CN114378045A - 一种单晶硅片的清洗设备 - Google Patents

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朱仁德
章祥静
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Abstract

本发明涉及单晶硅片技术领域,具体的说是一种单晶硅片的清洗设备,包括清洗机本体,所述清洗机本体上连接有主体机构;所述清洗机本体上配合滑动有调节机构;所述调节机构上安装有存放机构;所述存放机构上滑动有抖动机构;所述清洗机本体上配合转动有抵触机构;打开调节机构,进而使其在清洗机本体中滑动,进而便于通过调节机构对单晶硅片进行多次清洗;存放机构从调节机构滑动到主体机构内,进而便于清洗机本体启动时清洗存放机构内的单晶硅片;操作人员打开抵触机构的控制开关,进而使抵触机构在转动时对主体机构内的存放机构进行抵触,进而使存放机构受到抵触时带动抖动机构滑动,进而使硅片在存放机构内抖动时便于提高单晶硅片的清洗效果。

Description

一种单晶硅片的清洗设备
技术领域
本发明涉及单晶硅片技术领域,具体的说是一种单晶硅片的清洗设备。
背景技术
单晶硅通常指的是硅原子的一种排列形式形成的物质。硅是最常见应用最广的半导体材料,当熔融的单质硅凝固时,硅原子以金刚石晶格排列成晶核,其晶核长成晶面取向相同的晶粒,形成单晶硅。在对单晶硅片进行清洗时,操作人员一般通过超声波清洗机对多晶硅片表面上微粒、有机物等杂质进行清理。
然而,现有的超声波清洗机在使用时,操作人员需要对硅片进行多次清洗,由于将硅片来回从清洗箱内拿取出来再放置到新清洗箱中的操作步骤繁琐,进而不利于提高硅片的清洗速度;另外,硅片直接放置在清洗箱内进行清洗,由于多个硅片堆叠在一起的部位不便于清洗到位,进而在清洗结束后硅片上还容易附着有杂质,一定程度上不利于提高硅片的清洗效果。
发明内容
针对现有技术中的问题,本发明提供了一种单晶硅片的清洗设备。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种单晶硅片的清洗设备,包括清洗机本体,所述清洗机本体上连接有主体机构;所述清洗机本体上配合滑动有调节机构;所述调节机构上安装有存放机构;所述存放机构上滑动有抖动机构;所述清洗机本体上配合转动有抵触机构;
所述抵触机构包括第三电机,所述清洗机本体上固定安装有第三电机,所述第三电机的输出端通过联轴器固定连接有转轴,所述转轴上固定安装有转杆,所述转杆上抵触有转板,所述清洗机本体上配合转动有转板,所述转板上固定连接有抵块。
具体的,所述主体机构包括清洗槽,所述清洗机本体上等距设有三个清洗槽,所述清洗槽内配合安装有清洗箱,所述清洗机本体上对称设有两个移动槽,所述清洗箱上配合转动有连轴,所述连轴与转板之间固定连接,所述连轴上套接有扭簧,所述转板通过扭簧与清洗箱配合连接。
具体的,所述调节机构包括第一电机,所述清洗机本体内配合安装有第一电机,所述第一电机的输出端通过联轴器固定连接有第一螺杆,所述第一螺杆与清洗机本体之间转动连接,所述移动槽内配合滑动有固定架,所述固定架与第一螺杆之间螺纹连接,所述移动槽上固定安装有第一滑杆,所述固定架与第一滑杆之间固定连接,所述固定架上配合转动有导向轮,所述导向轮与清洗机本体之间滚动连接。
具体的,所述存放机构包括第二电机,所述固定架上配合安装有第二电机,所述第二电机的输出端通过联轴器固定连接有第二螺杆,所述第二螺杆与固定架之间转动连接,所述固定架上固定安装有第二滑杆,所述固定架上对称设有两个滑槽,所述滑槽内配合滑动有滑块,一个所述滑块与第二螺杆之间螺纹连接,另一个所述滑块与第二滑杆之间滑动连接,所述滑块上固定安装有连接块,所述连接块内配合滑动有固定板,所述固定板上固定安装有放置箱,所述放置箱上对称固定安装有两个拉杆,所述固定板上配合转动有滚珠,所述滚珠与连接块之间滚动连接。
