CN114394757A - 单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃 - Google Patents
单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114394757A CN114394757A CN202111427166.8A CN202111427166A CN114394757A CN 114394757 A CN114394757 A CN 114394757A CN 202111427166 A CN202111427166 A CN 202111427166A CN 114394757 A CN114394757 A CN 114394757A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- etching
- glass
- acid
- glass substrate
- protective layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 212
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 182
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 81
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 76
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 37
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 claims abstract description 37
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 58
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 9
- 230000001788 irregular Effects 0.000 claims description 8
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 6
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 abstract description 6
- 238000005457 optimization Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000005338 frosted glass Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
本发明涉及玻璃蚀刻技术领域，具体涉及单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，首先取一块玻璃基板，对其进行初蚀刻处理，得到初蚀刻玻璃薄板，然后将其远离刻蚀表面的侧面固定于防酸背板上，再通过在玻璃基板的表面蚀刻形成图案的凹槽，从而得到图案玻璃薄板，最后进行优化和分离，得到理想的超薄玻璃基板；本发明提供了由该方法所制得的超薄玻璃。本发明通过设置单面的耐酸光刻层，节约了生产成本；将初蚀刻玻璃薄板通过胶粘层固定于防酸背板上，便于在蚀刻过程中的固定，且不易造成超薄玻璃的卷曲而破裂，降低了其不良率；优化分离步骤能进行高精度切割，得到分离且规则的超薄玻璃，具有的蚀刻图案扩大了其应用范围，实用性强。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃蚀刻技术领域，具体涉及单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃。
背景技术
超薄型玻璃能很好地应用于折叠手机的盖板领域，物理方法和化学方法是玻璃切割和减薄的常用技术，其中，化学蚀刻法由于具有产率高、不良率低且减薄效果好等优点，而越来越受到人们的欢迎，一般化学切割方法不需要进行物理性的切割和抛光所以不会发生微裂纹，但需要进行双面光刻胶镀膜、刻图案，不但导致了制作成本的增加，而且由于超薄玻璃厚度较小，双面蚀刻也容易造成断裂和不易固定的问题。
