CN114501872A

CN114501872A - 盖板的纹理制备方法、盖板、电子设备

Info

Publication number: CN114501872A
Application number: CN202011153228.6A
Authority: CN
Inventors: 张辉
Original assignee: Oneplus Technology Shenzhen Co Ltd
Current assignee: Oneplus Technology Shenzhen Co Ltd
Priority date: 2020-10-23
Filing date: 2020-10-23
Publication date: 2022-05-13

Abstract

本申请公开一种盖板的纹理制备方法，包括：提供盖板；在所述盖板作为外观的表面喷涂光感涂层，并将光感涂层烘干；调整激光器镭雕设备激光线宽为预设阈值，对所述盖板上的光感涂层进行镭雕曝光，在光感涂层进行镭雕曝光的部位生成纹理图案；按照所述纹理图案对盖板进行蚀刻，从而在盖板上形成纹理线条；在光感涂层上镭雕曝光出不同线径及线宽的纹理图案，使用小于0.01mm的程度激光线宽镭雕曝光出的纹理图案，能够曝光出线宽或线距小于0.01mm的纹理图案，因此在蚀刻时能够根据纹理图案在盖板上蚀刻出线宽或线距小于0.01mm的较为精细的纹理，因此有利于实现盖板的精细化。

Description

盖板的纹理制备方法、盖板、电子设备

技术领域

本申请涉及玻璃加工技术领域，具体涉及一种盖板的纹理制备方法、盖板、电子设备。

背景技术

现有的一些设备，经常会在表面设置一层盖板，且在盖板上做一些纹理。

现有的在盖板上做纹理的方法，主要是使用曝光显影及蚀刻的技术，先将贴在玻璃上的菲林膜片曝光，显影生成纹理图案，随后根据纹理图案在盖板上蚀刻出纹理。

但是，现有技术中的方法，盖板上纹理的精细度及复杂度完全依赖于曝光显影技术及用于曝光显影的菲林膜片的精细度及复杂度，而菲林膜片的精细度及复杂度较低，无法曝光出线宽或线距小于0.01mm的纹理图案，因此在蚀刻时也无法将纹理图案蚀刻为精细的纹理(线宽或线距小于0.01mm的纹理)，因此限制了盖板纹理的精细化发展。

发明内容

鉴于此，本申请提供一种盖板的纹理制备方法，以解决现有的盖板的纹理无法进行精细化的问题。

本申请第一方面提供一种盖板的纹理制备方法，包括：提供盖板；在所述盖板作为外观的表面喷涂光感涂层，并将光感涂层烘干；调整激光器镭雕设备激光线宽为预设阈值，对所述盖板上的光感涂层进行镭雕曝光，在光感涂层进行镭雕曝光的部位生成纹理图案；按照所述纹理图案对盖板进行蚀刻，从而在盖板上形成纹理线条。

本申请上述的盖板的纹理制备方法，通过调整激光的宽度，能够在光感涂层上镭雕曝光出不同线径及线宽的纹理图案，而激光线宽，能够根据预设阈值调整或更换激光器镭雕设备进行调整，并且目前激光线宽已经能够做到远小于0.01mm的程度，因此使用镭雕曝光出的纹理图案，能够曝光出线宽或线距小于0.01mm的纹理图案，因此在蚀刻时能够根据纹理图案在盖板上蚀刻出线宽或线距小于0.01mm的较为精细的纹理，因此有利于实现盖板的精细化。

本申请第二方面提供一种盖板，包括基板，所述基板作为外观的表面设置有纹理线条，所述纹理线条的线宽、相邻纹理线条之间的线距均小于0.01mm，且大于0.007mm。

本申请第三方面提供一种电子设备，包括上述中的盖板，还包括电子设备本体，所述盖板设置在所述电子设备本体的表面。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例的盖板的纹理制备方法的流程示意图；

图2是本申请实施例的盖板的纹理制备方法的另一流程示意图；

图3是本申请实施例盖板的纹理制备方法加工出的第一种盖板的纹理放大示意图；

图4是本申请实施例盖板的纹理制备方法加工出的第二种盖板的纹理放大示意图；

图5是本申请实施例盖板的纹理制备方法加工出的第三种盖板的曲面边缘的纹理放大示意图；

图6是本申请实施例盖板的纹理制备方法加工出的第四种盖板的曲面边缘的纹理放大示意图。

具体实施方式

下面结合附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而非全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。在不冲突的情况下，下述各个实施例及其技术特征可以相互组合。

请参阅图1，本申请实施例提供一种盖板的纹理制备方法，包括如下步骤：S1、提供盖板；S2、在盖板作为外观的表面喷涂光感涂层，并将光感涂层烘干；S3、调整激光器镭雕设备激光线宽为预设阈值，对盖板上的光感涂层进行镭雕曝光，在光感涂层进行镭雕曝光的部位生成纹理图案；S4、按照纹理图案对盖板进行蚀刻，从而在盖板上形成纹理线条。

在该实施例中，激光线宽预设阈值的预设阈值为0.01mm，在盖板上制备纹理时，通过在一台激光器上调整激光的宽度，或使用不同激光宽度的激光器，发射出激光宽度小于0.01mm的激光，因此能够在光感涂层上镭雕曝光出不同线径及线宽的纹理图案，而激光线宽，在目前已经能够做到远小于0.01mm的程度，因此使用镭雕曝光出的纹理图案，能够曝光出线宽或线距小于0.01mm的纹理图案，因此在蚀刻时能够根据纹理图案在盖板上蚀刻出线宽或线距小于0.01mm的较为精细的纹理，因此有利于实现盖板的精细化。

在其他实施例中，若想要加工线宽或线距大于0.01mm的纹理图案，则可通过在一台激光器上调整激光的宽度，或使用不同激光宽度的激光器，发射出激光宽度大于0.01mm的激光，从而加工线宽或线距大于0.01mm的纹理图案，在蚀刻时能够根据纹理图案在盖板上蚀刻出线宽或线距大于0.01mm的纹理。

另外，由于本实施例是在盖板上喷涂光感涂层，使得光感涂层能够轻易的被喷涂在一些高曲率或全曲面玻璃的曲面处，从而能够在这些盖板的曲面部分镭雕曝光出纹理图案，因此使得盖板的曲面部分也能曝光出精细纹理。

并且，由于本实施例使用的光感材料是光感涂层，光感涂层的价格要低于现有技术中使用的菲林膜片，因此本申请实施例提供的盖板的纹理制备方法，降低了在盖板上制备纹理的经济成本。

在一个实施例中，按照纹理图案对盖板上的光感涂层进行蚀刻的步骤包括：将未曝光的光感涂层从盖板上清除；在盖板未作为外观的表面喷涂耐酸蚀刻的保护油；使用酸性蚀刻液对盖板镭雕曝光有纹理图案的表面进行蚀刻，以在盖板上蚀刻出纹理。

将未曝光的光感涂层从盖板上清除，能够在盖板上仅余下曝光的纹理图案，防止未曝光的光感涂层在后续蚀刻的过程中，对在盖板上加工出纹理造成影响；在盖板上涂保护油能够在后续的蚀刻工序中，防止未作为外观的表面被蚀刻，使得对盖板进行蚀刻后，仅在盖板作为外观的表面加工出纹理。

在一个实施例中，盖板的纹理制备方法还包括：在盖板上喷涂光感涂层前，对盖板进行超声波清洗，并将盖板烘干。

在该实施例中，将盖板插入清洗子篮后，置于12槽超声波清洗机内对盖板进行清洗，通过清洗盖板，能够去除盖板上的污痕、灰尘等外界影响因素，防止外界影响因素对镭雕曝光光感涂层造成影响，或对盖板蚀刻时造成影响而使得加工出的纹理出现瑕疵的情况发生。

在一个实施例中，在盖板上喷涂光感涂层，喷涂的光感涂层厚度为5-10μm；在该实施例中，光感涂层为光感油墨，光感涂层的厚度为5μm；在其他实施例中，光感涂层的厚度还可为6μm、7μm、8μm、9μm或10μm。

5-10μm的光感涂层，能够降低光感涂层太厚而导致表面层被镭雕曝光、内里未被曝光的情况发生，且能够降低光感涂层太薄而使得曝光形成的纹理图案不清晰的情况发生。

在一个实施例中，对盖板上的光感涂层进行镭雕曝光，镭雕曝光使用355nm-455nm的紫光激光，在该实施例中，镭雕曝光可以使用405nm的紫光激光；在其他实施例中，镭雕曝光还可以使用355nm、365nm、375nm、385nm、395nm、415nm、425nm、435nm、445nm或455的紫光激光。

紫光激光由于短波长产生较小的光点，能够提供较高的分辨率，从而使得镭雕曝光纹理图案的线宽及线距能够更加精细化。

在一个实施例中，按照纹理图案对盖板上的光感涂层进行蚀刻的步骤之后，还包括：对盖板进行蚀刻，在盖板上生成纹理后，对盖板进行清洁，并使用强碱洗剂清洗盖板上的保护油。

使用强碱洗剂清洗盖板上的保护油后，在化学抛光液中对盖板进行双面抛光，抛光时间为2-5min；对抛光后的盖板进行超声波清洗。

在盖板上蚀刻出纹理后，为了盖板的美观及干净，还需将盖板上残余的保护油清洗干净，由于保护油耐酸蚀刻，因此使用强碱洗剂将清洗保护油。在该实施例中，先在一处清洗保护油，在另一处对盖板进行抛光。

在对盖板进行抛光后，能够使得盖板更加的具有光泽，从而提升了盖板的外观表现力。

在一个实施例中，方法还包括：对盖板进行蚀刻，在盖板上生成纹理后，在80～100℃的烧碱溶液中对盖板进行清洁蚀刻时用到的保护油及抛光；对抛光后的盖板进行超声波清洗。

在该实施例中，对盖板清洗保护油及抛光均在一处80～100℃的烧碱溶液中进行，相较于在两处分别进行清洗保护油及抛光的工序，节省了清洗保护油后将盖板转移至抛光处的时间；另外，由于抛光在烧碱溶液中进行，工作人员需做好防护，防止烧碱溶液滴溅至工作人员身上。

在一个实施例中，调整激光器镭雕设备激光线宽为小于0.01mm，大于0.007mm中的任一激光线宽。

该实施例中的盖板上的纹理的线宽及线距，依赖于镭雕曝光时的激光线宽，激光线宽最小为0.007mm，使得镭雕曝光出的纹理图案的线宽及线距最小为0.007mm，因此使得在盖板上蚀刻出的纹理的线宽及线距最小能够达到0.007mm，从而使得盖板的纹理更加精细化。

在本实施例中，通过控制激光能够在盖板上镭雕曝光出不同的纹理图案，从而进过蚀刻后在盖板上形成不同的纹理，例如图3所示的“品”字型纹理，又例如图4所示的方形纹理，又例如在高曲率或全曲面的盖板的曲面处的渐变纹理，图5为一种高曲率或全曲面的盖板的曲面处的渐变纹理，图6为另一种高曲率或全曲面的盖板的曲面处的渐变纹理，由于图3至图6的纹理的线宽及线距均小于0.01mm，因此为了便于展示，对图3至图6做了放大处理。

请参阅图2，在另一实施例中，盖板的纹理的制备方法包括：S11、提供玻璃盖板；S12、盖板进行超声波清洗，并将盖板烘干；S13、在盖板作为外观的表面喷涂光感涂层，并将光感涂层烘干；S14、调整激光器镭雕设备激光线宽为小于0.01mm，对盖板上的光感涂层进行镭雕曝光，在光感涂层进行镭雕曝光的部位生成纹理图案；S15、将未曝光的光感涂层从盖板上清除；S16、在盖板未作为外观的表面喷涂耐酸蚀刻的保护油；S17、使用酸性蚀刻液对盖板镭雕曝光有纹理图案的表面进行蚀刻，以在盖板上蚀刻出纹理；S18、盖板进行清洁，并使用强碱洗剂清洗盖板上的保护油；S19、化学抛光液中对盖板进行双面抛光；S20、对抛光后的盖板进行超声波清洗。

在该实施例中，通过调整激光的宽度，能够在光感涂层上镭雕曝光出不同线径及线宽的纹理图案，而激光线宽，在目前已经能够做到远小于0.01mm的程度，因此使用镭雕曝光出的纹理图案，能够曝光出线宽或线距小于0.01mm的纹理图案，因此在蚀刻时能够根据纹理图案在盖板上蚀刻出线宽或线距小于0.01mm的较为精细的纹理，因此有利于实现盖板的精细化。

本申请实施例还提供一种盖板，该盖板可采用上述任一实施例中的制作方法形成，也可以采用其他制作方法形成。该盖板包括基板，基板作为外观的表面设置有纹理线条，纹理线条与玻璃基板一体成型，纹理线条的线宽、相邻纹理线条之间的线距均小于0.01mm。

在该实施例中，基板为具有曲面的玻璃板。

该实施例提供的盖板，其上的纹理线条，为上述实施例盖板的纹理制备方法制备而成，盖板的纹理制备方法请参阅上述实施例，这里不再陈述。

本申请实施例还提供一种电子设备，包括盖板及电子设备本体，盖板设置在电子设备本体表面，盖板上设置有纹理，纹理可采用上述任一实施例中盖板的纹理制作方法形成，也可以采用其他制作方法形成，盖板也可采用上述盖板实施例提供的盖板。

其中，若使用的盖板为上述盖板的纹理制备方法实施例提供的盖板，盖板设置有纹理线条，为上述盖板的纹理制备方法的实施例制备而成的纹理线条，盖板的纹理制备方法请参阅上述实施例，这里不再陈述。

本申请中描述的电子设备可以但不限于为诸如手机、电话、平板电脑、笔记本电脑、掌上电脑、个人数字助理(Personal Digital Assistant，PDA)、便捷式媒体播放器(Portable Media Player，PMP)、电视机、影碟机、收录机、组合音响、激光唱机(CD)、游戏机、导航装置、可穿戴设备、智能手环、手表、计步器等移动终端，以及诸如数字TV、台式计算机等固定终端中的任意一种。

所述电子设备为移动终端，例如手机，所述盖板作为所述电子设备的电池盖或前盖，盖板上的纹理可以是电池盖的表面纹理、或表面渐变纹理，盖板上的纹理也可以呈现电子设备前盖边缘的曲面处的油墨渐变效果。

所述电子设备为家电设备，例如电视机，所述盖板作为所述电子设备的显示屏幕或外观玻璃。

尽管已经相对于一个或多个实现方式示出并描述了本申请，但是本领域技术人员基于对本说明书和附图的阅读和理解将会想到等价变型和修改。本申请包括所有这样的修改和变型，并且仅由所附权利要求的范围限制。特别地关于由上述组件执行的各种功能，用于描述这样的组件的术语旨在对应于执行所述组件的指定功能(例如其在功能上是等价的)的任意组件(除非另外指示)，即使在结构上与执行本文所示的本说明书的示范性实现方式中的功能的公开结构不等同。

即，以上所述仅为本申请的实施例，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，例如各实施例之间技术特征的相互结合，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

在本申请中，“示例性”一词是用来表示“用作例子、例证或说明”。本申请中被描述为“示例性”的任何一个实施例不一定被解释为比其它实施例更加优选或更加具优势。为了使本领域任何技术人员能够实现和使用本申请，本申请给出了以上描述。在以上描述中，为了解释的目的而列出了各个细节。应当明白的是，本领域普通技术人员可以认识到，在不使用这些特定细节的情况下也可以实现本申请。在其它实施例中，不会对公知的结构和过程进行详细阐述，以避免不必要的细节使本申请的描述变得晦涩。因此，本申请并非旨在限于所示的实施例，而是与符合本申请所公开的原理和特征的最广范围相一致。

Claims

1.一种盖板的纹理制备方法，其特征在于，包括：

提供盖板；

在所述盖板作为外观的表面喷涂光感涂层，并将光感涂层烘干；

调整激光器镭雕设备激光线宽为预设阈值，对所述盖板上的光感涂层进行镭雕曝光，在光感涂层进行镭雕曝光的部位生成纹理图案；

按照所述纹理图案对盖板进行蚀刻，从而在盖板上形成纹理线条。

2.根据权利要求1所述的盖板的纹理制备方法，其特征在于

所述按照所述纹理图案对盖板进行蚀刻的步骤包括：

将未曝光的光感涂层从盖板上清除；

在盖板未作为外观的表面喷涂耐酸蚀刻的保护油；

使用酸性蚀刻液对盖板镭雕曝光有纹理图案的表面进行蚀刻，以在盖板上蚀刻出纹理。

3.根据权利要求1所述的盖板的纹理制备方法，其特征在于，

所述在盖板上喷涂光感涂层，喷涂的光感涂层厚度为5-10μm。

4.根据权利要求1所述的盖板的纹理制备方法，其特征在于，

所述对盖板上的光感涂层进行镭雕曝光，镭雕曝光使用355nm-455nm的紫光激光。

5.根据权利要求1所述的盖板的纹理制备方法，其特征在于，按照纹理图案对盖板上的光感涂层进行蚀刻的步骤之后，

还包括：

所述对盖板进行蚀刻，在盖板上生成纹理后，对盖板进行清洁；

使用强碱洗剂清洗盖板上的保护油；

所述使用强碱洗剂清洗盖板上的保护油后，在化学抛光液中对盖板进行双面抛光，抛光时间为2-5min；

对抛光后的盖板进行超声波清洗。

6.根据权利要求2所述的盖板的纹理制备方法，其特征在于，

所述方法还包括：所述对盖板进行蚀刻，在盖板上生成纹理后，在80～100℃的烧碱溶液中对盖板进行清洁蚀刻时用到的保护油及抛光；

对抛光后的盖板进行超声波清洗。

7.根据权利要求1所述的盖板的纹理制备方法，其特征在于，

所述调整激光器镭雕设备激光线宽为小于0.01mm，大于0.007mm中的任一激光线宽。

8.根据权利要求1所述的盖板的纹理制备方法，其特征在于，

所述盖板的材质为玻璃。

9.一种盖板，其特征在于，包括基板，所述基板作为外观的表面设置有纹理线条，所述纹理线条的线宽、相邻纹理线条之间的线距均小于0.01mm，且大于0.007mm。

10.一种电子设备，其特征在于，包括如权利要求9所述的盖板，还包括电子设备本体，所述盖板设置在所述电子设备本体的表面。