CN114355494A - 双通滤光片及制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种双通滤光片及制备方法，其中，双通滤光片包括透明基体、吸收层、抗反射层及滤光层，吸收层和滤光层分别设在透明基体的相对两侧，抗反射层则覆在吸收层上，其中，抗反射层和滤光层分别通过多个交替堆叠设置的奇数介质亚层和偶数介质亚层构成，且奇数介质亚层的折射率高于偶数介质亚层的折射率，入射光线的入射角度为0～30°时，此双通滤光片的近红外光波段左边T50％偏移量不大于10nm，极大地提高了信噪比，且此时，该双通滤光片的可见光波段T50％偏移量不大于5nm，能够消除因杂散光在图像传感器间多次反射形成的鬼影，并改善画面中心与角落的色彩之间亮度不均匀的问题。
Description
技术领域
本发明涉及光学器件领域，特别是涉及一种双通滤光片及制备方法。
背景技术
双通滤光片具有高峰值透射率和较深的截止，从而有效地抑制了光晕和温漂，已广泛运用到笔记本电脑、安防监控、数码相机、数字望远镜、车牌识别摄像机及虹膜识别系统等。
对于安防监控、车牌识别摄像机而言，其设备本身在安装后呈固定状态，但由于被拍摄目标是随机进入到拍摄视野范围内，故被拍摄物所发出的光源与摄像机的镜头中内的滤光片之间形成的入射角会发生变化，传统白玻璃基材双通滤光片的通带的中心截止波长会随着入射角的变化而变化较大的偏移(可见光波段T50％偏移量>20nm，近红外光波段T50％偏移量>30nm)。针对该问题，通常会将传统双通滤光片的通带设置得相对较宽，以便在所需的入射角范围内接纳光线，然而，如果通带过宽会无法截止红外光和设计拦截的波段，从而出现杂光进入镜头影响成像，减小摄像机的信噪比(信噪比是指一个电子设备或者电子系统中的信号与噪声的比例，信噪比的计量单位是dB，其计算方法是10lg(Ps/Pn)，其中的Ps和Pn分别代表信号和噪声的有效功率)。
发明内容
本发明的目的在于至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种能够提高信噪比的双通滤光片及制备方法。
根据本发明的第一方面实施例的双通滤光片，包括透明基体；吸收层，覆设在所述透明基体的一表面；滤光层，设置在所述透明基体的另一表面；以及抗反射层，设置在所述吸收层远离所述透明基体的表面；其中，所述抗反射层与所述滤光层分别包括多个交替堆叠设置的奇数介质亚层和偶数介质亚层，所述奇数介质亚层的折射率高于所述偶数介质亚层的折射率。
当入射光线的入射角度为0～30°时，所述双通滤光片的近红外光波段左边T50％(穿透率为50％)偏移量不大于10nm，且所述双通滤光片的可见光波段T50％(穿透率为50％)偏移量不大于5nm。
根据本发明实施例的双通滤光片，至少具备如下的有益效果：此双通滤光片包括透明基体、吸收层、抗反射层及滤光层，吸收层和滤光层分别设在透明基体的相对两侧，抗反射层则覆在吸收层上，其中，抗反射层和滤光层分别通过多个交替堆叠设置的奇数介质亚层和偶数介质亚层构成，且奇数介质亚层的折射率高于偶数介质亚层的折射率，如此，当光的入射角度为0～30°时，双通滤光片的近红外光波段左边T50％偏移量不大于10nm，极大地提高了信噪比，且此时，双通滤光片的可见光波段T50％偏移量不大于5nm，能够消除因杂散光在图像传感器间多次反射形成的鬼影，并改善画面中心与角落的色彩之间亮度不均匀的问题，提高成像质量。
根据本发明的一些实施例，所述奇数介质亚层的构成材料包括五氧化三钛、二氧化钛、二氧化锆、五氧化二钽、五氧化二铌、钛酸镧中的至少一种，所述偶数介质亚层的构成材料为二氧化硅、氟化镁、三氧化二铝中的至少一种。