具体的,所述抖动机构包括卡块,所述连接块上对称滑动连接有两个卡块,所述卡块通过伸缩弹簧与连接块配合连接,所述卡块内配合转动有滚轮,所述滚轮与固定板之间滚动连接。
本发明的有益效果是:
(1)本发明所述的一种单晶硅片的清洗设备,操作人员将清洗液倒入主体机构中,打开调节机构的控制开关,进而使其在清洗机本体中滑动,进而便于通过调节机构对单晶硅片进行多次清洗,从而有利于提高硅片的清洗效率,即:操作人员可以先将清洗液添加到清洗箱中,然后打开第一电机的控制开关,第一电机的输出端通过联轴器固定连接有第一螺杆,当第一螺杆在清洗机本体内部转动时,由于第一螺杆上螺纹连接有固定架,且清洗机本体上设有的移动槽部位固定安装有第一滑杆,固定架和第一滑杆之间滑动连接,当第一电机开始启动时,第一螺杆在清洗机本体中转动,进而使固定架在滑槽内滑动,从而便于操作人员对固定架的位置进行调整。
(2)本发明所述的一种单晶硅片的清洗设备,打开存放机构的控制开关,进而使存放机构从调节机构滑动到主体机构内,进而便于清洗机本体启动时对存放机构内的单晶硅片进行清洗,即:放置好固定架后,操作人员可以将单晶硅片放入到放置箱内,然后再打开第二电机的控制开关,固定架上对称设有滑槽,第二电机的输出端通过联轴器固定连接有第二螺杆,当第二电机开始启动时,第二螺杆在固定架内转动,由于第二螺杆上螺纹连接有一个滑块,固定架上固定的第二滑杆上滑动连接有另一个滑块,当第二螺杆随第二电机转动时,进而使滑块带动连接块滑动,连接块内配合滑动有固定板,固定板上固定安装有放置箱,放置箱上固定连接有拉杆,连接块带动固定板滑动,进而使放置箱可以滑入到清洗箱内,进而便于清洗机本体对清洗箱内的单晶硅片进行清洗。
(3)本发明所述的一种单晶硅片的清洗设备,操作人员打开抵触机构的控制开关,进而使抵触机构在转动时对主体机构内的存放机构进行抵触,进而使存放机构受到抵触时带动抖动机构滑动,进而使硅片在存放机构内抖动时便于提高单晶硅片的清洗效果,即:当放置箱滑入到清洗箱中时,操作人员可以打开第三电机的控制开关,第三电机上固定连接有转轴,转轴上固定安装有转杆,转杆在清洗机本体中转动时,会对转板进行抵触,转板上固定安装有连轴,连轴上套接有扭簧,转板通过扭簧与清洗箱配合连接,转板上固定安装有抵块,第三电机启动时,转轴带动转杆转动,进而使转板受转杆挤压时在清洗箱内转动,进而使扭簧形变时转板带动抵块对放置箱底端进行抵触,放置箱在清洗箱内滑动,放置箱上固定的固定板对卡块进行抵触,卡块通过伸缩弹簧与连接块配合连接,当卡块在连接块内滑动时可以对伸缩弹簧进行挤压,进而使固定板在连接块内来回抖动,从而在便于对硅片进行清洗的同时也有利于防止硅片堆叠在一起的地方不方便清洗干净的情况。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1为本发明提供的一种单晶硅片的清洗设备的一种较佳实施例的整体结构示意图;
图2为图1所示的A部结构放大示意图;
图3为本发明的第一电机与第一螺杆的连接结构示意图;
图4为本发明的清洗机本体与清洗箱的连接结构示意图;
图5为图4所示的B部结构放大示意图;
图6为图4所示的C部结构放大示意图;
图7为图4所示的D部结构放大示意图;
图8为图4所示的E部结构放大示意图。
图中:1、清洗机本体;2、主体机构;201、清洗槽;202、清洗箱;203、移动槽;3、调节机构;301、固定架;302、滑槽;303、第一电机;304、第一螺杆;305、第一滑杆;306、导向轮;4、存放机构;401、第二电机;402、拉杆;403、放置箱;404、连接块;405、滑块;406、第二螺杆;407、第二滑杆;408、固定板;409、滚珠;5、抖动机构;501、卡块;502、滚轮;503、伸缩弹簧;6、抵触机构;601、第三电机;602、转轴;603、转杆;604、转板;605、连轴;606、扭簧;607、抵块。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。