因此，人们将研究的目光逐渐转移到了单面蚀刻制造超薄玻璃的技术研究，目前也有相关文献对其进行了公开和报导，但是其方法比较单一，得到的超薄玻璃性能有待进一步提高，例如，在现有技术中，专利号为CN103359949A的“TFT玻璃基板单面蚀刻的方法”和专利号为CN204644165U的“用于蒙砂玻璃的单面蚀刻装置”均是对玻璃基板的非蚀刻区进行防护，然后通过蚀刻液进行蚀刻，即得到相应的超薄玻璃，但是该方法制得的玻璃结构单一，并且没有蚀刻相应的图案，性能的缺陷限制了其应用，并且仅仅通过耐酸膜/保护膜的限制，难以对超薄玻璃进行固定，容易造成其破裂，导致不良率的上升。又如，专利号为CN111453997A的“单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃”通过单面减薄技术可以降低光刻胶的成本，实现了对图案的形状的切割，且不易发生微裂纹，但是其连接结构是耐酸性薄膜，不但不易于固定，而且在减薄的过程中容易发生卷曲而造成破裂，并且其切割过程太过简单，不容易控制，蚀刻液会继续对蚀刻后的玻璃基板进行蚀刻，造成蚀刻过度的问题，得到不规则形状的超薄玻璃不理想，如图8所示。
发明内容
针对上述现有领域存在的问题，本发明的目的是提供一种稳固性好、不良率低、效率高且效果好的单面蚀刻制造超薄玻璃的方法。为实现本发明的目的，采用如下技术方案：
一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，包括以下步骤：
(1)初蚀刻减薄：取一块玻璃基板，对其进行初蚀刻处理，得到初蚀刻玻璃薄板；
(2)固定：将步骤(1)所得初蚀刻玻璃薄板远离刻蚀表面的侧面固定于防酸背板上；
(3)蚀刻图案：通过在玻璃基板的表面蚀刻形成图案的凹槽，从而得到图案玻璃薄板；
(4)优化分离：对步骤(3)所得图案玻璃薄板进行优化和分离，得到厚度为0.02-0.08mm的超薄玻璃基板。
优选的，步骤(1)所述初蚀刻减薄包括以下步骤：
(101)打磨：将待刻蚀面进行打磨处理，防止减薄后的打磨造成破裂，以降低不良率；
(102)清洁：对步骤(101)打磨后的玻璃基板通过蒸馏水、乙醇洗涤2-3次，以得到表面洁净的玻璃基板；
(103)防护：在步骤(102)清洁后的玻璃基板的底面及其四周形成第一耐酸防护层；
(104)蚀刻：将步骤(103)所得玻璃基板通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，得到初蚀刻玻璃薄板。
优选的，步骤(2)所述初蚀刻玻璃薄板远离刻蚀表面的侧面通过胶粘层固定于防酸背板上。
优选的，步骤(3)所述蚀刻图案具体包括以下步骤：
(301)在玻璃基板的蚀刻表面依次形成金属膜和耐酸光刻层；
(302)在耐酸光刻层的表面设置掩膜，通过曝光技术在耐酸光刻层表面形成相应的图案；
(303)除去耐酸光刻层表面的掩膜；
(304)在耐酸光刻层的表面设置第二耐酸防护层；
(305)将步骤(304)的玻璃基板通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，在玻璃基板的表面蚀刻形成图案的凹槽；
(306)依次剥离第二耐酸防护层、耐酸光刻层和金属膜，得到图案玻璃薄板。
优选的，所述第一耐酸防护层、第二耐酸防护层为PVC、PP、PET中的一种或几种。
优选的，步骤(4)所述优化分离具体包括以下步骤：
(401)在步骤(3)所得图案玻璃薄板的蚀刻表面形成第三耐酸防护层；
(402)根据需要在步骤(401)设置了第三耐酸防护层的图案玻璃薄板上画定分离线和蚀刻终点线；
(403)在第三耐酸防护层内画定撕裂线，且所述撕裂线与分离线相对应；
(404)撕开两撕裂线之间的第三耐酸防护层，形成局部蚀刻区；
(405)将步骤(404)形成了局部蚀刻区的玻璃基板通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，得到分离的且形状不规则的待优化玻璃薄板；
(406)将步骤(405)得到的形状不规则的待优化玻璃薄板继续蚀刻，直至蚀刻表面达到蚀刻终点线，再剥离第一耐酸防护层和第三耐酸防护层，得到理想的超薄玻璃基板。
优选的，所述分离线位于凹槽内，所述蚀刻终点线位于凹槽的边缘。
优选的，所述蚀刻液为20-50％的氢氟酸溶液，且所述蚀刻液采用顶喷或侧喷的方式进行蚀刻。
为达上述目的，本发明还提供了一种超薄玻璃，采用上述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法制备而得。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明通过单面蚀刻，仅需要设置单面的耐酸光刻层，节约了生产成本；将初蚀刻玻璃薄板通过胶粘层固定于防酸背板上，便于在蚀刻过程中的固定，且不易造成超薄玻璃的卷曲而破裂，降低了其不良率；通过对蚀刻图案的图案玻璃薄板进行优化分离，可以进行高精度切割，得到分离且规则的超薄玻璃，具有的蚀刻图案扩大了其应用范围，实用性强。
附图说明
图1为本发明一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法的工艺流程图；
图2为本发明中初蚀刻减薄步骤的工艺流程图；
图3为本发明中蚀刻图案步骤的工艺流程图；
图4为本发明中优化分离步骤的工艺流程图；
图5为本发明一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法中初蚀刻减薄的流程示意图；
图6为本发明一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法中固定和蚀刻图案的流程示意图；
图7为本发明一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法中优化分离的流程示意图；
图8为对比文件中蚀刻过度的结构示意图；
图中，1-玻璃基板，101-初蚀刻玻璃薄板，102-图案玻璃薄板，103-待优化玻璃薄板，104-超薄玻璃基板，2-金属膜，3-耐酸光刻层，4-第一耐酸防护层，5-掩膜，6-胶粘层，7-防酸背板，8-第二耐酸防护层，9-凹槽，10-第三耐酸防护层，11-预分离线，12-撕裂线，13-局部蚀刻区，14-蚀刻终点线。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
具体实施例1
图1为本发明一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法的工艺流程图，并且结合图2至图7，从中可以看出，本发明提供了一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，具体包括以下步骤：
步骤S1：初蚀刻减薄：取一块玻璃基板1，对其进行初蚀刻处理，得到初蚀刻玻璃薄板101。
在本步骤中，首先将待刻蚀面进行打磨处理，可以加快减薄速率，并且由于玻璃基板较薄时打磨容易劈裂，此步骤可以防止减薄后的打磨造成破裂，以降低不良率；然后将玻璃基板1通过蒸馏水、乙醇分别洗涤3次，以得到表面洁净的玻璃基板1；再在玻璃基板1的底面及其四周形成第一耐酸防护层4；最后将所得玻璃基板1通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，得到初蚀刻玻璃薄板101。
步骤S2：固定：将步骤S1所得初蚀刻玻璃薄板101远离刻蚀表面的侧面通过胶粘层6固定于防酸背板7上。
步骤S3：蚀刻图案：通过在玻璃基板1的表面蚀刻形成图案的凹槽9，从而得到图案玻璃薄板102。
在本步骤中，首先在玻璃基板1的蚀刻表面依次形成金属膜2(即铬膜)和耐酸光刻层3，在耐酸光刻层3的表面设置掩膜5，通过曝光技术在耐酸光刻层3表面形成相应的图案；再除去耐酸光刻层3表面的掩膜5；然后在耐酸光刻层3的表面设置第二耐酸防护层8，将得到的玻璃基板1通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，在玻璃基板1的表面蚀刻形成图案的凹槽9；最后依次剥离第二耐酸防护层8、耐酸光刻层3和金属膜2，得到图案玻璃薄板102，其中耐酸光刻层和金属膜通过剥离液从玻璃基板上玻璃，此为现有技术，在此不在赘述。
步骤S4：优化分离：对步骤S3所得图案玻璃薄板102进行优化和分离，得到厚度为0.02mm的超薄玻璃基板104。
在本步骤中，首先将所得图案玻璃薄板102的蚀刻表面形成第三耐酸防护层10，然后在图案玻璃薄板102上画定分离线11和蚀刻终点线14，该分离线11位于凹槽9内，蚀刻终点线14位于凹槽9的边缘，在第三耐酸防护层10内画定撕裂线12，且该撕裂线12与分离线11相对应；再撕开两撕裂线12之间的第三耐酸防护层10，形成局部蚀刻区13；然后将形成了局部蚀刻区13的玻璃基板1通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，得到分离的且形状不规则的待优化玻璃薄板103；最后将得到的形状不规则的待优化玻璃薄板103继续蚀刻，直至蚀刻表面达到蚀刻终点线14，再剥离第一耐酸防护层4和第三耐酸防护层10，得到厚度为0.02mm的超薄玻璃基板104。
在本发明中，蚀刻液为20％的氢氟酸溶液，且该蚀刻液采用顶喷的方式进行蚀刻。其中，第一耐酸防护层4、第二耐酸防护层8、第三耐酸防护层10分别为厚度为0.1mm的PVC、PP、PET，这些材质的薄膜在照射250-600nm波长的光源时失去粘合力，进而容易从玻璃基板上剥离。
具体实施例2
图1为本发明一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法的工艺流程图，并且结合图2至图7，从中可以看出，本发明提供了一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，具体包括以下步骤：
步骤S1：初蚀刻减薄：取一块玻璃基板1，对其进行初蚀刻处理，得到初蚀刻玻璃薄板101。
在本步骤中，首先将待刻蚀面进行打磨处理，可以加快减薄速率，并且由于玻璃基板较薄时打磨容易劈裂，此步骤可以防止减薄后的打磨造成破裂，以降低不良率；然后将玻璃基板1通过蒸馏水、乙醇分别洗涤2次，以得到表面洁净的玻璃基板1；再在玻璃基板1的底面及其四周形成第一耐酸防护层4；最后将所得玻璃基板1通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，得到初蚀刻玻璃薄板101。
步骤S2：固定：将步骤S1所得初蚀刻玻璃薄板101远离刻蚀表面的侧面通过胶粘层6固定于防酸背板7上。
步骤S3：蚀刻图案：通过在玻璃基板1的表面蚀刻形成图案的凹槽9，从而得到图案玻璃薄板102。
在本步骤中，首先在玻璃基板1的蚀刻表面依次形成金属膜2(即铬膜)和耐酸光刻层3，在耐酸光刻层3的表面设置掩膜5，通过曝光技术在耐酸光刻层3表面形成相应的图案；再除去耐酸光刻层3表面的掩膜5；然后在耐酸光刻层3的表面设置第二耐酸防护层8，将得到的玻璃基板1通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，在玻璃基板1的表面蚀刻形成图案的凹槽9；最后依次剥离第二耐酸防护层8、耐酸光刻层3和金属膜2，得到图案玻璃薄板102，其中耐酸光刻层和金属膜通过剥离液从玻璃基板上玻璃，此为现有技术，在此不在赘述。
步骤S4：优化分离：对步骤S3所得图案玻璃薄板102进行优化和分离，得到厚度为0.08mm的超薄玻璃基板104。
在本步骤中，首先将所得图案玻璃薄板102的蚀刻表面形成第三耐酸防护层10，然后在图案玻璃薄板102上画定分离线11和蚀刻终点线14，该分离线11位于凹槽9内，蚀刻终点线14位于凹槽9的边缘，在第三耐酸防护层10内画定撕裂线12，且该撕裂线12与分离线11相对应；再撕开两撕裂线12之间的第三耐酸防护层10，形成局部蚀刻区13；然后将形成了局部蚀刻区13的玻璃基板1通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，得到分离的且形状不规则的待优化玻璃薄板103；最后将得到的形状不规则的待优化玻璃薄板103继续蚀刻，直至蚀刻表面达到蚀刻终点线14，再剥离第一耐酸防护层4和第三耐酸防护层10，得到厚度为0.08mm的超薄玻璃基板104。
在本发明中，蚀刻液为50％的氢氟酸溶液，且该蚀刻液采用侧喷的方式进行蚀刻。其中，第一耐酸防护层4、第二耐酸防护层8、第三耐酸防护层10是厚度为0.5mm的PVC材料，这些材质的薄膜在照射250-600nm波长的光源时失去粘合力，进而容易从玻璃基板上剥离。
具体实施例3
图1为本发明一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法的工艺流程图，并且结合图2至图7，从中可以看出，本发明提供了一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，具体包括以下步骤：
步骤S1：初蚀刻减薄：取一块玻璃基板1，对其进行初蚀刻处理，得到初蚀刻玻璃薄板101。
在本步骤中，首先将待刻蚀面进行打磨处理，可以加快减薄速率，并且由于玻璃基板较薄时打磨容易劈裂，此步骤可以防止减薄后的打磨造成破裂，以降低不良率；然后将玻璃基板1通过蒸馏水、乙醇分别洗涤3次，以得到表面洁净的玻璃基板1；再在玻璃基板1的底面及其四周形成第一耐酸防护层4；最后将所得玻璃基板1通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，得到初蚀刻玻璃薄板101。
步骤S2：固定：将步骤S1所得初蚀刻玻璃薄板101远离刻蚀表面的侧面通过胶粘层6固定于防酸背板7上。
步骤S3：蚀刻图案：通过在玻璃基板1的表面蚀刻形成图案的凹槽9，从而得到图案玻璃薄板102。
在本步骤中，首先在玻璃基板1的蚀刻表面依次形成金属膜2(即铬膜)和耐酸光刻层3，在耐酸光刻层3的表面设置掩膜5，通过曝光技术在耐酸光刻层3表面形成相应的图案；再除去耐酸光刻层3表面的掩膜5；然后在耐酸光刻层3的表面设置第二耐酸防护层8，将得到的玻璃基板1通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，在玻璃基板1的表面蚀刻形成图案的凹槽9；最后依次剥离第二耐酸防护层8、耐酸光刻层3和金属膜2，得到图案玻璃薄板102，其中耐酸光刻层和金属膜通过剥离液从玻璃基板上玻璃，此为现有技术，在此不在赘述。
步骤S4：优化分离：对步骤S3所得图案玻璃薄板102进行优化和分离，得到厚度为0.06mm的超薄玻璃基板104。
在本步骤中，首先将所得图案玻璃薄板102的蚀刻表面形成第三耐酸防护层10，然后在图案玻璃薄板102上画定分离线11和蚀刻终点线14，该分离线11位于凹槽9内，蚀刻终点线14位于凹槽9的边缘，在第三耐酸防护层10内画定撕裂线12，且该撕裂线12与分离线11相对应；再撕开两撕裂线12之间的第三耐酸防护层10，形成局部蚀刻区13；然后将形成了局部蚀刻区13的玻璃基板1通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，得到分离的且形状不规则的待优化玻璃薄板103；最后将得到的形状不规则的待优化玻璃薄板103继续蚀刻，直至蚀刻表面达到蚀刻终点线14，再剥离第一耐酸防护层4和第三耐酸防护层10，得到厚度为0.08mm的超薄玻璃基板104。
在本发明中，蚀刻液为35％的氢氟酸溶液，且该蚀刻液采用顶喷的方式进行蚀刻。其中，第一耐酸防护层4、第二耐酸防护层8、第三耐酸防护层10是厚度为0.3mm的PVC材料，这些材质的薄膜在照射250-600nm波长的光源时失去粘合力，进而容易从玻璃基板上剥离。
具体实施例4
一种超薄玻璃，采用上述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法制备而得。
从本发明的以上各实施例可看出，本发明通过单面蚀刻，仅需要设置单面的耐酸光刻层，节约了生产成本；将初蚀刻玻璃薄板通过胶粘层固定于防酸背板上，便于在蚀刻过程中的固定，且不易造成超薄玻璃的卷曲而破裂，降低了其不良率；通过对蚀刻图案的图案玻璃薄板进行优化分离，可以进行高精度切割，得到分离且规则的超薄玻璃，具有的蚀刻图案扩大了其应用范围，实用性强。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉该技术的人在本发明所揭露的技术范围内，可理解想到的变换或更替，都应涵盖在本发明的包含范围之内，因此，本发明的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。
Claims (9)
1.一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于：包括以下步骤：
(1)初蚀刻减薄：取一块玻璃基板(1)，对其进行初蚀刻处理，得到初蚀刻玻璃薄板(101)；
(2)固定：将步骤(1)所得初蚀刻玻璃薄板(101)远离刻蚀表面的侧面固定于防酸背板(7)上；
(3)蚀刻图案：通过在玻璃基板(1)的表面蚀刻形成图案的凹槽(9)，从而得到图案玻璃薄板(102)；
(4)优化分离：对步骤(3)所得图案玻璃薄板(102)进行优化和分离，得到厚度为0.02-0.08mm的超薄玻璃基板(104)。
2.根据权利要求1所述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于：步骤(1)所述初蚀刻减薄包括以下步骤：
(101)打磨：将待刻蚀面进行打磨处理，防止减薄后的打磨造成破裂，以降低不良率；
(102)清洁：对步骤(101)打磨后的玻璃基板(1)通过蒸馏水、乙醇洗涤2-3次，以得到表面洁净的玻璃基板(1)；
(103)防护：在步骤(102)清洁后的玻璃基板(1)的底面及其四周形成第一耐酸防护层(4)；
(104)蚀刻：将步骤(103)所得玻璃基板(1)通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，得到初蚀刻玻璃薄板(101)。
3.根据权利要求1所述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于：步骤(2)所述初蚀刻玻璃薄板(101)远离刻蚀表面的侧面通过胶粘层(6)固定于防酸背板(7)上。
4.根据权利要求2所述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于：步骤(3)所述蚀刻图案具体包括以下步骤：
(301)在玻璃基板(1)的蚀刻表面依次形成金属膜(2)和耐酸光刻层(3)；
(302)在耐酸光刻层(3)的表面设置掩膜(5)，通过曝光技术在耐酸光刻层(3)表面形成相应的图案；
(303)除去耐酸光刻层(3)表面的掩膜(5)；
(304)在耐酸光刻层(3)的表面设置第二耐酸防护层(8)；
(305)将步骤(304)的玻璃基板(1)通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，在玻璃基板(1)的表面蚀刻形成图案的凹槽(9)；
(306)依次剥离第二耐酸防护层(8)、耐酸光刻层(3)和金属膜(2)，得到图案玻璃薄板(102)。
5.根据权利要求4所述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于：所述第一耐酸防护层(4)、第二耐酸防护层(8)为PVC、PP、PET中的一种或几种。
6.根据权利要求4所述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于：步骤(4)所述优化分离具体包括以下步骤：
(401)在步骤(3)所得图案玻璃薄板(102)的蚀刻表面形成第三耐酸防护层(10)；
(402)根据需要在步骤(401)设置了第三耐酸防护层(10)的图案玻璃薄板(102)上画定分离线(11)和蚀刻终点线(14)；
(403)在第三耐酸防护层(10)内画定撕裂线(12)，且所述撕裂线(12)与分离线(11)相对应；
(404)撕开两撕裂线(12)之间的第三耐酸防护层(10)，形成局部蚀刻区(13)；
(405)将步骤(404)形成了局部蚀刻区(13)的玻璃基板(1)通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，得到分离的且形状不规则的待优化玻璃薄板(103)；
(406)将步骤(405)得到的形状不规则的待优化玻璃薄板(103)继续蚀刻，直至蚀刻表面达到蚀刻终点线(14)，再剥离第一耐酸防护层(4)和第三耐酸防护层(10)，得到理想的超薄玻璃基板(104)。
7.根据权利要求6所述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于：所述分离线(11)位于凹槽(9)内，所述蚀刻终点线(14)位于凹槽(9)的边缘。
8.根据权利要求2、4、6任一权利要求所述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于：所述蚀刻液为20-50％的氢氟酸溶液，且所述蚀刻液采用顶喷或侧喷的方式进行蚀刻。
9.一种超薄玻璃，其特征在于：采用权利要求1至8任一权利要求所述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法制备而得。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111427166.8A CN114394757A (zh) | 2021-11-28 | 2021-11-28 | 单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111427166.8A CN114394757A (zh) | 2021-11-28 | 2021-11-28 | 单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114394757A true CN114394757A (zh) | 2022-04-26 |
Family
ID=81225275
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202111427166.8A Pending CN114394757A (zh) | 2021-11-28 | 2021-11-28 | 单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114394757A (zh) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1532158A (zh) * | 2003-03-24 | 2004-09-29 | 西山不锈化学股份有限公司 | 切割玻璃的方法 |
| US20150122773A1 (en) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | Ghitron Technology Co., Ltd. | Method for carrying out edge etching and strengthening of ogs (one-glass-solution) touch panel with one-time film lamination |
| CN110950541A (zh) * | 2019-12-19 | 2020-04-03 | 苏州凯利昂光电科技有限公司 | 一种玻璃单面减薄的方法 |
| CN111453997A (zh) * | 2020-04-14 | 2020-07-28 | 拓米(成都)应用技术研究院有限公司 | 单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃 |
| CN112390536A (zh) * | 2019-08-12 | 2021-02-23 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 超薄玻璃盖板、超薄强化玻璃盖板及其制备方法 |
| US20210114925A1 (en) * | 2019-10-22 | 2021-04-22 | Bsp Co., Ltd. | Crack-free glass substrate cutting and thinning method |
| CN113336447A (zh) * | 2021-06-24 | 2021-09-03 | 重庆永信科技有限公司 | 一种超薄玻璃单面减薄方法 |
-
2021
- 2021-11-28 CN CN202111427166.8A patent/CN114394757A/zh active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1532158A (zh) * | 2003-03-24 | 2004-09-29 | 西山不锈化学股份有限公司 | 切割玻璃的方法 |
| US20150122773A1 (en) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | Ghitron Technology Co., Ltd. | Method for carrying out edge etching and strengthening of ogs (one-glass-solution) touch panel with one-time film lamination |
| CN112390536A (zh) * | 2019-08-12 | 2021-02-23 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 超薄玻璃盖板、超薄强化玻璃盖板及其制备方法 |
| US20210114925A1 (en) * | 2019-10-22 | 2021-04-22 | Bsp Co., Ltd. | Crack-free glass substrate cutting and thinning method |
| CN110950541A (zh) * | 2019-12-19 | 2020-04-03 | 苏州凯利昂光电科技有限公司 | 一种玻璃单面减薄的方法 |
| CN111453997A (zh) * | 2020-04-14 | 2020-07-28 | 拓米(成都)应用技术研究院有限公司 | 单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃 |
| CN113336447A (zh) * | 2021-06-24 | 2021-09-03 | 重庆永信科技有限公司 | 一种超薄玻璃单面减薄方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2020156257A1 (zh) | 指纹识别模组及其制作方法和电子装置 | |
| TW454244B (en) | Semiconductor substrate and method of manufacturing the same | |
| US10234630B2 (en) | Method for creating a high refractive index wave guide | |
| US9063600B2 (en) | Method for carrying out edge etching and strengthening of OGS (one-glass-solution) touch panel with one-time film lamination | |
| KR20050085877A (ko) | 광 도파관의 제조 공정 | |
| DE60140379D1 (de) | Soi/glas-verfahren zur herstellung von dünnen mikrobearbeiteten strukturen | |
| EP3544050A1 (en) | Array substrate and preparation method therefor, and display device | |
| JP2010254551A (ja) | 電子装置用ガラス基板及び電子装置の製造方法 | |
| WO2015169081A1 (zh) | Ito膜层刻蚀方法和包含使用该方法形成的电极层的阵列基板 | |
| KR20100110734A (ko) | 전자 장치용 유리 기판 및 전자 장치의 제조 방법 | |
| CN107331733A (zh) | 一种单面多晶硅的制备方法 | |
| WO2018188388A1 (zh) | 阵列基板的制备方法、阵列基板、显示面板和显示装置 | |
| CN108623180A (zh) | 一种平板显示面板的切割方法 | |
| CN112679101A (zh) | 一种不等厚玻璃及其加工工艺 | |
| CN103489828A (zh) | 薄膜晶体管阵列基板的制造方法 | |
| US20190196285A1 (en) | Manufacturing method of array substrate and its upper electrode line pattern and liquid crystal display panel | |
| CN103723927A (zh) | 具波浪形表面的玻璃基板的制造方法 | |
| WO2019184045A1 (zh) | 一种阵列基板的制作方法 | |
| CN106371294B (zh) | 一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置 | |
| CN208384312U (zh) | 显示面板以及显示装置 | |
| CN102092673A (zh) | Mems的缓变侧壁的形成方法 | |
| CN114394757A (zh) | 单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃 | |
| CN101446682A (zh) | 基于soi的连续薄膜式微变形镜及其制备方法 | |
| CN108062001A (zh) | 膜层的图案化方法、金属线栅偏振结构及其制作方法 | |
| CN106033289B (zh) | 一种制备黑白点阵触摸液晶屏的方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20220426 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |