CN114641435A - 辊子运输系统载体、辊子运输系统和真空处理装置 - Google Patents

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Abstract

描述了一种用于在辊子运输轨道(200a、200b)上沿运输方向(X)运输的载体(100)，所述载体(100)包括：第一轨道(120)，所述第一轨道具有第一辊子接触面，所述第一轨道配置用于在所述辊子运输轨道(200a、200b)上的至少一个第一辊子(210a、210b)上支撑所述载体(100)；所述第一轨道(120)包括第一主体部(124)和第一前端部(150)，所述第一主体部具有第一主辊子接触面(126)，且所述第一前端部具有第一前端面(160)，其中所述第一辊子接触面由所述第一主辊子接触面(126)和所述第一前端面(160)形成，其中所述第一前端面(160)是倾斜面(160)和/或所述第一轨道(120)的所述第一前端部(126)是柔性的。

Description

辊子运输系统载体、辊子运输系统和真空处理装置
技术领域
本公开内容的实施方式涉及一种用于在辊子运输轨道上运输的载体，尤其是用于在真空处理装置中支撑基板或掩模的载体。本公开内容的进一步实施方式涉及一种真空处理装置，所述真空处理装置具有辊子运输轨道，用于运输载体进出真空处理腔室。更特别地，本公开内容的实施方式涉及用于运输载体的装置和方法，这些装置和方法可用于垂直基板处理的处理系统，诸如用于显示器生产的大面积基板上的材料沉积。
背景技术
用于在基板上进行层沉积的技术包括例如溅射沉积、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和热蒸发。已涂覆基板可用于若干应用和若干技术领域中。例如，已涂覆基板可用于显示器件的领域中。显示器件可用于制造电视机屏幕、计算机显示器、移动电话、其他手持器件等来显示信息。典型地，显示器是通过用不同材料的层堆叠涂覆基板来生产。
为了沉积层堆叠，可使用直列处理模块布置。直列处理系统包括多个后续处理模块(诸如沉积模块)以及可选地进一步处理模块(诸如清洁模块和/或蚀刻模块)，其中处理方面随后在处理模块中进行，使得多个基板可在直列处理系统中连续地或准连续地进行处理。
基板或掩模可由载体(即，用于载送基板的载送装置)载送。通常使用运输系统通过真空系统运输载体。运输系统可配置用于沿一个或多个运输路径运输其上设置有基板的载体。例如，至少两个运输路径可彼此靠近地设置在真空系统中，例如用于在前进方向上运输载体的第一运输路径和用于在与前进方向相反的返回方向上运输载体的第二运输路径。替代地，可提供单一运输路径，用于在前进方向和返回方向中的任一个方向上运输载体。
通过真空系统获取准确且平稳地运输基板载体和/或掩模载体是有挑战性的。例如，在基于辊子的运输系统中，即使是稍微错位的辊子也可能导致被运输的载体冲击错位的辊子，并导致辊子的不均匀负载。增加特定辊子上的负载可能会导致颗粒产生增加，从而使制造工艺劣化。因此，需要的是在减少或最小化颗粒产生的情况下在处理系统中运输载体。另外，挑战是例如以低成本提供用于高温真空环境的稳健载体运输系统。
因此，一直需要用于运输载体的改善的装置和方法以及提供克服现有技术的至少一些问题的改善的真空处理系统。
发明内容
鉴于上文，提供了根据独立权利要求的一种辊子运输系统和真空处理系统。本公开内容其他的方面、优点和特征从说明书和附图中显而易见。
根据本公开内容的一方面，提供了一种用于在辊子运输轨道上沿运输方向运输的载体。所述载体包括具有第一辊子接触面的第一轨道，所述第一轨道配置用于在所述辊子运输轨道上的至少一个第一辊子上支撑所述载体，以及所述第一轨道包括第一主体部和第一前端部，所述第一主体部具有第一主辊子接触面，所述第一前端部具有第一前端面。所述第一辊子接触面由所述第一主辊子接触面和所述第一前端面形成，其中所述第一前端面为倾斜面中的至少一个且所述第一前端面具有柔性。
根据本公开内容的另一方面，提供了一种辊子运输系统。所述辊子运输系统包括辊子运输轨道，所述辊子运输轨道包括多个辊子以及根据本文所述实施方式的载体。
根据本公开内容的又一方面，提供了一种用于将材料沉积到基板上的真空处理装置。所述真空处理装置包括至少一个真空处理腔室和如本文所述的实施方式的辊子运输系统，所述辊子运输系统用于运输如本文所述的实施方式的载体进出所述至少一个真空处理腔室。
本公开内容的各方面提供了一种用于在辊子运输轨道上运输的载体，当载体在辊子运输轨道上运输时，降低了对错位的辊子的冲击和负载。
附图说明
为了可详细地理解本公开内容的上述特征，可参考实施方式来得到以上简要地概述的本公开内容的更特别的描述。附图涉及本公开内容的实施方式并且描述如下：
图1示出了用于运输载体的辊子运输系统的示意性侧视图；
图2示出了根据进一步实施方式的载体的部分示意图；
图3示出了载体的进一步实施方式的示意性侧视图；
图4示出了第一轨道的进一步实施方式的示意图；
图5示出了载体的进一步实施方式的示意图；并且
图6示出了辊子运输系统和载体的截面正视图。
具体实施方式
现将详细地参考各个实施方式，这些实施方式的一个或多个实例示出于各图中。在以下对附图的描述中，相同的附图标记指代相同的元件。仅仅将相对于各个实施方式的差异作为一个实施方式的一部分进行描述。说明书旨在包括此类修改和变化。
在以下对附图的描述中，相同的附图标记指代相同或相似的元件。通常情况下，仅仅对相对于各个实施方式的差异进行描述。除非另有说明，一个实施方式中的部分或方面的描述同样可以适用于另一实施方式中对应的部分或方面。
根据本公开内容的实施方式，提供了一种载体，用于在基板处理组件的不同模块之间沿着辊子运输轨道运输。本公开内容的实施方式使得载体可以在两个模块之间更平滑地过渡。发送模块(即支撑载体的轨道模块)与接收模块(即在发送模块之后支撑载体的轨道模块)之间的错位会使载体在模块之间传送时产生竖向力或横向力。另外，例如由于热膨胀而导致的诸如弯曲或凸出的载体的错位可能会产生这样的横向力和/或当载体沿运输轨道传送时可能会产生这样的竖向力。通过在第一轨道的前端提供根据本文所述实施方式的第一前端部，可以减少由各种力引起的冲击和振动。前端部具有倾斜面和/或前端部是柔性的。本文将描述前端部的其他实施方式。
首先参见图1，图1示出了用于在辊子运输轨道200a、200b上沿运输方向X运输的载体100。载体100包括第一轨道120，第一轨道具有第一辊子接触面，第一轨道配置用于在辊子运输轨道200a、200b上的至少一个第一辊子210a、210b上支撑载体100。第一轨道120包括第一主体部124和第一前端部150，所述第一主体部具有第一主辊子接触面126，且所述第一前端部具有第一前端面160。第一辊子接触面由第一主辊子接触面126和第一前端面160形成。第一前端面160是倾斜面160和/或第一轨道120的第一前端部126是柔性的。
图1示出了用于运输载体100的辊子运输系统的示意性侧视图。辊子运输系统包括至少一个辊子轨道200a、210b，其中辊子运输轨道200a、200b包括多个辊子210a、210b。
在本公开内容中，提供了载体100，用于支撑平面物体，尤其是平面基板S或平面掩模。然而，本公开内容并不限于此，载体100可被配置用于支撑可在真空处理装置中使用的其他产品或工具。载体100包括载体主体110，载体主体构成载体100的结构。载体主体110可以包括基板面，基板S可以支撑在所述基板面上。基板面可以包括静电卡盘，所述静电卡盘被配置用于通过静电将基板S保持在基板面上。
提供了辊子运输轨道200a、200b以支撑载体100的重量W或至少部分重量W。辊子运输轨道还提供了用于沿着辊子运输架的长度移动载体100的有效装置。辊子210a、210b可以包括至少一个轴承，使得辊子210a、210b可以在低摩擦下旋转。
载体100包括第一辊子接触面。辊子接触面沿着载体主体110的下表面延伸并且接触辊子运输轨道200a、200b的辊子210a、210b。第一辊子接触面可以沿着载体主体100的长度方向或基本上整个长度延伸，并且接触辊子运输轨道200a、200b的至少两个辊子210a、210b，以使得载体100的重量或至少部分重量被支撑。
如图1所示，第一辊子运输轨道200a设置在左侧的发送模块上，第二辊子运输轨道200b设置在右侧的接收模块上。例如，在发送模块中可以提供第一真空处理腔室和第一辊子轨道200a，而在接收模块中提供第二真空处理腔室和第二辊子轨道200b。可以在发送模块和接收模块之间布置阀(未示出)。相应的发送模块和接收模块可以根据正在执行的处理布置在真空处理装置中，使得可以通过真空处理装置运输载体100。
在本公开内容的上下文中，多个方向定义如下。对应于运输方向X的第一方向布置在基本水平的方向。运输方向X在图1中示为与图中水平方向对齐。对应于垂直方向Y的第二方向布置在基本垂直于运输方向X的方向上，并且基本上与重力方向对齐。垂直方向Y在图1中示为与图中垂直方向对齐。对应于横向Z的第三方向布置在基本垂直于运输方向X且基本垂直于垂直方向Y的方向上。横向Z在图1中会示为图的法线。另外，在本公开内容中，对运输轴、垂直轴或横向轴的任何引用应理解为分别在运输方向X、垂直方向Y或横向Z上延伸的轴。
辊子运输轨道200a、200b配置用于在运输方向X上引导或运输载体100。在本公开内容的上下文中，运输方向X被定义为运输载体100的方向。在图中，运输方向X示为从左向右定向，换言之，从左向右引导或运输载体100。可以认为运输方向X是前进的运输方向，即载体100的单向运输。典型地，可以提供一对辊子运输轨道200a、200b，每个辊子运输轨道200a、200b配置用于在相反方向上单向运输载体100。
然而，本公开内容不限于此，可以在前进运输方向或反向运输方向上引导或运输载体100，即载体100的双向运输。在这种情况下，可以提供单个辊子运输轨道200a、200b，其中单个辊子运输轨道200a、200b配置用于载体100的双向运输。
根据可以与本文描述的其他实施方式组合的一些实施方式，有关具有第一前端面160的第一前端部150描述和示出的特征、细节和实施方式可以类似地设置在第一后端部。在以类似于第一前端部的方式构建的第一后端部的情况下，可以为反向运输方向提供平稳运输。第一辊子接触面由第一主辊子接触面126、第一前端面160以及第一后端面形成。第一后端面可以是倾斜面160和/或第一轨道120的第一后端部可以是柔性的。
如图1所示，发送模块的第一辊子运输轨道200a可以相对于接收模块的第二辊子运输轨道200b错位。特别地，第一辊子运输轨道200a的辊子210a的轴线240a可以与第二辊子运输轨道210b的辊子210b的轴线240b在y方向上偏移。当沿X方向将载体100从第一辊子支撑轨道200a转移到第二辊子支撑轨道200b时，偏移将导致产生沿Y方向推动载体100的力，其中所述力将引起振动和/或对载体100的冲击，特别是对基板S的冲击。
根据本文描述的实施方式，第一前端部126可以减少或避免对载体100的冲击。第一前端部126具有倾斜面160和/或第一前端部126是柔性的。倾斜面160可以通过顺滑或减缓由于倾斜的导致的载体100沿Y方向的运动，以减弱错位的影响。倾斜面160也可以理解为包括例如倒角、坡面或斜面的表面。倾斜面160可以理解为相对于第一主辊子接触面126倾斜。
第一前端部126是柔性的，例如可以理解为第一前端部126是柔韧的、柔软的、可压缩的、可弯曲的等等。第一前端部126的柔性使得第一前端部126能够让位，以使载体100平稳地在第一辊子运输轨道200a和第二辊子运输轨道200b之间传送。第一前端部126可以被弯折以减少第二辊子运输轨道200的错位辊子210b的冲力。
第一前端部126可以包括柔性材料或由柔性材料制成。柔性材料可以是诸如橡胶类材料、金属材料、金属复合材料、生橡胶、泡沫材料、塑料或合成材料。
根据可以与本文描述的一些其他实施方式结合的实施方式，第一前端部126具有倾斜面160，且根据本文描述的实施方式，第一前端部是柔性的。柔性的第一前端部可以进一步增强倾斜面对减少冲击的效果。此外，可通过倾斜面进一步增强柔性第一前端部的效果。
根据可以与本文描述的其他实施方式结合的实施方式，倾斜面相对于第一主辊子接触面至少部分地弯曲。弯曲可以理解为倾斜面对应于具有半径R的扇形的圆周。术语至少部弯曲可以理解为第一主辊子接触面仅在某些部分弯曲。
图2示出了根据进一步实施方式的载体100的部分示意图，其中第一前端面160是弯曲的倾斜面160。第一轨道120包括第一主体部124和第一前端部150。第一轨道120(部分示出)基本上沿X轴定向。第一前端部150相对于第一主体部124向上弯曲或弯折。
倾斜面160可以对应于具有半径R的扇形的圆周，其中R水平地延伸至倾斜面160的切线。第一主辊子接触面126可以连续地融合到曲面160中。主辊子面126与曲面160的融合的合并区域由数字164表示。虚线166表示第一主体部124和第一前端部150之间的边界。
根据可以与本文描述的其他实施方式结合的实施方式，曲面160的半径R等于或大于第一前端部150沿X方向的长度，特别地，半径R至少为比第一前端部150沿X方向的长度大三倍，或更具体地大至少五倍。
根据可以与本文描述的一些其他实施方式结合的实施方式，倾斜面160可以是固有弯曲或者可以是如本文所描述的自然弯曲。根据可以与本文描述的一些其他实施方式结合的实施方式，第一前端部150可通过辊子210b撞击倾斜面160的力F而弯折，同时形成根据本文描述实施方式的曲面。
根据可以与本文描述的其他实施方式结合的实施方式，倾斜面可相对于第一主辊子接触面至少部地倾斜一个角度。所述角度可以理解为倾斜角，表示斜面与X轴的倾斜度。图3示出了包括倾斜面160的第一前端部150的示例性实施方式，其中倾斜面160相对于X轴倾斜。第一前端部150包括倾斜面160，倾斜面160可以具有倾斜边缘或有斜面的边缘的形状。虚线340平行于X轴定向并且也可以解释为第一主辊子接触面126的投影。角度370也可以解释为第一主辊子接触面126的投影与倾斜面160之间的倾斜角370。
根据可以与本文描述的其他实施方式结合的实施方式，第一前端部150可具有沿X方向的至少20mm、特别地至少50mm、或更特别地50mm和150mm之间的尺寸。
在图3所示的示例性实施方式中，第一轨道120布置在载体框架110上并从下方支撑至少一个第一辊子210b。在图3所示的示例性实施方式中，第一轨道120也可以理解为底部轨道支撑件。根据可以与本文描述的其他实施方式结合的实施方式，第一轨道120可从上方支撑第一辊子210a，类似于图1或图2中所示。
根据可以与本文描述的其他实施方式结合的实施方式，倾斜面160可以具有倾斜角370，倾斜角370在0.05°和5°之间、更具体为0.1°和2°之间、甚至更具体为0.2°和1°之间。当运输轨道200b的第一辊子210a与倾斜面160接触时，如本文描述的倾斜面160相对于X轴的倾斜角370可以在减少冲击方面具有改进效果。
根据可以与本文描述的其他实施方式结合的实施方式，第一前端部具有的刚度低于第一主体部的刚度。例如，较低的刚度可以为基于对第一前端部和第一主端部使用不同的材料。例如，第一主体部可以包括材料，或者可以用具有比包括在第一前端部中的材料更高的刚度的材料制造第一主体部。术语刚度也可以理解为弯折刚度或弯曲刚度。第一主体部还可以包括涂覆层或处理过的面，将第一主体部的刚度提高到高于第一前端部的刚度。第一主体部的较高刚度可以稳定在第一主体部上的载体运输，而第一前端部的较低刚度可以降低由错位的辊子引起的冲击。
根据可以与本文描述的其他实施方式结合的实施方式，第一前端部的厚度小于第一主体部的厚度。较小的厚度可以增强第一前部的柔性。具有较小的厚度也可以理解为第一前部的横截面小于第一主体部的横截面。较小的横截面可有助于将第一前端部布置在框架中。特别地，布置具有倾斜面的第一前端部可以使载体主体内部得到改善。
根据可以与本文描述的其他实施方式结合的实施方式，载体框架可包括用于接收弯曲的第一前端部的槽。参见图3，载体主体110可以包括沿着第一前端部150的槽380。槽也可以理解为载体框架与第一前端部之间的空间。在第一前端部经受由于运输轨道200b的第一辊子210b的压力而弯曲的情况下，槽配置为接收第一前端部。槽380可以沿X方向延伸到第一前端部150的主体部分。主体部分可以理解为槽延伸到沿第一前端部150的X轴的尺寸的50％，具体地为至少75％，或更具体地超过90％。根据可以与本文描述的其他实施方式结合的实施方式，槽使得第一前端部能够弯折或屈服于由第一辊子引起的压力。弯折的幅度受到载体框架的限制。槽还可以防止第一前端部150过度延伸。
图4示出了第一轨道120的进一步实施方式的示意图。根据如本文描述的实施方式，第一前端部150是对应于具有半径R的扇形的圆周的曲面。第一前端部包括倾斜面160，特别地，在第一前端部150的外端处的倒角160。腔室在运输方向X上可以具有至少30mm的尺寸，特别至少是30mm至50mm的尺寸。根据可以与本文描述的其他实施方式结合的实施方式，第一主体部124的横截面在垂直方向Y上具有至少5mm、特别至少是7至15mm、更特别是约10mm的尺寸。
根据可以与本文描述的其他实施方式结合的实施方式，载体进一步包括面向第一轨道的第二轨道，其中第二轨道包括第二辊子接触面，第二辊子接触面配置用于在对侧的辊子运输轨道200a、200b上的至少一个第一辊子210a、210b上支持载体。通过提供面对第一轨道的第二轨道，可以改进辊子的引导。第二轨道可包括本文针对第一轨道描述的类似特征和实施方式。例如，如本文所述，可以认为第一轨道是从上方支撑至少一个第一辊子的上部轨道。例如，可以认为第二轨道是从下方，特别地从底部支撑至少一个第一辊子的下部轨道。
根据可以与本文描述的一些其他实施方式结合的实施方式，第二轨道320包括第二主体部324和第二前端部350，第二主体部具有第二主辊子接触面，第二前端部具有第二前端面360，第二辊子接触面由第二主辊子接触面和第二前端面360形成，其中第二前端面360为其他倾斜面和/或第二轨道320的第二前端面具有柔性。图5中描绘了载体100的示例性实施方式的示意图。图5所示的载体的示例性实施方式对应于图1所示的载体100的实施方式，其中图5所示的载体的实施方式对应图1中所示的载体的实施方式，其中图5描述的载体的实施方式包括如本文所述的第二轨道320。
载送在载体100上的基板S可以是用于制造显示器的大面积基板，具有诸如几平方米的尺寸。替代地，基板S可以是半导体晶片，也可以包括多个晶片。
特别地，基板S可以是具有至少1m2尺寸的大面积基板。尺寸可以是从大约1.375m2(1.1m*1.25m-GEN 5)到大约15m2，更具体地从大约5m2到大约9m2或者甚至高达15m2。例如，基板可以是GEN 7.5，对应于约4.39m2(1.95m*2.25m)的面积；可以是GEN 8.5，对应于约5.7m2(2.2m*2.5m)的面积；或为GEN 10，对应约9m2(2.88m*3.13m)的面积。甚至可以实现更大的世代，诸如GEN 11和GEN 12。
载体100在垂直方向Y上的尺寸可以为1m或更大，特别是2m或更大，或者甚至3m或更大。载体100可以具有在对应于运输方向X的纵向方向上的尺寸为1m或更大，特别是2m或更大，或者甚至3m或更大。载体100可以具有5m2或更大，特别是9m2或更大，或者甚至15m2或更大的尺寸。
本文描述的一些实施方式涉及以“垂直或接近垂直的方向”运输载体100的概念。在本公开内容的上下文中，载体100的垂直定向是指载体100排列在以在与重力方向基本平行的方向上延伸，即基本平行于垂直方向Y。接近垂直的定向可以为定义为偏离精确垂直度(后者由重力定义)最多15度的角度的定向。在垂直或接近垂直的定向中，载体100可以以垂直站立方向或接近垂直的方向支撑基板。
然而，本公开的内容不仅限于以垂直或接近垂直的方向定向的载体100。替代地，载体100可以以水平或接近水平方向定向，即，其中载体100被对齐以在与横向Z基本平行的方向上延伸。在水平或接近水平方向上，载体100可以在水平铺设或接近水平铺设的方向上支撑基板。
在本公开内容的上下文中，载体100配置用于支撑基板，但是本公开内容不限于此。替代地，载体100可以配置用于支撑掩模。根据可以与本文描述的其他实施方式组合的一些实施方式，载体100可以配置用于在真空处理装置中支撑基板或掩模。
图5示出了第一轨道120包括第一主体部124和第一前端部150，第一主体部具有第一主辊子接触面126，第一前端部具有第一前端面160。第二轨道320包括第二主体部324和第二前端部350，第二主体部具有第二主辊子接触面。根据可以与本文描述的其他实施方式结合的一些实施方式，第一主辊子接触面可以分割在第一部分辊子接触面和第二部分辊子接触面，第一部分辊子接触面用于在辊子运输轨道的至少一个第一辊子上支撑载体，第二部分辊子接触面配置用于在辊子运输轨道的至少一个第二辊子上支撑载体，其中，第一部分辊子接触面和第二部分辊子接触面由其之间沿运输方向X的空间隔开。第一部分辊子接触面和第二部分辊子接触面中的一个或两个可以具有如本公开内容的实施方式中所述的前端部。另外，第一部分辊子接触面和第二部分辊子接触面中的一个或两个可以具有如本公开内容的实施方式中所述的后端部。
通过在第一部分辊子接触面和第二部分辊子接触面之间提供空间，载体始终由辊子运输轨道的至少两个辊子支撑。设置在部分辊子接触面之间的空间具有限制载体支撑重量W的部分重量的效果，所述部分重量由与第一部分辊子接触面和第二部分辊子接触面中的每一个接触的每个相应辊子载送。因此，载体的支撑重量W更均匀地分布在辊子之间。
现在参见图6，图6示出了根据本文描述的实施方式的用于真空处理装置的辊子运输系统和载体100的截面正视图。辊子运输系统设置有根据本文描述的实施方式的辊子运输轨道200，以及用于由辊子运输系统沿运输方向X运输的载体100。根据可以与本文描述的其他实施方式组合的一些实施方式，辊子运输轨道200可以布置在载体100的底部，并且载体100可以以垂直或接近垂直的方向定向。
如上述实施方式中所述，载体100设置有第一辊子接触面和第二辊子接触面，所述第一辊子接触面和第二辊子接触面配置为接触辊子运输轨道200的多个辊子210。根据可与本文描述的其他实施方式组合的一些实施方式，第一辊子接触面和第二辊子接触面可以是用于接触圆柱形辊子的平坦接触面。圆柱形辊子具有低摩擦度、低磨损和低成本的特性。然而，用于在横向Z上引导载体100的附加装置可以实现。
替代地，第一辊子接触面和第二辊子接触面可以是用于接触凹形辊子的凸形接触面。例如，第一辊子接触面和第二辊子接触面可以是具有圆形横截面的杆，其中弧形接触面配置用于接触形状相似的凹形辊子。这种辊子的布置除了在垂直方向Y上提供支撑之外，还允许在横向Z上引导载体100，然而，与圆柱形辊子的平坦接触面相比，这种辊子可能具有更高的摩擦度和更高的磨损的特性。替代地，第一辊子接触面和第二辊子接触面可以是用于接触V形槽辊子的V形接触面。
根据可以与本文描述的其他实施方式组合的一些实施方式，辊子运输系统可进一步包括布置在载体100的顶部的上导轨400，上导轨400配置用于将载体100保持在垂直或接近垂直的方向。根据其他实施方式，图6中示例性地示出的上导轨400包括至少一个磁性引导元件410，载体100可进一步包括至少一个磁性引导元件530。磁性引导元件410的极性与磁性引导元件530的极性相反布置，使得磁吸力在横向Z上非接触地引导载体100。载体100的非接触磁性引导在真空处理装置中避免了颗粒的产生，因此是有利的。
替代地，上导轨400可以包括多个辊子，多个辊子配置用于在横向Z上引导载体100。多个辊子可以被布置成围绕平行于垂直方向Y的轴线旋转并且与至少一个载体100的侧面接触。多个辊子可以设置在载体100的一侧或载体100的两侧。
辊子运输系统可进一步包括布置在载体100底部的下导轨600。类似于上导轨400，下导轨600可以配置用于在横向Z上引导载体100，尤其是在多个辊子210是圆柱形辊子的情况下。下导轨600可以包括至少一个磁性引导元件610，载体100可进一步包括至少一个磁性引导元件140。磁性引导元件610的极性与磁性引导元件140的极性相反布置，使得磁吸力在横向Z上非接触地引导载体100。
由于施加到载体100的磁吸力，上导轨400和/或下导轨600可以进一步配置用于支撑载体100的至少一部分重量。虽然上导轨400和下导轨600的主要功能是在横向Z上提供引导，但磁力可以用来抵消载体100的部分重量W，使得由辊子运输轨道200载送的载体100的支撑重量W甚至可以进一步减少，进而进一步降低辊子的负载和磨损。
辊子运输系统可进一步包括驱动装置500。如图6示例性所示，驱动装置500可以包括具有至少一个电线圈510的线性马达，并且载体100可以包括至少一个磁驱动元件550。至少一个电线圈510配置为在磁驱动元件550中感应出磁力，使得载体100在运输方向X上沿着辊子运输系统被驱动。图6示例性示出的实施方式具有驱动装置500，所述驱动装置500布置在载体100的底端。然而，驱动装置500可以替代地布置在载体100的顶端。与上导轨400和下导轨600的磁性非接触式引导装置类似，非接触式磁性驱动装置500在真空处理装置中避免了颗粒的产生，因此是有利的。
替代地，辊子运输系统可以包括多个从动辊子，所述从动辊子配置为通过接触载体100的表面而沿辊子运输系统旋转并驱动载体100。例如，多个辊子210中的一部分可以是从动辊子。
根据一些实施方式，提供了一种用于在真空处理腔室内运输载体100的载体运输系统。载体运输系统包括在运输方向X上延伸的轨道组件。轨道组件包括设置在第一纵坐标处并在运输方向X上延伸的第一无源磁性单元、设置在第二纵坐标处并沿运输方向延伸的第二无源磁性单元，其中第一无源磁性单元和第二无源磁性单元配置为抵消载体的重量；以及设置在第三纵坐标的辊子运输轨道200，辊子运输轨道200包括多个辊子，配置为支撑载体100的部分重量，其中第一纵坐标与第二纵坐标之间的第一垂直距离大于第二纵坐标与第三纵坐标之间的第二距离。根据一些实施方式，本公开内容的其他特征、细节、实施方式和实施方案可以与辊子运输系统的上述实施方式结合。
此外或替代地，根据一些实施方式，提供了一种载体100，用于在对基板S进行真空处理的装置中处理的基板S。载体100包括设置在第一纵载体坐标处的第一无源磁性单元、设置在第二纵载体坐标处的第二无源磁性单元以及设置在第三纵载体坐标的第三无源磁性单元，其中第一纵载体坐标与第二纵载体坐标之间的第一垂直载体距离大于第二纵载体坐标与第三纵载体坐标之间的第二载体距离。根据一些实施方式，本公开内容的其他特征、细节、实施方式和实施方案可以与辊子的上述实施方式结合。
在处理基板S期间，可以对载体100进行加热，因此存在热膨胀。特别是对于垂直定向或基本上垂直定向的基板，其中基板可具有1m或以上或甚至多达数米的垂直延伸，即大面积基板，因此热膨胀可能是显着的。因此，若第二无源磁性单元，即在载体100顶部的第一无源磁性单元下方的无源磁性单元抵消载体的大部分重量，则是有益的。第二无源磁性单元位置处的热膨胀量小于第一无源磁性单元附近的热膨胀量。因此，无源磁性单元的支撑力受第二无源磁性单元位置处的热膨胀影响较小。
根据本公开内容的一个方面，提供了一种用于将材料沉积到基板上的真空处理装置。真空处理装置包括至少一个真空处理腔室和如本文所述实施方式的辊子运输系统，所述辊子运输系统用于运输如本文实施方式所述的载体。辊子运输系统配置用于运输载体进出至少一个真空处理腔室。
真空处理装置可进一步包括处理装置。特别地，通常处理装置布置在至少一个真空处理腔室中，处理装置可以选自包括沉积源、蒸发源和溅射源中的一或多种的组。
术语“真空”可被理解为具有小于例如10mbar的真空压力的技术真空。典型地，如本文描述的至少一个真空处理腔室中的压力可在10-5mbar与约10-8mbar之间，更典型地在10-5mbar与10-7mbar之间，并且甚至更典型地在约10-6mbar与约10-7mbar之间。至少一个真空处理腔室中的压力可认为是至少一个真空处理腔室内的蒸发材料的分压或总压(当仅存在蒸发材料作为要被沉积在至少一个真空处理腔室中的组分时，两者可近似相同)。至少一个真空处理腔室中的总压可在约10-4mbar至约10-7mbar的范围内，尤其是在至少一个真空处理腔室中存在除蒸发材料之外的第二组分(诸如处理气体等)的情况下。因此，至少一个真空处理腔室可以是“真空沉积腔室”，即，用于真空沉积的真空处理腔室。
真空处理腔室可以包括根据本文描述的实施方式的至少一个辊子运输系统。至少一个辊子运输系统可配置用于在两个方向上操作，即载体100在前进运输方向和返回运输方向上的双向运输。替代地，可以提供第二辊子运输系统，其中第一辊子运输系统配置用于在一个方向上运行，另一个辊子运输系统配置用于在另一方向上运行。
虽然前述内容针对的是本公开内容的实施方式，但是在不脱离本公开内容的基本范围的情况下，可设想本公开内容的其他和进一步实施方式，并且本公开内容的范围由所附权利要求书的范围确定。
特别地，本书面描述使用实例来公开本公开内容，包括最佳模式，并且还使本领域技术人员能够实践所描述的主题，包括制造和使用任何设备或系统以及执行任何并入的方法。尽管上文已经公开了各种具体实施方式，但上述实施方式的相互非排他性的特征可以相互组合。可授予专利的范围由权利要求限定，若权利要求书中的结构要素与权利要求书的字面语言没有差别，或者若权利要求书中包括与权利要求书的字面语言没有实质性差别的等效结构要素，那么其他实例也在权利要求书的范围之内。

Claims (15)

1.一种用于在辊子运输轨道(200a、200b)上沿运输方向(X)运输的载体(100)，所述载体(100)包括：
第一轨道(120)，所述第一轨道具有第一辊子接触面，所述第一轨道配置用于在所述辊子运输轨道(200a、200b)上的至少一个第一辊子(210a、210b)上支撑所述载体(100)；和
所述第一轨道(120)包括第一主体部(124)和第一前端部(150)，所述第一主体部具有第一主辊子接触面(126)，且所述第一前端部具有第一前端面(160)，所述第一辊子接触面由所述第一主辊子接触面(126)和所述第一前端面(160)形成，
其中所述第一前端面(160)为倾斜面(160)中的至少一个且所述第一前端面具有柔性。
2.如权利要求1所述的载体(100)，其中所述倾斜面(160)相对于所述第一主辊子接触面(124)至少部分地弯曲。
3.如权利要求1或2所述的载体(100)，其中所述倾斜面(160)相对于所述第一主辊子接触面(124)至少部分地倾斜一个角度。
4.如权利要求1至3中任一项所述的载体(100)，其中所述第一前端部的刚度低于所述第一主体部的刚度。
5.如权利要求1至4中任一项所述的载体(100)，其中所述第一前端部的厚度小于所述第一主体部的厚度。
6.如权利要求1至5中任一项所述的载体，其中所述载体的载体框架(110)可以包括槽(380)，所述槽用于接收弯折的第一前端部。
7.如权利要求1至6中任一项所述的载体(100)，进一步包括面向所述第一轨道的第二轨道，其中所述第二轨道包括第二辊子接触面，所述第二辊子接触面配置用于在对侧的所述辊子运输轨道(200a、200b)上的所述至少一个第一辊子(210a、210b)上支撑所述载体(100)。
8.如权利要求7所述的载体(100)，其中所述第二轨道(320)包括第二主体部(324)和第二前端部(350)，所述第二主体部具有第二主辊子接触面，所述第二前端部具有第二前端面(360)，所述第二辊子接触面由所述第二主辊子接触面和所述第二前端面(360)形成，
其中所述第二前端面(360)为其他倾斜面中的至少一个且所述第二前端面具有柔性。
9.如权利要求1至8中任一项所述的载体，进一步包括：
第三辊子接触面，所述第三辊子接触面配置用于在所述辊子运输轨道(200a、200b)的至少一个第二辊子(210a、210b)上支撑所述载体(100)，
其中所述第一辊子接触面和所述第三辊子接触面由在所述运输方向(X)上的所述第一辊子接触面和所述第三辊子接触面之间的空间隔开。
10.如权利要求9所述的载体，其中所述第三辊子接触面包括第三主体部和第三前端部，所述第三主体部具有第三主辊子接触面，所述第三前端部具有第三前端面，其中所述第三前端面为倾斜面中的至少一个且所述第三前端面具有柔性。
11.一种辊子运输系统，包括：
辊子运输轨道(200a、200b)，所述辊子运输轨道包括多个辊子(210a、210b)；和
如权利要求1至8中任一项所述的载体(100)。
12.如权利要求11所述的辊子运输系统，其中
所述载体(100)以垂直或接近垂直的方向定向；
所述辊子运输轨道(200a、200b)布置在所述载体(100)的底部；并且
所述辊子运输系统进一步包括布置在所述载体(100)顶部的上导轨(400)，所述上导轨配置用于将所述载体(100)保持在垂直或接近垂直的方向。
13.如权利要求12所述的辊子运输系统，其中所述上导轨(400)包括至少一个磁性引导元件(410)，所述磁性引导元件配置用于在横向(Z)上无接触地引导所述载体(100)，或者，所述多个辊子配置用于在所述横向(Z)上引导所述载体(100)，所述横向(Z)垂直于所述运输方向(X)。
14.一种用于将材料沉积到基板(S)上的真空处理装置，所述真空处理装置包括至少一个真空处理腔室和如权利要求9至11中任一项所述的辊子运输系统，所述辊子运输系统用于运输如权利要求1至8中任一项所述的载体(100)进出所述至少一个真空处理腔室。
15.如权利要求12所述的真空处理装置，其中所述载体(100)为配置用于载送所述基板(S)的基板载体，或者其中所述载体(100)为配置用于载送掩模的掩模载体。
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