如图1-图8所示,本发明所述的一种单晶硅片的清洗设备,包括清洗机本体1,所述清洗机本体1上连接有主体机构2;所述清洗机本体1上配合滑动有调节机构3;所述调节机构3上安装有存放机构4;所述存放机构4上滑动有抖动机构5;所述清洗机本体1上配合转动有抵触机构6;
所述抵触机构6包括第三电机601,所述清洗机本体1上固定安装有第三电机601,所述第三电机601的输出端通过联轴器固定连接有转轴602,所述转轴602上固定安装有转杆603,所述转杆603上抵触有转板604,所述清洗机本体1上配合转动有转板604,所述转板604上固定连接有抵块607。
具体的,所述主体机构2包括清洗槽201,所述清洗机本体1上等距设有三个清洗槽201,所述清洗槽201内配合安装有清洗箱202,所述清洗机本体1上对称设有两个移动槽203,所述清洗箱202上配合转动有连轴605,所述连轴605与转板604之间固定连接,所述连轴605上套接有扭簧606,所述转板604通过扭簧606与清洗箱202配合连接。
具体的,所述调节机构3包括第一电机303,所述清洗机本体1内配合安装有第一电机303,所述第一电机303的输出端通过联轴器固定连接有第一螺杆304,所述第一螺杆304与清洗机本体1之间转动连接,所述移动槽203内配合滑动有固定架301,所述固定架301与第一螺杆304之间螺纹连接,所述移动槽203上固定安装有第一滑杆305,所述固定架301与第一滑杆305之间固定连接,所述固定架301上配合转动有导向轮306,所述导向轮306与清洗机本体1之间滚动连接,操作人员将清洗液倒入主体机构2中,打开调节机构3的控制开关,进而使其在清洗机本体1中滑动,进而便于通过调节机构3对单晶硅片进行多次清洗,从而有利于提高硅片的清洗效率,即:操作人员可以先将清洗液添加到清洗箱202中,然后打开第一电机303的控制开关,第一电机303的输出端通过联轴器固定连接有第一螺杆304,当第一螺杆304在清洗机本体1内部转动时,由于第一螺杆304上螺纹连接有固定架301,且清洗机本体1上设有的移动槽203部位固定安装有第一滑杆305,固定架301和第一滑杆305之间滑动连接,当第一电机303开始启动时,第一螺杆304在清洗机本体1中转动,进而使固定架301在滑槽302内滑动,从而便于操作人员对固定架301的位置进行调整。
具体的,所述存放机构4包括第二电机401,所述固定架301上配合安装有第二电机401,所述第二电机401的输出端通过联轴器固定连接有第二螺杆406,所述第二螺杆406与固定架301之间转动连接,所述固定架301上固定安装有第二滑杆407,所述固定架301上对称设有两个滑槽302,所述滑槽302内配合滑动有滑块405,一个所述滑块405与第二螺杆406之间螺纹连接,另一个所述滑块405与第二滑杆407之间滑动连接,所述滑块405上固定安装有连接块404,所述连接块404内配合滑动有固定板408,所述固定板408上固定安装有放置箱403,所述放置箱403上对称固定安装有两个拉杆402,所述固定板408上配合转动有滚珠409,所述滚珠409与连接块404之间滚动连接,打开存放机构4的控制开关,进而使存放机构4从调节机构3滑动到主体机构2内,进而便于清洗机本体1启动时对存放机构4内的单晶硅片进行清洗,即:放置好固定架301后,操作人员可以将单晶硅片放入到放置箱403内,然后再打开第二电机401的控制开关,固定架301上对称设有滑槽302,第二电机401的输出端通过联轴器固定连接有第二螺杆406,当第二电机401开始启动时,第二螺杆406在固定架301内转动,由于第二螺杆406上螺纹连接有一个滑块405,固定架301上固定的第二滑杆407上滑动连接有另一个滑块405,当第二螺杆406随第二电机401转动时,进而使滑块405带动连接块404滑动,连接块404内配合滑动有固定板408,固定板408上固定安装有放置箱403,放置箱403上固定连接有拉杆402,连接块404带动固定板408滑动,进而使放置箱403可以滑入到清洗箱202内,进而便于清洗机本体1对清洗箱202内的单晶硅片进行清洗。
具体的,所述抖动机构5包括卡块501,所述连接块404上对称滑动连接有两个卡块501,所述卡块501通过伸缩弹簧503与连接块404配合连接,所述卡块501内配合转动有滚轮502,所述滚轮502与固定板408之间滚动连接,操作人员打开抵触机构6的控制开关,进而使抵触机构6在转动时对主体机构2内的存放机构4进行抵触,进而使存放机构4受到抵触时带动抖动机构5滑动,进而使硅片在存放机构4内抖动时便于提高单晶硅片的清洗效果,即:当放置箱403滑入到清洗箱202中时,操作人员可以打开第三电机601的控制开关,第三电机601上固定连接有转轴602,转轴602上固定安装有转杆603,转杆603在清洗机本体1中转动时,会对转板604进行抵触,转板604上固定安装有连轴605,连轴605上套接有扭簧606,转板604通过扭簧606与清洗箱202配合连接,转板604上固定安装有抵块607,第三电机601启动时,转轴602带动转杆603转动,进而使转板604受转杆603挤压时在清洗箱202内转动,进而使扭簧606形变时转板604带动抵块607对放置箱403底端进行抵触,放置箱403在清洗箱202内滑动,放置箱403上固定的固定板408对卡块501进行抵触,卡块501通过伸缩弹簧503与连接块404配合连接,当卡块501在连接块404内滑动时可以对伸缩弹簧503进行挤压,进而使固定板408在连接块404内来回抖动,从而在便于对硅片进行清洗的同时也有利于防止硅片堆叠在一起的地方不方便清洗干净的情况。
本发明在使用时,首先,操作人员可以先将清洗液添加到清洗箱202中,然后打开第一电机303的控制开关,第一电机303的输出端通过联轴器固定连接有第一螺杆304,当第一螺杆304在清洗机本体1内部转动时,由于第一螺杆304上螺纹连接有固定架301,且清洗机本体1上设有的移动槽203部位固定安装有第一滑杆305,固定架301和第一滑杆305之间滑动连接,当第一电机303开始启动时,第一螺杆304在清洗机本体1中转动,进而使固定架301在滑槽302内滑动,从而便于操作人员对固定架301的位置进行调整;放置好固定架301后,操作人员可以将单晶硅片放入到放置箱403内,然后再打开第二电机401的控制开关,固定架301上对称设有滑槽302,第二电机401的输出端通过联轴器固定连接有第二螺杆406,当第二电机401开始启动时,第二螺杆406在固定架301内转动,由于第二螺杆406上螺纹连接有一个滑块405,固定架301上固定的第二滑杆407上滑动连接有另一个滑块405,当第二螺杆406随第二电机401转动时,进而使滑块405带动连接块404滑动,连接块404内配合滑动有固定板408,固定板408上固定安装有放置箱403,放置箱403上固定连接有拉杆402,连接块404带动固定板408滑动,进而使放置箱403可以滑入到清洗箱202内,进而便于清洗机本体1对清洗箱202内的单晶硅片进行清洗;当放置箱403滑入到清洗箱202中时,操作人员可以打开第三电机601的控制开关,第三电机601上固定连接有转轴602,转轴602上固定安装有转杆603,转杆603在清洗机本体1中转动时,会对转板604进行抵触,转板604上固定安装有连轴605,连轴605上套接有扭簧606,转板604通过扭簧606与清洗箱202配合连接,转板604上固定安装有抵块607,第三电机601启动时,转轴602带动转杆603转动,进而使转板604受转杆603挤压时在清洗箱202内转动,进而使扭簧606形变时转板604带动抵块607对放置箱403底端进行抵触,放置箱403在清洗箱202内滑动,放置箱403上固定的固定板408对卡块501进行抵触,卡块501通过伸缩弹簧503与连接块404配合连接,当卡块501在连接块404内滑动时可以对伸缩弹簧503进行挤压,进而使固定板408在连接块404内来回抖动,从而在便于对硅片进行清洗的同时也有利于防止硅片堆叠在一起的地方不方便清洗干净的情况。
对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (10)

1.一种单晶硅片的清洗设备,其特征在于,包括清洗机本体(1),所述清洗机本体(1)上连接有主体机构(2);所述清洗机本体(1)上配合滑动有调节机构(3);所述调节机构(3)上安装有存放机构(4);所述存放机构(4)上滑动设有抖动机构(5);所述清洗机本体(1)上配合转动有抵触机构(6);
所述抵触机构(6)包括第三电机(601),所述清洗机本体(1)上固定安装有第三电机(601),所述第三电机(601)的输出端(通过联轴器)固定连接有转轴(602),所述转轴(602)上固定安装有转杆(603),所述转杆(603)上抵触有转板(604),所述清洗机本体(1)上配合转动有转板(604),所述转板(604)上固定连接有抵块(607)。
2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片的清洗设备,其特征在于:所述主体机构(2)包括清洗槽(201),所述清洗机本体(1)上等距设有三个清洗槽(201),所述清洗槽(201)内配合安装有清洗箱(202),所述清洗机本体(1)上对称设有两个移动槽(203)。
3.根据权利要求2所述的一种单晶硅片的清洗设备,其特征在于:所述清洗箱(202)上配合转动有连轴(605),所述连轴(605)与转板(604)之间固定连接,所述连轴(605)上套接有扭簧(606),所述转板(604)通过扭簧(606)与清洗箱(202)配合连接。
4.根据权利要求2所述的一种单晶硅片的清洗设备,其特征在于:所述调节机构(3)包括第一电机(303),所述清洗机本体(1)内配合安装有第一电机(303),所述第一电机(303)的输出端(通过联轴器)固定连接有第一螺杆(304),所述第一螺杆(304)与清洗机本体(1)之间转动连接,所述移动槽(203)内配合滑动有固定架(301),所述固定架(301)与第一螺杆(304)之间螺纹连接,所述移动槽(203)上固定安装有第一滑杆(305),所述固定架(301)与第一滑杆(305)之间固定连接。
5.根据权利要求4所述的一种单晶硅片的清洗设备,其特征在于:所述固定架(301)上配合转动有导向轮(306),所述导向轮(306)与清洗机本体(1)之间滚动连接。
6.根据权利要求4所述的一种单晶硅片的清洗设备,其特征在于:所述存放机构(4)包括第二电机(401),所述固定架(301)上配合安装有第二电机(401),所述第二电机(401)的输出端(通过联轴器)固定连接有第二螺杆(406),所述第二螺杆(406)与固定架(301)之间转动连接,所述固定架(301)上固定安装有第二滑杆(407)。
7.根据权利要求6所述的一种单晶硅片的清洗设备,其特征在于:所述固定架(301)上对称设有两个滑槽(302),所述滑槽(302)内配合滑动有滑块(405),一个所述滑块(405)与第二螺杆(406)之间螺纹连接,另一个所述滑块(405)与第二滑杆(407)之间滑动连接,所述滑块(405)上固定安装有连接块(404),所述连接块(404)内配合滑动有固定板(408),所述固定板(408)上固定安装有放置箱(403),所述放置箱(403)上对称固定安装有两个拉杆(402)。
8.根据权利要求7所述的一种单晶硅片的清洗设备,其特征在于:所述固定板(408)上配合转动有滚珠(409),所述滚珠(409)与连接块(404)之间滚动连接。
9.根据权利要求7所述的一种单晶硅片的清洗设备,其特征在于:所述抖动机构(5)包括卡块(501),所述连接块(404)上对称滑动连接有两个卡块(501),所述卡块(501)通过伸缩弹簧(503)与连接块(404)配合连接。
10.根据权利要求9所述的一种单晶硅片的清洗设备,其特征在于:所述卡块(501)内配合转动有滚轮(502),所述滚轮(502)与固定板(408)之间滚动连接。
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