CN114415404A - 显示母板、显示母板的制造方法与显示面板 - Google Patents

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Abstract

本公开提供了一种显示母板及其制造方法与显示面板，显示母板包括：阵列基板、彩膜基板、第一隔垫物和第二隔垫物。阵列基板包括面板区和围绕所述面板区的切割区，所述面板区包括显示区和围绕所述显示区的边框区；彩膜基板与所述阵列基板对盒设置；第一隔垫物位于所述阵列基板的所述边框区与所述彩膜基板之间；第二隔垫物位于所述阵列基板的所述切割区与所述彩膜基板之间，且所述第二隔垫物背离所述阵列基板的一端与所述阵列基板之间的距离，大于所述第一隔垫物背离所述阵列基板的一端与所述阵列基板之间的距离。本公开提供的显示母板，能够改善漏光。

Description

显示母板、显示母板的制造方法与显示面板
技术领域
本公开涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种显示母板、显示母板的制造方法与显示面板。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，TFT-LCD)具有体积小，功耗低，无辐射等特点，近年来得到迅速发展，在当前的平板显示器市场中占据主导地位。TFT-LCD按照显示模式可以分为：扭曲向列(TN，Twisted Nematic)型、平面转换(IPS，In Plane Switching)型和高级超维场开关(ADS，Advanced Super DimensionSwitch)型。
其中，ADS型TFT-LCD主要是通过同一平面内狭缝电极边缘所产生的电场以及狭缝电极层与板状电极层间产生的电场形成多维电场，使液晶盒内狭缝电极间、电极正上方所有取向液晶分子都能够产生旋转，从而提高了液晶工作效率并增大了透光效率，ADS显示模式具有视角广、色偏小、透过率高很多优势。
但是，ADS产品机械抗压力弱，在受到外力的挤压作用时，容易产生暗态漏光现象，影响了用户的视觉效果。
需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本公开实施例的目的在于提供一种显示母板、显示母板的制造方法与显示面板，能够改善漏光。
根据本公开实施例的一个方面，提供了一种显示母板，该显示母板包括：
阵列基板，包括面板区和围绕所述面板区的切割区，所述面板区包括显示区和围绕所述显示区的边框区；
彩膜基板，与所述阵列基板对盒设置；
第一隔垫物，位于所述阵列基板的所述边框区与所述彩膜基板之间；
第二隔垫物，位于所述阵列基板的所述切割区与所述彩膜基板之间，且所述第二隔垫物背离所述阵列基板的一端与所述阵列基板之间的距离，大于所述第一隔垫物背离所述阵列基板的一端与所述阵列基板之间的距离。
在本公开的一种示例性实施例中，所述彩膜基板包括：
黑矩阵，所述第一隔垫物与所述第二隔垫物位于所述黑矩阵与所述阵列基板之间，所述第一隔垫物与所述黑矩阵之间的距离大于所述第二隔垫物与所述黑矩阵之间的距离。
在本公开的一种示例性实施例中，所述阵列基板包括：
驱动功能层，所述驱动功能层包括位于所述切割区上的多个导电部，所述第二隔垫物与所述多个导电部错位设置。
在本公开的一种示例性实施例中，所述第二隔垫物的高度大于所述第一隔垫物的高度。
在本公开的一种示例性实施例中，所述第二隔垫物的高度大于所述第一隔垫物的高度2μm～3μm。
根据本公开实施例的另一个方面，提供了一种显示母板的制造方法，该制造方法包括：
提供阵列基板，所述阵列基板包括面板区和围绕所述面板区的切割区，所述面板区包括显示区和围绕所述显示区的边框区；
提供彩膜基板，将所述彩膜基板与所述阵列基板对盒设置；
在所述阵列基板的所述边框区与所述彩膜基板之间形成第一隔垫物；
在所述阵列基板的所述切割区与所述彩膜基板之间形成第二隔垫物，所述第二隔垫物背离所述阵列基板的一端与所述阵列基板之间的距离，大于所述第一隔垫物背离所述阵列基板的一端与所述阵列基板之间的距离。
在本公开的一种示例性实施例中，所述阵列基板包括驱动功能层，所述驱动功能层包括位于所述切割区上的多个导电部，将所述第二隔垫物与所述多个导电部错位设置。
在本公开的一种示例性实施例中，所述阵列基板包括驱动功能层，所述驱动功能层包括位于所述边框区上的导电层，所述第一隔垫物设于所述导电层上；通过减薄所述导电层的厚度，以使所述第一隔垫物与所述第二隔垫物背离所述阵列基板一端的高度差变大。
在本公开的一种示例性实施例中，所述彩膜基板包括黑矩阵和彩膜层，通过减薄所述黑矩阵和/或所述彩膜层的厚度，以使所述第一隔垫物与所述彩膜基板之间的距离大于所述第二隔垫物与所述彩膜基板之间的距离。
根据本公开实施例的一个方面，提供了一种显示面板，该显示面板由上述的显示母板切割形成。
本公开提供的显示母板，第二隔垫物背离阵列基板的一端与阵列基板之间的距离，大于第一隔垫物背离阵列基板的一端与阵列基板之间的距离，即第二隔垫物相对第一隔垫物背离阵列基板的一端位置较高，距离彩膜基板的距离更近，相当于在面板区间的切割区形成了“架桥模式”，第二隔垫物固化后提前吸收第一隔垫物即将积累的应力，即通过第二隔垫物缓解边框区第一隔垫物对盒时的应力，进而减小制程中显示区的内应力，从而改善产品暗态漏光，提升用户视觉体验。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：
图1为本公开提供的8K产品的漏光示意图；
图2为本公开提供的4K产品的漏光示意图；
图3为本公开提供的相关技术中边框区与切割区的隔垫物示意图；
图4为本公开提供的Panel形变与漏光关系示意图；
图5为本公开的一种实施例提供的显示母板的示意图；
图6为本公开的一种实施例提供的架桥结构整体模型示意图；
图7为本公开的一种实施例提供的8K产品改善前的漏光水平图；
图8为本公开的一种实施例提供的8K产品改善后的漏光水平图；
图9为本公开的一种实施例提供的第一隔垫物与第二隔垫物应力释放后的示意图；
图10为本公开的一种实施例提供的第一隔垫物与第二隔垫物应力释放后的另一示意图；
图11为本公开的一种实施例提供的显示模板的制造方法的流程图。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施方式使得本公开将更加全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。
此外，所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而没有特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。在其它情况下，不详细示出或描述公知方法、装置、实现或者操作以避免模糊本公开的各方面。附图中所示的方框图仅仅是功能实体，不一定必须与物理上独立的实体相对应。即，可以采用软件形式来实现这些功能实体，或在一个或多个硬件模块或集成电路中实现这些功能实体，或在不同网络和/或处理器装置和/或微控制器装置中实现这些功能实体。
虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。
用语“一个”、“一”、“该”、和“至少一个”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等；用语“第一”、“第二”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。
发明人发现，黑态漏光是影响液晶显示器模组黑态均匀性的主要因素，即在黑态(灰阶为零)的状态下，由于液晶显示器玻璃材料、液晶模式、模组机械结构等诸多因素造成的漏光现象。漏光的产生一方面是由于液晶面板上下基板(玻璃)在受到外力作用时发生应力形变，产生相位延迟，上下基板受力方向相反，光轴方向垂直，产生漏光；另一方面，当面板受到外力作用下，ADS产品水平排列的液晶分子受到挤压，排列方向发生变化，发生扭转，光通过液晶分子时偏振方向发生变化，从而导致漏光的发生。
如图1和图2所示，现有4K产品整体漏光水平优于8K产品，一方面是因为8K产品选用负性液晶，在相同相位差(30nm)下，负性液晶透过率更高，在受到应力时漏光更为明显；另一方面是因为8K超高分辨率，需使用较高的Cu(铜)厚，在Dummy Pattern(切割区金属图案)处金属Cu后越高，对应力更敏感，因此导致8K产品整体差于4K产品。
如图3所示，现有大尺寸产品面板本身边框区段差较大，切割区存在较多的金属图案(Pattern)，周边段差较大；同时负性液晶透过率较高，相位差相同时，负性液晶漏光更为敏感；Dummy Seal(切割区隔垫物)30′位于金属图案上，Main Seal(边框区隔垫物)40′高于Dummy Seal 30′，大尺寸产品本身抗形变能力较差，容易造成漏光的产生。
根据L0漏光产生理论-玻璃相位延迟理论，Panel(面板)受到外界应力后发生形变，产生retardation(光程差)，且由于阵列基板10′与彩膜基板20′的受力方向相反，光轴方向垂直，产生漏光。因此，减小Panel应力是改善L0漏光的一种有益方式。如图4所示，面板形变与漏光关系验证如下：模拟结果与真实结果匹配。
根据对漏光与cell(液晶)特性关系研究显示：cell扭转角的变化与漏光呈现较强的相关性，当Panel受到外力作用时，水平排列的液晶分子受到挤压，排列方向发生变化，发生扭转，光通过液晶分子的偏振方向发生变化，从而发生漏光。根据测试分析可知，漏光产生宏观到微观变化如下：外力/内应力变化→面板形变→局部位置液晶Tiwst Angle(扭转角)变化→偏振光方向改变→漏光发生。
因此，发明人发现改善漏光的关键在于减少面板内应力。
针对上述技术问题，本公开提供了一种显示母板，如图5所示，显示母板包括：阵列基板10、彩膜基板20、第一隔垫物30和第二隔垫物40。阵列基板10包括面板区和围绕面板区的切割区Dummy，面板区包括显示区AA和围绕显示区AA的边框区BA；彩膜基板20与阵列基板10对盒设置；第一隔垫物30位于阵列基板10的边框区BA与彩膜基板20之间；第二隔垫物40位于阵列基板10的切割区Dummy与彩膜基板20之间，且第二隔垫物40背离阵列基板10的一端与阵列基板10之间的距离，大于第一隔垫物30背离阵列基板10的一端与阵列基板10之间的距离。
本公开提供的显示母板，第二隔垫物40背离阵列基板10的一端与阵列基板10之间的距离，大于第一隔垫物30背离阵列基板10的一端与阵列基板10之间的距离，即第二隔垫物40相对第一隔垫物30背离阵列基板10的一端位置较高，距离彩膜基板20的距离更近，如图6所示，相当于在面板区间的切割区Dummy形成了“架桥模式”，第二隔垫物40固化后提前吸收第一隔垫物30即将积累的应力，即通过第二隔垫物40缓解边框区BA第一隔垫物30对盒时的应力，进而减小制程中显示区AA的内应力，如图7和图8所示，改善了产品暗态漏光，提升用户视觉体验。
具体地，如图5所示，彩膜基板20包括：黑矩阵(BM)210。第一隔垫物30与第二隔垫物40位于黑矩阵210与阵列基板10之间，第一隔垫物30与黑矩阵210之间的距离大于第二隔垫物40与黑矩阵210之间的距离。
其中，彩膜基板20还包括彩膜层(CF)220，彩膜层220包括多个彩色滤光单元，黑矩阵210设于相邻彩色滤光单元之间，黑矩阵210和彩色滤光单元均形成在彩膜基板20的衬底基板上。
具体地，如图5所示，阵列基板10包括：驱动功能层。驱动功能层包括位于切割区Dummy上的多个导电部，第二隔垫物40与多个导电部错位设置。若第二隔垫物40设于金属Pattern上，这样会使得周边被顶的越高，而显示区AA的高度是固定的，因此会产生顶的应力，液晶分子受到挤压，排列方向发生变化，发生扭转，光通过液晶分子时偏振方向发生变化，从而导致漏光的发生。
具体地，如图5、图9和图10所示，第二隔垫物40的高度大于第一隔垫物30的高度。通过设置高度相对较大的第二隔垫物40，第二隔垫物40距离彩膜基板20的距离更近，相当于在面板区间的切割区Dummy形成了“架桥模式”，第二隔垫物40固化后提前吸收第一隔垫物30即将积累的应力，即通过第二隔垫物40缓解边框区BA第一隔垫物30对盒时的应力，进而减小制程中显示区AA的内应力，从而改善产品暗态漏光。
其中，第二隔垫物40的高度大于第一隔垫物30的高度2μm～3μm，例如2.0μm、2.2μm、2.5μm、2.8μm、3.0μm等，本公开在此不一一列举；当然，第二隔垫物40的高度与第一隔垫物30的高度的差也可小于2μm或大于3μm，本公开对此不做限制。示例的，第一隔垫物30的高度为4.6μm，第二隔垫物40的高度为7.25μm。
本公开通过使第二隔垫物40的高度大于第一隔垫物30的高度2μm～3μm，避免了第二隔垫物40过高时，吸收应力过大过高，产生局部Glass微形变容易再次将应力集中于第一隔垫物30处，反而形成二次应力，此时对漏光改善效果并不大。
具体地，第一隔垫物30与第二隔垫物40采用密封胶固化后形成，本公开将切割区Dummy用合适的第二隔垫物40架起，当彩膜基板20对盒，UV(紫外光)照射后，率先在切割区Dummy处形成应力集中，而此时第一隔垫物30高度较低，上方形成了应力释放区50，固化时极大程度上缓解了内应力的吸收，将切割区Dummy沿与边框区BA的交界处切除后，保留原有已固化成型的第一隔垫物30，此时盖板很难产生进一步形变，面板内应力减弱，同时水平排列的液晶分子排列影响程度减弱，光通过液晶分子时偏振方向变化较小，从而可改善漏光的发生。
如图5所示，显示母板包括多个面板区，相邻的两个面板区之间设有两个第二隔垫物40，分别用于支撑在对应的面板区周边的切割区Dummy上。
本公开的实施例还提供了一种显示母板的制造方法，如图11所示，显示母板的制造方法包括：
步骤S100、提供阵列基板，阵列基板包括面板区和围绕面板区的切割区，面板区包括显示区和围绕显示区的边框区；
步骤S200、提供彩膜基板，将彩膜基板与阵列基板对盒设置；
步骤S300、在阵列基板的边框区与彩膜基板之间形成第一隔垫物；
步骤S400、在阵列基板的切割区与彩膜基板之间形成第二隔垫物，第二隔垫物背离阵列基板的一端与阵列基板之间的距离，大于第一隔垫物背离阵列基板的一端与阵列基板之间的距离。
本公开提供的显示母板，第二隔垫物背离阵列基板的一端与阵列基板之间的距离，大于第一隔垫物背离阵列基板的一端与阵列基板之间的距离，即第二隔垫物相对第一隔垫物背离阵列基板的一端位置较高，距离彩膜基板的距离更近，如图6所示，相当于在面板区间的切割区Dummy形成了“架桥模式”，第二隔垫物固化后提前吸收第一隔垫物30即将积累的应力，即通过第二隔垫物缓解边框区第一隔垫物对盒时的应力，进而减小制程中显示区的内应力，如图7和图8所示，改善了产品暗态漏光，提升用户视觉体验。
具体地，如图5所示，彩膜基板20包括：黑矩阵210。第一隔垫物30与第二隔垫物40位于黑矩阵210与阵列基板10之间，第一隔垫物30与黑矩阵210之间的距离大于第二隔垫物40与黑矩阵210之间的距离。其中，彩膜基板20还包括彩膜层220，彩膜层220包括多个彩色滤光单元，黑矩阵210设于相邻彩色滤光单元之间，黑矩阵210和彩色滤光单元均形成在彩膜基板20的衬底基板上。
具体地，如图5、图9和图10所示，第二隔垫物40的高度大于第一隔垫物30的高度。通过设置高度相对较大的第二隔垫物40，第二隔垫物40距离彩膜基板20的距离更近，相当于在面板区间的切割区Dummy形成了“架桥模式”，第二隔垫物40固化后提前吸收第一隔垫物30即将积累的应力，即通过第二隔垫物40缓解边框区BA第一隔垫物30对盒时的应力，进而减小制程中显示区AA的内应力，从而改善产品暗态漏光。
具体地，阵列基板10包括驱动功能层，驱动功能层包括位于切割区Dummy上的多个导电部，将第二隔垫物40与多个导电部错位设置。若第二隔垫物40设于金属Pattern上，这样会使得周边被顶的越高，而显示区AA的高度是固定的，因此会产生顶的应力，液晶分子受到挤压，排列方向发生变化，发生扭转，光通过液晶分子时偏振方向发生变化，从而导致漏光的发生。
具体地，阵列基板10包括驱动功能层，驱动功能层包括位于边框区BA上的导电层，第一隔垫物30设于导电层上；通过减薄导电层的厚度，以使第一隔垫物30与第二隔垫物40背离阵列基板10一端的高度差变大。其中，导电层可为第一隔垫物30下方的Gate(栅极)110金属。
具体地，彩膜基板20包括黑矩阵210和彩膜层220，通过减薄黑矩阵210和/或彩膜层220的厚度，以使第一隔垫物30与彩膜基板20之间的距离大于第二隔垫物40与彩膜基板20之间的距离，来达到第二隔垫物40起主要架桥支撑作用，从而改善漏光水平。
此外，可通过同时减薄第一隔垫物30下方的Gate(栅极110)金属，以及上方黑矩阵210和彩膜层220的厚度，以使第一隔垫物30与彩膜基板20之间的距离大于第二隔垫物40与彩膜基板20之间的距离，来达到第二隔垫物40起主要架桥支撑作用，从而改善漏光水平。
需要说明的是，尽管在附图中以特定顺序描述了本公开中方法的各个步骤，但是，这并非要求或者暗示必须按照该特定顺序来执行这些步骤，或是必须执行全部所示的步骤才能实现期望的结果。附加的或备选的，可以省略某些步骤，将多个步骤合并为一个步骤执行，以及/或者将一个步骤分解为多个步骤执行等。
本公开的实施例还提供了一种显示面板，由上述的显示母板切割掉切割区后形成，具体切割工艺本公开在此不做限制。该显示面板可用于手机、平板电脑或其它终端设备，其有益效果可参考上述关于显示母板的有益效果，在此不再详述。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (10)

1.一种显示母板，其特征在于，包括：
阵列基板，包括面板区和围绕所述面板区的切割区，所述面板区包括显示区和围绕所述显示区的边框区；
彩膜基板，与所述阵列基板对盒设置；
第一隔垫物，位于所述阵列基板的所述边框区与所述彩膜基板之间；
第二隔垫物，位于所述阵列基板的所述切割区与所述彩膜基板之间，且所述第二隔垫物背离所述阵列基板的一端与所述阵列基板之间的距离，大于所述第一隔垫物背离所述阵列基板的一端与所述阵列基板之间的距离。
2.根据权利要求1所述的显示母板，其特征在于，所述彩膜基板包括：
黑矩阵，所述第一隔垫物与所述第二隔垫物位于所述黑矩阵与所述阵列基板之间，所述第一隔垫物与所述黑矩阵之间的距离大于所述第二隔垫物与所述黑矩阵之间的距离。
3.根据权利要求1所述的显示母板，其特征在于，所述阵列基板包括：
驱动功能层，所述驱动功能层包括位于所述切割区上的多个导电部，所述第二隔垫物与所述多个导电部错位设置。
4.根据权利要求1所述的显示母板，其特征在于，所述第二隔垫物的高度大于所述第一隔垫物的高度。
5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第二隔垫物的高度大于所述第一隔垫物的高度2μm～3μm。
6.一种显示母板的制造方法，其特征在于，包括：
提供阵列基板，所述阵列基板包括面板区和围绕所述面板区的切割区，所述面板区包括显示区和围绕所述显示区的边框区；
提供彩膜基板，将所述彩膜基板与所述阵列基板对盒设置；
在所述阵列基板的所述边框区与所述彩膜基板之间形成第一隔垫物；
在所述阵列基板的所述切割区与所述彩膜基板之间形成第二隔垫物，所述第二隔垫物背离所述阵列基板的一端与所述阵列基板之间的距离，大于所述第一隔垫物背离所述阵列基板的一端与所述阵列基板之间的距离。
7.根据权利要求6所述的制造方法，其特征在于，所述阵列基板包括驱动功能层，所述驱动功能层包括位于所述切割区上的多个导电部，将所述第二隔垫物与所述多个导电部错位设置。
8.根据权利要求6所述的制造方法，其特征在于，所述阵列基板包括驱动功能层，所述驱动功能层包括位于所述边框区上的导电层，所述第一隔垫物设于所述导电层上；通过减薄所述导电层的厚度，以使所述第一隔垫物与所述第二隔垫物背离所述阵列基板一端的高度差变大。
9.根据权利要求6所述的制造方法，其特征在于，所述彩膜基板包括黑矩阵和彩膜层，通过减薄所述黑矩阵和/或所述彩膜层的厚度，以使所述第一隔垫物与所述彩膜基板之间的距离大于所述第二隔垫物与所述彩膜基板之间的距离。
10.一种显示面板，其特征在于，由权利要求1-5任一项所述的显示母板切割形成。
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