根据本发明的一些实施例，组成所述抗反射层的所述奇数介质亚层和所述偶数介质亚层相加的总层数为4层～16层或者20层～100层。
根据本发明的一些实施例，组成所述抗反射层的所述奇数介质亚层的厚度为1nm～200nm，组成所述抗反射层的所述偶数介质亚层的厚度为1nm～300nm。
根据本发明的一些实施例，组成所述滤光层的所述奇数介质亚层和所述偶数介质亚层相加的总层数为20层～100层。
根据本发明的一些实施例，组成所述滤光层的所述奇数介质亚层的厚度范围为1nm～300nm，组成所述滤光层的所述偶数介质亚层的厚度范围为1nm～600nm。
根据本发明的一些实施例，所述吸收层的材料为色素，所述色素的组成成分包括酚醛环氧树脂(30～50％)、脂环族环氧树脂(30～50％)、丙二醇甲醚醋酸酯(5～13％)及四氢呋喃(5～15％)。
根据本发明的一些实施例，所述吸收层的厚度为0.30μm～10.0μm。
根据本发明的一些实施例，所述透明基体的厚度为0.03mm～2mm。
根据本发明的第二方面实施例的双通滤光片的制备方法，包括以下步骤：
a.清洗透明基体；
b.在所述透明基体的一表面旋涂色素制备吸收层；
c.在所述吸收层的表面镀制抗反射层，并在所述透明基体的另一表面镀制滤光层；
其中，步骤b中，首先将所述透明基体吸附于设置有真空吸附孔的旋转平台上，将色素滴至所述透明基体的表面的中部，设置平台旋转速度为300～1500rpm，旋转时间为5～20s，色素在所述透明基体表面涂覆均匀后，将所述透明基体置入无尘烤箱在烘烤60～120min，设置烘烤温度为80～150℃。
根据本发明的一些实施例，所述步骤a的具体步骤如下：
1)采用等离子清洗工艺清洗所述透明基体，设置等离子清洗工艺的工艺参数为放电功率300～500W、背底真空度20～80Pa、工作时间300～600s，一路加载为气体流量为200sccm的氩气，二路加载气体流量为200sccm的氧气；
2)采用11槽超声波清洗工艺对所述透明基体二次清洗，其中第一槽和第二槽采用碱性洗剂清洗，碱性洗剂的PH值为10～12、溶度为1.5～2.5％、电导率≤110us/cm且温度为35～50℃；第三槽为超纯水漂洗；第四槽和第五槽采用弱碱洗剂清洗，弱碱洗剂的PH值为9～10、溶度1.5～2.5％、电导率≤95us/cm且温度35～50℃；第六槽为超纯水漂洗；第七槽至第十槽为超纯水清洗；清洗后，利用离心甩干工艺干燥所述透明基体，设置离心转速为2000～3500rpm，离心时间为2～4min。
其中，所述超纯水漂洗为通过水泵将超纯水进行循环流动并配合超声波对透明基体进行清洗，所述超纯水清洗为通过超声波设备的溢流设计配合超声波对透明基体进行清洗，超纯水从第十槽溢流到第九槽，再从第九槽溢流到第八槽，再从第八槽溢流到第七槽后排出。
根据本发明的一些实施例，所述步骤c中，抗反射层和滤光层的镀制均采用电子束蒸发加以离子辅助沉积的方法，交替沉积镀制奇数介质亚层和偶数介质亚层，层厚通过极值法控制，具体参数设定如下：
1.镀膜起始真空度1.0x10-3pa；
2.镀制奇数介质亚层时，设置蒸发速率<4A/sec，镀膜真空度为1.0x10-2～1.6x10-2pa，离子源电流为900～1500mA，电压为900～1700V，充氧量为40～80sccm，基板恒温130～180℃，镀制时间30～90min；
