CN114583080A - 柔性显示面板及其制备方法 - Google Patents

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黄辉
张敏
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Abstract

本申请实施例提供一种柔性显示面板及其制备方法，其中，所述柔性显示面板包括：阵列基板，有机发光层，所述有机发光层设置所述阵列基板上；挡墙，所述挡墙设置在所述阵列基板上且环绕所述有机发光层设置；封装层，所述封装层覆盖所述有机发光层和所述挡墙，所述封装层包括墨水；其中，所述挡墙包括远离所述阵列基板的顶面、靠近所述有机发光层的第一侧面和远离所述有机发光层的第二侧面，所述第二侧面设置有凹槽、阶梯型结构或尖角结构中的至少一种。通过凹槽、阶梯型结构或尖角结构可以增加挡墙与封装层中墨水的接触面积，进而增大封装层中墨水的表面张力，以防止墨水溢出挡墙。

Description

柔性显示面板及其制备方法
技术领域
本申请涉及显示技术领域，特别涉及一种柔性显示面板及其制备方法。
背景技术
OLED显示装置中有机层以及其他器件很容易受到氧气及水的侵蚀而导致其寿命降低，因此，需要对AMOLED显示面板进行封装。其中，对于柔性显示器而言，薄膜封装(ThinFilmEncapsulation，TFE)为最常用的封装方式之一。现有的TFE封装技术中，为了避免墨水(Ink)在衬底基板上流平后形成的薄膜的边界出现参差不齐的情况或者是超出基底的范围的现象，通常会在衬底基板上对应墨水打印边界的位置设置挡墙(Dam)。
然而，相关技术中，墨水常常会溢出挡墙，减小显示面板的使用寿命。
发明内容
本申请实施例提供一种柔性显示面板及其制备方法，可以解决现有的显示面板中存在墨水溢出挡墙的问题。
本申请实施例提供一种柔性显示面板，所述柔性显示面板包括：
阵列基板；
有机发光层，所述有机发光层设置所述阵列基板上；
挡墙，所述挡墙设置在所述阵列基板上且环绕所述有机发光层设置；
封装层，所述封装层覆盖所述有机发光层和所述挡墙，所述封装层包括墨水；
其中，所述挡墙包括远离所述阵列基板的顶面、靠近所述有机发光层的第一侧面和远离所述有机发光层的第二侧面，所述第二侧面设置有凹槽、阶梯型结构或尖角结构中的至少一种。
可选的，所述顶面和所述第一侧面中的至少一个设置有凹槽。
可选的，所述第一侧面设置有阶梯型结构。
可选的，所述阶梯型结构上设置有凹槽。
可选的，当所述第二侧面上设置为尖角结构时，所述第二侧面上设置所述尖角结构的密度大于所述第一侧面上设置所述阶梯型结构的密度。
可选的，所述尖角结构上设置有微胶囊自修复膜层。
可选的，所述显示面板还包括：
疏水膜层，所述疏水膜层覆盖在所述挡墙的顶面、所述第一侧面和所述第二侧面中的至少一个。
可选的，所述凹槽的截面形状为矩形、梯形、三角形、V字形、弧形或半椭圆形中的一种。
可选的，所述显示面板包括多个挡墙，相邻的两个所述挡墙之间的距离小于500微米。
可选的，所述挡墙的顶面和所述侧面为粗糙面。
本申请实施例还提供一种柔性显示面板的制备方法，所述制备方法包括:
提供一阵列基板；
在所述阵列基板上设置有机发光层；
在所述阵列基板上环绕所述有机发光层设置挡墙，所述挡墙包括顶面和侧面，其中，所述顶面设置在远离所述阵列基板的一侧，所述侧面包括靠近所述有机发光层的第一侧面和远离所述有机发光层的第二侧面；所述第二侧面设置有凹槽、阶梯型结构或尖角结构中的至少一种；
在所述有机发光层上设置封装层，以覆盖所述有机发光层和所述挡墙，所述封装层内包括油墨。
可选的，所述在所述阵列基板上环绕所述有机发光层设置挡墙，包括:
在所述阵列基板上涂布一光阻材料层；
将具有预定挡墙图案的光罩设于所述光阻材料层与一曝光机光源间，并曝光所述光阻材料层，以使得所述第二侧面设置有凹槽、阶梯型结构或尖角结构中的至少一种；
利用显影方式将非挡墙图案部分的光阻材料层去除，形成设于阵列基板上的所述挡墙。
可选的，将所述光阻材料层高曝光量后以在所述挡墙的顶面、所述第一侧面和所述第二侧面中的至少一个上形成疏水膜层。
本申请的有益效果在于：本申请实施例提供的柔性显示面板包括阵列基板、有机发光层、封装层和挡墙，其中，挡墙设置在阵列基板上，挡墙的第二侧面设置有凹槽、阶梯型结构或尖角结构中的至少一种，通过凹槽、阶梯型结构或尖角结构可以增加挡墙与封装层中墨水的接触面积，进而增大封装层中墨水的表面张力，以防止墨水溢出挡墙，另外，在柔性显示面板弯折时，挡墙设置的凹槽、阶梯型结构或尖角结构可以避免应力集中而导致柔性显示面板破裂的情况，增加了柔性显示面板的使用寿命。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
为了更完整地理解本申请及其有益效果，下面将结合附图来进行说明。其中，在下面的描述中相同的附图标号表示相同部分。
图1为本申请实施例提供的柔性显示面板的结构示意图。
图2为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第一种结构示意图。
图3为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第二种结构示意图。
图4为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第三种结构示意图。
图5为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第四种结构示意图。
图6为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第五种结构示意图。
图7为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第六种结构示意图。
图8为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第七种结构示意图。
图9为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第八种结构示意图。
图10为本申请实施例提供的柔性显示面板的制备方法的第一流程示意图。
图11为图10所述的制备方法中制备挡墙的流程示意图。
图12为本申请实施例提供的柔性显示面板的制备方法的第二流程示意图。
图13为本申请实施例提供的柔性显示面板的制备方法的第三流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)具有自发光、视角宽、快速响应以及可制作在柔性衬底上等特点而越来越多的被应用在各种显示领域内。显示面板通常采用薄膜封装结构实现显示区的密封。薄膜封装结构的成本低且密封效果好，在OLED显示面板中得到了广泛的应用。
然而，现有技术中，通常将挡墙与像素界定层(Pixel Definition Layer，PDL)通过一次掩膜、曝光工艺成型。在实际生产中，有机膜层边缘的厚度远远小于其中间的厚度，导致墨水不能有效的包覆器件，墨水常常会溢出挡墙，减小OLED的使用寿命。
因此，为了解决上述问题，本申请提出了一种显示面板及显示面板的制备方法。下面结合附图和实施方式对本申请作进一步说明。
请参阅图1至图4，图1为本申请实施例提供的柔性显示面板的结构示意图，图2为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第一种结构示意图，图3为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第二种结构示意图，图4为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第三种结构示意图。本申请实施例提供一种柔性显示面板100，柔性显示面板100包括显示区和围绕显示区设置的非显示区，柔性显示面板100包括阵列基板10、有机发光层40、封装层20和挡墙30。其中，有机发光层40设置在位于显示区的阵列基板10上，封装层20覆盖在有机发光层40和挡墙30上，封装层20包括墨水。挡墙30设置在阵列基板10上，挡墙30环绕有机发光层40设置，挡墙30包括顶面310和侧面，顶面310设置在远离阵列基板10的一侧，侧面包括靠近有机发光层40的第一侧面320和远离有机发光层40的第二侧面330，其中，第二侧面330设置有凹槽340、阶梯型结构350或尖角结构360中的至少一种。通过凹槽340、阶梯型结构350或尖角结构360可以增加挡墙30与封装层20中墨水的接触面积，进而增大封装层20中墨水的表面张力，以防止墨水溢出挡墙30，另封装层20中的墨水也可以收纳于凹槽340中，进一步的防止墨水溢出挡墙30。另外，在柔性显示面板100弯折时，挡墙30设置的凹槽340、阶梯型结构350或尖角结构360，可以避免应力集中而导致柔性显示面板100破裂的情况，增加了柔性显示面板100的使用寿命。
请继续参阅图2，第二侧面330上设置有凹槽340。通过在第二侧面330上设置凹槽340，可以增加封装层20中墨水与挡墙30的接触面积，且凹槽340可以承载墨水，进一步的防止墨水溢出挡墙30。另外，在柔性显示面板100弯折时，挡墙30设置的凹槽340可以避免应力集中而导致柔性显示面板100破裂的情况，增加了柔性显示面板100的使用寿命。在一些实施例中，顶面310和第一侧面320中的至少一个设置有凹槽340。示例性的，在一些实施例中，挡墙30的顶面310和第一侧面320都设置有凹槽340，第二侧面330可以设置有凹槽340、阶梯型结构350或尖角结构360。在一些实施例中，挡墙30的顶面310和第二侧面330设置有凹槽340，第一侧面320可以设置有凹槽340或阶梯型结构350。在一些实施例中，挡墙30的第一侧面320和第二侧面330设置有凹槽340，顶面310可以设置凹槽340也可以不设置凹槽340。在其他一些实施例中，挡墙30的顶面310、第一侧面320和第二侧面330均设置有凹槽340，如图3所示。可以理解的是，挡墙30设置凹槽340的位置可以根据实际情况进行设计，在此不作具体的限定。
凹槽340的截面形状可以为矩形、梯形、三角形、V字形、弧形或半椭圆形中的一种。可以理解的是，在顶面310和侧面设置凹槽340的数量、大小和形状可以相同也可以不相同，设置凹槽340的具体情况根据实际情况进行设计，在此不作具体的限定。
请继续参阅图,4至图6，图5为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第四种结构示意图，图6为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第五种结构示意图。挡墙30的第一侧面320和第二侧面330中至少一个设置为阶梯型结构350，示例性的，在一些实施例中，挡墙30的顶面310和第一侧面320均设置有凹槽340，第二侧面330设置为阶梯型结构350，如图4所示。在一些实施例中，挡墙30的顶面310和第二侧面330均设置有凹槽340，第一侧面320设置为阶梯型结构350，如图5所示。需要说明的是，第二侧面330可以为阶梯型结构350、可以为凹槽340，也可以为阶梯型结构350且设置有凹槽340。在一些实施例中，挡墙30的第一侧面320和第二侧面330设置有凹槽340，且第一侧面320和第二侧面330为阶梯型结构350，即阶梯型结构350上设置有凹槽340，如图6所示。可以理解的是，挡墙30的设置并不限于上述举例的几种，其他设置可根据需要进行组合和设置，在此不再一一赘叙。通过将侧面设置成阶梯型结构350，可以有效增加墨水与挡墙30的接触表面积，提升墨水的表面张力，进而可以有效防止墨水溢流出挡墙30。
其中，阶梯型结构350为相交的第一平面351和第二平面352，第一平面351与阵列基板10平行，第二平面352与第一平面351之间的夹角大于0度小于180度，示例性的，第二平面352与第一平面351之间的夹角可以为90度、120度、135度或165度等等。
请继续参阅图7，图7为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第六种结构示意图。在一些实施例中，挡墙30的第二侧面330设置有两个以上的尖角结构360。示例性的，在挡墙30的顶面310和第一侧面320中设置有凹槽340，第二侧面330设置有两个以上的尖角结构360。或者在挡墙30的顶面310和第一侧面320中设置有凹槽340，且第一侧面320设置为阶梯型结构350，第二侧面330设置有两个以上的尖角结构360。又或者在挡墙30的顶面310和第二侧面330中设置有凹槽340，且第一侧面320设置为阶梯型结构350，即第一侧面320的阶梯型结构350上设置有凹槽340，第二侧面330设置有两个以上的尖角结构360。其中，第二侧面330上设置尖角结构360的密度大于第一侧面320上设置阶梯型结构350的密度。可以理解的是，挡墙30的设置并不限于上述举例的几种，其他设置可根据需要进行组合和设置，在此不再一一赘叙。
需要说明的是，多个尖角结构360可以是从阵列基板10至顶面310的方向上，第二侧面330由多个尖角结构360连续连接而成的。也可以是第二侧面330上设置有多个相互间隔设置的尖角结构360。具体的设计可以根据实际情况进行设计，在此不作具体的限制。
其中，尖角结构360由相交的第三平面361和第四平面362组成，在一些实施例中，第三平面361与阵列基板10平行，第四平面362在垂直于阵列基板10上的投影长度小于第二平面352在垂直于阵列基板10上的投影长度。由此可见，在同一长度内，设置尖角结构360的密度大于设置阶梯型结构350的密度，因此，密度更大的尖角结构360在弯折的时候会发生断裂，进而可以释放应力，避免应力集中。在其他一些实施例中，第三平面361和第四平面362之间的夹角呈锐角。
因为尖角结构360为硬质材料制程，因此，通过将挡墙30远离发光面的第二侧面330设置有尖角结构360，可以在显示面板弯折时，尖角结构360会发生断裂，进而可以释放尖端应力，避免应力集中的情况。并且，由于尖角结构360设置在非显示区，因此，尖角结构360的断裂不会影响显示面板的显示情况。
在一些实施例中，在尖角结构360上设置有微胶囊自修复材料，当尖角结构360发生断裂后，尖角结构360表面涂抹的微胶囊自修复材料60可以进行自修复。以使尖角结构360进行重复利用。
在一些实施例中，上述任一项所述的挡墙30的第二侧面330和顶面310的连接处可以由两个以上首尾相连的弯曲部或者齿形部围成。通过弯曲部和齿形部的设计，可以更好的增加封装层20中墨水与挡墙30的接触面积，进而更好的增加墨水的表面张力，减小封装层20中墨水从挡墙30中的溢出量。
请继续参阅图8和图9，图8为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第七种结构示意图，图9为图1所述的柔性显示面板中挡墙的第八种结构示意图，在一些实施例中，第一侧面320和第二侧面330中的至少一个为阶梯型结构350。通过将挡墙30的第一侧面320和第二侧面330中的至少一个设置为阶梯型结构350，可以增大封装层20中的墨水与挡墙30的接触面积，进而防止墨水溢出挡墙30。
其中，第一侧面320和第二侧面330中的至少一个为阶梯型结构350，顶面310没有设置凹槽340可以为以下情况，示例性的，在一些实施例中，第一侧面320上设置有凹槽340或阶梯型结构350，第二侧面330设置有阶梯型结构350，顶面310没有设置凹槽340。在一些实施例中，第二侧面330上设置有凹槽340或阶梯型结构350，第一侧面320设置有阶梯型结构350，顶面310没有设置凹槽340。在一些实施例中，挡墙30的第一侧面320和第二侧面330均为阶梯型结构350，通过将第一侧面320和第二侧面330均设置成阶梯型结构350，可以增大封装层20中的墨水与挡墙30的接触面积，以防止墨水溢流。在一些实施例中，挡墙30的第一侧面320设有阶梯型结构350，第二侧面330为多个连续的尖角结构360，通过设置尖角结构360既可以增大封装层20中墨水与挡墙30的接触面，又可以通过断裂的方式释放应力，以避免柔性显示面板100在弯折时应力集中的问题。在一些实施例中，挡墙30的第一侧面320和第二侧面330均为阶梯型结构350，且第一侧面320和第二侧面330中的至少一个设置有凹槽340，通过在第一侧面320和第二侧面330均为阶梯型结构350的基础上设置凹槽340，可以通过凹槽340增加与封装层20中墨水的接触面积，且可以利用凹槽340容纳墨水，进一步的缓解了墨水溢流的问题。在其他一些实施例中，挡墙30的第一侧面320为阶梯型结构350，第二侧面330为多个连续的尖角结构360，且第一侧面320和第二侧面330中的至少一个设置有凹槽340，通过阶梯型结构350和凹槽340改善了墨水溢流的问题，又利用尖角结构360的自断裂方式释放了应力。可以理解的是，本申请实施例提供的挡墙30并不限于上述所举的示例，还包括其他方式的组合，在此不作具体的限制，可以根据实际情况进行设置。
在一些实施例中，在尖角结构360上设置有微胶囊自修复材料60，当尖角结构360发生断裂后，尖角结构360表面涂抹的微胶囊自修复材料60可以进行自修复。以使尖角结构360进行重复利用。
在一些实施例中，上述任一项所述的挡墙30的顶面310或侧面中的至少一种覆盖有疏水膜层50，封装层20中墨水与疏水膜层50接触后，可以有效的防止墨水溢流。
本申请实施例提供的柔性显示面板100包括多个挡墙30，相邻的两个所述挡墙30之间的距离小于500微米。其中，每个挡墙30的形状和大小可以根据实际情况进行设置，在此不作具体的限定。
在一些实施例中，上述任一项所述的挡墙30的顶面310和侧面的外表面为粗糙表面，粗糙表面可以增加液体的附着力，进而减小墨水的溢流。
请继续参阅图10，图10为本申请实施例提供的柔性显示面板100的制备方法的第一流程示意图。本申请实施例还提供一种柔性显示面板100的制备方法，通过该制备方法制备上述所述的柔性显示面板100，该制备方法的具体步骤如下：
101、提供一阵列基板。
示例性的，提供一基板，基板可以为玻璃基板或者柔性基板，在基板上使用湿刻方式制备LS层(Lighting Shield)。
在LS上边利用CVD方式沉积Buffer层。
在Buffer层上使用Inline sputter方式沉积IGZO。
在IGZO上使用CVD工艺沉积GI层。
在GI上使用湿刻方式制备Gate层。
在Gate上使用CVD制备ILD层。
在ILD上使用湿刻方式制备S/D。
在S/D上使用CVD方式制备PV层。
在PV层上方制备PLN层。
102、在阵列基板上设置有机发光层。
在阵列基板10的一侧设置有机发光层40，以形成显示区和非显示区。
103、在阵列基板上环绕有机发光层设置挡墙，挡墙包括顶面和侧面，其中，顶面设置在远离阵列基板的一侧，侧面包括靠近有机发光层的第一侧面和远离有机发光层的第二侧面；第二侧面设置有凹槽、阶梯型结构或尖角结构中的至少一种。
在阵列基板10上环绕有机发光层40设置挡墙30，挡墙30材料包括但不限于聚酰亚胺，挡墙30具体的设置可以参见图11，图11为图10所述的制备方法中制备挡墙30的流程示意图。具体的流程步骤如下：
1031、在阵列基板上涂布一光阻材料层。
在阵列基板10上涂布一光阻材料以形成光阻材料层，其中，该光阻材料层在高曝光量后可以形成具有疏水性质的材料。
1032、将具有预定挡墙图案的光罩设于光阻材料层与一曝光机光源间，并曝光光阻材料层，以使得第二侧面设置有凹槽、阶梯型结构或尖角结构中的至少一种。
对光阻材料层进行曝光，可以将上述任一项所述的挡墙30的图案曝光出来，示例性的，预定挡墙30图案可以是使得挡墙30的顶面310、第一侧面320和第二侧面330中的至少两个设置有凹槽340。其中，预定挡墙30图案可以根据实际情况进行设置，在此不作具体的限定。
1033、利用显影方式将非挡墙图案部分的光阻材料层去除，形成设于基板上的挡墙。
采用显影的方式去除非挡墙30图案部分的光阻材料层，以形成设于阵列基板10上的挡墙30。
通过涂布、曝光和显影的方式得到挡墙30，使得挡墙30的顶面310、第一侧面320和第二侧面330中的至少两个设置有凹槽340，通过凹槽340可以增加封装层20中墨水与挡墙30的接触面积，且凹槽340可以承载墨水，进一步的防止墨水溢出挡墙30。另外，在柔性显示面板100弯折时，挡墙30设置的凹槽340可以避免应力集中而导致柔性显示面板100破裂的情况，增加了柔性显示面板100的使用寿命。
在一些实施例中，将光阻材料层经过高曝光量后以使得挡墙30的顶面310、第一侧面320和第二侧面330中的至少一个上形成疏水膜层50，通过疏水膜层50可以有效防止封装层20中的墨水的溢流。
104、在有机发光层上设置封装层，以覆盖有机发光层和挡墙，封装层内包括油墨。
在有机层上设置封装层20，通过封装层20对有机发光层40和挡墙30封装，以避免水分等杂质进入柔性显示面板100的内部。
请继续参阅图12，图12为本申请实施例提供的柔性显示面板100的制备方法的第二流程示意图。本申请实施例还提供一种柔性显示面板100的制备方法，通过该制备方法制备上述所述的柔性显示面板100，该制备方法的具体步骤如下：
201、提供一阵列基板。
详情请见上述步骤101，在此不再赘述。
202、在阵列基板上设置有机发光层。
详情请见上述步骤102，在此不再赘述。
203、在阵列基板上环绕有机发光层设置挡墙，挡墙包括靠近有机发光层的第一侧面和远离有机发光层的第二侧面；第一侧面和第二侧面中至少一个为阶梯型结构。
在阵列基板10上通过涂布、曝光和显影的方式得到挡墙30，其中，挡墙30的第一侧面320和第二侧面330中的至少一个为阶梯型结构350。
204、在有机发光层上设置封装层，以覆盖有机发光层和挡墙，封装层内包括油墨。
详情请见上述步骤104，在此不再赘述。
本申请实施例在阵列基板10上设置挡墙30，通过将挡墙30的第一侧面320和第二侧面330中的至少一个设置为阶梯型结构350，可以增大封装层20中墨水与挡墙30的接触面积，进而可以扩大墨水的表面张力，改善了封装层20中墨水溢流的情况。
请继续参阅图13，图13为本申请实施例提供的柔性显示面板100的制备方法的第三流程示意图。本申请实施例还提供一种柔性显示面板100的制备方法，通过该制备方法制备上述所述的柔性显示面板100，该制备方法的具体步骤如下：
301、提供一阵列基板。
详情请见上述步骤101，在此不再赘述。
302、在阵列基板上设置有机发光层。
详情请见上述步骤102，在此不再赘述。
303、在阵列基板上环绕有机发光层设置挡墙，挡墙包括靠近有机发光层的第一侧面和远离有机发光层的第二侧面，第二侧面上设置有凹槽。
在阵列基板10上通过涂布、曝光和显影的方式得到挡墙30，其中，挡墙30的第二侧面330上设置有凹槽340。
304、在有机发光层上设置封装层，以覆盖有机发光层和挡墙，封装层内包括油墨。
详情请见上述步骤104，在此不再赘述。
本申请实施例在阵列基板10上设置挡墙30，通过将挡墙30的第二侧面330上设置为凹槽340，可以增大封装层20中墨水与挡墙30的接触面积，进而可以扩大墨水的表面张力，改善了封装层20中墨水溢流的情况。
以上对本申请实施例提供的柔性显示面板及其制备方法进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请。同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (13)

1.一种柔性显示面板，其特征在于，所述柔性显示面板包括：
阵列基板；
有机发光层，所述有机发光层设置所述阵列基板上；
挡墙，所述挡墙设置在所述阵列基板上且环绕所述有机发光层设置；
封装层，所述封装层覆盖所述有机发光层和所述挡墙，所述封装层包括墨水；
其中，所述挡墙包括远离所述阵列基板的顶面、靠近所述有机发光层的第一侧面和远离所述有机发光层的第二侧面，所述第二侧面设置有凹槽、阶梯型结构或尖角结构中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的柔性显示面板，其特征在于，所述顶面和所述第一侧面中的至少一个设置有凹槽。
3.根据权利要求1所述的柔性显示面板，其特征在于，所述第一侧面设置有阶梯型结构。
4.根据权利要求1或3所述的柔性显示面板，其特征在于，所述阶梯型结构上设置有凹槽。
5.根据权利要求3所述的柔性显示面板，其特征在于，当所述第二侧面上设置为尖角结构时，所述第二侧面上设置所述尖角结构的密度大于所述第一侧面上设置所述阶梯型结构的密度。
6.根据权利要求1所述的柔性显示面板，其特征在于，所述尖角结构上设置有微胶囊自修复膜层。
7.根据权利要求1所述的柔性显示面板，其特征在于，所述柔性显示面板还包括：
疏水膜层，所述疏水膜层覆盖在所述挡墙的顶面、所述第一侧面和所述第二侧面中的至少一个。
8.根据权利要求1所述的柔性显示面板，其特征在于，所述凹槽的截面形状为矩形、梯形、三角形、V字形、弧形或半椭圆形中的一种。
9.根据权利要求1所述的柔性显示面板，其特征在于，所述显示面板包括多个挡墙，相邻的两个所述挡墙之间的距离小于500微米。
10.根据权利要求1所述的柔性显示面板，其特征在于，所述挡墙的顶面和所述侧面为粗糙面。
11.一种柔性显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括:
提供一阵列基板；
在所述阵列基板上设置有机发光层；
在所述阵列基板上环绕所述有机发光层设置挡墙，所述挡墙包括顶面和侧面，其中，所述顶面设置在远离所述阵列基板的一侧，所述侧面包括靠近所述有机发光层的第一侧面和远离所述有机发光层的第二侧面；所述第二侧面设置有凹槽、阶梯型结构或尖角结构中的至少一种；
在所述有机发光层上设置封装层，以覆盖所述有机发光层和所述挡墙，所述封装层内包括油墨。
12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述在所述阵列基板上环绕所述有机发光层设置挡墙，包括:
在所述阵列基板上涂布一光阻材料层；
将具有预定挡墙图案的光罩设于所述光阻材料层与一曝光机光源间，并曝光所述光阻材料层，以使得所述第二侧面设置有凹槽、阶梯型结构或尖角结构中的至少一种；
利用显影方式将非挡墙图案部分的光阻材料层去除，形成设于阵列基板上的所述挡墙。
13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，将所述光阻材料层高曝光量后以在所述挡墙的顶面、所述第一侧面和所述第二侧面中的至少一个上形成疏水膜层。
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