CN114580323A - 一种芯片版图的更新方法及其更新装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种芯片版图的更新方法及其更新装置，通过对原工艺平台对应的第一版图对应的pCellTable文件中pCell的参数数据的调整后，可以根据调整后的pCellTable文件确定出新工艺平台对应的第二版图，从而实现了版图的更新，如此，可以大大缩小版图更新所需要的时间，减小版图更新周期，同时还可以大大减少投入的人力成本，提高版图更新的效率。

Description

一种芯片版图的更新方法及其更新装置

技术领域

本发明涉及芯片设计技术领域，尤指一种芯片版图的更新方法及其更新装置。

背景技术

在芯片版图设计和制作时，是基于已经选择的工艺平台的设计规则进行的，且不同的工艺平台对应不同的设计规则。如果在芯片版图设计和制作时，是基于某个工艺平台的设计规则制作而成的，但由于某些原因需要更换工艺平台时，需要基于更换后的工艺平台的设计规则重新设计和制作芯片版图，如此导致芯片版图的制作周期较长，人力成本较高。

发明内容

本发明实施例提供了一种芯片版图的更新方法及其更新装置，用以在工艺平台的切换过程中，实现芯片版图的快速更新。

第一方面，本发明实施例提供了一种芯片版图的更新方法，包括：

在接收到用户输入的导出指令时，根据所述导出指令、以及原工艺平台对应的第一版图，确定所述第一版图对应的参数化单元文本pCellTable文件；其中，所述pCellTable文件包括至少一个参数化单元pCell的参数数据；

在接收到所述用户输入的调整指令时，确定所述pCellTable文件中所述pCell的第一参数数据与预先确定出的新工艺平台的pCell的第二参数数据之间的匹配关系；

根据所述匹配关系，将所述pCellTable文件中各所述pCell的第一参数数据调整为匹配的所述第二参数数据，得到调整后的所述pCellTable文件；

在接收到所述用户输入的导入指令时，根据调整后的所述pCellTable文件，确定所述新工艺平台对应的第二版图。

可选地，在本发明实施例中，根据所述导出指令、以及原工艺平台对应的第一版图，确定所述第一版图对应的参数化单元文本pCellTable文件，具体包括：

根据所述导出指令，将所述第一版图从所述原工艺平台对应的第一版图数据库中导出，得到所述第一版图对应的所述pCellTable文件。

可选地，在本发明实施例中，所述导出指令中增加有保留参数化单元keepPcell选项。

可选地，在本发明实施例中，在将所述第一版图从所述原工艺平台对应的第一版图数据库中导出时，还包括：

得到所述第一版图对应的GDS(Geometry Data Standard，几何数据标准)文件。

可选地，在本发明实施例中，根据调整后的所述pCellTable文件，确定所述新工艺平台对应的第二版图，具体包括：

将得到的所述第一版图对应的GDS文件、预先确定出的所述新工艺平台对应的PDK(Process Design Kit，工艺开发套件)文件、以及调整后的所述pCellTable文件均导入至所述新工艺平台对应的版图数据库中，得到第二版图数据库；

根据所述第二版图数据库，得到所述第二版图。

可选地，在本发明实施例中，在确定所述第一版图对应的参数化单元文本pCellTable文件之前，还包括：

确定所述原工艺平台对应的第一版图数据库的文件格式；

在确定出所述第一版图数据库的文件格式为.oa格式时，将所述第一版图数据库的文件格式转换为.cdb格式。

第二方面，本发明实施例提供了一种芯片版图的更新装置，包括：

确定单元，用于在接收到用户输入的导出指令时，根据所述导出指令、以及原工艺平台对应的第一版图，确定所述第一版图对应的参数化单元文本pCellTable文件；其中，所述pCellTable文件包括至少一个所述pCell的参数数据；在接收到所述用户输入的导入指令时，根据调整后的所述pCellTable文件，确定所述新工艺平台对应的第二版图；

匹配单元，用于在接收到所述用户输入的调整指令时，确定所述pCellTable文件中所述pCell的第一参数数据与预先确定出的新工艺平台的pCell的第二参数数据之间的匹配关系；

调整单元，用于根据所述匹配关系，将所述pCellTable文件中各所述pCell的第一参数数据调整为匹配的所述第二参数数据，得到调整后的所述pCellTable文件。

可选地，在本发明实施例中，所述确定单元，具体用于根据所述导出指令，将所述第一版图从所述原工艺平台对应的第一版图数据库中导出，得到所述第一版图对应的所述pCellTable文件。

可选地，在本发明实施例中，所述确定单元，还用于在将所述第一版图从所述原工艺平台对应的第一版图数据库中导出时，得到所述第一版图对应的GDS文件。

可选地，在本发明实施例中，所述确定单元，具体用于将得到的所述第一版图对应的GDS文件、预先确定出的所述新工艺平台对应的PDK文件、以及调整后的所述pCellTable文件均导入至所述新工艺平台对应的第二版图数据库中；根据所述第二版图数据库，得到所述第二版图。

本发明有益效果如下：

本发明实施例提供的一种芯片版图的更新方法及其更新装置，通过对原工艺平台对应的第一版图对应的pCellTable文件中pCell的参数数据的调整后，可以根据调整后的pCellTable文件确定出新工艺平台对应的第二版图，从而实现了版图的更新，如此，可以大大缩小版图更新所需要的时间，减小版图更新周期，同时还可以大大减少投入的人力成本，提高版图更新的效率。

附图说明

图1为本发明实施例中提供的一种芯片版图的更新方法的流程图；

图2为本发明实施例中提供的一种芯片版图的更新装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明实施例提供的一种芯片版图的更新方法及其更新装置的具体实施方式进行详细地说明。需要说明的是，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

需要说明的是，在本发明实施例中提及的工艺平台，可以理解为：根据设计好的版图生产和制作芯片的厂家，不同的厂家对应不同的版图设计规则，且不同的版图设计规则对应不同的PDK；假设版图是基于A厂家的PDK制作而成后，出于某些原因需要更换为B厂家来生产芯片时，需要对设计好的版图进行更新和调整，以使得更新和调整后的版图适用于B厂家的PDK，从而能够使得B厂家可以根据版图生产和制作芯片，实现芯片的量产。

其中，版图设计规则和PDK之间的关系，可以理解为：

版图设计规则是一套规则条件，可以用于规定各结构的设置方式和设置要求；而PDK是为了满足该版图规则条件而设计出的一套pCell的集合，通过该PDK设计出的版图是可以满足版图设计规则的。

并且，对于PDK而言，有的厂家还可以称之为FDK(foundary design kit，生产开发套件)，也即：有的厂家称之为PDK，有的厂家则称之为FDK，但二者所表示的含义和起到的作用是相同的。

因此，本发明实施例提供了一种芯片版图的更新方法，如图1所示，可以包括：

S101、在接收到用户输入的导出指令时，根据导出指令、以及原工艺平台对应的第一版图，确定第一版图对应的参数化单元文本pCellTable文件；其中，pCellTable文件包括至少一个pCell的参数数据；

S102、在接收到用户输入的调整指令时，确定pCellTable文件中pCell的第一参数数据与预先确定出的新工艺平台的pCell的第二参数数据之间的匹配关系；

例如，该匹配关系可以理解为：

第一版图可以理解为原工艺平台对应的原始版图，由于工艺平台发生切换，所以需要对第一版图进行修改、更新和调整，使得第一版图更新为适合于新工艺平台的第二版图；

第一版图对应的pCellTable文件中，用于描述某一结构(例如但不限于晶体管)的pCell的第一参数数据可以包括：参数名称(例如pmos)和参数值(例如width＝2μm)；

而新工艺平台中用于描述同一结构(即晶体管)的pCell的第二参数数据可以包括：参数名称(例如pch)和参数值(例如wid＝2μm)；

此时，可以确定出用于描述同一结构的两个pCell中参数名称之间的匹配关系、以及参数值之间的匹配关系。

S103、根据匹配关系，将pCellTable文件中各pCell的第一参数数据调整为匹配的第二参数数据，得到调整后的pCellTable文件；

具体地，接着上述例子的描述，在调整时，可以将pCellTable文件中描述晶体管的pCell中的参数名称，从pmos调整为匹配的pch，参数值从width＝2μm调整为匹配的wid＝2μm，从而实现对pCellTable文件的调整。

S104、在接收到用户输入的导入指令时，根据调整后的pCellTable文件，确定新工艺平台对应的第二版图。

如此，通过对原工艺平台对应的第一版图对应的pCellTable文件中pCell的参数数据的调整后，可以根据调整后的pCellTable文件确定出新工艺平台对应的第二版图，从而实现了版图的更新，如此，可以大大缩小版图更新所需要的时间，减小版图更新周期，同时还可以大大减少投入的人力成本，提高版图更新的效率。

具体地，通过对pCellTable文件的调整，确定出新工艺平台对应的第二版图时，可以将版图的更新时间从2个月以上缩短至1-2个星期，同时人力成本可以缩减80％以上，从而可以大大提高版图的更新效率和更新成本。

可选地，在本发明实施例中，根据导出指令、以及原工艺平台对应的第一版图，确定第一版图对应的参数化单元文本pCellTable文件，具体包括：

根据导出指令，将第一版图从原工艺平台对应的第一版图数据库中导出，得到第一版图对应的pCellTable文件。

如此，可以基于用户输入的导出指令，导出第一版图对应的pCellTable文件，以便于后续对pCellTable文件进行调整，从而有利于实现版图的更新。

具体地，版图数据库可以理解为：

在通过版图设计软件(例如可以但不限于为VIRTUOSO)绘制好版图后，进行数据保存时所生成的二进制数据文件，且版图数据库的文件格式可以但不限于为.cdb格式，通过版图设计软件，可以对版图数据库进行直接读取、以及精细地编辑调整。

并且，在通过版图设计软件对版图数据库读取后，可以在版图设计软件的界面上显示出对应的版图。

此外，版图数据库中可以包括：techfile(即技术文件)信息、以及多个小模块的版图信息，且每个小模块可以包括多个元器件；

例如，以一个PMU(Power Management Unit，电源管理单元)的版图对应的版图数据库为例，在实际情况中，假设PMU可以包括：直流-直流转换器、线性稳压器和充电控制器时，对应地，在PMU的版图数据库中，可以包括：直流-直流转换器对应的版图结构、线性稳压器对应的版图结构和充电控制器对应的版图结构、以及这些版图结构之间的设置位置和连接关系等信息；通过对直流-直流转换器对应的版图结构、线性稳压器对应的版图结构和充电控制器对应的版图结构的位置和连接关系进行设置，即可得到PMU的版图。

可选地，在本发明实施例中，导出指令中增加有keepPcell(即保留参数化单元)选项。

其中，在用户输入导出指令时，需要增加keepPcell选项，且keepPcell选项是版图设计软件自身已经配置好的，所以用户在输入导出指令时，可以勾选该keepPcell选项，也可以不勾选keepPcell选项。

如果在用户输入导出指令时，勾选了keepPcell选项，版图设计软件则可以导出pCellTable文件；如果在用户输入导出指令时，未勾选keepPcell选项，版图设计软件则不可以导出pCellTable文件。

因此，通过在导出指令中增加keepPcell选项，可以得到第一版图对应的pCellTable文件，从而有利于快速地实现版图的更新，提高版图更新的效率。

可选地，在本发明实施例中，在将第一版图从原工艺平台对应的第一版图数据库中导出时，还包括：

得到第一版图对应的几何数据标准GDS文件。

其中，GDS文件中，可以包括：第一版图中包括的各pCell、以及各pCell的设置位置、层次结构和连接关系等信息。

并且，在根据导出指令导出GDS文件时，不管是否增加keepPcell选项，均会导出GDS文件。

可选地，在本发明实施例中，根据调整后的pCellTable文件，确定新工艺平台对应的第二版图，具体包括：

将得到的第一版图对应的GDS文件、预先确定出的新工艺平台对应的PDK文件、以及调整后的pCellTable文件均导入至新工艺平台对应的版图数据库中，得到第二版图数据库；

根据第二版图数据库，得到第二版图。

如此，通过将第一版图对应的GDS文件、新工艺平台对应的PDK文件、以及调整后的pCellTable文件导入至版图数据库中，可以得到新工艺平台对应的第二版图数据库，通过版图设计软件对第二版图数据库的读取，可以在版图设计软件的界面上显示第二版图，从而实现版图的更新。

具体地，PDK文件可以包括：多个pCell、以及其他与版图设计相关的信息。

对版图设计而言，不同工艺平台之间的差异，可以主要体现在PDK文件的差异上，所以可以为不同的工艺平台提供不同的pCell的组合，从而可以实现各工艺平台对应的版图设计。

并且，需要说明的是，对于得到的第二版图数据库而言，其中的PDK文件中包括的各pCell已经完成了自动切换，使得PDK文件中的各pCell的参数数据是与新工艺平台相对应的，且原工艺平台对应的PDK中的pCell参数数据(可以但不限于包括：参数值的换算算法和参数名称的转换)也一并传递过来，实现了参数数据的替换，使得基于得到的第二版图数据库可以得到新工艺平台对应的版图，实现了版图的快速更新。

因此，具体地，在上述步骤S103中，根据匹配关系，可以将pCellTable文件中原pCell的参数名称和参数值，替换为匹配的新工艺平台的pCell的参数名称和参数值。

例如，以一个MOS(即场效应晶体管)器件为例，A工艺平台对应的PDK文件中提供的pCell的参数名称为pmos(宽度的参数名称为width)，B工艺平台对应的PDK文件中提供的pCell的参数名称为pch(宽度的参数名称为wid)，此时：

需要将pCellTable文件中pCell的参数名称从pmos替换为pch，并且将pmos的宽度参数值为width＝2um也一并传递给pch的宽度参数wid。

可选地，在本发明实施例中，在确定第一版图对应的参数化单元文本pCellTable文件之前，还包括：

确定原工艺平台对应的第一版图数据库的文件格式；

在确定出第一版图数据库的文件格式为.oa格式时，将第一版图数据库的文件格式转换为.cdb格式。

其中，版图数据库的文件格式，可以但不限于包括：.oa格式和.cdb格式，而在本发明实施例中，主要针对的是具有.cdb格式的版图数据库；

因此，在确定出第一版图数据库的文件格式为.oa格式时，需要对文件格式进行转换，以转换成.cdb格式，从而有利于后续执行对版图的更新过程。

可选地，在本发明实施例中，除了可以自动修改pCellTable文件之外，由于在更新版图的过程中，也会用到techfile和layermap(即层次文件)，所以在更新版图时，还可以手动修改techfile和layermap，以对齐2个不同工艺平台之间的接触孔大小、各连线所在的层次号码等信息。

并且，在得到第二版图，实现对版图的更新后，如果版图对应的原理图需要调整时，可以在第二版图数据库中对版图进行同步调整，从而有利于后续芯片的升级和改版。

基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种芯片版图的更新装置，该更新装置的实现原理与前述一种芯片版图的更新方法类似，所以该更新装置的具体实施方式可以参见前述更新方法的具体实施例，重复之处不再赘述。

具体地，本发明实施例提供的一种芯片版图的更新装置，如图2所示，可以包括：

确定单元201，用于在接收到用户输入的导出指令时，根据导出指令、以及原工艺平台对应的第一版图，确定第一版图对应的参数化单元文本pCellTable文件；其中，pCellTable文件包括至少一个pCell的参数数据；在接收到用户输入的导入指令时，根据调整后的pCellTable文件，确定新工艺平台对应的第二版图；

匹配单元202，用于在接收到用户输入的调整指令时，确定pCellTable文件中pCell的第一参数数据与预先确定出的新工艺平台的pCell的第二参数数据之间的匹配关系；

调整单元203，用于根据匹配关系，将pCellTable文件中各pCell的第一参数数据调整为匹配的第二参数数据，得到调整后的pCellTable文件。

可选地，在本发明实施例中，确定单元201，具体用于根据导出指令，将第一版图从原工艺平台对应的第一版图数据库中导出，得到第一版图对应的pCellTable文件。

可选地，在本发明实施例中，确定单元201，还用于在将第一版图从原工艺平台对应的第一版图数据库中导出时，得到第一版图对应的GDS文件。

可选地，在本发明实施例中，确定单元201，具体用于将得到的第一版图对应的GDS文件、预先确定出的新工艺平台对应的PDK文件、以及调整后的pCellTable文件均导入至新工艺平台对应的第二版图数据库中；根据第二版图数据库，得到第二版图。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种芯片版图的更新方法，其特征在于，包括：

在接收到用户输入的导出指令时，根据所述导出指令、以及原工艺平台对应的第一版图，确定所述第一版图对应的参数化单元文本pCellTable文件；其中，所述pCellTable文件包括至少一个参数化单元pCell的参数数据；

在接收到所述用户输入的调整指令时，确定所述pCellTable文件中所述pCell的第一参数数据与预先确定出的新工艺平台的pCell的第二参数数据之间的匹配关系；

根据所述匹配关系，将所述pCellTable文件中各所述pCell的第一参数数据调整为匹配的所述第二参数数据，得到调整后的所述pCellTable文件；

在接收到所述用户输入的导入指令时，根据调整后的所述pCellTable文件，确定所述新工艺平台对应的第二版图。

2.如权利要求1所述的更新方法，其特征在于，根据所述导出指令、以及原工艺平台对应的第一版图，确定所述第一版图对应的参数化单元文本pCellTable文件，具体包括：

根据所述导出指令，将所述第一版图从所述原工艺平台对应的第一版图数据库中导出，得到所述第一版图对应的所述pCellTable文件。

3.如权利要求2所述的更新方法，其特征在于，所述导出指令中增加有保留参数化单元keepPcell选项。

4.如权利要求2所述的更新方法，其特征在于，在将所述第一版图从所述原工艺平台对应的第一版图数据库中导出时，还包括：

得到所述第一版图对应的几何数据标准GDS文件。

5.如权利要求4所述的更新方法，其特征在于，根据调整后的所述pCellTable文件，确定所述新工艺平台对应的第二版图，具体包括：

将得到的所述第一版图对应的GDS文件、预先确定出的所述新工艺平台对应的PDK文件、以及调整后的所述pCellTable文件均导入至所述新工艺平台对应的版图数据库中，得到第二版图数据库；

根据所述第二版图数据库，得到所述第二版图。

6.如权利要求1-5任一项所述的更新方法，其特征在于，在确定所述第一版图对应的参数化单元文本pCellTable文件之前，还包括：

确定所述原工艺平台对应的第一版图数据库的文件格式；

在确定出所述第一版图数据库的文件格式为.oa格式时，将所述第一版图数据库的文件格式转换为.cdb格式。

7.一种芯片版图的更新装置，其特征在于，包括：

确定单元，用于在接收到用户输入的导出指令时，根据所述导出指令、以及原工艺平台对应的第一版图，确定所述第一版图对应的参数化单元文本pCellTable文件；其中，所述pCellTable文件包括至少一个参数化单元pCell的参数数据；在接收到所述用户输入的导入指令时，根据调整后的所述pCellTable文件，确定所述新工艺平台对应的第二版图；

匹配单元，用于在接收到所述用户输入的调整指令时，确定所述pCellTable文件中所述pCell的第一参数数据与预先确定出的新工艺平台的pCell的第二参数数据之间的匹配关系；

调整单元，用于根据所述匹配关系，将所述pCellTable文件中各所述pCell的第一参数数据调整为匹配的所述第二参数数据，得到调整后的所述pCellTable文件。

8.如权利要求7所述的更新装置，其特征在于，所述确定单元，具体用于根据所述导出指令，将所述第一版图从所述原工艺平台对应的第一版图数据库中导出，得到所述第一版图对应的所述pCellTable文件。

9.如权利要求7所述的更新装置，其特征在于，所述确定单元，还用于在将所述第一版图从所述原工艺平台对应的第一版图数据库中导出时，得到所述第一版图对应的几何数据标准GDS文件。

10.如权利要求9所述的更新装置，其特征在于，所述确定单元，具体用于将得到的所述第一版图对应的GDS文件、预先确定出的所述新工艺平台对应的PDK文件、以及调整后的所述pCellTable文件均导入至所述新工艺平台对应的第二版图数据库中；根据所述第二版图数据库，得到所述第二版图。

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