CN114367131B - 一种口腔科用自动石膏沉淀池 - Google Patents

一种口腔科用自动石膏沉淀池 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种口腔科用自动石膏沉淀池，其技术方案要点是包括有进水口、第一沉淀室以及第二沉淀室，第二沉淀室与第一沉淀室连通设置，并且连通口处设置有过滤网，第一沉淀室设置有多个并且均与进水口连通设置，进水口处设置有多通控制器，第一沉淀室内均设置有沉淀盆和驱动沉淀盆移动的移动部件，第一沉淀室内均设置有与移动部件通讯连接的石膏感应器，石膏感应器用于监测沉淀盆上的石膏含量并且设定有含量阈值；多通控制器用于控制液体择一进入一第一沉淀室内；当石膏含量超过含量阈值时，移动部件驱动沉淀盆移动并且使得多通控制器控制液体排入另一石膏沉淀室内，该石膏沉淀池能够清洗对应的沉淀室的不同，不影响正常工作。

Description

一种口腔科用自动石膏沉淀池
技术领域
本发明涉及一种石膏沉淀池，更具体地说，它涉及一种口腔科用自动石膏沉淀池。
背景技术
在口腔科的临床试验或教学中，往往会产生大量含有石膏及其他固体物质的废水。若不能及时有效地将水中杂物清除，极易堵塞水道。而使用沉淀池去除石膏等杂物，是目前最为经济有效的方法。沉淀池的使用原理是利用沉淀作用去除水中悬浮物的一种构筑物。
现有的口腔科石膏沉淀池，往往是安装至水槽下方，通过沉淀过滤法将去除石膏后的过滤水排出，需要工作人员定时查看沉淀池内的石膏沉淀情况，当沉淀池内的石膏过多时会影响过滤效率，所以需要工作人员定期清理石膏沉淀池，并且在清洗石膏沉淀池时需要暂停清洗工作，造成不便。
发明内容
针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种口腔科用自动石膏沉淀池，该石膏沉淀池能够清洗对应的沉淀室的不同，不影响正常工作。
为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：一种口腔科用自动石膏沉淀池，包括有进水口、第一沉淀室以及第二沉淀室，所述第二沉淀室与第一沉淀室连通设置，并且连通口处设置有过滤网，所述第一沉淀室设置有多个并且均与进水口连通设置，所述进水口处设置有多通控制器，所述第一沉淀室内均设置有沉淀盆和驱动沉淀盆移动的移动部件，所述沉淀盆与多通控制器联动设置；
所述第一沉淀室内均设置有与移动部件通讯连接的石膏感应器，所述石膏感应器用于监测沉淀盆上的石膏含量并且设定有含量阈值；
所述多通控制器用于控制液体择一进入一第一沉淀室内；
当石膏含量超过含量阈值时，移动部件驱动沉淀盆移动并且使得多通控制器控制液体排入另一石膏沉淀室内。
综上所述，本发明具有以下有益效果：设置有多第一沉淀室，例如第一沉淀室包括有沉淀室一、沉淀室二、沉淀室三(第一沉淀室可以为两个也可以为三个)，首先由进水口输送进来的液体通过多通控制器输送至沉淀室一中，经过沉淀过滤后再排入第二沉淀室内，当沉淀室一内石膏含量逐渐变多直至超过了原先设定的石膏阈值时，移动部件驱动沉淀盆上升，使得沉淀盆内的液体依旧流入至第二沉淀室内，直至沉淀盆的侧壁挡住连通口，此时多通控制器控制液体向沉淀室二内流去，保证工作不间断的同时，保障过滤高效性。
附图说明
图1为口腔科用自动石膏沉淀池的立体结构示意图；
图2为口腔科用自动石膏沉淀池的原理结构示意图；
图3为第一沉淀室内的结构示意图；
图4为多通控制器平面示意图。
附图标记：1、第一沉淀室；2、第二沉淀室；3、多通控制器；31、出口一；32、出口二；33、出口三；34、封堵块一；35、封堵块二；36、封堵块三；37、联动盘；38、推动件一；39、推动件二；381、推动件三；391、推动件四；4、沉淀盆；5、移动部件；51、升降链；52、驱动件；53、驱动块；54、安装架；6、石膏感应器；7、中控模块；71、循环泵；8、过滤控制阀；9、预留室。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明进一步详细说明。其中相同的零部件用相同的附图标记表示。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“底面”和“顶面”、“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。
参照图1至图4所示，为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：一种口腔科用自动石膏沉淀池，包括有进水口、第一沉淀室1以及第二沉淀室2，第二沉淀室2与第一沉淀室1连通设置，并且连通口处设置有过滤网，第一沉淀室1设置有多个并且均与进水口连通设置，进水口处设置有多通控制器3，第一沉淀室1内均设置有沉淀盆4和驱动沉淀盆4移动的移动部件5，沉淀盆4与多通控制器3联动设置；
第一沉淀室1内均设置有与移动部件5通讯连接的石膏感应器6，石膏感应器6用于监测沉淀盆4上的石膏含量并且设定有含量阈值；
多通控制器3用于控制液体择一进入一第一沉淀室1内；
当石膏含量超过含量阈值时，移动部件5驱动沉淀盆4移动并且使得多通控制器3控制液体排入另一石膏沉淀室内。
本发明的设计：设置有多第一沉淀室1，例如第一沉淀室1包括有沉淀室一、沉淀室二、沉淀室三(第一沉淀室1可以为两个也可以为三个)，首先由进水口输送进来的液体通过多通控制器3输送至沉淀室一中，经过沉淀过滤后再排入第二沉淀室2内，当沉淀室一内石膏含量逐渐变多直至超过了原先设定的石膏阈值时，移动部件5驱动沉淀盆4上升，使得沉淀盆4内的液体依旧流入至第二沉淀室2内，直至沉淀盆4的侧壁挡住连通口，此时多通控制器3控制液体向沉淀室二内流去，保证工作不间断的同时，保障过滤高效性。
该多通控制器3可以采用现有的控制阀装置。
第一沉淀室1包括有沉淀室一、沉淀室二、沉淀室三；
当沉淀室一内的石膏含量超过含量阈值时，沉淀室一内的移动部件5驱动沉淀盆4上升，多通控制器3控制液体进入沉淀室二中；
当沉淀室一和沉淀室二内的石膏含量均超过含量阈值时，沉淀室二内的移动部件5驱动沉淀盆4上升，多通控制器3控制液体进入沉淀室三中；
当清除沉淀室一内的石膏后，沉淀室一内的移动部件5驱动沉淀盆4下降，并且沉淀室二内的石膏含量超过含量阈值时，多通控制器3控制液体进入沉淀室三或沉淀室一中。
还包括有中控模块7，中控模块7分别与多通控制器3、石膏感应器6以及移动部件5通讯连接，多通控制器3为电控控制器，多通控制器3包括有与进水口连通的进口一、与沉淀室一连通的出口一31、与沉淀室二连通的出口二32、与沉淀室三连通的出口三33以及分别用于封堵出口一31、出口二32、出口三33的封堵开关。
该多通控制器3可以为电磁阀装置。
石膏感应器6为重量感应器或红外感应器。
重量感应器用于监测沉淀盆4上的重量情况，当石膏重量达到一定阈值时，驱动移动部件5启动。
红外感应器用于监测沉淀盆4上石膏的高度情况，当石膏高度达到一定阈值时，驱动移动部件5启动。
连通口处均设置有过滤控制阀8，过滤控制阀8分别与中控模块7通讯连接，沉淀室一、沉淀室二、沉淀室三内均设置有排泄口，并且通过排泄口均与预留室9连通，沉淀盆4上设置有流通口；
当移动部件5驱动沉淀盆4上升过程中，沉淀盆4内的上层清液通过连通口排至第二沉淀室2内；
当过滤控制阀8关闭后，流通口与排泄口对应，沉淀盆4内的下层浊液排至预留室9内。
除了上述提及通过沉淀盆4的自身侧壁抵住连通口外，还可以通过过滤控制阀8控制连通口的连通状况，实现电控控制。
还设置有预留室9，使得下层浊液存于预留室9内，即可以通过循环泵71将其送入进水口进行循环，也可以使得该预留室9可拆卸安装于沉淀池上，通过手动拆卸方式将浊液进行清理。
预留室9与进水口之间连接有循环泵71，循环泵71用于将预留室9内的液体输送至多通控制器3内。
移动部件5包括有升降链51、驱动升降链51转动的驱动件52、设置于升降链51上的驱动块53以及供沉淀盆4安装的安装架54，沉淀盆4可拆卸安装于安装架54上。
该移动部件5既可以为链条驱动结构，也可以为丝杠驱动结构，也可以为气缸推动结构，该结构均为现有技术，由此不加以赘述。
另外该沉淀盆4可拆卸安装于安装架54上，该安装架54上设置有锁定结构，锁定结构可以采用现有的锁扣等。
驱动件52为驱动电机。
多通控制器3包括有与沉淀室一连通的出口一31、与沉淀室二连通的出口二32、与沉淀室三连通的出口三33、用于封堵出口一31的封堵块一34、用于封堵出口二32的封堵块二35、用于封堵出口三33的封堵块三36以及联动盘37；
封堵块一34、封堵块二35以及封堵块三36均滑移连接于多通控制器3上，联动盘37上设置有多个推动块，联动盘37与驱动块53联动设置。
沉淀室一、沉淀室二以及沉淀室三沿多通控制器3环形排布设置，多个推动块呈环形排列设置。
推动块包括有推动件一38、推动件二39、推动件三381以及推动件四391；
当推动件一38不与封堵块一34抵接，推动件二39与封堵块二35抵接，推动件四391与封堵块三36抵接时，液体通过出口一31排入至沉淀室一中；
当推动件一38与封堵块一34抵接，推动件二39不与封堵块二35抵接，推动件三381不与封堵块二35抵接，推动件四391与封堵块三36抵接时，液体通过出口二32排入至沉淀室二中；
当推动件一38与封堵块一34抵接，推动件三381与封堵块二35抵接，推动件四391不与封堵块三36抵接时，液体通过出口三33排入至沉淀室三中。
多通控制器3伤的出口一31、出口二32、出口三33为环形排列设置，而图4为环形拆解为平面后的示意图，当工作状态为多通控制器3将液体排入沉淀室一内并且当沉淀室一内的驱动件52驱动沉淀盆4上升时(推动件一38不与封堵块一34抵接，推动件二39与封堵块二35抵接，推动件四391与封堵块三36抵接)，驱动块53推动联动盘37转动(如图4所示，驱动块53推动联动盘37下端的凸块，使得联动盘37发生转动)。此时推动件一38与封堵块抵接，推动件二39不与封堵块二35抵接，推动件三381不与封堵块二35抵接，出口二32开启多通控制器3将液体排入沉淀室二内。
当沉淀室二内的驱动件52使得沉淀室二内的沉淀盆4上升，同样的沉淀室内的驱动块53推动联动盘37下端的凸块，使得联动盘37发生二次转动，此时推动件一38与封堵块抵接，推动件三381与封堵块二35抵接，推动件四391不与封堵块三36抵接，出口三33开启，多通控制器3将液体排入沉淀室三中。
当沉淀室二、沉淀室一的沉淀盆4清理结束后，全部复位使得出口一31开启。
综上所述，该设计能够在沉淀盆4上升的同时，控制多通控制器3进行排水转化，更加稳定可控。
另外该凸块与驱动块53的推动结构可以采用斜面推动的方式。
以上仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种口腔科用自动石膏沉淀池，包括有进水口、第一沉淀室(1)以及第二沉淀室(2)，所述第二沉淀室(2)与第一沉淀室(1)连通设置，并且连通口处设置有过滤网，其特征是：所述第一沉淀室(1)设置有多个并且均与进水口连通设置，所述进水口处设置有多通控制器(3)，所述第一沉淀室(1)内均设置有沉淀盆(4)和驱动沉淀盆(4)移动的移动部件(5)，所述沉淀盆(4)与多通控制器(3)联动设置；
所述第一沉淀室(1)内均设置有与移动部件(5)通讯连接的石膏感应器(6)，所述石膏感应器(6)用于监测沉淀盆(4)上的石膏含量并且设定有含量阈值；
所述多通控制器(3)用于控制液体择一进入一第一沉淀室(1)内；
当石膏含量超过含量阈值时，移动部件(5)驱动沉淀盆(4)移动并且使得多通控制器(3)控制液体排入另一石膏沉淀室内；
所述移动部件(5)包括有升降链(51)、驱动升降链(51)转动的驱动件(52)、设置于升降链(51)上的驱动块(53)以及供沉淀盆(4)安装的安装架(54)，所述沉淀盆(4)可拆卸安装于安装架(54)上；
所述多通控制器(3)包括有与沉淀室一连通的出口一(31)、与沉淀室二连通的出口二(32)、与沉淀室三连通的出口三(33)、用于封堵出口一(31)的封堵块一(34)、用于封堵出口二(32)的封堵块二(35)、用于封堵出口三(33)的封堵块三(36)以及联动盘(37)；
所述封堵块一(34)、封堵块二(35)以及封堵块三(36)均滑移连接于多通控制器(3)上，所述联动盘(37)上设置有多个推动块，所述联动盘(37)与驱动块(53)联动设置；
所述沉淀室一、沉淀室二以及沉淀室三沿多通控制器(3)环形排布设置，所述多个推动块呈环形排列设置；
所述推动块包括有推动件一(38)、推动件二(39)、推动件三(381)以及推动件四(391)；
当推动件一(38)不与封堵块一(34)抵接，推动件二(39)与封堵块二(35)抵接，推动件四(391)与封堵块三(36)抵接时，液体通过出口一(31)排入至沉淀室一中；
当推动件一(38)与封堵块一(34)抵接，推动件二(39)不与封堵块二(35)抵接，推动件三(381)不与封堵块二(35)抵接，推动件四(391)与封堵块三(36)抵接时，液体通过出口二(32)排入至沉淀室二中；
当推动件一(38)与封堵块一(34)抵接，推动件三(381)与封堵块二(35)抵接，推动件四(391)不与封堵块三(36)抵接时，液体通过出口三(33)排入至沉淀室三中。
2.根据权利要求1所述的一种口腔科用自动石膏沉淀池，其特征是：所述第一沉淀室(1)包括有沉淀室一、沉淀室二、沉淀室三；
当沉淀室一内的石膏含量超过含量阈值时，沉淀室一内的移动部件(5)驱动沉淀盆(4)上升，多通控制器(3)控制液体进入沉淀室二中；
当沉淀室一和沉淀室二内的石膏含量均超过含量阈值时，沉淀室二内的移动部件(5)驱动沉淀盆(4)上升，多通控制器(3)控制液体进入沉淀室三中；
当清除沉淀室一内的石膏后，沉淀室一内的移动部件(5)驱动沉淀盆(4)下降，并且沉淀室二内的石膏含量超过含量阈值时，多通控制器(3)控制液体进入沉淀室三或沉淀室一中。
3.根据权利要求2所述的一种口腔科用自动石膏沉淀池，其特征是：还包括有中控模块(7)，所述中控模块(7)分别与多通控制器(3)、石膏感应器(6)以及移动部件(5)通讯连接，所述多通控制器(3)为电控控制器，所述多通控制器(3)包括有与进水口连通的进口一、与沉淀室一连通的出口一(31)、与沉淀室二连通的出口二(32)、与沉淀室三连通的出口三(33)以及分别用于封堵出口一(31)、出口二(32)、出口三(33)的封堵开关。
4.根据权利要求1所述的一种口腔科用自动石膏沉淀池，其特征是：所述石膏感应器(6)为重量感应器或红外感应器。
5.根据权利要求3所述的一种口腔科用自动石膏沉淀池，其特征是：所述连通口处均设置有过滤控制阀(8)，所述过滤控制阀(8)分别与中控模块(7)通讯连接，所述沉淀室一、沉淀室二、沉淀室三内均设置有排泄口，并且通过排泄口均与预留室(9)连通，所述沉淀盆(4)上设置有流通口；
当移动部件(5)驱动沉淀盆(4)上升过程中，沉淀盆(4)内的上层清液通过连通口排至第二沉淀室(2)内；
当过滤控制阀(8)关闭后，流通口与排泄口对应，沉淀盆(4)内的下层浊液排至预留室(9)内。
6.根据权利要求5所述的一种口腔科用自动石膏沉淀池，其特征是：所述预留室(9)与进水口之间连接有循环泵(71)，所述循环泵(71)用于将预留室(9)内的液体输送至多通控制器(3)内。
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