CN114355730A - 一种光刻胶供给设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光刻胶供给设备，包括：一支架；一支撑件，呈锥形设置，设置于所述支架上；其上部内径大于下部内径；一压板，位于所述支撑件的上方，与所述支架可移动连接；一调节机构，用于调节所述压板与所述支撑件之间的间距；一箱体，布置于所述支撑件内，所述箱体上的开口向下布置；一柱塞，安装在所述箱体的开口中；一供气机构；一进气管，其第一端与所述供气机构连接，其第二端穿过所述柱塞位于所述箱体内，并靠近所述箱体的底部。可以在支架上设置滑槽，可以在压板上设置滑块，滑块与滑槽滑动配合。调节机构可以为螺杆，与所述支架螺纹连接，并与所述压板转动连接，通过转动螺杆带动压板下降，压持住箱体的底部，将箱体固定。
Description
技术领域
本发明涉及晶圆生产处理技术领域，尤其涉及一种光刻胶供给设备。
背景技术
目前大部分半导体行业中使用的均是6-12寸的圆形晶圆片，在生产制造芯片的过程中，需要在晶圆片上涂布光刻胶等涂层，再进行后续处理。常见的涂布方式为将涂层的液体材料单次旋涂在晶圆片表面上，涂层的液体材料通过液体管道滴落到晶圆片的圆心处，晶圆片放置在旋转台上且晶圆片的圆心在旋转台的旋转轴线上，通过晶圆片旋转，液体受到离心力的作用涂布覆盖至整个晶圆片表面。
在中国专利申请号：CN201620100418.4中公开了一种光刻胶供给装置和光刻胶涂布系统，涉及显示技术领域，解决了光刻胶供给装置的工作效率低和各管路的接口的使用寿命短的技术问题。该光刻胶供给装置包括容器和供胶单元，供胶单元包括出胶管路和进气管路，出胶管路的第一端伸入容器底部，进气管路的第一端伸入容器顶部，光刻胶供给装置还包括清洗管路、传输管路、第一连接管路和第二连接管路，传输管路用于将光刻胶传输至光刻胶涂布装置；出胶管路的第二端通过第二连接管路与传输管路的第一端连通，清洗管路的第一端通过第一连接管路与传输管路的第一端连通；第一连接管路和第二连接管路上各设置有一个开关阀门。
在中国专利申请号：CN201410385311.4中公开了一种光刻胶供给装置，其特征在于，所述光刻胶供给装置包括光刻胶容器、光刻胶供给系统及缓冲容器，所述缓冲容器通过管道分别与所述光刻胶容器及光刻胶供给系统连通，所述缓冲容器与所述光刻胶容器之间产生的压力差使缓冲容器内的光刻胶进入所述光刻胶容器内，并通过所述缓冲容器与光刻胶供给系统之间产生的压力差将光刻胶传送至光刻胶供给系统。
上述技术方案不能有效排出光刻胶，鉴于此，故提出本申请。
发明内容
为解决背景技术中存在的至少一个方面的技术问题，本发明提出一种光刻胶供给设备。
本发明提出的一种光刻胶供给设备，包括：
一支架；
一支撑件，呈锥形设置，设置于所述支架上；其上部内径大于下部内径；
一压板，位于所述支撑件的上方，与所述支架可移动连接；
一调节机构，用于调节所述压板与所述支撑件之间的间距；
一箱体，布置于所述支撑件内，所述箱体上的开口向下布置；
一柱塞，安装在所述箱体的开口中；
一供气机构；
一进气管，其第一端与所述供气机构连接，其第二端穿过所述柱塞位于所述箱体内，并靠近所述箱体的底部；
一排液管，其第一端位于外侧，其第二端穿过所述柱塞位于所述箱体内。
所述压板上设有容纳槽，容纳槽呈台阶状。
优选地，该设备还包括：
一移动杆，位于所述进气管的第二端；
一密封塞，与所述移动杆连接，用于密封所述进气管的第二端；
一弹性件，一端与所述密封塞连接，另一端与所述进气管连接。
优选地，所述排液管与所述柱塞螺纹连接。
优选地，该设备还包括：
第一阀门，安装在所述排液管上；
排污管，与所述排液管连通，布置于所述第一阀门和所述柱塞之间；
第二阀门，安装在所述排污管上。
优选地，该设备还包括：
过滤箱，其上部与所述排液管的第一端连通，其下部设有出液管；
一滤网，位于所述过滤箱内。
优选地，该设备还包括滴液箱，与所述出液管连通，所述滴液箱的下部设有多个滴液孔。
优选地，所述滴液箱上设有多个螺纹孔，多个所述螺纹孔与多个所述滴液孔一一对应；
该设备还包括多个密封柱，多个所述密封柱分别与多个所述螺纹孔螺纹连接，所述密封柱的底端能够进入所述滴液孔内。
优选地，所述滴液箱与所述排液管转动连接。
优选地，所述滴液箱上设有齿轮。
本发明公开的一个方面带来的有益效果是：
可以在支架上设置滑槽，可以在压板上设置滑块，滑块与滑槽滑动配合。调节机构可以为螺杆，与所述支架螺纹连接，并与所述压板转动连接，通过转动螺杆带动压板下降，压持住箱体的底部，将箱体固定。
利用供气机构、进气管向箱体内通入气体，利用压力将光刻胶经过排液管排出。方便排出光刻胶。适应不同尺寸的箱体。
附图说明
图1为本发明公开的轴视图；
图2为本发明公开的主视图；
图3为本发明公开的轴视图；
图4为本发明公开的剖视图后的轴视图；
图5为本发明公开的剖视图后主视图；
图6为本发明公开的进气管的第二端的放大后的剖视图。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互的结合；下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”和“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的位置或元件必须具有特定方位、以特定的方位构成和操作，因此不能理解为本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
参照图1-6，本发明提出的一种光刻胶供给设备，包括：
一支架1；一支撑件2，呈锥形设置，设置于所述支架1上；其上部内径大于下部内径；一压板3，位于所述支撑件2的上方，与所述支架1可移动连接；一调节机构4，用于调节所述压板3与所述支撑件2之间的间距；一箱体5，布置于所述支撑件2内，所述箱体5上的开口向下布置；一柱塞6，安装在所述箱体5的开口中；一供气机构7；一进气管8，其第一端与所述供气机构7连接，其第二端穿过所述柱塞6位于所述箱体5内，并靠近所述箱体5的底部；一排液管9，其第一端位于外侧，其第二端穿过所述柱塞6位于所述箱体5内。
箱体5内储存有光刻胶，将箱体5放置在支撑件2上。
可以在支架1上设置滑槽101.可以在压板3上设置滑块302，滑块302与滑槽101滑动配合。调节机构4可以为螺杆，与所述支架1螺纹连接，并与所述压板3转动连接，通过转动螺杆带动压板3下降，压持住箱体5的底部，将箱体5固定。
利用供气机构7、进气管8向箱体5内通入气体，利用压力将光刻胶经过排液管9排出。方便排出光刻胶。
本实施例适应不同尺寸的箱体5。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述压板3上设有容纳槽301，容纳槽301呈台阶状。适应不同尺寸的箱体5。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，该设备还包括：
一移动杆10，位于所述进气管8的第二端；一密封塞11，与所述移动杆10连接，用于密封所述进气管8的第二端；一弹性件12，一端与所述密封塞11连接，另一端与所述进气管8连接。利用弹性件12的弹力将密封塞11紧压进气管8的第二端。避免光刻胶进入。在供气机构7通入气体进入进气管8中时，气体推动密封塞11、移动杆10向外移动。当不需要排出光刻胶时，停止通入气体。随着气压减小，利用弹性件12的弹力再次将密封塞11紧压进气管8的第二端。避免光刻胶进入。设置移动杆10，让移动杆10在进气管8上、下移动，能够有效保证让密封塞11再次密封进气管8的第二端。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述排液管9与所述柱塞6螺纹连接。方便转动排液管9，便于调整排液管9顶端的位置。
开始时，可以让排液管9的顶端处于高位，让上部的光刻胶先排出。而后逐渐转动排液管9向下移动，让光刻胶从上往下逐渐排出。光刻胶中的杂物滞留在箱体5后，方便后续处理。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，该设备还包括：
第一阀门13，安装在所述排液管9上；排污管14，与所述排液管9连通，布置于所述第一阀门13和所述柱塞6之间；第二阀门16，安装在所述排污管14上。
在正常排出光刻胶时，打开第一阀门13，让光刻胶经过排液管9排出。随着箱体5内的光刻胶不断减少，让排液管9逐渐向下。当箱体5内残留少部分光刻胶时，光刻胶内具有部分杂质。关闭第一阀门13，打开第二阀门16，将光刻胶从排污管14中排出，方便集中处理。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，该设备还包括：
过滤箱17，其上部与所述排液管9的第一端连通，其下部设有出液管15；一滤网18，位于所述过滤箱17内。光刻胶经过排液管9进入过滤箱17内，利用滤网18再次过滤处理，而后经过出液管15排出。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，该设备还包括滴液箱19，与所述出液管15连通，所述滴液箱19的下部设有多个滴液孔1901。
光刻胶经过出液管15进入滴液箱19内，可以经过滴液孔1901滴落在晶圆上，在晶圆上滴加光刻胶。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述滴液箱19上设有多个螺纹孔，多个所述螺纹孔与多个所述滴液孔1901一一对应；该设备还包括多个密封柱20，多个所述密封柱20分别与多个所述螺纹孔螺纹连接，所述密封柱20的底端能够进入所述滴液孔1901内。
不同的晶圆需要不同量的光刻胶。通过转动密封柱20，可以让密封柱20的底端部分进入滴液孔1901，调整滴液孔1901排出量，适用不同滴液需求。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述滴液箱19与所述排液管9转动连接。让滴落在晶圆上的光刻胶更加均匀，提高后续匀胶均匀性。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述滴液箱19上设有齿轮21。可以通过带动齿轮21转动，带动滴液箱19转动。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种光刻胶供给设备，其特征在于，包括：
一支架；
一支撑件，呈锥形设置，设置于所述支架上；其上部内径大于下部内径；
一压板，位于所述支撑件的上方，与所述支架可移动连接；
一调节机构，用于调节所述压板与所述支撑件之间的间距；
一箱体，布置于所述支撑件内，所述箱体上的开口向下布置；
一柱塞，安装在所述箱体的开口中；
一供气机构；
一进气管，其第一端与所述供气机构连接，其第二端穿过所述柱塞位于所述箱体内，并靠近所述箱体的底部；
一排液管，其第一端位于外侧，其第二端穿过所述柱塞位于所述箱体内。
2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述压板上设有容纳槽，容纳槽呈台阶状。
3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，该设备还包括：
一移动杆，位于所述进气管的第二端；
一密封塞，与所述移动杆连接，用于密封所述进气管的第二端；
一弹性件，一端与所述密封塞连接，另一端与所述进气管连接。
4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述排液管与所述柱塞螺纹连接。
5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，该设备还包括：
第一阀门，安装在所述排液管上；
排污管，与所述排液管连通，布置于所述第一阀门和所述柱塞之间；
第二阀门，安装在所述排污管上。
6.根据权利要求1或4所述的设备，其特征在于，该设备还包括：
过滤箱，其上部与所述排液管的第一端连通，其下部设有出液管；
一滤网，位于所述过滤箱内。
7.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，该设备还包括滴液箱，与所述出液管连通，所述滴液箱的下部设有多个滴液孔。
8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，所述滴液箱上设有多个螺纹孔，多个所述螺纹孔与多个所述滴液孔一一对应；
该设备还包括多个密封柱，多个所述密封柱分别与多个所述螺纹孔螺纹连接，所述密封柱的底端能够进入所述滴液孔内。
9.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，所述滴液箱与所述排液管转动连接。
10.根据权利要求9所述的设备，其特征在于，所述滴液箱上设有齿轮。
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| CN202210054957.9A CN114355730A (zh) | 2022-01-18 | 2022-01-18 | 一种光刻胶供给设备 |
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Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
| GB785649A (en) * | 1955-02-04 | 1957-10-30 | Metal And Pipeline Endurance L | Improvements in or relating to devices for feeding fluids into pipe lines under pressure |
| JPH08148409A (ja) * | 1994-11-22 | 1996-06-07 | Nec Kyushu Ltd | レジスト吐出装置 |
| JPH10303105A (ja) * | 1997-04-30 | 1998-11-13 | Sony Corp | レジスト供給容器およびレジスト塗布装置 |
| CN103645606A (zh) * | 2013-12-09 | 2014-03-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光刻胶供给装置 |
| US20150179483A1 (en) * | 2013-12-19 | 2015-06-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Photoresist nozzle device and photoresist supply system |
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2022
- 2022-01-18 CN CN202210054957.9A patent/CN114355730A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB785649A (en) * | 1955-02-04 | 1957-10-30 | Metal And Pipeline Endurance L | Improvements in or relating to devices for feeding fluids into pipe lines under pressure |
| JPH08148409A (ja) * | 1994-11-22 | 1996-06-07 | Nec Kyushu Ltd | レジスト吐出装置 |
| JPH10303105A (ja) * | 1997-04-30 | 1998-11-13 | Sony Corp | レジスト供給容器およびレジスト塗布装置 |
| CN103645606A (zh) * | 2013-12-09 | 2014-03-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光刻胶供给装置 |
| US20150179483A1 (en) * | 2013-12-19 | 2015-06-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Photoresist nozzle device and photoresist supply system |
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