CN114594626A - Tft基板、tft基板制备方法、显示面板及显示装置 - Google Patents

Tft基板、tft基板制备方法、显示面板及显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN114594626A
CN114594626A CN202210266946.7A CN202210266946A CN114594626A CN 114594626 A CN114594626 A CN 114594626A CN 202210266946 A CN202210266946 A CN 202210266946A CN 114594626 A CN114594626 A CN 114594626A
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
electrode
tft substrate
display
electrostrictive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202210266946.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114594626B (zh
Inventor
包亚洲
杨刚
王世鑫
商建通
娄殿川
崔文
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN202210266946.7A priority Critical patent/CN114594626B/zh
Publication of CN114594626A publication Critical patent/CN114594626A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114594626B publication Critical patent/CN114594626B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133345—Insulating layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553—Reflecting elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本申请总体来说涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种TFT基板、TFT基板制备方法、显示面板及显示装置，TFT基板可通过该制备方法制备而成，显示面板安装有该TFT基板，显示装置安装有该TFT基板，TFT基板包括玻璃基板、电致伸缩层、电极层及位于电极层上的反射层，电致伸缩层设于玻璃基板与电极层之间，电极层通电后，在电极层与玻璃基板之间形成电场，电致伸缩层在电场下发生变形，由于反射层设置于电致伸缩层上部，电致伸缩层发生变形后，反射层上的凸起发生改变，从而实现调节凸起的坡度角，提高反射层的反射率。

Description

TFT基板、TFT基板制备方法、显示面板及显示装置
技术领域
本申请总体来说涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种TFT基板、TFT基板制备方法、显示面板及显示装置。
背景技术
目前，全反射型LCD由于其低功耗、低成本、可实现多色等优点，在智能零售、电子标签、电子书等领域具有极大的市场潜力。
现有全反射彩色LCD显示模式一般原理如图1所示，采用偏光片、光学波片、液晶层及反射层利用外界光实现全反射显示；反射层一般做成Bump结构来实现光的散射，保证均匀显示。但目前由于工艺能力有限，实际产品的Bump结构并不能完全按照设计实现相应的坡度角，导致反射率下降，影响显示效果。
发明内容
在发明内容部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本申请内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。
为了解决反射层中凸起的坡度角不能满足需求而导致反射率下降的技术问题，本申请的主要目的在于将反射层中凸起的坡度角可调节，提供一种TFT基板、TFT基板制备方法、显示面板及显示装置。
为实现上述发明目的，本申请采用如下技术方案：
一种TFT基板，包括玻璃基板、电致伸缩层、电极层及位于所述电极层上的反射层；
其中，所述电致伸缩层位于所述玻璃基板与所述电极层之间，在所述电极层与所述玻璃基板的电极之间形成电场，以通过所述电致伸缩层变形改变所述反射层中凸起的坡度角。
进一步的，在本申请的一些实施例中，上述反射层具有多个所述凸起，各所述凸起的下方对应设置有所述电极层。
进一步的，在本申请的一些实施例中，上述玻璃基板设置有公共电极和显示电极，所述电极层连接所述显示电极，所述电极层与所述公共电极之间形成电场。
进一步的，在本申请的一些实施例中，上述玻璃基板包括第一绝缘层和第二绝缘层，所述第一绝缘层设于所述公共电极与所述显示电极之间，所述第二绝缘层设于所述显示电极的上部，所述电致伸缩层设于所述第二绝缘层上；
其中，所述电致伸缩层及所述第二绝缘层开设有电极过孔，所述电极层通过所述电极过孔连接所述显示电极。
进一步的，在本申请的一些实施例中，上述电极层的材料为ITO或银。
进一步的，在本申请的一些实施例中，上述电极层的横截面形状为多边形或圆形。
一种TFT基板制备方法，包括：
在玻璃基板上形成电致伸缩层；
在所述电致伸缩层上形成电极层；
在所述电极层上制备具有凸起的反射层，并使所述反射层凸起与所述电极层竖向对应设置。
进一步的，在本申请的一些实施例中，在所述电致伸缩层上制备电极层包括：
在所述电致伸缩层及所述玻璃基板开设电极过孔；
所述电极层通过所述电极过孔电连接所述玻璃基板中的显示电极。
一种显示面板，安装有上述TFT基板。
一种显示装置，安装有上述TFT基板。
由上述技术方案可知，本申请的TFT基板的优点和积极效果在于：
本申请方案提供一种TFT基板、TFT基板制备方法、显示面板及显示装置，TFT基板可通过该制备方法制备而成，显示面板安装有该TFT基板，显示装置安装有该TFT基板，TFT基板包括玻璃基板、电致伸缩层、电极层及位于电极层上的反射层，电致伸缩层设于玻璃基板与电极层之间，电极层通电后，在电极层与玻璃基板之间形成电场，电致伸缩层在电场下发生变形，由于反射层设置于电致伸缩层上部，电致伸缩层发生变形后，反射层上的凸起发生改变，从而实现调节凸起的坡度角，提高反射层的反射率。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有全反射彩色LCD显示面板的结构示意图。
图2是根据一示例性实施方式示出的一种显示面板的电极层未通电的示意图。
图3是根据一示例性实施方式示出的图2中A处的俯视示意图。
图4是根据一示例性实施方式示出的一种显示面板的包含TFT基板的局部结构示意图。
图5是根据一示例性实施方式示出的一种显示面板的显示信号与伸缩电极信号时序的示意图。
图6是根据一示例性实施方式示出的一种显示面板的电极层通电后的示意图。
图7是根据一示例性实施方式示出的一种显示面板中反射层中凸起坡度角变化对比示意图。
图8是根据一示例性实施方式示出的一种TFT基板制备方法的工艺示意图。
其中，附图标记说明如下：
100-玻璃基板；110-电致伸缩层；120-电极层；130-反射层；131-凸起；140-液晶层；150-ITO层；160-像素层；170-彩膜板层；180-光学波片层；190-偏光片层；200-空白时段；
101-衬底基板；102-公共电极；103-第一绝缘层；104-显示电极；105-第二绝缘层；106-电极过孔。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围，因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
目前，全反射型LCD由于其低功耗、低成本、可实现多色等优点，在智能零售、电子标签、电子书等领域具有极大的市场潜力。现有全反射彩色LCD显示模式一般原理如图1所示，采用偏光片、光学波片、液晶层及反射层利用外界光实现全反射显示，反射层一般做成凸起(Bump)结构来实现光的散射，保证均匀显示。但目前由于工艺能力有限，实际产品的Bump结构并不能完全按照设计实现相应的坡度角，导致反射率下降，影响显示效果。
为了解决反射层130中凸起131的坡度角不能满足需求而导致反射率下降的技术问题，本申请的主要目的在于将反射层130中凸起131的坡度角可调节，提供一种TFT基板、TFT基板制备方法、显示面板及显示装置，TFT基板可通过该制备方法制备而成，显示面板安装有该TFT基板，显示装置安装有该TFT基板，TFT基板包括玻璃基板100、电致伸缩层110、电极层120及位于电极层120上的反射层130，电致伸缩层110设于玻璃基板100与电极层120之间，电极层120通电后，在电极层120与玻璃基板100之间形成电场，电致伸缩层110在电场下发生变形，由于反射层130设置于电致伸缩层110上部，电致伸缩层110发生变形后，反射层130上的凸起131发生改变，从而实现调节凸起131的坡度角，提高反射层130的反射率。
图2是根据一示例性实施方式示出的一种显示面板的电极层120未通电的示意图。图3是根据一示例性实施方式示出的图2中A处的俯视示意图。图4是根据一示例性实施方式示出的一种显示面板的包含TFT基板的局部结构示意图。
本申请实施例提供一种TFT基板、TFT基板制备方法、显示面板及显示装置，TFT基板可通过该制备方法制备而成，显示面板安装有该TFT基板，显示装置安装有该TFT基板。
TFT基板包括层叠设置的玻璃基板100、电致伸缩层110、电极层120、反射层130、液晶层140、ITO层150、像素层160、彩膜板层170、光学波片层180及偏光片层190，其中，玻璃基板100包括衬底基板101、公共电极102、第一绝缘层103、显示电极104、第二绝缘层105及电极过孔106。
本申请方案，将全反射显示产品的TFT(Thin Film Transistor)基板反射层130的凸起131(Bump)下方增加电致伸缩层110及相应的电极层120，利用电极层120跟TFT基板电极配合，在电极层120与TFT基板之间形成电场，控制电致伸缩层110形变，从而调整反射层130中凸起131的坡度角，提高反射率。
在具体实施例中，反射层130具有多个凸起131，多个凸起131可以阵列设置，各凸起131的下方分别对应设置有一电极层120，电极层120的横向截面形状为多边形或圆形，常规选择矩形、三角形或圆形，本申请方案中，将垂直显示面板板面的方向定义为竖向，与竖向垂直的方向定义为横向。
由于各凸起131下方分别设置有一电极层120，使电致伸缩层110正对凸起131的部分位于电场中，使电致伸缩层110针对性变形，从而有效调节凸起131的坡度角，提高反射率。
参考图4所示，玻璃基板100包括衬底基板101、第一绝缘层103、显示电极104、第二绝缘层105及电极过孔106。其中，公共电极102可以设置于衬底基板101的上表面或者彩膜基板侧，公共电极102的材料例如可以为ITO(Indium Tin Oxide，铟锡氧化物)或其他透明电极。
可选的，第一绝缘层103设置于衬底基板101的上部，第一绝缘层103覆盖公共电极102，显示电极104设于第一绝缘层103上，第二绝缘层105设置于第一绝缘层103上，且第二绝缘层105覆盖显示电极104。
电致伸缩层110设置于第二绝缘层105上，电致伸缩层110和第二绝缘层105开设有电极过孔106，电极过孔106延伸至显示电极104，电极过孔106做像素电极孔使用，在本申请方案中，电极层120可通过电极过孔106连接显示电极104，即电极层120可以和显示电极104通过过孔106连接进行分时复用，电极层120与公共电极102之间形成电场，具体示例中，电极层120为正极，公共电极102为负极。在其它实施例中也可以单独加走线控制电极层120。优选的，分时复用的方案更加节省空间。
电致伸缩层110可以是具有电致伸缩效应的材料，这种材料存在着自发形成的分子集团即所谓电畴，它具有一定的极化，并且沿极化方向的长度往往与其他方向的不同。当有外加电场作用时，这种电畴就会发生转动，使其极化方向尽量转到与外电场方向一致，因此这种材料沿外电场方向的长度会发生变化。
具体地，电致伸缩层110的材料可以为电活性聚合物，电活性聚合物EAP是一种智能材料，具有特殊的电性能和机械性能。这种聚合物在受到电刺激后产生微小形变。按照作用机理的不同，电活性聚合物EAP可以分为电子型EAP或离子型EAP。电子型EAP包括全有机复合材料(AOC)、介电EAP(DEAP)、电致伸缩接枝弹性体(ESGE)、电致伸缩薄膜(ESP)、电致粘弹性聚合物(EVEM)、铁电体聚合物(FEP)和液晶弹性体(LCE)等。离子型EAP包括碳纳米管(CNT)、导电聚合物(CP)、电致流变液体(ERF)、离子聚合物凝胶(IPG)和离子聚合物基金属复合材料(IPMC)等。
因此，电致伸缩层110的材料包括：AOC、DEAP、ESGE、ESP、EVEM、FEP、LCE、CNT、CP、ERF、IPG和IPMC等电活性聚合物中至少之一。
图5是根据一示例性实施方式示出的一种显示面板的显示信号与伸缩电极信号时序的示意图。
参考图5所示，在电极层120与可以和电极过孔106连接进行分时复用的情况下，显示信号传输中具有空白时段200，显示面板在显示空白时段200，通过显示电极104向电极层120通电，在电极层120与公共电极102之间形成电场。
图6是根据一示例性实施方式示出的一种显示面板的电极层120通电后的示意图。
参考图6所示，电极层120通电后，电致伸缩层110位于电极层120正下方的结构受电场影响发生变形，从而带动反射层130局部变形，使反射层130中凸起131的坡度角发生变化，从而调节光的反射角度，提高反射效率。
本申请方案中电极层120的设置形式相对于整体平铺的形式，可以使电致伸缩层110对应凸起131的部位变形，同时避免相邻两个凸起131对应的电致伸缩层110部位的变形干扰，保证对凸起131的调节效果。
图7是根据一示例性实施方式示出的一种显示面板中反射层130中凸起131坡度角变化对比示意图。
参考图7所示，在凸起131未坡度未改变前，反射至凸起131的光线部分倾斜向上反射，影响了用户正视屏幕时的显示面板的显示效果，电极层120通电后，电致伸缩层110变形，电极层120对应的电致伸缩层110下凹，反射层130发生变形，从而使凸起131的坡度角发生变化，坡度角β小于坡度角α，从而调节光的反射角度，提高反射效率。
在本领域技术人员的理解下，可以利用光学设备(如DMS900)测试显示面板不同位置的反射率，并选择反射率低的位置进行坡度角调节，即只对反射率低区域的电极层120通电，从而实现针对性调节。
在一些其它实施例中，可以再将每个凸起131正下方的电极层120分成三部分，分别对应凸起131的中部及中部相对两侧的边部，使凸起131的中部或凸起131的边部对应的电致伸缩层110变形，从而实现对凸起131的微调，进一步调节反射角度，提高凸起131局部的反射效率。
本申请实施例还提供一种显示面板，显示面板安装有上述TFT基板。
本申请实施例还提供一种显示装置，显示装置安装有上述显示面板。
由于本申请实施例中的显示面板及显示装置均安装有上述TFT基板，电致伸缩层110的部分位于反射层130与玻璃基板100之间形成的电场中，因此，反射层130中的凸起131可通过电致伸缩层110的变形而变化，从而使凸起131的坡度角发生变化，从而调节光的反射角度，提高反射效率。
图8是根据一示例性实施方式示出的一种TFT基板制备方法的工艺示意图。
参考图8所示，本申请实施例还提供一种TFT基板制备方法，可以制备上述TFT基板，具体的：
步骤S01，制备玻璃基板100；
结合图4所示，玻璃基板100包括衬底基板101、公共电极102、第一绝缘层103、显示电极104、第二绝缘层105及电极过孔106，公共电极102设置于衬底基板101的上表面，公共电极102的材料例如可以为ITO(Indium Tin Oxide，铟锡氧化物)或其他透明电极。
第一绝缘层103设置于衬底基板101的上部，第一绝缘层103覆盖公共电极102，显示电极104设于第一绝缘层103上，第二绝缘层105设置于第一绝缘层103上，且第二绝缘层105覆盖显示电极104。
步骤S02，在玻璃基板100上形成电致伸缩层110；
本申请实施例中，电致伸缩层110采用沉积工艺形成，电致伸缩层110的材料可以为电活性聚合物，电活性聚合物EAP是一种智能材料，具有特殊的电性能和机械性能。这种聚合物在受到电刺激后产生微小形变。按照作用机理的不同，电活性聚合物EAP可以分为电子型EAP或离子型EAP。电子型EAP包括全有机复合材料(AOC)、介电EAP(DEAP)、电致伸缩接枝弹性体(ESGE)、电致伸缩薄膜(ESP)、电致粘弹性聚合物(EVEM)、铁电体聚合物(FEP)和液晶弹性体(LCE)等。离子型EAP包括碳纳米管(CNT)、导电聚合物(CP)、电致流变液体(ERF)、离子聚合物凝胶(IPG)和离子聚合物基金属复合材料(IPMC)等。因此，电致伸缩层110的材料包括：AOC、DEAP、ESGE、ESP、EVEM、FEP、LCE、CNT、CP、ERF、IPG和IPMC等电活性聚合物中至少之一。
电致伸缩层110设置于第二绝缘层105上，电致伸缩层110和第二绝缘层105开设有电极过孔106，电极过孔106延伸至显示电极104，电极过孔106做像素电极孔使用.
步骤S03，在所述电致伸缩层110上形成电极层120；
具体的，电极层120通过沉积工艺形成，为了对显示面板的反射率低区域进行针对性调节，对平铺的电极层120进行刻蚀，形成多个阵列设置的电极层120，在俯视显示面板的角度下，即电极层120的横截面形状为多边形或圆形，电极层120的材料为ITO、非氧化金属电极等其它透明电极，金属电极可以选用银。
在本申请方案中，电极层120可通过电极过孔106连接显示电极104，即电极层120与可以和电极过孔106连接进行分时复用，电极层120与公共电极102之间形成电场，具体示例中，电极层120为正极，公共电极102为负极。
步骤S04,在电极层120上制备具有凸起131的反射层130，并使反射层130凸起131与电极层120竖向对应设置。
综上，本申请方案全反射显示屏TFT基板的反射层130的凸起131下方加入一层电致伸缩层110及相应控制伸缩的电极层120，利用电极层120与玻璃基板100中的显示电极104形成的电场控制电致伸缩层110形变，从而带动凸起131产生形变，调节凸起131的坡度角，提高反射率。
需要说明的是，在本文中，诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上所述仅是本发明的具体实施方式，使本领域技术人员能够理解或实现本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明总的发明构思的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所申请的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种TFT基板，其特征在于，包括玻璃基板、电致伸缩层、电极层及位于所述电极层上的反射层；
其中，所述电致伸缩层位于所述玻璃基板与所述电极层之间，在所述电极层与所述玻璃基板的电极之间形成电场，以通过所述电致伸缩层变形改变所述反射层中凸起的坡度角。
2.如权利要求1所述的TFT基板，其特征在于，所述反射层具有多个所述凸起，各所述凸起的下方对应设置有所述电极层。
3.如权利要求1所述的TFT基板，其特征在于，所述玻璃基板设置有公共电极和显示电极，所述电极层连接所述显示电极，所述电极层与所述公共电极之间形成电场。
4.如权利要求3所述的TFT基板，其特征在于，所述玻璃基板包括第一绝缘层和第二绝缘层，所述第一绝缘层设于所述公共电极与所述显示电极之间，所述第二绝缘层设于所述显示电极的上部，所述电致伸缩层设于所述第二绝缘层上；
其中，所述电致伸缩层及所述第二绝缘层开设有电极过孔，所述电极层通过所述电极过孔连接所述显示电极。
5.如权利要求1所述的TFT基板，其特征在于，所述电极层的材料为ITO或银。
6.如权利要求1-5任一所述的TFT基板，其特征在于，所述电极层的横截面形状为多边形或圆形。
7.一种TFT基板制备方法，其特征在于，包括：
在玻璃基板上形成电致伸缩层；
在所述电致伸缩层上形成电极层；
在所述电极层上制备具有凸起的反射层，并使所述反射层凸起与所述电极层竖向对应设置。
8.如权利要求7所述的TFT基板制备方法，其特征在于，在所述电致伸缩层上制备电极层包括：
在所述电致伸缩层及所述玻璃基板开设电极过孔；
所述电极层通过所述电极过孔电连接所述玻璃基板中的显示电极。
9.一种显示面板，其特征在于，安装有权利要求1-6任一项所述的TFT基板。
10.一种显示装置，其特征在于，安装有权利要求9所述的显示面板。
CN202210266946.7A 2022-03-17 2022-03-17 Tft基板、tft基板制备方法、显示面板及显示装置 Active CN114594626B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210266946.7A CN114594626B (zh) 2022-03-17 2022-03-17 Tft基板、tft基板制备方法、显示面板及显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210266946.7A CN114594626B (zh) 2022-03-17 2022-03-17 Tft基板、tft基板制备方法、显示面板及显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114594626A true CN114594626A (zh) 2022-06-07
CN114594626B CN114594626B (zh) 2023-07-04

Family

ID=81810938

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210266946.7A Active CN114594626B (zh) 2022-03-17 2022-03-17 Tft基板、tft基板制备方法、显示面板及显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114594626B (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030227449A1 (en) * 2002-06-05 2003-12-11 Ngk Insulators, Ltd. Display device
US20120127136A1 (en) * 2010-08-18 2012-05-24 Kent Displays Incorporated Display device including piezoelectric and liquid crystal layers
CN106019573A (zh) * 2016-08-08 2016-10-12 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板、显示装置
CN106444206A (zh) * 2016-10-28 2017-02-22 京东方科技集团股份有限公司 反射式显示器及其制备方法
CN108680984A (zh) * 2018-05-18 2018-10-19 重庆京东方显示照明有限公司 导光板及其控制方法、背光模组、显示装置
CN110098241A (zh) * 2019-05-21 2019-08-06 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其控制方法、显示装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030227449A1 (en) * 2002-06-05 2003-12-11 Ngk Insulators, Ltd. Display device
US20120127136A1 (en) * 2010-08-18 2012-05-24 Kent Displays Incorporated Display device including piezoelectric and liquid crystal layers
CN106019573A (zh) * 2016-08-08 2016-10-12 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板、显示装置
CN106444206A (zh) * 2016-10-28 2017-02-22 京东方科技集团股份有限公司 反射式显示器及其制备方法
CN108680984A (zh) * 2018-05-18 2018-10-19 重庆京东方显示照明有限公司 导光板及其控制方法、背光模组、显示装置
CN110098241A (zh) * 2019-05-21 2019-08-06 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其控制方法、显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN114594626B (zh) 2023-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100491372B1 (ko) 액정 디스플레이
TW515921B (en) Reflective liquid crystal display apparatus
JP3231638B2 (ja) 液晶表示装置及びその駆動方法
JP2009109930A (ja) 液晶表示装置
US7978289B2 (en) Flexible display device
CN106154639B (zh) 一种液晶显示面板及液晶显示装置
US9645455B2 (en) Liquid crystal display panel, driving method and fabrication method thereof, and display device
US20130329167A1 (en) Liquid crystal display
WO2013113231A1 (zh) 阵列基板和显示装置
US7973993B2 (en) Flat panel display and manufacturing method thereof
EP3794410B1 (en) Method of producing a piezo electrophoretic display
US20070126957A1 (en) Transflective liquid crystal display
JP2007206557A (ja) 液晶表示装置
TW201122692A (en) Active device array substrate
JP2006350278A (ja) 高透過率フリンジフィールドスイッチングモード液晶表示装置
CN114200698B (zh) 显示面板及显示装置
TW200412466A (en) Liquid crystal display unit and liquid crystal display device
TWI236559B (en) Liquid crystal display
KR101066410B1 (ko) 어레이 기판, 그 제조방법 및 이를 갖는 액정 표시 장치
CN114594626B (zh) Tft基板、tft基板制备方法、显示面板及显示装置
JP2009139853A (ja) 液晶表示装置
US6954244B2 (en) Reflection liquid crystal display device with reflection electrode region having two widths
KR101702106B1 (ko) 전기 습윤 표시 장치
JP2004258366A (ja) 電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器
TWI332597B (en) Optically compensated birefringence liquid crystal display panel

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant