CN114420882A - 显示面板及其修复方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示面板及其修复方法、显示装置。所述显示面板包括多个子像素，每一子像素包括衬底和设置在衬底上的有源层、源极、漏极、阳极、阴极、第一修复电极以及第二修复电极；有源层、源极和漏极、阳极以及阴极依次设置在衬底上，阳极与源极连接；第一修复电极设置在有源层和阳极之间，第一修复电极位于源极远离漏极的一侧，并与源极连接；第二修复电极设置在第一修复电极与阴极之间，并与阴极连接，第二修复电极于衬底所在平面的正投影与第一修复电极于衬底所在平面的正投影至少部分重叠，第二修复电极与第一修复电极绝缘。本申请提高了显示面板的显示品质。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其修复方法、显示装置。
背景技术
在有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示面板的生产过程中，受生产工艺或外部环境的影响，薄膜晶体管中会存在一些金属碎屑或异物等残留物，使得受该薄膜晶体管驱动的子像素成为亮点子像素，亮点子像素的存在会大大降低显示面板的品质。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板及其修复方法、显示装置，能够在出现亮点子像素的情况下，对亮点子像素进行修复，以提高显示面板的品质。
本申请实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括多个子像素，每一所述子像素包括：
衬底；
有源层，设置在所述衬底的一侧；
源极和漏极，设置在所述有源层远离所述衬底的一侧；
阳极，设置在所述源极远离所述有源层的一侧，所述阳极与所述源极连接；
第一修复电极，设置在所述有源层和所述阳极之间，所述第一修复电极位于所述源极远离所述漏极的一侧，并与所述源极连接；
阴极，设置在所述阳极远离所述源极的一侧；以及
第二修复电极，设置在所述第一修复电极与所述阴极之间，并与所述阴极连接，所述第二修复电极于所述衬底所在平面的正投影与所述第一修复电极于所述衬底所在平面的正投影至少部分重叠，所述第二修复电极与所述第一修复电极绝缘。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一修复电极与所述源极同层设置，并自所述源极的一端向远离所述漏极的方向延伸。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述第二修复电极与所述阳极同层设置；
所述子像素还包括像素定义层，所述像素定义层位于所述阳极和所述阴极之间，所述像素定义层中开设有连接孔，所述阴极通过所述连接孔与所述第二修复电极连接。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述子像素还包括设置在所述源极和所述阳极之间的平坦化层，所述平坦化层中开设有第一过孔，所述阳极通过所述第一过孔与所述源极连接；
所述连接孔裸露出所述第二修复电极，所述阴极延伸至所述连接孔内，并与所述第二修复电极相连。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述子像素还包括依次设置在所述源极与所述阳极之间的钝化层、保护电极以及平坦化层；
所述钝化层中开设有接触孔，所述保护电极通过所述接触孔与所述源极连接；所述平坦化层中开设有第一过孔和第二过孔，所述第一过孔连通于所述接触孔，所述阳极通过所述第一过孔与所述保护电极连接，所述第二过孔连通于所述连接孔，所述第二修复电极延伸至所述第二过孔内，所述阴极自所述连接孔延伸至所述第二过孔内，并与所述第二修复电极相连。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述子像素还包括辅助修复电极，所述辅助修复电极与所述保护电极同层设置，所述第二过孔裸露出所述辅助修复电极，所述第二修复电极延伸至所述第二过孔内，并与所述辅助修复电极连接。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述子像素还包括依次设置在所述源极与所述阳极之间的钝化层、保护电极、平坦化层以及像素定义层；
所述钝化层中开设有接触孔，所述保护电极通过所述接触孔与所述源极连接，所述第二修复电极与所述保护电极同层设置；所述平坦化层中开设有第一过孔和第二过孔，所述第一过孔连通于所述接触孔，所述阳极通过所述第一过孔与所述保护电极连接，所述第二过孔裸露出所述第二修复电极；所述像素定义层中开设有连通于所述第二过孔的连接孔，所述阴极延伸至所述连接孔和所述第二过孔内，并与所述第二修复电极相连。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述子像素还包括依次设置在所述源极与所述阳极之间的钝化层、保护电极以及平坦化层，所述钝化层中开设有接触孔，所述保护电极通过所述接触孔与所述源极连接；所述平坦化层中开设有连通于所述接触孔的第一过孔，所述阳极通过所述第一过孔与所述保护电极连接；
所述第一修复电极与所述保护电极同层设置，并自所述保护电极的一端向远离所述漏极的方向延伸。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述第二修复电极与所述阳极同层设置；
所述子像素还包括像素定义层，所述像素定义层位于所述阳极和所述阴极之间，所述像素定义层中开设有连接孔，所述连接孔裸露出所述第二修复电极，所述阴极延伸至所述连接孔内，并与所述第二修复电极相连。
本申请提供一种如前述任一实施例所述的显示面板的修复方法，其包括以下步骤：
检测多个所述子像素中是否存在亮点子像素；
若存在亮点子像素，将所述亮点子像素中的所述第一修复电极、所述第二修复电极以及所述阴极熔接，以使所述亮点子像素中的所述阳极和所述阴极导通。
本申请还提供一种显示面板，所述显示面板包括多个子像素，每一所述子像素包括：
衬底；
有源层，设置在所述衬底的一侧；
源极和漏极，设置在所述有源层远离所述衬底的一侧；
阳极，设置在所述源极远离所述有源层的一侧，所述阳极与所述源极连接；
第一修复电极，设置在所述有源层和所述阳极之间，所述第一修复电极位于所述源极远离所述漏极的一侧，并与所述源极连接；
阴极，设置在所述阳极远离所述源极的一侧；以及
第二修复电极，设置在所述第一修复电极与所述阴极之间，并与所述阴极连接，所述第二修复电极于所述衬底所在平面的正投影与所述第一修复电极于所述衬底所在平面的正投影至少部分重叠，所述第二修复电极与所述第一修复电极连接。
本申请提供一种显示装置，所述显示装置包括如前述任一实施例所述的显示面板。
相较于现有技术中的显示面板，本申请提供的显示面板通过在每一子像素中设置第一修复电极和第二修复电极，当显示面板中出现亮点子像素时，通过将亮点子像素中的第一修复电极、第二修复电极以及阴极熔接，由于第一修复电极通过源极与阳极连接，即第一修复电极的电位与阳极的电位相同，因此，阴极上施加的电压会依次通过第二修复电极、第一修复电极以及源极而传输至亮点子像素的阳极中，使得亮点子像素中阳极的电位与阴极的电位相同，即亮点子像素中的阳极与阴极短路，由此，亮点子像素便修复为暗点子像素，进而实现了显示面板的亮点化修复，从而能够大大提高显示面板的品质。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请提供的显示面板的平面结构示意图。
图2是图1所示的显示面板沿剖面线O-O’的第一结构示意图。
图3是图1所示的显示面板沿剖面线O-O’的第二结构示意图。
图4是图1所示的显示面板沿剖面线O-O’的第三结构示意图。
图5是图1所示的显示面板沿剖面线O-O’的第四结构示意图。
图6是图1所示的显示面板沿剖面线O-O’的第五结构示意图。
图7是本申请提供的显示面板的修复方法的流程示意图。
图8是本申请提供的显示面板修复后的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
本申请提供一种显示面板及其修复方法、显示装置。以下分别进行详细说明。
本申请提供一种显示面板，所述显示面板包括多个子像素，每一子像素包括衬底、有源层、源极、漏极、阳极、阴极、第一修复电极以及第二修复电极。有源层设置在衬底的一侧；源极和漏极设置在有源层远离衬底的一侧；阳极设置在源极远离有源层的一侧，并与源极连接；第一修复电极设置在有源层和阳极之间，第一修复电极位于源极远离漏极的一侧，并与源极连接；阴极设置在阳极远离源极的一侧；第二修复电极设置在第一修复电极与阴极之间，并与阴极连接，第二修复电极于衬底所在平面的正投影与第一修复电极于衬底所在平面的正投影至少部分重叠，第二修复电极与第一修复电极绝缘。
