CN114452418B - 一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统及方法 - Google Patents

一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统及方法 Download PDF

Info

Publication number
CN114452418B
CN114452418B CN202210374622.5A CN202210374622A CN114452418B CN 114452418 B CN114452418 B CN 114452418B CN 202210374622 A CN202210374622 A CN 202210374622A CN 114452418 B CN114452418 B CN 114452418B
Authority
CN
China
Prior art keywords
ion
ions
feedback
plasma
energy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202210374622.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114452418A (zh
Inventor
孔德华
黄保家
金浩强
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Raytheon Plasma Technology Hangzhou Co ltd
Original Assignee
Raytheon Plasma Technology Hangzhou Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Raytheon Plasma Technology Hangzhou Co ltd filed Critical Raytheon Plasma Technology Hangzhou Co ltd
Priority to CN202210374622.5A priority Critical patent/CN114452418B/zh
Publication of CN114452418A publication Critical patent/CN114452418A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114452418B publication Critical patent/CN114452418B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/14—Plasma, i.e. ionised gases
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/24—Apparatus using programmed or automatic operation
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H11/00—Magnetic induction accelerators, e.g. betatrons
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2202/00—Aspects relating to methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects
    • A61L2202/10—Apparatus features
    • A61L2202/11—Apparatus for generating biocidal substances, e.g. vaporisers, UV lamps
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2202/00—Aspects relating to methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects
    • A61L2202/20—Targets to be treated
    • A61L2202/24—Medical instruments, e.g. endoscopes, catheters, sharps

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)

Abstract

本发明公开了一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统及方法，包括电子控制中心和分别与电子控制中心相连的离子生成模块和离子喷射模块。在超声加湿近距离击穿技术基础上引进高能离子回授能量强化法，在等离子已经电离成功，并且经过回旋加速器强化获得高能量之后，将等离子引向电离室，在电离室中与大量的空气分子碰撞，激发与电离出更大批量的离子，或者使已经分解的离子获得更高的速度，满足用户需求，同时通过电子控制中心对电磁阀的控制，按照脉冲发生的时间和流量的要求，有节奏的开放和关闭，实现对离子喷射的浓度、间隔和时长的控制。

Description

一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统及方法
技术领域
本发明涉及消毒技术领域，尤其涉及一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统及方法。
背景技术
消毒和灭菌的各种方法已经用于不同种类的一次性或者重复使用的医疗设备的消毒和灭菌。在这些方法中，使用蒸汽或者干燥加热来消毒和灭菌的方法已经广泛使用。然而，这种消毒和灭菌的方法对通过这样的加热或者蒸汽相反地产生的物质的消毒没有什么用处。等离子体空气消毒因为其无耗材，低风阻的特性，被广泛用于等离子体空气消毒装置中，以用于杀灭空气中细菌病原体。
中国专利文献CN1450917A公开了一种“等离子体消毒装置”。包括：用于容纳要消毒的物品(9)的反应腔(1)，所述的物品被包在包装材料(10)中；分别设置在反应腔(1)内要消毒物品(9)上下的阳极(2)和阴极(3)；经质量流量控制器(4)连接到所述阳极(2)的注射加热器(5)；经过阻抗匹配电路(6)和阻抗匹配控制器(7)连接所述的阴极(3)的等离子体能量源(8)，用来产生高频能量；设在所述反应腔(1)下部的真空泵(11)，其中，在用等离子体消毒之前，通过所述的注射加热器液态的过氧化氢溶液(12)转化为气态的过氧化氢，之后，通过所述的质量流量控制器(4)以所需的压力对气态的过氧化氢进行调节和注射，从而完成预处理。上述技术方案中的等离子能量与浓度受限于构建消毒装置的组成部件，难以提高等离子能量与浓度以应对用户更高需求。
发明内容
本发明主要解决原有的技术方案等离子能量与浓度固定，难以应对更高需求的技术问题，提供一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统及方法，在超声加湿近距离击穿技术基础上引进高能离子回授能量强化法，在等离子已经电离成功，并且经过回旋加速器强化获得高能量之后，将等离子引向电离室，在电离室中与大量的空气分子碰撞，激发与电离出更大批量的离子，或者使已经分解的离子获得更高的速度，满足用户需求，同时通过电子控制中心对电磁阀的控制，按照脉冲发生的时间和流量的要求，有节奏的开放和关闭，实现对离子喷射的浓度、间隔和时长的控制。
本发明的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的：
一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统，包括：
电子控制中心，用于协调各工作组件并下达控制指令；
离子生成模块，用于生成离子并进行离子强化，与电子控制中心相连；
离子喷射模块，用于接收电子控制中心的指令使喷射的离子流均匀覆盖，分别与电子控制中心、离子生成模块相连。
作为优选，所述的离子生成模块包括：
加压器，用于对空气加压，与电磁阀相连；
电磁阀，用于接受指令进行开放和关闭控制离子喷射的浓度、间隔和时长，与电子控制中心相连；
回授强度控制模块，用于控制回授离子分量，
超声加湿近距离子发生器，用于产生大量的等离子，与加压器相连；
离子电磁场回旋加速器，用于通过电压提升离子的飞行速度能量，与加压器相连。
加压器配合电磁阀产生脉冲式气体压力，驱动后续离子电磁场回旋加速器、超声加湿近距离子发生器等模块，并最后将产生的离子送入大角度扫描控制系统。
作为优选，所述的离子喷射模块包括：
大角度扫描控制系统，用于实现大空间扫描，与离子电磁场回旋加速器相连；
旋转扫描离子喷射头，用于控制离子喷射方向，与大角度扫描控制系统相连。
作为优选，所述的大角度扫描控制系统与旋转扫描离子喷射头之间设有过滤网，用于隔离并杀灭离子流中的病毒。离子流的冲击配合滤网确保离子流的纯净。
一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统的工作方法，包括以下步骤：
S1电子控制中心下达工作指令；
S2超声加湿近距离子发生器根据指令生成离子；
S3加压器与电磁阀配合产生脉冲式气体压力；
S4通过离子电磁场回旋加速器对离子进行回授强化；
S5控制经过回授强化的离子进行离子喷射；
S6通过检测离子浓度实现反馈控制。
作为优选，所述的步骤S4电子控制中心通过回授强度控制模块进行回授离子分量控制，被离子电磁场回旋加速器加速后，能量得到极高提升的离子群，部分送到大角度扫描控制系统，部分被送回超声加湿近距离子发生器以频繁撞击电场中的空气分子，进一步产生了大量的高速等离子。
作为优选，所述的步骤S5大角度扫描控制系统利用电场作用力使离子流产生偏转，从而控制其喷射方向，控制加在电离室的电离电压，因为此地发生的离子浓度与这个外加控制电压成正比，即:
Figure 789196DEST_PATH_IMAGE002
其中，
Figure DEST_PATH_IMAGE003
为离子流动速率，单位为m3/s，
Figure 39787DEST_PATH_IMAGE004
为离子能量，单位为eV；
Figure 331091DEST_PATH_IMAGE006
其中，
Figure DEST_PATH_IMAGE007
为外加直流电压；
Figure 535807DEST_PATH_IMAGE008
。
大角度扫描控制系统接收电子控制中心的控制指令，发出发散角5.7°左右的高速离子束，并且使喷射的离子流在空中的浓度分布实现远近均匀；同时实施大角度172°扫描，实现全方位覆盖。其原理是利用电场作用力使离子流产生偏转，从而控制其喷射方向。随时间的变化，控制着喷射离子群函数的浓度。
作为优选，所述的步骤S6设置若干传感器检测离子在杀毒空间各处的浓度，将检测结果反馈到电子控制中心，通过改变对超声功率、击穿电压、回旋升压的控制参数，以保持杀毒空间的等离子浓度。回授离子可以达数十乃至数千电子伏特，不受限制。
作为优选，所述的步骤S4对离子进行回授强化时，回授离子采用的管道内壁带有被输送离子的同极性电，使回授离子在运输回程中不受到衰减。确保进行回授强化的离子保持足够的速度进行喷射。
本发明的有益效果是：在超声加湿近距离击穿技术基础上引进高能离子回授能量强化法，在等离子已经电离成功，并且经过回旋加速器强化获得高能量之后，将等离子引向电离室，在电离室中与大量的空气分子碰撞，激发与电离出更大批量的离子，或者使已经分解的离子获得更高的速度，满足用户需求，同时通过电子控制中心对电磁阀的控制，按照脉冲发生的时间和流量的要求，有节奏的开放和关闭，实现对离子喷射的浓度、间隔和时长的控制。
附图说明
图1是本发明的一种原理连接结构图。
图2是本发明的一种流程图。
图中100电子控制中心，101加压器，102电磁阀，103回授强度控制模块，104超声加湿近距离子发生器，200离子电磁场回旋加速器，300大角度扫描控制系统，301过滤网，400高位旋转扫描离子喷射头，401第一高位传感器，402第二高位传感器，403第三高位传感器，404第四高位传感器，500低位旋转扫描离子喷射头，501第一低位传感器，502第二低位传感器，503第三低位传感器，504第四低位传感器。
具体实施方式
下面通过实施例，并结合附图，对本发明的技术方案作进一步具体的说明。
实施例：本实施例的一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统，如图1所示，包括电子控制中心100和分别与电子控制中心100相连的离子生成模块和离子喷射模块。离子生成模块用于生成离子并进行离子强化，离子喷射模块与离子生成模块相连，用于接收电子控制中心的指令使喷射的离子流均匀覆盖。
离子生成模块包括依次相连的加压器101、电磁阀102、超声加湿近距离子发生器104、离子电磁场回旋加速器200和回授强度控制模块103，回授强度控制模块103同时经过超声加湿近距离子发生器104与离子电磁场回旋加速器200输入口相连。使返回的高速离子频繁撞击电场中的空气分子，进一步产生了大量的高速等离子。加压器101用于对进入的空气加压，使之达到数个大气压，迫使离子喷射方向集中且满足喷射射程对压力需求。电磁阀102用于接受指令进行开放和关闭控制离子喷射的浓度、间隔和时长。电磁阀接受来自电子控制中心的指令，按照脉冲发生的时间和流量的要求，有节奏的开放和关闭，提供和控制离子喷射的浓度、间隔和时长。回授强度控制模块103用于控制回授离子分量，超声加湿近距离子发生器104用于产生大量的等离子，由超声加湿，在近距离条件下，使空气产生击穿，有利于小体积内采用低电压，产生大量的等离子。离子产生的方法不局限，可用激光，可用超声加湿，或者在电场中进行电离均可。离子电磁场回旋加速器200用于通过电压提升离子的飞行速度能量。离子电场中每回旋一周，经历两次电压的提升，并且飞行速度能量得到极大提高。加压器配合电磁阀产生脉冲式气体压力，驱动后续离子电磁场回旋加速器、超声加湿近距离子发生器等模块，并最后将产生的离子送入大角度扫描控制系统。回授离子可以达数十乃至数千电子伏特。
离子喷射模块包括大角度扫描控制系统300和旋转扫描离子喷射头。大角度扫描控制系统300用于实现大空间扫描，旋转扫描离子喷射头用于控制离子喷射方向。大角度扫描控制系统300与旋转扫描离子喷射头之间设有过滤网301用于隔离并杀灭离子流中的病毒，离子流的冲击配合滤网确保离子流的纯净。
旋转扫描离子喷射头包括高位旋转扫描离子喷射头400和低位旋转扫描离子喷射 头500，所述高位旋转扫描离子喷射头400和低位旋转扫描离子喷射头500上分别设有包括
Figure DEST_PATH_IMAGE009
~
Figure 672390DEST_PATH_IMAGE010
的若干传感器。设立高位和低位两个旋转扫描离子喷射头，以避开对人身的冲击和 伤害。
一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统的工作方法，包括以下步骤：
S1电子控制中心100下达工作指令；
S2超声加湿近距离子发生器104根据指令生成离子；
S3加压器101与电磁阀102配合产生脉冲式气体压力；
S4通过离子电磁场回旋加速器200对离子进行回授强化。电子控制中心100通过回授强度控制模块103进行回授离子分量控制，被离子电磁场回旋加速器200加速后，能量得到极高提升的离子群，部分送到大角度扫描控制系统300，部分被送回超声加湿近距离子发生器104以频繁撞击电场中的空气分子，进一步产生了大量的高速等离子。对离子进行回授强化时，回授离子采用的管道内壁带有被输送离子的同极性电，使回授离子在运输回程中不受到衰减。确保进行回授强化的离子保持足够的速度进行喷射。
S5控制经过回授强化的离子进行离子喷射，大角度扫描控制系统300利用电场作用力使离子流产生偏转，从而控制其喷射方向，控制加在电离室的电离电压，因为此地发生的离子浓度与这个外加控制电压成正比，即:
Figure 544532DEST_PATH_IMAGE002
其中，
Figure 6737DEST_PATH_IMAGE003
为离子流动速率，单位为m3/s，
Figure 731373DEST_PATH_IMAGE004
为离子能量，单位为eV；
Figure 937226DEST_PATH_IMAGE006
其中，为外加直流电压；
Figure 929453DEST_PATH_IMAGE008
。
大角度扫描控制系统接收电子控制中心的控制指令，发出发散角5.7°左右的高速离子束，并且使喷射的离子流在空中的浓度分布实现远近均匀；同时实施大角度172°扫描，实现全方位覆盖。其原理是利用电场作用力使离子流产生偏转，从而控制其喷射方向。随时间的变化，控制着喷射离子群函数的浓度。
S6通过检测离子浓度实现反馈控制。设置第一高位传感器401，第二高位传感器402，第三高位传感器403，第四高位传感器404，第一低位传感器501，第二低位传感器502，第三低位传感器503，第四低位传感器504。8个传感器检测离子在杀毒空间各处的浓度，将检测结果反馈到电子控制中心100，通过改变对超声功率、击穿电压、回旋升压的控制参数，以保持杀毒空间的等离子浓度。

Claims (9)

1.一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统，其特征在于，包括：
电子控制中心(100)，用于协调各工作组件并下达控制指令；
离子生成模块，用于生成离子并进行离子强化，与电子控制中心(100)相连，所述离子生成模块包括：
加压器(101)，用于对空气加压，与电磁阀(102)相连；
电磁阀(102)，用于接受指令进行开放和关闭控制离子喷射的浓度、间隔和时长，与电子控制中心(100)相连；
回授强度控制模块(103)，用于控制回授离子分量；
超声加湿近距离子发生器(104)，用于产生大量的等离子，与加压器(101)相连；
离子电磁场回旋加速器(200)，用于通过电压提升离子的飞行速度能量，与超声加湿近距离子发生器(104)相连；
离子喷射模块，用于接收电子控制中心的指令使喷射的离子流均匀覆盖，分别与电子控制中心(100)、离子生成模块相连，电子控制中心(100)通过回授强度控制模块(103)进行回授离子分量控制，被离子电磁场回旋加速器(200)加速后，能量得到极高提升的离子群，部分送到大角度扫描控制系统(300)，部分被送回超声加湿近距离子发生器(104)以频繁撞击电场中的空气分子，进一步产生了大量的高速等离子。
2.根据权利要求1所述的一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统，其特征在于，所述离子喷射模块包括：
大角度扫描控制系统(300)，用于实现大空间扫描，与离子电磁场回旋加速器(200)相连；
旋转扫描离子喷射头，用于控制离子喷射方向，与大角度扫描控制系统(300)相连。
3.根据权利要求2所述的一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统，其特征在于，所述大角度扫描控制系统(300)与旋转扫描离子喷射头之间设有过滤网(301)，用于隔离并杀灭离子流中的病毒。
4.根据权利要求2或3所述的一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统，其特征在于，所述旋转扫描离子喷射头包括高位旋转扫描离子喷射头(400)和低位旋转扫描离子喷射头(500)，所述高位旋转扫描离子喷射头(400)和低位旋转扫描离子喷射头(500)上分别设有若干传感器。
5.根据权利要求1所述的一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统的工作方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1电子控制中心(100)下达工作指令；
S2超声加湿近距离子发生器(104)根据指令生成离子；
S3加压器(101)与电磁阀(102)配合产生脉冲式气体压力；
S4通过离子电磁场回旋加速器(200)对离子进行回授强化；
S5控制经过回授强化的离子进行离子喷射；
S6通过检测离子浓度实现反馈控制。
6.根据权利要求5所述的一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统的工作方法，其特征在于，所述步骤S4电子控制中心(100)通过回授强度控制模块(103)进行回授离子分量控制，被离子电磁场回旋加速器(200)加速后，能量得到极高提升的离子群分别送到大角度扫描控制系统(300)和超声加湿近距离子发生器(104)，被送回超声加湿近距离子发生器(104)的离子群频繁撞击电场中的空气分子，进一步产生了大量的高速等离子。
7.根据权利要求5所述的一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统的工作方法，其特征在于，所述步骤S5大角度扫描控制系统(300)利用电场作用力使离子流产生偏转，从而控制其喷射方向，控制加在电离室的电离电压，因为此地发生的离子浓度与这个外加控制电压成正比，即:
f(t)＝niρε
其中，ni为离子浓度，ρ为离子流动速率，单位为m3/s，ε为离子能量，单位为eV；
ni(t)∝kVt
其中，k为外加直流电压系数，V为外加直流电压；
f(t)＝kVtρε。
8.根据权利要求5或7所述的一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统的工作方法，其特征在于，所述步骤S6设置若干传感器检测离子在杀毒空间各处的浓度，将检测结果反馈到电子控制中心(100)，通过改变对超声功率、击穿电压、回旋升压的控制参数，以保持杀毒空间的等离子浓度。
9.根据权利要求5所述的一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统的工作方法，其特征在于，所述步骤S4对离子进行回授强化时，回授离子采用的管道内壁带有被输送离子的同极性电，使回授离子在运输回程中不受到衰减。
CN202210374622.5A 2022-04-11 2022-04-11 一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统及方法 Active CN114452418B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210374622.5A CN114452418B (zh) 2022-04-11 2022-04-11 一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统及方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210374622.5A CN114452418B (zh) 2022-04-11 2022-04-11 一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统及方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114452418A CN114452418A (zh) 2022-05-10
CN114452418B true CN114452418B (zh) 2022-08-05

Family

ID=81417157

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210374622.5A Active CN114452418B (zh) 2022-04-11 2022-04-11 一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统及方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114452418B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114688676B (zh) * 2022-05-31 2022-09-06 雷神等离子科技(杭州)有限公司 一种全空间覆盖等离子杀毒设备及方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1450917A (zh) * 2000-03-23 2003-10-22 株式会社和门麦迪泰克 等离子体消毒装置
WO2013101673A1 (en) * 2011-12-30 2013-07-04 Franklin Mark A Plasma sterilization systems

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009072724A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 National Institute Of Advanced Industrial & Technology プラズマ反応器
JP5421438B1 (ja) * 2012-08-15 2014-02-19 中外炉工業株式会社 プラズマ処理装置
WO2017135780A1 (ko) * 2016-02-05 2017-08-10 한양대학교 산학협력단 활성화된 살균액 발생 장치 및 방법
DE102018115300A1 (de) * 2018-06-26 2020-01-02 Relyon Plasma Gmbh Anordnung und Verfahren zur Dekontamination von Objekten

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1450917A (zh) * 2000-03-23 2003-10-22 株式会社和门麦迪泰克 等离子体消毒装置
WO2013101673A1 (en) * 2011-12-30 2013-07-04 Franklin Mark A Plasma sterilization systems

Also Published As

Publication number Publication date
CN114452418A (zh) 2022-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Lee et al. Modelling of atmospheric pressure plasmas for biomedical applications
KR101848311B1 (ko) 플라즈마 제트를 이용한 복합 소독유체 분무식 멸균장치 및 방법
CN114452418B (zh) 一种基于高能离子回授技术的等离子消毒系统及方法
JP5007386B2 (ja) ラジカル滅菌装置
Chiang et al. Inactivation of E. coli and B. subtilis by a parallel-plate dielectric barrier discharge jet
CN101466194A (zh) 预电离大气压低温等离子体射流发生器
Sun et al. Experimental research on inactivation of bacteria by using dielectric barrier discharge
EP1356828A1 (en) Sterilizing apparatus and method using the same
JP2002191679A (ja) 低周波プラズマを用いた消毒方法および消毒システム
CN104225638A (zh) 一种低于80℃的等离子体雾化灭菌装置
EP3524320A1 (en) Ion source device, particle beam generation, and ion beam generation method
KR20170094984A (ko) 복합 소독유체 분무식 멸균장치 및 방법
CN104940966A (zh) 一种射流和表面放电等离子体相结合的内窥镜灭菌装置
JP2003080058A (ja) 反応性ガスの発生方法およびその発生装置
WO2001015199A1 (en) Electron beam plasma formation for surface chemistry
CN101862464A (zh) 一种低温等离子体消毒灭菌设备
KR102363801B1 (ko) 과산화수소를 이용한 고효율 플라즈마 멸균기
Becker Microplasmas, a platform technology for a plethora of plasma applications
JP6041744B2 (ja) 電子線照射による不活化方法および処理装置
CN109587921A (zh) 一种耦合高能电子的等离子体射流发生装置
JP4386650B2 (ja) 殺菌装置
CN212163807U (zh) 一种等离子体发生器
Liu et al. Analysis of surface sterilization and properties of medical poly (tetrafluoroethylene) in remote argon plasma
RU204681U1 (ru) Устройство плазменной стерилизации на основе высокочастотного генератора с применением регулируемых электродов
JP2006020950A (ja) プラズマ滅菌装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant