估偏差的作用的同时,垫高了光学标记,缩短了光学标记与对位装置200之间的距离。并且,光学标记覆盖于电极标记113之上,能够防止电极材料漏出。
本技术领域技术人员可以理解,本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地,具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地,现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。
在本申请的描述中,词语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系,为基于附图所示的示例性的方向或位置关系,是为了便于描述或简化描述本申请的实施例,而不是指示或暗示所指的装置或部件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本说明书的描述中,具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
应该理解的是,虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示,但是这些步骤的实施顺序并不受限于箭头所指示的顺序。除非本文中有明确的说明,否则在本申请实施例的一些实施场景中,各流程中的步骤可以按照需求以其他的顺序执行。而且,各流程图中的部分或全部步骤基于实际的实施场景,可以包括多个子步骤或者多个阶段。这些子步骤或者阶段中的部分或全部可以在同一时刻被执行,也可以在不同的时刻被执行在执行时刻不同的场景下,这些子步骤或者阶段的执行顺序可以根据需求灵活配置,本申请实施例对此不限制。
以上所述仅是本申请的部分实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请的方案技术构思的前提下,采用基于本申请技术思想的其他类似实施手段,同样属于本申请实施例的保护范畴。

Claims (12)

1.一种显示模组,其特征在于,包括:基板、以及层叠的第一标记组层和第二标记组层;
所述第一标记组层设置于所述基板的一侧,所述第二标记组层用于朝向对位装置并与所述对位装置具有第一识别距离,所述层叠的第一标记组层和第二标记组层用于供所述对位装置识别并对位;
所述第一标记组层包括:第一光学标记组层;所述第二标记组层包括:第二光学标记组层;
所述第一光学标记组层与所述第二光学标记组层中尺寸较小的一个在所述基板上的正投影,落入所述第一光学标记组层与所述第二光学标记组层中尺寸较大的一个在所述基板上的正投影范围内;
所述第一光学标记组层包括:同层设置的第一层第一光学标记和第一层第二光学标记;所述第二光学标记组层包括:同层设置的第二层第一光学标记和第二层第二光学标记;
所述第一层第一光学标记的尺寸小于所述第一层第二光学标记的尺寸;所述第二层第二光学标记的尺寸小于所述第二层第一光学标记的尺寸;
所述第一层第一光学标记在所述第二层第一光学标记上的正投影,落于所述第二层第一光学标记范围内;
所述第二层第二光学标记在所述第一层第二光学标记上的正投影,落入所述第一层第二光学标记范围内。
2.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一光学标记组层的材料与所述第二光学标记组层的材料相同。
3.根据权利要求2所述的显示模组,其特征在于,所述显示模组还包括:第三光学标记组层;所述第一光学标记组层还包括:第一层第三光学标记;所述第三光学标记组层包括:第三层第三光学标记;
所述第一层第一光学标记的尺寸小于第一层的其他光学标记的尺寸;所述第二层第二光学标记的尺寸小于第二层的其他光学标记的尺寸;所述第三层第三光学标记的尺寸小于所述第一层第三光学标记的尺寸。
4.根据权利要求3所述的显示模组,其特征在于,所述第二光学标记组层还包括:第二层第三光学标记;所述第三光学标记组层还包括:第三层第一光学标记和第三层第二光学标记;
所述第三层第三光学标记的尺寸小于第三层的其他光学标记的尺寸。
5.根据权利要求4所述的显示模组,其特征在于,每一层的各个光学标记的尺寸均不相同。
6.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一光学标记组层的材料与所述第二光学标记组层的材料为第一颜色发光材料、第二颜色发光材料和第三颜色发光材料中的两种。
7.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一标记组层包括:垫层;所述第二标记组层包括:同层设置的至少一个光学标记;
所述光学标记在所述垫层上的正投影,均落入所述垫层范围内。
8.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一标记组层包括:同层设置的至少一个电极标记;所述第二标记组层包括:同层设置的至少一个光学标记;
所述电极标记位于所述光学标记的中间区域与所述基板之间;所述光学标记的边缘区域与所述基板连接。
9.一种用于制备权利要求1-4中任一项所述的显示模组的掩膜板组件,其特征在于,包括:第一层掩膜板和第二层掩膜板;
所述第一层掩膜板与所述第二层掩膜板具有对应且尺寸一致的像素开口;
所述第一层掩膜板还具有第一层第一光学标记开口和第一层第二光学标记开口;所述第一层第一光学标记开口的尺寸小于所述第一层第二光学标记开口的尺寸;
所述第二层掩膜板还具有第二层第一光学标记开口和第二层第二光学标记开口;所述第二层第二光学标记开口的尺寸小于所述第二层第一光学标记开口的尺寸。
10.根据权利要求9所述的掩膜板组件,其特征在于,还包括:第三层掩膜板;
所述第三层掩膜板具有与所述第一层掩膜板的像素开口对应且尺寸一致的像素开口;
所述第一层掩膜板还具有第一层第三光学标记开口;所述第一层第一光学标记开口的尺寸小于第一层掩膜板上的其他光学标记开口的尺寸;
所述第三层掩膜板还具有第三层第三光学标记开口;所述第三层第三光学标记开口的尺寸小于所述第一层第三光学标记开口的尺寸。
11.一种如权利要求1-4中任一项所述的显示模组的制备方法,其特征在于,包括:
基于第一层掩膜板对所述基板进行蒸镀,得到设置于基板一侧的第一层第一光学标记和第一层第二光学标记;
如权利要求9-10中任一所述的掩膜板组件包括所述第一层掩膜板和第二层掩膜板;
基于所述第二层掩膜板对所述基板进行蒸镀,得到第二层第一光学标记和第二层第二光学标记;所述第一层第一光学标记在所述第二层第一光学标记上的正投影,落入于所述第二层第一光学标记范围内;所述第二层第二光学标记在所述第一层第二光学标记上的正投影,落入于所述第一层第二光学标记范围内。
12.根据权利要求11所述的制备方法,其特征在于,基于第一层掩膜板对所述基板进行蒸镀,得到设置于基板一侧的第一层第一光学标记和第一层第二光学标记,包括:
基于第一层掩膜板对所述基板进行蒸镀,得到设置于基板一侧的第一层第一光学标记、第一层第二光学标记和第一层第三光学标记;
以及,基于所述第二层掩膜板对所述基板进行蒸镀,得到第二层第一光学标记和第二层第二光学标记,包括:
基于所述第二层掩膜板对所述基板进行蒸镀,得到第二层第一光学标记、第二层第二光学标记和第二层第三光学标记;
以及,在所述基于所述第二层掩膜板对所述基板进行蒸镀,得到第二层第一光学标记和第二层第二光学标记之后,还包括:
基于所述第三层掩膜板对所述基板进行蒸镀,得到第三层第一光学标记、第三层第二光学标记和第三层第三光学标记;所述掩膜板组件还包括:第三层掩膜板;所述第一层第一光学标记的尺寸小于第一层的其他光学标记的尺寸;所述第二层第二光学标记的尺寸小于第二层的其他光学标记的尺寸;所述第三层第三光学标记的尺寸小于第三层其他光学标记的尺寸;所述第三层第三光学标记在所述第一层第三光学标记或第二层第三光学标记上的正投影,落入于所述第一层第三光学标记或第二层第三光学标记的范围内。
CN202210343650.0A 2022-03-31 2022-03-31 显示模组及其制备方法、掩膜板组件 Active CN114709192B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210343650.0A CN114709192B (zh) 2022-03-31 2022-03-31 显示模组及其制备方法、掩膜板组件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210343650.0A CN114709192B (zh) 2022-03-31 2022-03-31 显示模组及其制备方法、掩膜板组件

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114709192A CN114709192A (zh) 2022-07-05
CN114709192B true CN114709192B (zh) 2025-07-18

Family

ID=82172629

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210343650.0A Active CN114709192B (zh) 2022-03-31 2022-03-31 显示模组及其制备方法、掩膜板组件

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114709192B (zh)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108845439A (zh) * 2018-06-08 2018-11-20 信利半导体有限公司 液晶显示面板的偏光片贴附与切割一体化方法及设备
CN214705933U (zh) * 2021-06-07 2021-11-12 维沃移动通信有限公司 显示模组和电子设备

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107238974B (zh) * 2017-07-24 2021-03-02 京东方科技集团股份有限公司 一种背光源及液晶显示模组
CN108563363B (zh) * 2018-04-27 2020-02-18 京东方科技集团股份有限公司 一种触控显示模组、显示装置及透明光学胶层结构
CN109830508B (zh) * 2019-01-09 2021-06-01 昆山国显光电有限公司 像素阵列基板和验证掩膜板的方法
US11232750B2 (en) * 2019-01-29 2022-01-25 Boe Technology Group Co., Ltd. Display substrate, display panel, and manufacturing method and driving method of display substrate
CN112669718A (zh) * 2020-12-28 2021-04-16 深圳市艾比森光电股份有限公司 一种光学膜及使用该光学膜的led显示屏

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108845439A (zh) * 2018-06-08 2018-11-20 信利半导体有限公司 液晶显示面板的偏光片贴附与切割一体化方法及设备
CN214705933U (zh) * 2021-06-07 2021-11-12 维沃移动通信有限公司 显示模组和电子设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN114709192A (zh) 2022-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102776386B1 (ko) 유기 발광 표시 장치의 픽셀 패터닝 및 픽셀 위치 검사 방법과 그 패터닝에 사용되는 마스크
US9343708B2 (en) Mask strips and method for manufacturing organic light emitting diode display using the same
KR101070539B1 (ko) 증착 마스크 및 이를 사용한 유기 전계 발광 장치의 제조 방법
EP3636797B1 (en) Evaporation mask plate, evaporation mask plate set, and alignment testing method
US12351897B2 (en) Mask and manufacturing method therefor
JP4534011B2 (ja) マスクアライメント法を用いたディスプレイの製造方法
KR20040082959A (ko) 성막용 마스크, 유기 el 패널, 및 유기 el 패널의제조 방법
US20120295379A1 (en) Deposition mask, deposition apparatus, and deposition method
US20250204232A1 (en) Display panel, mask, mask assembly, and method of manufacturing mask assembly
US11408063B2 (en) Mask frame assembly and method of manufacturing the same
US20150287922A1 (en) Evaporation method and evaporation device
EP3489384B1 (en) Fine metal mask, display substrate, and alignment method therefor
US20200385856A1 (en) Vapor deposition mask
CN112420785B (zh) Oled显示面板
JP2013112854A (ja) 成膜装置及び成膜方法
US7253533B2 (en) Divided shadow mask for fabricating organic light emitting diode displays
CN114709192B (zh) 显示模组及其制备方法、掩膜板组件
EP3690078A1 (en) Vapor deposition mask
CN111244330A (zh) 蒸镀方法、蒸镀装置以及显示装置
KR102000045B1 (ko) 마스크 프레임 조립체의 제조 방법
CN114381688B (zh) 掩膜版组件及掩膜版、蒸镀边界确认及蒸镀偏位校正方法
US20230371337A1 (en) Display device
JP2006294280A (ja) 蒸着膜の形成方法および蒸着装置、並びに有機発光ディスプレイの製造方法
CN113036064A (zh) 掩膜版、硅基oled显示面板及其制备方法
CN113594207A (zh) 像素排列结构、掩膜板及显示面板

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant