CN114594879A - 触控显示面板及其制备方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种触控显示面板及其制备方法和显示装置，该触控显示面板包括基板；第二电极层，位于基板一侧；发光功能层，位于第二电极层远离基板一侧；触控层，位于第二电极层和发光功能层之间；第一电极层，位于发光功能层远离基板一侧，第一电极层与发光功能层接触。本发明实施例提供的技术方案，通过将触控层设置于基板和发光功能层之间，且第一电极层位于发光功能层远离基板一侧，使得触控层和第一电极层之间存在较大间距，进而能够改善因触控显示面板尺寸变大导致触控层和第一电极层之间的寄生电容增大的问题，有利于提高触控效果。此外，本发明实施例提供的技术方案无需对封装层进行加厚，或者在封装层上增加垫层，可以降低工艺难度。

Description

触控显示面板及其制备方法和显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种触控显示面板及其制备方法和显示装置。

背景技术

随着显示技术的不断发展，人们对触控显示装置的需求也越来越多样化，手机、平板等电子产品正朝着大屏显示等方向发展。

目前，显示面板的触控结构多设计在封装层之上，或是设计为外挂式结构。然而随着显示面板的尺寸越来越大，导致触控结构的灵敏度降低，降低触控效果。

发明内容

本发明提供了一种触控显示面板及其制备方法和显示装置，以提高触控效果。

根据本发明的一方面，提供了一种触控显示面板,包括：

基板；

第二电极层，位于所述基板一侧；

发光功能层，位于所述第二电极层远离所述基板一侧；

触控层，位于所述第二电极层和所述发光功能层之间；

第一电极层，位于所述发光功能层远离所述基板一侧，所述第一电极层与所述发光功能层接触。

可选地，还包括设置于所述触控层和所述发光功能层之间的间隔层，所述间隔层包括第一开口，所述发光功能层通过所述第一开口与所述基板接触；

优选地，在所述触控显示面板的厚度方向上，所述触控层与所述第一电极层之间的垂直距离至少为18μm；

所述间隔层包括至少一层有机胶层。

可选地，所述第二电极层包括阵列排布的第二电极块。

可选地，所述触控显示面板还包括像素界定层，所述像素界定层包括暴露出所述第二电极块的堤坝，所述触控层设置于所述堤坝上。

可选地，所述堤坝包括第一堤坝和第二堤坝，所述第一堤坝和所述第二堤坝形成暴露出所述第二电极块的至少两个第二开口，所述发光功能层通过所述第二开口与所述第二电极块接触；

所述触控层包括触控电极和触控走线，所述触控电极位于所述第一堤坝上，所述触控走线位于所述第二堤坝上；

优选地，所述触控走线为透明走线；

优选地，所述触控走线的材料包括氧化铟锡。

可选地，所述触控电极在所述基板上的垂直投影与所述第二电极块在所述基板上的垂直投影不交叠。

可选地，所述第一电极层包括多个第三开口，所述触控电极在所述基板上的垂直投影位于所述第三开口在所述基板上的垂直投影内。

根据本发明的另一方面，提供了一种触控显示面板的制备方法，包括：

提供基板；

在所述基板一侧形成第二电极层；

在所述第二电极层远离所述基板一侧形成触控层；

在所述触控层远离所述基板一侧形成发光功能层，所述触控层位于所述第二电极层和所述发光功能层之间；

在所述发光功能层远离所述基板一侧形成第一电极层，所述第一电极层与所述发光功能层接触。

可选地，在形成所述触控层之后，所述触控显示面板的制备方法还包括：

在所述触控层远离所述基板一侧形成间隔层，所述间隔层设置有第一开口，所述发光功能层通过所述第一开口与所述第二电极层接触。

根据本发明的另一方面，提供了一种显示装置，该显示装置包括本发明任意实施例所提供的触控显示面板。

本发明实施例提供的技术方案，通过将触控层设置于第二电极层和发光功能层之间，且第一电极层位于发光功能层远离基板一侧，也即将触控层和第一电极层设置在发光功能层的相对两侧，使得触控层和第一电极层之间存在较大间距，进而能够改善因触控显示面板尺寸变大导致触控层和第一电极层之间的寄生电容增大的问题，有利于提高触控效果。并且，由于触控层形成于第二电极层之后，且形成于发光功能层之前，因此可以采用阵列工艺来制作触控层，以克服低温对触控工艺的局限性，从而提高触控性能。此外，本发明实施例提供的技术方案无需对薄膜封装层进行加厚，或者在薄膜封装层上增加垫层，可以降低屏体开裂的风险，以及降低工艺难度。

应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本发明的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本发明的范围。本发明的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中的一种触控显示面板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种触控显示面板的俯视结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种触控显示面板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的一种包含单个像素的触控显示面板的俯视结构示意图；

图8为图7所示触控显示面板的一种剖面结构示意图；

图9为图7所示触控显示面板的另一种剖面结构示意图；

图10为图7所示触控显示面板的另一种剖面结构示意图；

图11为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的剖面结构示意图；

图12为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的剖面结构示意图；

图13为本发明实施例提供的一种触控显示面板的制备方法的流程图；

图14为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的制备方法的流程图；

图15为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。

需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

正如背景技术所述，现有的中大尺寸触控显示面板存在触控效果不佳的现象。出现上述问题的原因在于，现有显示面板的触控结构多为触控面板(Touch Panel，TP)设置在薄膜封装(Thin-Film Encapsulation，TFE)结构之上，即TP on TFE，或是设计为on cell的形式。无论采用TP on TFE形式或者on cell形式，触控结构与显示面板中的阴极之间的距离较近，当显示面板的尺寸较大时，触控结构与阴极之间的寄生电容就会增大，从而导致触控结构感应到自身的电容变小，影响触控的灵敏度。在现有技术中，通常是在触控结构与阴极之间增加垫层的方式来增加触控结构与阴极之间的距离，以减小寄生电容。示例性地，图1为现有技术中的一种触控显示面板的结构示意图，该触控显示面板包括衬底1、发光器件层2、薄膜封装层3和触控结构4，阴极位于发光器件层2中。为了减小触控结构4与阴极(发光器件层2)之间的寄生电容，需增加薄膜封装层3的厚度来增大触控结构4与阴极之间的距离。但是薄膜封装层3通常是采用喷墨打印技术形成的，而喷墨打印一次的厚度有限，不能满足面板需求，需要通过多次喷墨打印形成具有一定厚度的薄膜封装层3，大大增加了面板制备工艺的时间和难度；并且增加薄膜封装层3的厚度，容易导致膜层剥离，破坏显示面板的完整性，造成生产工艺难度大。

本发明实施例提供的触控显示面板包括基板；第二电极层，位于基板一侧；发光功能层，位于第二电极层远离基板一侧；触控层，位于第二电极层和发光功能层之间；第一电极层，位于发光功能层远离基板一侧，第一电极层与发光功能层接触。本发明实施例提供的技术方案，将触控层设置在第二电极层和发光功能层之间，实现显示面板触控功能的集成，且触控显示面板的整体结构简单。第二电极层可以为阳极层，第一电极层可以为阴极层，由于第一电极层位于发光功能层远离基板一侧，使得触控层与第一电极层之间的距离较大，有效减小触控层与第一电极层之间的寄生电容，从而提高触控灵敏度。

以上是本发明的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

图2为本发明实施例提供的一种触控显示面板的俯视结构示意图，图3为本发明实施例提供的一种触控显示面板的结构示意图，具体为图2所示触控显示面板沿切割线LL’得到的剖视结构示意图。如图2和图3所示，该触控显示面板包括基板10；第二电极层20，位于基板10一侧；发光功能层40，位于第二电极层20远离基板10一侧；触控层30，位于第二电极层20和发光功能层40之间；第一电极层50，位于发光功能层40远离基板10一侧，第一电极层50与发光功能层40接触。

具体地，参考图2，该触控显示面板包括显示区AA和围绕显示区AA设置的非显示区NA，其中，显示区AA用于实现显示功能，触控层30可设置于显示区AA内，非显示区NA用于设置栅极电路和其他外延电路。基板10可以为驱动基板或者阵列基板，基板10具体可以包括基底，基底可以为显示装置提供缓冲、保护或支撑等作用。基底可以是柔性基底，柔性基底的材料可以是聚酰亚胺(PI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或者聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等，也可以是上述多种材料的混合材料。基底也可以为采用玻璃等材料形成的硬质基底。

发光功能层40可以只包括单层膜层，即只包括发光材料层，也可以包括自层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、发光材料层、电子传输层、电子注入层等形成的多层结构。并且，发光功能层40可以包括红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层，进而可实现多种颜色的显示。触控层30形成在第二电极层20上，并位于基板10和发光功能层40之间，触控层30可以为自容触控，也可以为互容触控，用于根据感应到的电容变化量实现触控功能。第二电极层20可以为阳极层，设置在基板10上，触控层30设置于第二电极层20与发光功能层40之间。第一电极层50可以为阴极层，位于发光功能层40远离基板10的一侧，从而使得触控层30和第一电极层50分别位于发光功能层40相对的两侧，实现了触控层30与第一电极层50之间存在较大的间距，以降低二者之间的寄生电容，进而无需在形成第一电极层50之后再通过增加多层垫层的方式来减小寄生电容(例如，通过多次喷墨打印方式形成薄膜封装层)，大大降低了工艺难度。

此外，在本实施例中，第二电极层可以采用阵列工艺形成于基板10上，由于触控层30位于第二电极层20远离基板10一侧，因此同样可以采用阵列工艺在形成第二电极层20之后，且在形成发光功能层40之前形成触控层30。应当理解的是，发光功能层40是在低温条件下进行蒸镀制作，而阵列工艺可以采用高温进行，因此，将触控层30在放发光功能层40之前采用阵列工艺进行制作，有利于提高触控层30的性能，能够克服低温对触控工艺的局限性。

本发明实施例提供的技术方案，通过将触控层设置于基板和发光功能层之间，且第一电极层位于发光功能层远离基板一侧，也即将触控层和第一电极层设置在发光功能层的相对两侧，使得触控层和第一电极层之间存在较大间距，进而能够改善因触控显示面板尺寸变大导致触控层和第一电极层之间的寄生电容增大的问题，有利于提高触控效果。并且，由于触控层形成于第二电极层之后，且形成于发光功能层之前，因此可以采用阵列工艺来制作触控层，以克服低温对触控工艺的局限性，从而提高触控性能。此外，本发明实施例提供的技术方案无需对薄膜封装层进行加厚，或者在薄膜封装层上增加垫层，可以降低工艺难度。

图4为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的结构示意图，参考图4，在上述技术方案的基础上，第二电极层20包括阵列排布的第二电极块210。

具体地第二电极层20、发光功能层40和第一电极层50共同形成发光器件，每一发光器件区域对应一像素区域。第二电极层20为块状电极结构，包括多个阵列排布的第二电极块210，一第二电极块210对应一像素区域。

在本实施例中，第二电极层20可以采用三层结构，其中第一层与第三层可为金属氧化物层例如可以是铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、铝锌氧化物(AZO)，中间的第二层可为金属层(如银或铜)。第一电极层50可以是镁银合金。在第二电极层20靠近基板10一侧还设置有多个像素电路(图中未示出)，像素电路与第二电极块210连接，用于向第二电极块210提供驱动电流和电压，以驱动发光功能层40发光。其中，像素电路和第二电极层20可以均采用阵列工艺形成于基板10上，并在形成第二电极层20结束后，同样采用阵列工艺形成触控层30，以克服低温对触控工艺的局限性。

图5为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的结构示意图，参考图5，在上述各技术方案的基础上，该触控显示面板还包括设置在触控层30和发光功能层40之间的间隔层60，间隔层60用于增加触控层30与第一电极层50之间的间隔，以进一步减小触控层30与第一电极层50之间的寄生电容。其中，间隔层60上设置有多个第一开口601，在蒸镀发光功能层40时，发光材料可以通过该第一开口601实现与第二电极块210接触，不同像素区域之间的发光材料之间不连接。可选地，间隔层60可以为多层结构，以满足触控层30与第一电极层50之间寄生电容的大小要求。示例性地，间隔层60可以至少包括一层有机胶层，该有机胶层在增加触控层30与第一电极层50之间间隔的同时，还能够起到平坦化的作用，以保证发光功能层40的制程。在实际制备过程中，单层有机胶层的涂覆工艺可以做到3μm，为了保证触控层30与第一电极层50之间的厚度，可以进行多次涂覆，以形成多层有机胶层。优选地，在本实施例中，在触控显示面板的厚度方向上，触控层30和第一电极层50之间的垂直距离至少为18μm，以满足中大尺寸触控显示面板中触控结构与阴极之间的寄生电容的要求。

图6为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的结构示意图，参考图6，可选地，该触控显示面板还包括像素界定层70，用于定义每个像素的边界。且触控层30设置于堤坝上，由于像素界定层70位于触控层30与第二电极块210之间，因此，像素界定层70还能够起到绝缘的作用，防止电气短路。像素界定层70包括暴露出第二电极块210的堤坝，以使得发光功能层40与第二电极块210接触。

图7为本发明实施例提供的一种包含单个像素的触控显示面板的俯视结构示意图，图8为图7所示触控显示面板的一种剖面结构示意图，具体为图7所示触控显示面板沿切割线BB’得到的剖面结构示意图。参考图6、图7和图8，堤坝包括第一堤坝701和第二堤坝702，第一堤坝701和第二堤坝702形成暴露出第二电极块210的至少两个第二开口72，发光功能层40通过第二开口72与第二电极块210接触；触控层30包括触控电极301和触控走线302，触控电极301位于第一堤坝701上，触控走线302位于第二堤坝702上。

具体地，图8仅示例性地示出了部分膜层结构，并具体示出了间隔层为两层有机胶层(第一有机胶层601和第二有机胶层602)的结构。触控层30包括触控电极301和触控走线302，触控电极301可以是单层自电容电极，触控电极301对地或者触控电极301对手指可以构成自电容，当手指触摸到显示面板时，手指的电容将会叠加到触控电极301上，使触控电极301的电容量增加。触控走线302用于向触控电极301提供驱动信号，从而实现显示面板的触控功能。

堤坝包括第一堤坝701和第二堤坝702，第一堤坝701和第二堤坝702之间形成第二开口72，第二开口72内填充有发光材料，以使得发光功能层40与第二电极块210接触。其中，触控电极301位于第一堤坝701上，且触控电极301在基板10上的垂直投影与第二电极块210在基板10上的垂直投影不存在交叠，防止触控电极301与第二电极块210之间产生干扰，影响触控效果。

图8仅示出了两个第二开口72的情况，在其他实施例中，第二开口72还可以根据实际需求设置两个以上。

在本实施例中，第二堤坝702可以位于第二电极块210远离基板10一侧，第二堤坝702在基板10上的垂直投影与第二电极块210在基板上的垂直投影可以交叠，也可以不交叠。如图8所示，示出了第二堤坝702在基板10上的垂直投影与第二电极块210在基板上的垂直投影交叠的情况，也即触控走线302在第二电极块210的上方过线。这里，触控走线302为透明走线，优选为氧化铟锡走线，且由于第二堤坝702的存在，使得触控走线302与第二电极块210之间不会接触。沿垂直于触控走线302的延伸方向，触控走线302的宽度优选为2微米，以增大发光材料与第二电极块210的接触面积，提高发光效率。

图9为图7所示触控显示面板的另一种剖面结构示意图，具体为图7所示触控显示面板沿切割线CC’得到的剖面结构示意图。参考图7和图9，在触控走线302的延伸方向上，发光功能层40与触控走线302接触，由于像素界定层是整层铺设的，因此触控走线302完全位于第二堤坝702上。

图10为图7所示触控显示面板的另一种剖面结构示意图，具体为图7所示触控显示面板沿切割线DD’得到的剖面结构示意图。参考图7和图10所示，在切割线DD’处，不存在触控走线302，因此，在第二开口72的位置，发光功能层40直接与像素界定层70接触，触控电极301在基板10上的垂直投影仍然不与第二电极块210在基板10上的垂直投影交叠。

继续参考图8-图10，第一有机胶层601和第二有机胶层602叠层设置在触控层30和发光功能层40之间，因此触控层30、第一有机胶层601和第二有机胶层602均形成于阵列端，通过对第一有机胶层601和第二有机胶层602进行图形化，可以使得触控与显示共用间隔层60，有利于降低工艺难度。

图11为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的剖面结构示意图，参考图11，可选地，第一电极层50包括多个第三开口51，触控电极301在基板10上的垂直投影位于第三开口51内。在本实施例中，第三开口51也即为阴极开口，第三开口51将第一电极层50分割成多个第一电极块501，一第一电极块501对应一第二电极块210，第一电极块501和第二电极块210所在区域为像素区。通过将触控电极301设置于第三开口51的下方，能够保证触控电极301与第一电极层50之间没有交叠，避免触控电极301与第一电极层50之间产生干扰。

可选地，本发明实施例提供的技术方案，通过对第一电极层50图形化，可实现屏下摄像头功能。

继续参考图11，在本实施例中，触控电极301和触控走线302同层设置，通过在触控电极301和发光功能层40之间设置至少一层有机胶层，能够增大触控电极301和触控走线302与第一电极层50之间的垂直距离，从而能够有效减小触控电极301和触控走线302与第一电极层50之间寄生电容。且由于触控电极301和触控走线302与发光器件集成在一起，能够实现有机胶层的共用，有利于减少工艺制程，降低工艺难度。

可选地，图12为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的剖面结构示意图，参考图12，该触控显示面板在第一电极层50远离基板10一侧还包括薄膜封装层81、偏光片82和盖板83，这里，因触控电极301和触控走线302形成于第二电极块210一侧，与发光器件集成在一起，且薄膜封装层81位于第一电极层50远离基板10一侧，因此，无需对薄膜封装层81进行加厚，或者添加额外垫层，大大降低了工艺难度，有利于提高触控显示面板的可靠性。

本发明实施例还提供了一种触控显示面板的制备方法，图13为本发明实施例提供的一种触控显示面板的制备方法的流程图，参考图13，该触控显示面板的制备方法包括：

S110、提供基板；

S120、在基板一侧形成第二电极层；

S130、在第二电极层远离基板一侧形成触控层；

S140、在触控层远离基板一侧形成发光功能层，触控层位于第二电极层和发光功能层之间；

S150、在发光功能层远离基板一侧形成第一电极层，第一电极层与发光功能层接触。

本发明实施例提供的技术方案，通过将触控层设置于基板和发光功能层之间，且第一电极层位于发光功能层远离基板一侧，也即将触控层和第一电极层设置在发光功能层的相对两侧，使得触控层和第一电极层之间存在较大间距，进而能够改善因触控显示面板尺寸变大导致触控层和第一电极层之间的寄生电容增大的问题，有利于提高触控效果。并且，由于触控层形成于第二电极层之后，且形成于发光功能层之前，因此可以采用阵列工艺来制作触控层，以克服低温对触控工艺的局限性，从而提高触控性能。此外，本发明实施例提供的技术方案无需对薄膜封装层进行加厚，或者在薄膜封装层上增加垫层，可以降低工艺难度。

可选地，图14为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的制备方法的流程图，参考图14，该触控显示面板的制备方法包括：

S110、提供基板；

S120、在基板一侧形成第二电极层；

S130、在第二电极层远离基板一侧形成触控层；

S210、在触控层远离基板一侧形成间隔层，间隔层设置有第一开口，发光功能层通过第一开口与第二电极层接触；

S141、在间隔层远离基板一侧形成发光功能层，触控层位于第二电极层和间隔层之间；

S150、在发光功能层远离基板一侧形成第一电极层，第一电极层与发光功能层接触。

具体地，结合图6和图12，基板10上可通过阵列工艺依次形成像素电路、第二电极块210和像素界定层70，并在像素界定层70制备结束后形成触控层30，其中，触控层30包括触控电极301和触控走线302。触控电极301在基板10上的垂直投影与第二电极块210在基板10上的垂直投影不交叠。在本实施例中，第二电极块210为阳极，第二电极块210所在区域为像素区，也就是说，触控层30放置于阵列阳极制备结束后，并将触控电极301设置于相邻像素之间，但触控电极301与第二电极块210不同层。在形成触控层30之后，沉积间隔层60(如，间隔层60包括第一有机胶层601和第二有机胶层602)，用以增大触控层30与后续膜层之间的垂直距离。间隔层60上设置有多个第一开口，使得发光功能层40能够通过第一开口与第二电极块210接触，以便通过第二电极块210向发光功能层40提供电压，使得发光功能层40发光。

在发光功能层40远离基板10一侧形成第一电极层50，第一电极层50为阴极层，包括多个阴极开口，触控电极301位于阴极开口下方，防止触控电极301与第一电极层50之间相互干扰。由于第一电极层50与触控层30之间设置有间隔层60和发光功能层40，使得触控层30与第一电极层50之间的距离较大，有效减小触控层30与第一电极层50之间的寄生电容。且触控层30、间隔层60、发光功能层40和第一电极层50的厚度之和至少为18μm，能够满足中大尺寸触控显示面板中触控结构与阴极之间的寄生电容的要求，有利于提高触控灵敏性和可靠性。

本发明实施例提供的触控显示面板的制备方法可用于制备本发明任意实施例所提供的触控显示面板，因此，该触控显示面板的制备方法同样具备上述任意实施例所描述的有益效果。

本发明实施例还提供了一种显示装置。图15为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，结合图15，该显示装置包括本发明任意实施例所提供的触控显示面板。图15示意性地示出了显示装置为手机的情况，实际应用时，该显示装置还可以是电脑、平板电脑、车载显示器和智能穿戴等电子产品。本发明实施例所提供的显示装置包括本发明任意实施例所述的触控显示面板，因此具备上述有益效果，这里不再赘述。

应该理解，可以使用上面所示的各种形式的流程，重新排序、增加或删除步骤。例如，本发明中记载的各步骤可以并行地执行也可以顺序地执行也可以不同的次序执行，只要能够实现本发明的技术方案所期望的结果，本文在此不进行限制。

上述具体实施方式，并不构成对本发明保护范围的限制。本领域技术人员应该明白的是，根据设计要求和其他因素，可以进行各种修改、组合、子组合和替代。任何在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明保护范围之内。

Claims (10)

1.一种触控显示面板，其特征在于，包括：

基板；

第二电极层，位于所述基板一侧；

发光功能层，位于所述第二电极层远离所述基板一侧；

触控层，位于所述第二电极层和所述发光功能层之间；

第一电极层，位于所述发光功能层远离所述基板一侧，所述第一电极层与所述发光功能层接触。

2.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，还包括设置于所述触控层和所述发光功能层之间的间隔层，所述间隔层包括第一开口，所述发光功能层通过所述第一开口与所述基板接触；

优选地，在所述触控显示面板的厚度方向上，所述触控层与所述第一电极层之间的垂直距离至少为18μm；

所述间隔层包括至少一层有机胶层。

3.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述第二电极层包括阵列排布的第二电极块。

4.根据权利要求3所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控显示面板还包括像素界定层，所述像素界定层包括暴露出所述第二电极块的堤坝，所述触控层设置于所述堤坝上。

5.根据权利要求4所述的触控显示面板，其特征在于，所述堤坝包括第一堤坝和第二堤坝，所述第一堤坝和所述第二堤坝形成暴露出所述第二电极块的至少两个第二开口，所述发光功能层通过所述第二开口与所述第二电极块接触；

所述触控层包括触控电极和触控走线，所述触控电极位于所述第一堤坝上，所述触控走线位于所述第二堤坝上；

优选地，所述触控走线为透明走线；

优选地，所述触控走线的材料包括氧化铟锡。

6.根据权利要求5所述的触控显示面板，其特征在于，

所述触控电极在所述基板上的垂直投影与所述第二电极块在所述基板上的垂直投影不交叠。

7.根据权利要求5所述的触控显示面板，其特征在于，所述第一电极层包括多个第三开口，所述触控电极在所述基板上的垂直投影位于所述第三开口在所述基板上的垂直投影内。

8.一种触控显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板一侧形成第二电极层；

在所述第二电极层远离所述基板一侧形成触控层；

在所述触控层远离所述基板一侧形成发光功能层，所述触控层位于所述第二电极层和所述发光功能层之间；

在所述发光功能层远离所述基板一侧形成第一电极层，所述第一电极层与所述发光功能层接触。

9.根据权利要求8所述的触控显示面板的制备方法，其特征在于，

在形成所述触控层之后，所述触控显示面板的制备方法还包括：

在所述触控层远离所述基板一侧形成间隔层，所述间隔层设置有第一开口，所述发光功能层通过所述第一开口与所述第二电极层接触。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的触控显示面板。

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