CN114551559A - 一种显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，该显示面板包括：衬底基板；位于衬底基板一侧的像素定义层和多个支撑柱；像素定义层包括多个开口结构；支撑柱位于像素定义层背离衬底基板的一侧，且在垂直于衬底基板所在平面的方向上，支撑柱与开口结构互不交叠；任意两个支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值；第一表面为支撑柱背离衬底基板一侧的表面。上述技术方案确保任意两个支撑柱最高点的高度相近，使得各支撑柱的高度保持一致，确保后续制程中所制备的膜层厚度的均一性，改善了后续的成膜质量，提高了显示面板的成品率，进而提高了显示面板中器件的使用寿命，以及显示面板的显示效果。
Description
技术领域
本发明实施例涉及显示技术，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode)OLED显示器具备低功耗、宽视角、响应速度快、超轻期薄、抗震性好等特点，使用温度范围宽，可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点被认为是最有发展潜力的显示装置。
在制备OLED器件中需要用到支撑柱(Point Supporting简称：PS)，PS制备在OLED器件结构中的像素定义层上面，其作用是为了支撑蒸镀MASK(掩膜板)，防止MASK(掩膜板)刮伤像素定义层、发光层等已经制备好的膜层。
但是，在OLED器件的制备过程中，PS极易与蒸镀的MASK(遮挡板)产生碰撞划伤，划伤产生的尖角、毛刺等异常容易影响后续制程的成膜质量，影响成膜的均一性，导致水氧侵入器件，影响器件的寿命，甚至导致器件失效。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，以提高显示面板的成品率，从而提高显示面板中器件的使用寿命，以及显示面板的显示效果。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：
衬底基板；
位于衬底基板一侧的像素定义层和多个支撑柱；所述像素定义层包括多个开口结构；所述支撑柱位于所述像素定义层背离所述衬底基板的一侧，且在垂直于所述衬底基板所在平面的方向上，所述支撑柱与所述开口结构互不交叠；
任意两个所述支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值；所述第一表面为所述支撑柱背离所述衬底基板一侧的表面。
第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法，用于制备本发明实施例所述的显示面板，该方法包括：
提供衬底基板；
在所述衬底基板的一侧形成像素定义层和多个支撑柱；所述像素定义层包括多个开口结构；所述支撑柱位于所述像素定义层背离所述衬底基板的一侧，且在垂直于所述衬底基板所在平面的方向上，所述支撑柱与所述开口结构互不交叠；
对至少部分所述支撑柱的第一表面进行表面处理，以使任意两个所述支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值；所述第一表面为所述支撑柱背离所述衬底基板一侧的表面。
第三方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例所述的显示面板。
本发明实施例，通过在衬底基板一侧设置包括多个开口结构的像素定义层，以定义出发光器件的位置，以及在像素定义层背离衬底基板的一侧设置多个支撑柱，可以在制备发光器件时，采用支撑柱支撑制备发光器件的掩膜版，得到具有较高精度的发光器件的发光功能层；同时，在去除制备发光器件的掩膜版后，可对至少部分的支撑柱进行表面处理，以使得任意两个支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值，确保任意两个支撑柱最高点的高度相近，使得各支撑柱的高度保持一致，从而不至于因支撑柱与制备发光器件的掩膜版碰撞被划伤，产生的尖角、毛刺等，而影响后续的制程，确保后续制程中所制备的膜层厚度的均一性，改善了后续的成膜质量，提高了显示面板的成品率，进而提高了显示面板中器件的使用寿命，以及显示面板的显示效果。
应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本发明的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本发明的范围。本发明的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中的一种显示面板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程框图；
图5-图12为本发明实施例提供的一种显示面板制备过程中的结构示意图；
图13为本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程框图；
图14-图15为本发明实施例提供的又一种显示面板制备过程中的结构示意图；
图16为本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程框图；
图17为本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程框图；
图18为本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程框图；
图19为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。
需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
图1为现有技术中的一种显示面板的结构示意图。如图1所示，显示面板10包括衬底基板01、发光器件02、像素定义层03和支撑柱031，支撑柱031位于像素定义层03远离衬底基板01一侧。在制备发光器件02的过程中，支撑柱031会支撑制备发光器件02的发光功能层的掩膜版，但是支撑柱031在支撑掩膜版的过程中容易被掩膜版刮伤，导致支撑柱031上远离衬底基板01一侧的表面有尖角、毛刺等异常凸起，会影响后续制程，导致后续制程成膜质量差，甚至在尖角、毛刺等异常凸起处无法成膜的现象产生，影响成膜的均一性，致使后续的膜层无法对发光器件02进行保护，导致水氧等进入发光器件02所在的位置，加速发光器件02的老化过程，降低发光器件02的发光效果和使用寿命，甚至会损坏发光器件02。
现有技术中，没有针对支撑柱031上远离衬底基板01一侧的异常凸起的解决方案，现有的显示面板无法长期在温湿度较高的环境中使用，这样就限定了显示面板的应用场景，但是本发明实施例提供的显示面板可以很好地解决上述问题。
为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种显示面板，图2为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。如图2所示，显示面板100包括衬底基板200、位于衬底基板200一侧的像素定义层300和多个支撑柱400；像素定义层300包括多个开口结构310，发光器件500的发光功能层530可设置于开口结构310中；支撑柱400位于像素定义层300背离衬底基板200的一侧，且在垂直于衬底基板200所在平面的方向上，支撑柱400与开口结构310互不交叠；任意两个支撑柱400的第一表面410的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值；第一表面410为支撑柱400背离衬底基板200一侧的表面。
其中，发光器件500可以包括但不限于有机发光二极管(OLED)。示例性的，发光器件500可以包括第一电极510、第二电极520、以及位于第一电极510和第二电极520之间的发光功能层530，在衬底基板200一侧设置第一电极510，且在第一电极510背离衬底基板200一侧设置包括多个开口结构310的像素定义层300，开口结构310能够暴露出第一电极510，以便于后续发光器件500的发光功能层530的形成。在像素定义层300背离衬底基板200一侧设置多个支撑柱400，支撑柱400用于在制备发光功能层530时支撑掩膜版，为提高发光功能层530的制备精度，可在显示面板100的显示区(图中未示出)设置多个支撑柱400，其中，可采用蒸镀的方法制备发光功能层530。由于支撑柱400所支撑的掩膜版与支撑柱400发生碰撞后，会刮伤支撑柱400，使得被刮伤的支撑柱400的最高点与未被刮伤的支撑柱之间的最高点之间具有较大的差异，或者，被不同程度刮伤或刮伤位置不同的支撑柱400的最高点之间也会具有较大的差异，因此在发光功能层530制备完成后，可对支撑柱400的第一表面410进行表面处理，使得任意两个支撑柱400的第一表面410的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值，第一预设差值为较小的距离值，例如可以为1μm。需要说明的是，为方便理解，图2仅是示例性的示出了在相邻发光器件500之间有支撑柱400，本发明实施例对支撑柱400的数量及位置分布不做具体限定。
本发明实施例，通过在衬底基板一侧设置包括多个开口结构的像素定义层，以定义出发光器件的位置，以及在像素定义层背离衬底基板的一侧设置多个支撑柱，可以在制备发光器件时，采用支撑柱支撑制备发光器件的掩膜版，得到具有较高精度的发光器件的发光功能层；同时，在去除制备发光器件的掩膜版后，可对至少部分的支撑柱进行表面处理，以使得任意两个支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值，确保任意两个支撑柱最高点的高度相近，使得各支撑柱的高度保持一致，从而不至于因支撑柱与制备发光器件的掩膜版碰撞被划伤，产生的尖角、毛刺等，而影响后续的制程，确保后续制程中所制备的膜层厚度的均一性，改善了后续的成膜质量，提高了显示面板的成品率，进而提高了显示面板中器件的使用寿命，以及显示面板的显示效果。
可以理解的是，继续参考图2，显示面板100还可以包括位于衬底基板200与发光器件500之间的像素电路210，以及位于像素电路210与发光器件300之间的平坦化层220；发光器件500的第一电极510通过贯穿平坦化层220的过孔与像素电路210电连接。其中，像素电路210可以包括有源器件和/或无源器件，有源器件包括但不限于晶体管，无源器件包括电感、电容、电阻等元件。
需要说明的是，图2仅示例性的以一个晶体管结构为例代表像素电路结构，本发明实施例对像素电路的结构组成不做具体限定。同时，图2中仅示例性地示出了显示面板的各个膜层及其相对位置关系，在能够满足本发明实施例的核心发明点的前提下，本发明实施例对显示面板中各个膜层及其相对位置关系不做具体限定。
可选的，最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值的任意两个支撑柱在第一方向上的距离L小于预设距离，其中，第一方向平行于衬底基板所在平面。其中，预设距离可以根据显示面板的面积、发光器件的制备精度、支撑柱的精度等进行合理设置，例如预设距离可以为145μm、200μm、300μm等距离值。
示例性的，在以预设距离为直径的圆形区域内，包括至少两个支撑柱，任意两个支撑柱在第一方向上的距离L均小于预设距离，且这两个支撑柱的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值。也可以以预设距离为最大对角线长的矩形、菱形或梯形区域内，包括至少两个支撑柱，任意两个支撑柱在第一方向上的距离L均小于预设距离，且这两个支撑柱的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值。在像素定义层背离衬底基板一侧可以包括多个特定区域，其中，特定区域的面积与预设距离以及特定区域的形状有关，在特定区域内任意两个支撑柱的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值，使得区域内支撑柱之间的最高点的高度保持一致，且相邻两个特定区域可相互独立或具有交叠，任意两个特定区域的支撑柱的最高点的高度可以是渐变的或保持一致的，而不是异常突变的，如此，后续制程中所形成的膜层能够具有良好的厚度均一性，使得后续制程中所形成的膜层能够对发光器件起到良好的保护作用，从而提高发光器件的使用寿命，进而提高显示面板的质量以及显示面板的显示效果。
可选的，支撑柱的第一表面的各个位置与衬底基板之间高度的平均值为该支撑柱的高度平均值；邻近的任意两支撑柱的高度平均值之间的差值为ΔH’，ΔH’小于第二预设差值。其中，第二预设差值为趋于0的值。
示例性的，任意两个支撑柱的第一表面的最高点的高度差ΔH小于1μm，临近的任意两个第一表面的各个位置与衬底基板之间高度的平均值趋于一致，使得各支撑柱的第一表面的高度状态保持一致，确保临近的任意两个支撑柱的第一表面上各个位置处不会存在异常凸起，使得后续制程中在支撑柱的第一表面上可以形成具有均一厚度的膜层，从而提高发光器件的使用寿命，进而提高显示面板的质量以及显示面板的显示效果。
可选的，至少部分支撑柱的第一表面包括粗糙区；粗糙区的粗糙度大于预设粗糙度。具体的，粗糙区的粗糙度大于第一表面的其它区域(粗糙区以外的区域)或者已有膜层的表面粗糙度，预设粗糙度可以是第一表面的其它区域或者已有膜层的表面粗糙度。示例性的，在衬底基板一侧制备像素定义层和多个支撑柱之后，像素定义层的表面和支撑柱的第一表面的粗糙度较小，对第一表面中与掩膜版接触的区域进行表面处理后，可去除第一表面的异常凸起，第一表面中进行表面处理之后的区域的粗糙度会变大，使得第一表面中进行表面处理之后的区域的粗糙度大于未进行表面处理的区域，也大于第一表面之外的区域。在一可选的实施例中，支撑柱中第一表面的粗糙区的粗糙度大于像素定义层表面的粗糙度。其中，像素定义层和支撑柱可在同一工艺流程下制备，也可以在不同的工艺流程下制备。
可选的，支撑柱在衬底基板上的正投影的面积为S；粗糙区在衬底基板上的正投影的面积为M；同一支撑柱中，0.5S≤M≤S。示例性的，对支撑柱的第一表面至少一半及以上的区域进行表面处理，得到的粗糙区在衬底基板上的正投影的面积占至少一半支撑柱在衬底基板上的正投影的面积，即可对支撑柱第一表面的大部分区域进行表面处理，以尽可能地去除支撑柱第一表面上的异常凸起。其中，粗糙区可以包括第一表面的最高点。
可选的，图3为本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图，如图3所示，显示面板100还包括位于支撑柱400和像素定义层300背离衬底基板200一侧的封装层600，封装层600包括第一无机薄膜610；第一无机薄膜的厚度为T1,第一无机薄膜的厚度可以根据实际需要设定，例如可以为1μm；其中，|ΔH|<T1。
示例性的，封装层600可以将发光器件500与外界环境隔绝开，延长发光器件500的使用寿命，第一无机薄膜610为封装层600中最靠近衬底基板200一侧，例如第一无机薄膜610可位于第二电极520背离衬底基板的一侧，第一无机薄膜610的形状及成膜质量受支撑柱400影响，当任意两个支撑柱400的第一表面410的最高点之间的高度差ΔH小于第一无机薄膜610的厚度T1，或第一无机薄膜610的厚度T1大于任意两个支撑柱400的第一表面410的最高点之间的高度差ΔH时，第一无机薄膜610的可以完全覆盖第二电极520和各支撑柱400，从而能够形成一个阻隔水氧进入发光器件500中的保护屏障，从而提高发光器件500的发光寿命，提高显示面板100的质量。
示例性的，封装层600还可以包括有机层630和第二无机薄膜620，第二无机薄膜620位于第一无机薄膜640背离衬底基板200的一侧，有机层630位于第一无机薄膜610和第二无机薄膜620之间。第二无机薄膜620用于阻隔外界环境中的水氧，有机层630能够使得第一无机薄膜610背离衬底基板的一侧保持平整，以便于后续制程的成膜，但是有机层630可作为传输水氧的介质，容易导致水氧侵入发光器件500，通过第一无机薄膜610可以隔绝有机层630中的水氧，保护发光器件500不被水氧侵入。其中，可采用化学气相沉积的方法制备第一无机薄膜610和第二无机薄膜620，具有厚度均匀、致密性好、无针孔等优点；可采用喷涂的方法制备有机层630，使得有机层630能够平铺于第一无机层610背离衬底基板200的一侧，增加显示面板的表面平整度。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供一种显示面板的制备方法，用于制备本发明实施例的显示面板。图4为本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程框图，如图4所示，该方法为：
S110、提供衬底基板。
其中，衬底基板可以是柔性衬底基板，例如聚酰亚胺(Polyimide，PI)，也可以是刚性衬底基板，例如ITO玻璃。
S120、在衬底基板的一侧形成像素定义层和多个支撑柱。
其中，像素定义层包括多个开口结构；支撑柱位于像素定义层背离衬底基板的一侧，且在垂直于衬底基板所在平面的方向上，支撑柱与开口结构互不交叠。在衬底基板一侧设置包括多个开口结构的像素定义层，可以定义出发光器件的位置，在像素定义层背离衬底基板的一侧设置多个支撑柱，可以在制备发光器件的发光功能层时，采用支撑柱支撑制备发光器件的掩膜版，得到具有较高精度的发光器件的发光功能层。
示例性的，参考图5-图10，在形成像素定义层和多个支撑柱之前，还会在衬底基板200一侧设置像素电路210，在像素电路210背离衬底基板200的一侧设置平坦化层220；在平坦化层200制备完成后，形成贯穿平坦化层200的过孔；在平坦化层220背离衬底基板200的一侧形成发光器件500的第一电极510，第一电极510可通过相应的过孔与像素电路210电连接；在第一电极510制备完成后，会分别形成像素定义层300和多个支撑柱400；其中，可通过在第一电极510背离衬底基板200的一侧形成一整层的像素定义层300，并采用相应的掩膜版对该整层的像素定义层300进行曝光、显影等工艺，使得像素定义层300的相应位置处形成开口结构310，以露出部分第一电极510，该开口结构310的位置即为后续制程中发光器件的发光功能层的形成位置，其中，开口结构310并不限于仅如图7中所示的形状；形成像素定义层300及其开口结构310后，可通过喷涂或者与像素定义层相同的制程等方式在像素定义层300背离衬底基板200一侧形成多个支撑柱400。在形成像素电极层300和支撑柱400之后，可利用支撑柱400支撑掩膜版531，采用蒸镀的方法，将发光器件500的发光功能层530形成于开口结构310中，此时，支撑柱400的第一表面410会与掩膜版501接触，从而无法避免支撑柱400与掩膜版501发生碰撞，致使支撑柱400刮伤；在发光功能层530制备完成后，因与掩膜版501发生碰撞，支撑柱400被刮伤，从而使得被刮伤的支撑柱400的第一表面410产生异常凸起(和/或毛刺等)420，使得被刮伤的支撑柱400的最高点与其它支撑柱的最高点之间存在较大的高度差ΔH’，从而影响后续的膜层的成膜均一性。
S130、对至少部分支撑柱的第一表面进行表面处理，以使任意两个支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值。
其中，第一表面为所述支撑柱背离所述衬底基板一侧的表面；表面处理方法包括但不限于激光处理、物理打磨、化学腐蚀等方法。
示例性的，如图11和图12，在发光器件50的发光功能层530制备完成后，可对至少部分的支撑柱进行表面处理，该至少部分支撑柱例如可以包括但不限于被刮伤的支撑柱400，以使得任意两个支撑柱400的第一表面410的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值，确保任意两个支撑柱最高点的高度相近，使得各支撑柱的高度保持一致。在对支撑柱400的第一表面410进行表面处理后，在像素定义层300、支撑柱400以及发光功能层530背离衬底基板200一侧形成第二电极520，该第二电极520能够均匀覆盖像素定义层300、支撑柱400以及发光功能层530，使得第二电极520具有均一的成膜厚度，从而便于第二电极520之后的其它膜层的成膜。
本发明实施例，通过提供衬底基板并在衬底基板一侧形成包括多个开口结构的像素定义层，可以定义出发光器件的位置，以及在像素定义层背离衬底基板的一侧形成多个支撑柱，可以在制备发光器件时，采用支撑柱支撑制备发光器件的掩膜版，得到具有较高精度的发光器件的发光功能层；同时，在去除制备发光器件的掩膜版后，对至少部分支撑柱的第一表面进行表面处理，可去除第一表面的异常凸起，使得任意两个支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值，确保任意两个支撑柱最高点的高度相近，使得各支撑柱的高度保持一致，从而不至于因支撑柱与制备发光器件的掩膜版碰撞被划伤，产生的尖角、毛刺等，而影响后续的制程，确保后续制程中所制备的膜层厚度的均一性，改善了后续的成膜质量，提高了显示面板的成品率，进而提高了显示面板中器件的使用寿命，以及显示面板的显示效果。
需要说明的是，上述实施例中，支撑柱和像素定义层在不同的制程中形成，而在本发明实施例中，支撑柱和像素定义层也可以在同一制程中形成。可选的，图13为本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程框图，如图13所示，该方法为：
S210、提供衬底基板。
S220、在衬底基板的一侧形成掩模层。
S230、采用第一掩膜版对掩膜层进行掩膜，以分别形成像素定义层和多个支撑柱。
其中，像素定义层包括多个开口结构；支撑柱位于像素定义层背离衬底基板的一侧，且在垂直于衬底基板所在平面的方向上，支撑柱与开口结构互不交叠。
S240、对至少部分支撑柱的第一表面进行表面处理，以使任意两个支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值。
示例性的，参考图14和图15，在形成具有较厚后的掩模层340后，可在掩模层340背离衬底基板200的一侧放置第一掩模板700，该第一掩膜版700可以包括完全透光区710、半透光区720以及不透光区730，且半透光区720包围完全透光区710以及不透光区730；其中，完全透光区710对应于形成开口结构310的区域，半透光区720对应于形成像素定义层300的区域，不透光区730对应于形成支撑柱400的区域，其中，对应于形成支撑柱400的区域的不透光区730也可以为透光率极小的半透光区。通过控制掩膜版的透光率可得到不同厚度的掩膜层，即可分别形成支撑柱、不同开口结构、以及像素定义层的保留结构。如此，在同一制程中同时形成包像素定义层和支撑柱，可以简化工艺流程，提高生产效率，减少生产成本。
可选的，图16为本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程框图，如图16所示，该方法为：
S310、提供衬底基板。
S320、在衬底基板的一侧形成像素定义层和多个支撑柱。
其中，像素定义层包括多个开口结构；支撑柱位于像素定义层背离衬底基板的一侧，且在垂直于衬底基板所在平面的方向上，支撑柱与开口结构互不交叠。
S330、向至少部分支撑柱的第一表面发射激光信号，以在第一表面形成粗糙区，使得任意两个支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值。
其中，粗糙区的粗糙度大于预设粗糙度。
示例性的，在使用支撑柱支撑器件掩膜版进行蒸镀过程之后，器件掩膜版可能刮伤支撑柱的第一表面，第一表面出现异常凸起，可使用激光束定向轰击支撑柱的第一表面，将支撑柱的第一表面的异常凸起打掉，使得任意两个支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值，确保任意两个支撑柱最高点的高度相近，使得各支撑柱的高度保持一致从而不至于因支撑柱与制备发光器件的掩膜版碰撞被划伤，产生的尖角、毛刺等，而影响后续的制程，确保后续制程中所制备的膜层厚度的均一性，改善了后续的成膜质量，提高了显示面板的成品率，进而提高了显示面板中器件的使用寿命，以及显示面板的显示效果。可以理解的是，进行表面处理后的区域的粗糙度变大，使得第一表面中进行表面处理之后的区域的粗糙度大于未进行表面处理的区域，也大于第一表面之外的区域。其中，像素定义层和支撑柱可在同一工艺流程下制备，使得在首次形成像素定义层和支撑柱时，素定义层和支撑柱的表面粗糙度保持一致，而在对支撑柱的第一表面进行表面处理后，支撑柱的第一表面的表面粗糙度对应增加，从而使得支撑柱的第一表面的粗糙度大于像素定义层表面的粗糙度。
为达到较好的轰击效果，更好地打掉支撑柱的第一表面的异常凸起，可以根据实际需求以及实际效果选择合适的激光波段。可选的，支撑柱吸光波段的波长上限为λ1以及波长下限为λ2；激光信号的波长为λ0，λ2≤λ0≤λ1。具体的，射向第一表面的激光信号的波长应处于支撑柱的可吸收范围内。
上述实施例使用的是能量较高的激光束，可直接对支撑柱的第一表面进行定向轰击时，由于激光束的精度较高，无需掩膜版即可实现精准定向轰击；而对于能量较低的激光束，激光束的精度较低，需要借助掩膜版实现定向轰击。
可选的，图17为本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程框图，如图17所示，该方法为：
S410、提供衬底基板。
S420、在衬底基板的一侧形成像素定义层和多个支撑柱。
其中，像素定义层包括多个开口结构；支撑柱位于像素定义层背离衬底基板的一侧，且在垂直于衬底基板所在平面的方向上，支撑柱与开口结构互不交叠。
S430、在支撑柱背离衬底基板的一侧放置第二掩膜版。
其中，第二掩膜版包括遮挡区和与至少部分支撑柱一一对应镂空区；镂空区露出支撑柱；镂空区用于透过激光信号；遮挡区用于阻挡激光信号。
S440、向至少部分支撑柱的第一表面发射激光信号，以在第一表面形成粗糙区，使得任意两个支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值。
示例性的，在向至少部分支撑柱的第一表面发射激光信号之前，在支撑柱背离衬底基板的一侧放置第二掩膜版，第二掩膜版的遮挡区可保护显示面板中无需表面处理的区域不接收激光信号，使得仅有支撑柱的第一表面的至少部分区域接收激光信号，该激光信号能够将支撑柱第一表面的异常凸起去除，从而使得任意两个支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值，确保任意两个支撑柱最高点的高度相近，使得各支撑柱的高度保持一致，从而不至于因支撑柱与制备发光器件的掩膜版碰撞被划伤，产生的尖角、毛刺等，而影响后续的制程，确保后续制程中所制备的膜层厚度的均一性，改善了后续的成膜质量，提高了显示面板的成品率，进而提高了显示面板中器件的使用寿命，以及显示面板的显示效果。
可选的，可选的，图18为本发明实施例提供的又一种显示面板的制备方法的流程框图，如图18所示，该方法为：
S510、提供衬底基板。
S520、在衬底基板的一侧形成像素定义层和多个支撑柱。
其中，像素定义层包括多个开口结构；支撑柱位于像素定义层背离衬底基板的一侧，且在垂直于衬底基板所在平面的方向上，支撑柱与开口结构互不交叠。
S530、对至少部分支撑柱的第一表面进行表面处理，以使任意两个支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值。
S540、在支撑柱和像素定义层背离衬底基板一侧形成封装层；封装层包括第一无机薄膜。其中，第一无机薄膜的厚度为T1；T1＞ΔH。
示例性的，参考图3，第一无机薄膜610为封装层600中最靠近衬底基板200一侧，可采用化学气相沉积的方法在支撑柱400背离衬底基板200一侧形成第一无机薄膜610，第一无机薄膜610可保护发光器件500不被水氧侵入。第一无机薄膜610的形状及成膜质量受支撑柱400的影响，当任意两个支撑柱400的第一表面410的最高点之间的高度差ΔH小于第一无机薄膜610的厚度T1，或第一无机薄膜610的厚度T1大于任意两个支撑柱400的第一表面410的最高点之间的高度差ΔH时，使得在支撑柱400和像素定义层300背离衬底基板200一侧可以形成厚度均一的第一无机薄膜610，第一无机薄膜610可以均匀的覆盖第二电极520，均一厚度的第一无机薄膜610可以更好的保护发光器件500不被水氧侵入，提高显示面板100的质量。
示例性的，继续参考图3，封装层600还包括有机层630和第二无机薄膜620，可采用喷涂的方法在第一无机薄膜610背离衬底基板200一侧形成有机层630，然后采用化学气相沉积的方法在有机层630背离衬底基板200一侧形成第二无机薄膜620。第二无机薄膜620用于阻隔外界环境中的水氧，有机层630能够使得第一无机薄膜610背离衬底基板的一侧保持平整，以便于后续制程的成膜，但是有机层630可作为传输水氧，容易导致水氧侵入发光器件500，通过第一无机薄膜610可以隔绝有机层630中传输的水氧，保护发光器件500不被水氧侵入，延长发光器件500的寿命，进而提高显示面板中器件的使用寿命以及显示面板的显示效果。
本发明实施例，通过在蒸镀过程之后，对至少部分所述支撑柱的第一表面进行表面处理，可以去除第一表面的异常凸起，避免后续制程中成膜不均匀，也避免封装层中的第一无机薄膜不能很好的隔绝水氧，从而进一步提高显示面板的质量，提高显示效果。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供一种显示装置，图19为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。如图19所示，该显示装置20可以包括本发明实施例提供的显示面板100。该显示装置20可以包括但不限于手机、笔记本电脑、可穿戴设备(例如手表、手环等)、以及其它非便携设备的显示器等。
由于本发明实施例提供的显示装置包括本发明任意实施例所提供的显示面板，因此本发明实施例提供的显示装置包括该显示面板相应的功能模块，能够达到本发明实施例提供的显示面板的有益效果。未在上述实施例中详尽描述的技术细节，可参见上述对本发明实施例所提供的显示面板的描述。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (13)
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
衬底基板；
位于衬底基板一侧的像素定义层和多个支撑柱；所述像素定义层包括多个开口结构；所述支撑柱位于所述像素定义层背离所述衬底基板的一侧，且在垂直于所述衬底基板所在平面的方向上，所述支撑柱与所述开口结构互不交叠；
任意两个所述支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值；所述第一表面为所述支撑柱背离所述衬底基板一侧的表面。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值的任意两个所述支撑柱在第一方向上的距离L小于预设距离；所述第一方向平行于所述衬底基板所在平面。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述支撑柱的第一表面的各个位置与所述衬底基板之间高度的平均值为该所述支撑柱的高度平均值；
邻近的任意两个所述支撑柱的高度平均值之间的差值ΔH’小于第二预设差值。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，至少部分所述支撑柱的所述第一表面包括粗糙区；所述粗糙区的粗糙度大于预设粗糙度。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述支撑柱在所述衬底基板上的正投影的面积为S；所述粗糙区在所述衬底基板上的正投影的面积为M；
同一所述支撑柱中，0.5S≤M≤S。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：
位于所述支撑柱和所述像素定义层背离所述衬底基板一侧的封装层；所述封装层包括第一无机薄膜；所述第一无机薄膜的厚度为T1；其中，|ΔH|<T1。
7.一种显示面板的制备方法，用于制备权利要求1-6任一项所述的显示面板，其特征在于，包括：
提供衬底基板；
在所述衬底基板的一侧形成像素定义层和多个支撑柱；所述像素定义层包括多个开口结构；所述支撑柱位于所述像素定义层背离所述衬底基板的一侧，且在垂直于所述衬底基板所在平面的方向上，所述支撑柱与所述开口结构互不交叠；
对至少部分所述支撑柱的第一表面进行表面处理，以使任意两个所述支撑柱的第一表面的最高点之间的高度差ΔH小于第一预设差值；所述第一表面为所述支撑柱背离所述衬底基板一侧的表面。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述衬底基板的一侧形成像素定义层和多个支撑柱，包括：
在所述衬底基板的一侧形成掩模层；
采用第一掩膜版对所述掩膜层进行掩膜，以分别形成所述像素定义层和多个所述支撑柱。
9.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，对至少部分所述支撑柱的第一表面进行表面处理，包括：
向至少部分所述支撑柱的第一表面发射激光信号，以在所述第一表面形成粗糙区；所述粗糙区的粗糙度大于预设粗糙度。
10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在向至少部分所述支撑柱的第一表面发射激光信号之前，还包括：
在所述支撑柱背离所述衬底基板的一侧放置第二掩膜版；所述第二掩膜版包括遮挡区和与至少部分所述支撑柱一一对应镂空区；所述镂空区露出所述支撑柱；所述镂空区用于透过所述激光信号；所述遮挡区用于阻挡所述激光信号。
11.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述支撑柱吸光波段的波长上限为λ1以及波长下限为λ2；所述激光信号的波长为λ0，其中，λ2≤λ0≤λ1。
12.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在对至少部分所述支撑柱的第一表面进行表面处理之后，还包括：
在所述支撑柱和所述像素定义层背离所述衬底基板一侧形成封装层；所述封装层包括第一无机薄膜；所述第一无机薄膜的厚度为T1；其中，ΔH<T1。
13.一种显示装置，其特征在于，包括：权利要求1-6任一项所述的显示面板。
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