由此，本申请提供的显示面板通过在每一子像素中设置第一修复电极和第二修复电极，当显示面板中出现亮点子像素时，通过将亮点子像素中的第一修复电极、第二修复电极以及阴极熔接，由于第一修复电极通过源极与阳极连接，即第一修复电极的电位与阳极的电位相同，因此，阴极上施加的电压会依次通过第二修复电极、第一修复电极以及源极而传输至亮点子像素的阳极中，使得亮点子像素中阳极的电位与阴极的电位相同，即亮点子像素中的阳极与阴极短路，由此，亮点子像素便修复为暗点子像素，进而实现了显示面板的亮点化修复，从而能够大大提高显示面板的品质。
下面通过具体实施例对本申请提供的显示面板进行详细的阐述。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
需要说明的是，在本申请的显示面板中，薄膜晶体管的源极和漏极是可以互换的。在本申请中，为区分薄膜晶体管除栅极之外的两极，将其中一极称为源极，另一极称为漏极。
请参照图1和图2，本申请第一实施例提供一种显示面板100。显示面板100包括多个子像素1。每一子像素1包括衬底10和设置在衬底10上的薄膜晶体管11、第一修复电极12、阳极13、第二修复电极14以及阴极15。
在本实施例中，每一子像素1具有一发光区1A和位于发光区1A一侧的修复区1B。其中，修复区1B是指在显示面板100中出现亮点子像素时，对亮点子像素进行修复的区域。
进一步的，在本实施例中，子像素1还包括缓冲层20、层间绝缘层30、平坦化层40以及像素定义层50。其中，缓冲层20、层间绝缘层30、平坦化层40以及像素定义层50均设置在发光区1A和修复区1B。
具体的，薄膜晶体管11位于发光区1A。薄膜晶体管11包括遮光部111、有源层112、栅极绝缘层113、栅极114、源极115以及漏极116。
遮光部111设置在衬底10上。遮光部111可以为单层结构、双层结构或多层结构。具体的，遮光部111的材料可以包括钼、钛、铜和铝中的一种或多种。示例性地，当遮光部111为双层结构时，遮光部111可以包括以钛为遮光材料的底层和以铜为遮光材料的顶层，或者，遮光部111也可以包括以钼钛合金为遮光材料的底层和以铜为遮光材料的顶层。其中，遮光部111的厚度为500埃-2000埃，如可以为500埃、800埃、1000埃、1200埃、1500埃、1800埃或2000埃等。
缓冲层20设置在遮光部111远离衬底10的一侧。缓冲层20可以为单层结构、双层结构或多层结构。具体的，缓冲层20的材料可以包括氮化硅、氧化硅和氮氧化硅中的一种或多种。示例性地，当缓冲层20为双层结构时，缓冲层20可以包括以氧化硅为缓冲材料的底层和以氮化硅为缓冲材料的顶层。其中，缓冲层20的厚度可以为1000埃-5000埃，如可以为1000埃、1500埃、2000埃、2500埃、3000埃、3500埃、4000埃、4500埃或5000埃等。
有源层112设置在缓冲层20远离遮光部111的一侧。有源层112于衬底10所在平面的正投影位于遮光部111于衬底10所在平面的正投影内。有源层112包括沟道(图中未标识)和位于沟道相对两侧的源极接触部(图中未标识)和漏极接触部(图中未标识)。其中，有源层112的材料可以包括IGZO、IGZTO、IGTO、IZTO和IZO中的一种或多种。
栅极绝缘层113设置在有源层112远离缓冲层20的一侧。自源极115朝向漏极116的方向，栅极绝缘层113的宽度略大于沟道的宽度。栅极绝缘层113可以为单层结构、双层结构或多层结构。具体的，栅极绝缘层113的材料可以包括氮化硅、氧化硅和氮氧化硅中的一种或多种。示例性地，当栅极绝缘层113为双层结构时，栅极绝缘层113可以包括以氧化硅为绝缘材料的底层和以氮化硅为绝缘材料的顶层。其中，栅极绝缘层113的厚度可以为500埃-2000埃，如可以为500埃、800埃、1000埃、1200埃、1500埃、1800埃或2000埃等。
栅极114设置在栅极绝缘层113远离有源层112的一侧。栅极114于衬底10所在平面的正投影与沟道于衬底10所在平面的正投影重叠。栅极114可以为单层结构、双层结构或多层结构。具体的，栅极114的材料可以包括钼、钛、铜和铝中的一种或多种，或者，栅极114的材料也可以包括由上述至少两种金属组成的合金。示例性地，当栅极114为双层结构时，栅极114可以包括以钼钛合金为导电材料的底层和以铜为导电材料的顶层。其中，栅极114的厚度为2000埃-8000埃，如可以为2000埃、3000埃、4000埃、5000埃、6000埃、7000埃或8000埃等。
层间绝缘层30设置在栅极114远离栅极绝缘层113的一侧。层间绝缘层30可以为单层结构、双层结构或多层结构。具体的，层间绝缘层30的材料可以包括氮化硅、氧化硅和氮氧化硅中的一种或多种。示例性地，当层间绝缘层30为双层结构时，层间绝缘层30可以包括以氧化硅为绝缘材料的底层和以氮化硅为绝缘材料的顶层。其中，层间绝缘层30的厚度可以为2000埃-10000埃，如可以为2000埃、3000埃、4000埃、5000埃、6000埃、7000埃、8000埃、9000埃或10000埃等。
源极115和漏极116设置在层间绝缘层30远离栅极114的一侧。源极115通过一过孔(图中未标识)与源极接触部连接。漏极116通过另一过孔(图中未标识)与漏极接触部连接。源极115和漏极116均可以为单层结构、双层结构或多层结构。具体的，源极115的材料和漏极116的材料相同，均可以包括钼、钛、铜和铝中的一种或多种，或者，也可以包括由上述至少两种金属组成的合金。示例性地，当源极115和漏极116均为双层结构时，源极115和漏极116均可以包括以钼钛合金为导电材料的底层和以铜为导电材料的顶层。其中，源极115的厚度和漏极116的厚度相同，均为2000埃-8000埃，如可以为2000埃、3000埃、4000埃、5000埃、6000埃、7000埃或8000埃等。
在本实施例中，第一修复电极12与源极115同层设置，并位于源极115远离漏极116的一侧，第一修复电极12与源极115连接。第一修复电极12位于修复区1B。具体的，第一修复电极12自源极115的一端向远离漏极116的方向延伸。
平坦化层40设置在源极115远离层间绝缘层30的一侧。平坦化层40中开设有第一过孔401。第一过孔401裸露出源极115。具体的，平坦化层40的材料可以为无机材料，所述无机材料可以包括氮化硅、氧化硅和氮氧化硅中的一种或多种；或者，平坦化层40的材料也可以为有机材料，所述有机材料可以包括有机树脂，如环氧树脂、丙烯酸类树脂等。其中，平坦化层40的厚度可以为1000埃-5000埃，如可以为1000埃、1500埃、2000埃、2500埃、3000埃、3500埃、4000埃、4500埃或5000埃等。
阳极13设置在平坦化层40远离源极115的一侧。阳极13位于发光区1A。阳极13延伸至第一过孔401内并与源极115连接。其中，阳极13可以为单层结构、双层结构或三层结构。阳极13的材料可以包括ITO、IZO、Ag、Pd、Cu、Al、Ni和La中的一种或多种。示例性地，阳极13可以为ITO/Ag/ITO的三层结构。
第二修复电极14与阳极13同层且间隔设置。第二修复电极14位于修复区1B。第二修复电极14于衬底10所在平面的正投影与第一修复电极12于衬底10所在平面的正投影至少部分重叠。第二修复电极14与第一修复电极12绝缘，具体来说，第二修复电极14与第一修复电极12之间具有平坦化层40。
由于本实施例中的第二修复电极14可以与阳极13采用同一道光罩制备得到，因此，第二修复电极14的设置并不会增加工艺成本。
像素定义层50设置在阳极13远离平坦化层40的一侧。像素定义层50中开设有连接孔501。连接孔501裸露出第二修复电极14。需要说明的是，像素定义层50中还开设有裸露出阳极13的过孔(图中未示出)，相关技术均为现有技术，在此不再赘述。
阴极15设置在像素定义层50远离阳极13的一侧。阴极15自发光区1A延伸至修复区1B。阴极15通过连接孔501与第二修复电极14连接。具体的，阴极15延伸至连接孔501内，并与第二修复电极14相连。
在本实施例中，当显示面板100中出现亮点子像素时，在亮点子像素的修复区1B，可以采用激光镭射的方式将亮点子像素中的第一修复电极12、第二修复电极14以及阴极15熔接，由于第一修复电极12通过源极115与阳极13连接，即第一修复电极12的电位与阳极13的电位相同，因此，对于熔接后的显示面板100，阴极15上施加的电压会依次通过第二修复电极14、第一修复电极12以及源极115而传输至亮点子像素的阳极13中，使得亮点子像素中阳极13的电位与阴极15的电位相同，即亮点子像素中的阳极13与阴极15短路，由此，亮点子像素便修复为暗点子像素，进而实现了显示面板100的亮点化修复，从而能够大大提高显示面板100的品质。
进一步的，在本实施例中，子像素1还包括存储电容16。存储电容16设置在发光区1A，且位于薄膜晶体管11远离修复区1B的一侧。存储电容16包括第一电极161、第二电极162以及第三电极163，第一电极161、第二电极162以及第三电极163在衬底10上的正投影至少部分重叠。其中，第一电极161与遮光部111同层设置。第二电极162与有源层112同层设置，且与第一电极161绝缘。第三电极163与漏极116同层设置，并位于漏极116远离源极115的一侧，第三电极163通过层间绝缘层30中的过孔(图中未标识)和缓冲层20中的过孔(图中未标识)与第一电极161连接。
需要说明的是，本实施例中存储电容16的结构仅为示例，用以方便描述本实施例，存储电容16的具体结构可以根据实际应用需求进行设计，本实施例不能理解为对本申请的限制。
进一步的，在本实施例中，阳极13和像素定义层50之间还设置有发光层(图中未标识)，发光层的具体结构可以参照现有技术，在此不再赘述。
请参照图3，本申请第二实施例提供一种显示面板200。本申请第二实施例提供的显示面板200与第一实施例的不同之处在于：子像素1还包括依次钝化层60和保护电极17，钝化层60设置在源极115远离层间绝缘层30的一侧，保护电极17设置在钝化层60和平坦化层40之间；钝化层60中开设有连通于第一过孔401的接触孔601，保护电极17通过接触孔601与源极115连接，阳极13通过第一过孔401与保护电极17连接；平坦化层40中还开设有与第一过孔401间隔设置的第二过孔402，第二过孔402连通于连接孔501，并裸露出钝化层60，第二修复电极14延伸至第二过孔402内；阴极15自连接孔501延伸至第二过孔402内，并与第二修复电极14相连。
其中，接触孔601裸露出源极115，保护电极17延伸至接触孔601内，并与源极115连接。第一过孔401裸露出保护电极17，阳极13延伸至第一过孔401内，并与保护电极17连接。
本实施例通过在源极115与阳极13接触的表面设置保护电极17，能够对源极115起到保护作用，避免源极115中的金属材料被氧化，从而可以提高源极115的信号传输稳定性，以提高薄膜晶体管11的驱动性能。
在本实施例中，当显示面板200中出现亮点子像素时，在亮点子像素的修复区1B，可以采用激光镭射的方式将亮点子像素中的第一修复电极12、第二修复电极14以及阴极15熔接，由于第一修复电极12依次通过源极115和保护电极17来实现与阳极13的连接，即第一修复电极12的电位与阳极13的电位仍保持相同，因此，对于熔接后的显示面板200，阴极15上施加的电压会依次通过第二修复电极14、第一修复电极12、源极115以及保护电极17而传输至亮点子像素的阳极13中，使得亮点子像素中阳极13的电位与阴极15的电位相同，即亮点子像素中的阳极13与阴极15短路，由此，亮点子像素便修复为暗点子像素，进而实现了显示面板200的亮点化修复，从而能够大大提高显示面板200的品质。
请参照图4，本申请第三实施例提供一种显示面板300。本申请第三实施例提供的显示面板300与第二实施例的不同之处在于：子像素1还包括辅助修复电极18，辅助修复电极18与保护电极17同层设置，第二过孔402裸露出辅助修复电极18，第二修复电极14延伸至第二过孔402内，并与辅助修复电极18连接。
由于辅助修复电极18为导电电极，且连通于阴极15，本实施例通过在第二修复电极14的下方设置辅助修复电极18，增加了修复区1B内的导电膜层的厚度，进而在显示面板300的亮点化修复过程中，可以增加阴极15与第一修复电极12之间的熔接几率，以提高显示面板300的亮点化修复成功率。
另外，由于辅助修复电极18与保护电极17同层设置，即两者可以在同一道光罩下制备得到，因此，本实施例中辅助修复电极18的设置并不会增加工艺成本。
请参照图5，本申请第四实施例提供一种显示面板400。本申请第四实施例提供的显示面板400与第一实施例的不同之处在于：子像素1还包括依次钝化层60和保护电极17，钝化层60设置在源极115远离层间绝缘层30的一侧，保护电极17设置在钝化层60和平坦化层40之间；钝化层60中开设有连通于第一过孔401的接触孔601，保护电极17通过接触孔601与源极115连接，阳极13通过第一过孔401与保护电极17连接；第二修复电极14与保护电极17同层且间隔设置；平坦化层40中还开设有与第一过孔401间隔设置的第二过孔402，第二过孔402连通于连接孔501，并裸露出第二修复电极14；阴极15自连接孔501延伸至第二过孔402内，并与第二修复电极14相连。
其中，接触孔601裸露出源极115，保护电极17延伸至接触孔601内，并与源极115连接。第一过孔401裸露出保护电极17，阳极13延伸至第一过孔401内，并与保护电极17连接。
本实施例通过在源极115与阳极13接触的表面设置保护电极17，能够对源极115起到保护作用，避免源极115中的金属材料被氧化，从而可以提高源极115的信号传输稳定性，以提高薄膜晶体管11的驱动性能。另外，由于本实施例中的第二修复电极14可以与保护电极17采用同一道光罩制备得到，因此，第二修复电极14的设置并不会增加工艺成本。
在本实施例中，当显示面板400中出现亮点子像素时，在亮点子像素的修复区1B，可以采用激光镭射的方式将亮点子像素中的第一修复电极12、第二修复电极14以及阴极15熔接，由于第一修复电极12依次通过源极115和保护电极17来实现与阳极13的连接，即第一修复电极12的电位与阳极13的电位仍保持相同，因此，对于熔接后的显示面板400，阴极15上施加的电压会依次通过第二修复电极14、第一修复电极12、源极115以及保护电极17而传输至亮点子像素的阳极13中，使得亮点子像素中阳极13的电位与阴极15的电位相同，即亮点子像素中的阳极13与阴极15短路，由此，亮点子像素便修复为暗点子像素，进而实现了显示面板400的亮点化修复，从而能够大大提高显示面板400的品质。
请参照图6，本申请第五实施例提供一种显示面板500。本申请第五实施例提供的显示面板500与第一实施例的不同之处在于：子像素1还包括依次钝化层60和保护电极17，钝化层60设置在源极115远离层间绝缘层30的一侧，保护电极17设置在钝化层60和平坦化层40之间；钝化层60中开设有连通于第一过孔401的接触孔601，保护电极17通过接触孔601与源极115连接，阳极13通过第一过孔401与保护电极17连接；第一修复电极12与保护电极17同层设置，并自保护电极17的一端向远离漏极116的方向延伸。
其中，接触孔601裸露出源极115，保护电极17延伸至接触孔601内，并与源极115连接。第一过孔401裸露出保护电极17，阳极13延伸至第一过孔401内，并与保护电极17连接。
本实施例通过在源极115与阳极13接触的表面设置保护电极17，能够对源极115起到保护作用，避免源极115中的金属材料被氧化，从而可以提高源极115的信号传输稳定性，以提高薄膜晶体管11的驱动性能。
在本实施例中，当显示面板500中出现亮点子像素时，在亮点子像素的修复区1B，可以采用激光镭射的方式将亮点子像素中的第一修复电极12、第二修复电极14以及阴极15熔接，由于第一修复电极12通过保护电极17与阳极13连接，即第一修复电极12的电位与阳极13的电位相同，因此，对于熔接后的显示面板500，阴极15上施加的电压会依次通过第二修复电极14、第一修复电极12以及保护电极17而传输至亮点子像素的阳极13中，使得亮点子像素中阳极13的电位与阴极15的电位相同，即亮点子像素中的阳极13与阴极15短路，由此，亮点子像素便修复为暗点子像素，进而实现了显示面板500的亮点化修复，从而能够大大提高显示面板500的品质。
请参照图7，本申请还提供一种显示面板的修复方法。所述显示面板可以为前述任一实施例所述的显示面板。其中，所述显示面板的修复方法包括以下步骤：
B1：检测多个子像素中是否存在亮点子像素；
B2：若存在亮点子像素，将亮点子像素中的第一修复电极、第二修复电极以及阴极熔接，以使亮点子像素中的阳极和阴极导通。
具体的，以前述第三实施例所述的显示面板300为例，结合图4和图7，显示面板300的亮点化修复方法包括以下步骤：
B1：检测多个子像素1中是否存在亮点子像素。
具体的，在显示面板300的点灯测试阶段，检测显示面板300中是否存在亮点子像素。
B2：若存在亮点子像素，将亮点子像素中的第一修复电极12、第二修复电极14以及阴极15熔接，以使亮点子像素中的阳极13和阴极15导通。
具体的，采用激光镭射工艺对亮点子像素的修复区1B进行镭射，以使位于修复区1B的第一修复电极12、第二修复电极14、辅助修复电极18以及阴极15熔接，此时，对阴极15施加电压，阴极15上施加的电压会依次通过第二修复电极14、辅助修复电极18、第一修复电极12、源极115以及保护电极17而传输至亮点子像素的阳极13中，使得亮点子像素中阳极13的电位与阴极15的电位相同，即亮点子像素中的阳极13与阴极15短路，由此，亮点子像素便修复为暗点子像素。
在本实施例中，在步骤B2之后，显示面板300的修复方法还可以包括：切断亮点子像素中的漏极116与电源信号之间的连接。
需要说明的是，对于前述其他实施例的显示面板的修复方法，当显示面板中出现亮点子像素时，对亮点子像素的修复方法均可以参照本实施例的描述，在此不再赘述。
进一步的，本申请提供一种显示面板，所述显示面板包括多个子像素，每一子像素包括衬底、有源层、源极、漏极、阳极、阴极、第一修复电极以及第二修复电极。有源层设置在衬底的一侧；源极和漏极设置在有源层远离衬底的一侧；阳极设置在源极远离有源层的一侧，并与源极连接；第一修复电极设置在有源层和阳极之间，第一修复电极位于源极远离漏极的一侧，并与源极连接；阴极设置在阳极远离源极的一侧；第二修复电极设置在第一修复电极与阴极之间，并与阴极连接，第二修复电极于衬底所在平面的正投影与第一修复电极于衬底所在平面的正投影至少部分重叠，第二修复电极与第一修复电极连接。
需要说明的是，上述显示面板是对显示面板中出现的亮点子像素进行修复后的结构。下面以前述第三实施例的显示面板出现亮点子像素时修复后的结构为例，对本申请提供的修复后的显示面板的结构进行详细的阐述。
请参照图8，本申请第六实施例提供一种显示面板600。本申请第六实施例提供的显示面板600与第三实施例的不同之处在于：钝化层60中具有一修复孔602，修复孔602位于修复区1B，修复孔602连通于第二过孔402和连接孔501，第二修复电极14延伸至修复孔602内并与第一修复电极12连接。
需要说明的是，对于前述其他实施例，当显示面板中出现亮点子像素时，对亮点子像素修复后的结构均可以参照本实施例，在此不再赘述。
本申请还提供一种显示装置，所述显示装置可以为手机、平板、笔记本电脑、电视等显示产品。其中，所述显示装置包括壳体和设置在所述壳体中的显示面板，所述显示面板可以为前述任一实施例所述的显示面板，显示面板的具体结构可以参照前述实施例的描述，在此不再赘述。
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其修复方法、显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。
Claims (12)
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括多个子像素，每一所述子像素包括：
衬底；
有源层，设置在所述衬底的一侧；
源极和漏极，设置在所述有源层远离所述衬底的一侧；
阳极，设置在所述源极远离所述有源层的一侧，所述阳极与所述源极连接；
第一修复电极，设置在所述有源层和所述阳极之间，所述第一修复电极位于所述源极远离所述漏极的一侧，并与所述源极连接；
阴极，设置在所述阳极远离所述源极的一侧；以及
第二修复电极，设置在所述第一修复电极与所述阴极之间，并与所述阴极连接，所述第二修复电极于所述衬底所在平面的正投影与所述第一修复电极于所述衬底所在平面的正投影至少部分重叠，所述第二修复电极与所述第一修复电极绝缘。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一修复电极与所述源极同层设置，并自所述源极的一端向远离所述漏极的方向延伸。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第二修复电极与所述阳极同层设置；
所述子像素还包括像素定义层，所述像素定义层位于所述阳极和所述阴极之间，所述像素定义层中开设有连接孔，所述阴极通过所述连接孔与所述第二修复电极连接。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述子像素还包括设置在所述源极和所述阳极之间的平坦化层，所述平坦化层中开设有第一过孔，所述阳极通过所述第一过孔与所述源极连接；
所述连接孔裸露出所述第二修复电极，所述阴极延伸至所述连接孔内，并与所述第二修复电极相连。
5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述子像素还包括依次设置在所述源极与所述阳极之间的钝化层、保护电极以及平坦化层；
所述钝化层中开设有接触孔，所述保护电极通过所述接触孔与所述源极连接；所述平坦化层中开设有第一过孔和第二过孔，所述第一过孔连通于所述接触孔，所述阳极通过所述第一过孔与所述保护电极连接，所述第二过孔连通于所述连接孔，所述第二修复电极延伸至所述第二过孔内，所述阴极自所述连接孔延伸至所述第二过孔内，并与所述第二修复电极相连。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述子像素还包括辅助修复电极，所述辅助修复电极与所述保护电极同层设置，所述第二过孔裸露出所述辅助修复电极，所述第二修复电极延伸至所述第二过孔内，并与所述辅助修复电极连接。
7.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述子像素还包括依次设置在所述源极与所述阳极之间的钝化层、保护电极、平坦化层以及像素定义层；
所述钝化层中开设有接触孔，所述保护电极通过所述接触孔与所述源极连接，所述第二修复电极与所述保护电极同层设置；所述平坦化层中开设有第一过孔和第二过孔，所述第一过孔连通于所述接触孔，所述阳极通过所述第一过孔与所述保护电极连接，所述第二过孔裸露出所述第二修复电极；所述像素定义层中开设有连通于所述第二过孔的连接孔，所述阴极延伸至所述连接孔和所述第二过孔内，并与所述第二修复电极相连。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述子像素还包括依次设置在所述源极与所述阳极之间的钝化层、保护电极以及平坦化层，所述钝化层中开设有接触孔，所述保护电极通过所述接触孔与所述源极连接；所述平坦化层中开设有连通于所述接触孔的第一过孔，所述阳极通过所述第一过孔与所述保护电极连接；
所述第一修复电极与所述保护电极同层设置，并自所述保护电极的一端向远离所述漏极的方向延伸。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述第二修复电极与所述阳极同层设置；
所述子像素还包括像素定义层，所述像素定义层位于所述阳极和所述阴极之间，所述像素定义层中开设有连接孔，所述连接孔裸露出所述第二修复电极，所述阴极延伸至所述连接孔内，并与所述第二修复电极相连。
10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括多个子像素，每一所述子像素包括：
衬底；
有源层，设置在所述衬底的一侧；
源极和漏极，设置在所述有源层远离所述衬底的一侧；
阳极，设置在所述源极远离所述有源层的一侧，所述阳极与所述源极连接；
第一修复电极，设置在所述有源层和所述阳极之间，所述第一修复电极位于所述源极远离所述漏极的一侧，并与所述源极连接；
阴极，设置在所述阳极远离所述源极的一侧；以及
第二修复电极，设置在所述第一修复电极与所述阴极之间，并与所述阴极连接，所述第二修复电极于所述衬底所在平面的正投影与所述第一修复电极于所述衬底所在平面的正投影至少部分重叠，所述第二修复电极与所述第一修复电极连接。
11.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至10任一项所述的显示面板。
12.一种如权利要求1至9任一项所述的显示面板的修复方法，其特征在于，包括以下步骤：
检测多个所述子像素中是否存在亮点子像素；
若存在亮点子像素，将所述亮点子像素中的所述第一修复电极、所述第二修复电极以及所述阴极熔接，以使所述亮点子像素中的所述阳极和所述阴极导通。
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