3.镀制偶数介质亚层时，设置蒸发速率<12A/sec，镀膜真空度为1.0x10-2～1.6x10-2pa，离子源电流为600～1500mA，电压为600～1700V，充氧量为40～70sccm，基板恒温130～180℃，镀制时间30～90min。
附图说明
下面结合附图对本发明作进一步说明：
图1是本发明实施例的双通滤光片的结构简图；
图2是本发明实施例的双通滤光片的吸收层与传统吸收层的透射率光谱图；
图3是传统白玻璃基材双通滤光片透射率光谱图；
图4是传统吸收基材双通带滤光片透射率光谱图；
图5是本发明实施例的双通滤光片透射率光谱图；
图6是本发明另一实施例的双通带滤光片透射率光谱图；
图7是本发明实施例的双通带滤光片透射率光谱图(量产实测值)。
具体实施方式
本部分将详细描述本发明的具体实施例，本发明之较佳实施例在附图中示出，附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述，使人能够直观地、形象地理解本发明的每个技术特征和整体技术方案，但其不能理解为对本发明保护范围的限制。
在本发明的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，若干的含义是一个或者多个，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到奇数、偶数只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。
本发明的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本发明中的具体含义。
参照图1至图7，本发明实施例的双通滤光片，包括透明基体1、吸收层2、抗反射层4及滤光层3。其中，吸收层2覆设在透明基体1的一侧，且滤光层3设置在透明基体1的另一侧，抗反射层4则设置在吸收层2远离透明基体1的表面。以抗反射层4所在一侧为上侧，抗反射层4、吸收层2、透明基体1及滤光层3自上而下依次叠置。可以理解的是，在其他实施例中，滤光层3和抗反射层4的位置可互换，即吸收层2仍覆设在透明基体1的一侧，但将滤光层3设置在吸收层2远离透明基体1的表面，且抗反射层4设置在透明基体1的另一侧。
具体地，抗反射层4、滤光层3分别包括多个交替堆叠设置的奇数介质亚层和偶数介质亚层，奇数介质亚层的折射率高于偶数介质亚层的折射率。
当入射光线的入射角度为0～30°时，双通滤光片的近红外光波段左边T50％(穿透率为50％)偏移量不大于10nm，且双通滤光片的可见光波段T50％(穿透率为50％)偏移量不大于5nm。
根据本发明实施例的双通滤光片，其包括透明基体1、吸收层2、抗反射层4及滤光层3，吸收层2和滤光层3分别设在透明基体1的相对两侧，抗反射层4则覆在吸收层2上，其中，抗反射层4和滤光层3分别通过多个交替堆叠设置的奇数介质亚层和偶数介质亚层构成，且奇数介质亚层的折射率高于偶数介质亚层的折射率，如此，当入射光线的入射角度为0～30°时，双通滤光片的近红外光波段左边T50％偏移量不大于10nm，极大地提高了信噪比；且此时双通滤光片的可见光波段T50％偏移量不大于5nm，能够消除因杂散光在图像传感器间多次反射形成的鬼影，并改善画面中心与角落的色彩之间亮度不均匀的问题，提高成像质量。
对于本发明实施例的双通滤光片，奇数介质亚层为高折射率层，其构成材料包括五氧化三钛、二氧化钛、二氧化锆、五氧化二钽、五氧化二铌、钛酸镧(H4)中的至少一种；而偶数介质亚层为低折射率层，构成材料为二氧化硅、氟化镁、三氧化二铝中的至少一种。
再者，在本发明的实施例中，组成抗反射层4的奇数介质亚层和偶数介质亚层相加的总层数的范围为4层～16层；与此同时，组成滤光层3的奇数介质亚层和偶数介质亚层相加的总层数为20层～100层。
在此具体实施例当中，奇数介质亚层的材料为五氧化三钛，偶数介质亚层的材料为二氧化硅。各奇数介质亚层通过五氧化三钛沉积形成，且各偶数介质亚层通过二氧化硅沉积形成。制备抗反射层4和滤光层3时，均采用电子束蒸发加以离子辅助沉积的方法，并利用极值法控制层厚，交替沉积镀制奇数介质亚层和偶数介质亚层，需要注意的是，制备时应当控制沉积时的真空度在1.0x10-2～1.6x10-2pa的范围内，并控制五氧化三钛的沉积速率小于4A/S、二氧化硅的沉积速率小于12A/S。
更为具体地，抗反射层4的总层数为10层，奇数介质亚层和偶数介质亚层交替堆叠，各自的数量均为5层，更进一步地，组成此抗反射层4的奇数介质亚层的厚度为1nm～200nm，且组成此抗反射层4的偶数介质亚层的厚度为1nm～300nm，该实施例的抗反射层4的各层厚度见表1。同时，滤光层3的总层数为60层，奇数介质亚层和偶数介质亚层交替堆叠，各自的数量均为30层，与此同时，组成此滤光层3的奇数介质亚层的厚度在1nm～300nm的范围内，且组成此滤光层3的偶数介质亚层的厚度在1nm～600nm的范围内，该实施例的滤光层3的各层厚度见表2。
表1：本发明实施例的双通滤光片的抗反射层4的各层材料与膜厚表
表2：本发明实施例的双通滤光片的滤光层3的各层材料与膜厚表
该具体实施例中，吸收层2的材料为色素，且该吸收层2的厚度范围为0.30μm～10.0μm。可以理解的是，吸收层2通过色素旋转涂覆在透明基材的表面制备形成，采用旋转涂覆的方式，能够使色素在透明基材的表面上分布均匀，从而保证吸收层2各部位厚度大小的一致，确保吸收层2的各部位吸光效果的一致性。利用色素制备的吸收层2，能够吸收部分紫外光、部分可见光及部分红外光，可被其吸收的光波段的波长在380nm～830nm的范围内，此范围内，吸收层2在光波波长为503nm时穿透率为最高值，该最高穿透率T>90％。
为了在避免影响透过率的同时，确保本发明的双通滤光片的轻薄性，设置透明基体1的厚度为0.03mm～2mm；具体制作中，透明基体1的材料可为白玻璃或者亚克力板或者薄膜等。
应用本发明的双通滤光片，可以实现白天获得真彩色图像，晚上获得清晰的黑白图像。且由于该双通滤光片仅包括透明基体1、吸收层2、抗反射层4及滤光层3，整体构造及制造工艺均较为简单，成本较低，有利于实现批量化生产。
根据本发明另一实施例的双通滤光片，其包括透明基体1、吸收层2、抗反射层4及滤光层3，吸收层2和滤光层3分别设在透明基体1的相对两侧，抗反射层4则覆在吸收层2上，其中，抗反射层4和滤光层3分别通过多个交替堆叠设置的奇数介质亚层和偶数介质亚层构成，且奇数介质亚层的折射率高于偶数介质亚层的折射率，当入射光线的入射角度为0～30°时，该双通滤光片的近红外光波段左边T50％偏移量不大于10nm，且近红外光波段右边T50％偏移量不大于23nm，极大地提高了信噪比；且当入射光线的入射角度为0～30°时，此双通滤光片的可见光波段T50％偏移量不大于5nm，能够消除因杂散光在图像传感器间多次反射形成的鬼影，并改善画面中心与角落的色彩之间亮度不均匀的问题，提高成像质量。
对于本发明另一实施例的双通滤光片，奇数介质亚层为高折射率层，其构成材料包括五氧化三钛、二氧化钛、二氧化锆、五氧化二钽、五氧化二铌、钛酸镧(H4)中的至少一种；而偶数介质亚层为低折射率层，构成材料为二氧化硅、氟化镁、三氧化二铝中的至少一种
再者，在本发明的另一实施例中，组成抗反射层4的奇数介质亚层和偶数介质亚层相加的总层数的范围为20层～100层；与此同时，组成滤光层3的奇数介质亚层和偶数介质亚层相加的总层数为20层～100层。
在此具体实施例当中，奇数介质亚层的材料为五氧化三钛，偶数介质亚层的材料为二氧化硅。各奇数介质亚层通过五氧化三钛沉积形成，且各偶数介质亚层通过二氧化硅沉积形成。制备抗反射层4和滤光层3时，均采用电子束蒸发加以离子辅助沉积的方法，并利用极值法控制层厚，交替沉积镀制奇数介质亚层和偶数介质亚层，需要注意的是，制备时应当控制沉积时的真空度在1.0x10-2～1.6x10-2pa的范围内，并控制五氧化三钛的沉积速率小于4A/sec、二氧化硅的沉积速率小于12A/sec。
更为具体地，抗反射层4的总层数为40层，奇数介质亚层和偶数介质亚层交替堆叠，奇数介质亚层的数量和偶数介质亚层的数量均为20层，更进一步地，组成此抗反射层4的奇数介质亚层的厚度为1nm～400nm，且组成此抗反射层4的偶数介质亚层的厚度为1nm～300nm，该实施例的抗反射层4的各层厚度见表3。同时，滤光层3的总层数为50层，奇数介质亚层和偶数介质亚层交替堆叠，奇数介质亚层的数量和偶数介质亚层的数量均为25层，与此同时，组成此滤光层3的奇数介质亚层的厚度在1nm～400nm的范围内，且组成此滤光层3的偶数介质亚层的厚度在1nm～300nm的范围内，该实施例的滤光层3的各层厚度见表4。
表3：本发明另一实施例双通滤光片的抗反射层4的各层材料与膜厚表
表4：本发明另一实施例双通滤光片的滤光层3的各层材料与膜厚表
参照图3至图6，其中，图3展示了传统白玻璃基材的双通滤光片在0°和30°的入射角下的透射率光谱，图4展示了传统吸收基材双通带滤光片在0°和30°的入射角下的透射率光谱图，图5展示了本发明的双通滤光片在0°和30°的入射角下的透射光谱，图6展示了本发明另一实施例双通带滤光片在0°和30°的入射角下的透射率光谱图。对比图3至图6，可获得本发明的双通滤光片与传统双通滤光片的滤光特性的对比数据，具体对比数据如表5所示：
表5：本发明的双通滤光片与传统双通滤光片的滤光特性对比表
由于双通滤光片包含两个通带，两个通带包含三个T50％，当入射光线的入射角为0°与30°时，T50％均会偏移，由表5可得，传统双通滤光片在近红外光波段左边T50％和右边T50％的偏移均大于30nm，而本发明的双通滤光片在近红外光波段左边T50％偏移小于10nm；同时，由表5可得，传统双通滤光片在近红外光波段左边T50％和右边T50％的偏移均大于30nm，而本发明另一实施例的双通滤光片在近红外光波段左边T50％偏移小于10nm，右边T50％的偏移不大于23nm。故本发明的双通滤光片的T50％因入射角变动而产生的偏移量小，能更好地对红外光实现截止，性能优于传统双通滤光片。
表6：本发明双通滤光片的滤光各波段滤光特性表
| 序号 | 项目 | 入射角0° | 入射角30° |
| 1 | 350～380nm | 0.02％ | 0.08％ |
| 2 | 450～580nm | 93.27％ | 92.44％ |
| 3 | T50％ | 641nm | 638nm |
| 4 | 700～800nm | 0.02％ | 0.06％ |
| 5 | T50％ | 827 | 820 |
| 6 | 850～880nm | 94.49％ | ---- |
| 7 | 910～1100nm | 0.07％ | 0.06％ |
同时，由表6和图7可得，入射角为0°时，λ＝450-580nm，对应Tave>＝93％；λ＝700-800nm，对应Tave<＝0.1％；λ＝850～880nm，Tave>＝94％；λ＝910nm-1100nm，Tave<＝0.1％，其中，λ为入射光波长，Tave为透射率平均值。可以看出，本发明的双通滤光片具有高峰值的透射率和较深的截止率，能够有效地抑制光晕和温漂。
本发明的第二方面实施例的双通滤光片的制备方法，包括以下步骤：a.清洗透明基体；b.在透明基体的一表面旋涂色素制备吸收层；c.在吸收层的表面镀制抗反射层，在透明基体的另一表面镀制滤光层；
其中，步骤b中，首先将透明基体吸附于平台上，将色素滴至透明基体的表面的中部，设置平台旋转速度为300～1500rpm，旋转时间为5～20s，色素在透明基体表面涂覆均匀后，将透明基体置入无尘烤箱在烘烤60～120min，设置烘烤温度为80～150℃。
进一步地，在步骤a中，有具体步骤如下：
1)采用等离子清洗工艺清洗透明基体，设置等离子清洗工艺的工艺参数为放电功率300～500W、背底真空度20～80Pa、工作时间300～600s，一路加载为气体流量为200sccm的氩气，二路加载气体流量为200sccm的氧气；
2)采用11槽超声波清洗工艺对透明基体二次清洗，其中第一槽和第二槽采用碱性洗剂清洗，碱性洗剂的PH值为10～12、溶度为1.5～2.5％、电导率≤110us/cm且温度为35～50℃；第三槽为超纯水漂洗；第四槽和第五槽采用弱碱洗剂清洗，弱碱洗剂的PH值为9～10、溶度1.5～2.5％、电导率≤95us/cm且温度35～50℃；第六槽为超纯水漂洗；第七槽至第十槽为超纯水清洗，所述超纯水漂洗即通过水泵将超纯水进行循环流动对透明基体进行清洗，所述超纯水清洗即通过超声波设备的溢流设计对透明基体进行清洗，超纯水从第十槽溢流到第九槽，再从第九槽溢流到第八槽，再从第八槽溢流到第七槽后排出；清洗后，利用离心甩干工艺干燥透明基体，设置离心转速为2000～3500rpm，离心时间为2～4min。
其中的超纯水漂洗为通过水泵将超纯水进行循环流动配合超声波对透明基体进行清洗；且超纯水清洗为通过超声波设备的溢流设计配合超声波对透明基体进行清洗，超纯水从第十槽溢流到第九槽，再从第九槽溢流到第八槽，再从第八槽溢流到第七槽后排出。
更为具体地，在步骤c中，抗反射层和滤光层的镀制均采用电子束蒸发加以离子辅助沉积的方法，交替沉积镀制奇数介质亚层和偶数介质亚层，层厚通过极值法控制，具体参数设定如下：
1.镀膜起始真空度1.0x10-3pa；
2.镀制奇数介质亚层时，设置蒸发速率<4A/sec，镀膜真空度为1.0x10-2～1.6x10-2pa，离子源电流为900～1500mA，电压为900～1700V，充氧量为40～80sccm，基板恒温130～180度，镀制时间30～90min；
3.镀制偶数介质亚层时，设置蒸发速率<12A/sec，镀膜真空度为1.0x10-2～1.6x10-2pa，离子源电流为600～1500mA，电压为600～1700V，充氧量为40～70sccm，基板恒温130～180度，镀制时间30～90min。
本发明实施例的双通滤光片的制备方法，采用超声波清洗和等离子清洗相结合的方式，有效地提高透明基材1的表面洁净度，且进一步改善了吸收层2在透明基材1表面的附着力。
当然，本发明的设计创造并不局限于上述实施方式，熟悉本领域的技术人员在不违背本发明精神的前提下还可作出等同变形或替换，这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
Claims (10)
1.双通滤光片，其特征在于，包括：
透明基体；
吸收层，覆设在所述透明基体的一表面；
滤光层，设置在所述透明基体的另一表面；以及
抗反射层，设置在所述吸收层远离所述透明基体的表面；
其中，所述抗反射层与所述滤光层分别包括多个交替堆叠设置的奇数介质亚层和偶数介质亚层，所述奇数介质亚层的折射率高于所述偶数介质亚层的折射率；
入射光线的入射角度为0～30°时，所述双通滤光片的近红外光波段左边T50％偏移量不大于10nm，且所述双通滤光片的可见光波段T50％偏移量不大于5nm。
2.根据权利要求1所述的双通滤光片，其特征在于：所述奇数介质亚层的构成材料包括五氧化三钛、二氧化钛、二氧化锆、五氧化二钽、五氧化二铌、钛酸镧中的至少一种，所述偶数介质亚层的构成材料为二氧化硅、氟化镁、三氧化二铝中的至少一种。
3.根据权利要求2所述的双通滤光片，其特征在于：组成所述抗反射层的所述奇数介质亚层和所述偶数介质亚层相加的总层数为4～16层或者20～100层。
4.根据权利要求3所述的双通滤光片，其特征在于：组成所述抗反射层的所述奇数介质亚层的厚度为1～200nm，组成所述抗反射层的所述偶数介质亚层的厚度为1～300nm。
5.根据权利要求2所述的双通滤光片，其特征在于：组成所述滤光层的所述奇数介质亚层和所述偶数介质亚层相加的总层数为20～100层。
6.根据权利要求5所述的双通滤光片，其特征在于：组成所述滤光层的所述奇数介质亚层的厚度范围为1～300nm，组成所述滤光层的所述偶数介质亚层的厚度范围为1～600nm。
7.根据权利要求1所述的双通滤光片，其特征在于：所述吸收层的厚度为0.30～10.0μm，所述吸收层的材料为色素，所述吸收层的吸收光波段的波长范围为380～830nm。
8.根据权利要求1至7任一项所述的双通滤光片，其特征在于：所述透明基体的厚度为0.03～2mm。
9.双通滤光片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
a.清洗透明基体；
b.在所述透明基体的一表面旋涂色素制备吸收层；
c.在所述吸收层的表面镀制抗反射层，并在所述透明基体的另一表面镀制滤光层；
其中，步骤b中，首先将所述透明基体吸附于设置有真空吸附孔的旋转平台上，将色素滴至所述透明基体的表面的中部，设置平台旋转速度为300～1500rpm，旋转时间为5～20s，色素在所述透明基体表面涂覆均匀后，将所述透明基体置入无尘烤箱在烘烤60～120min，设置烘烤温度为80～150℃。
10.根据权利要求9的双通滤光片的制备方法，其特征在于，所述步骤a中，具体步骤如下：
1)采用等离子清洗工艺清洗所述透明基体，设置等离子清洗工艺的工艺参数为放电功率300～500W、背底真空度20～80Pa、工作时间300～600s，一路加载为气体流量为200sccm的氩气，二路加载气体流量为200sccm的氧气；
2)采用11槽超声波清洗工艺对所述透明基体二次清洗，其中第一槽和第二槽采用碱性洗剂清洗，碱性洗剂的PH值为10～12、溶度为1.5～2.5％、电导率≤110us/cm且温度为35～50℃；第三槽为超纯水漂洗；第四槽和第五槽采用弱碱洗剂清洗，弱碱洗剂的PH值为9～10、溶度1.5～2.5％、电导率≤95us/cm且温度35～50℃；第六槽为超纯水漂洗；第七槽至第十槽为超纯水清洗；清洗后，利用离心甩干工艺对所述透明基体进行离心脱水干燥，设置离心转速为2000～3500rpm，离心时间为2～4min。
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