CN114326177A - 一种光学贴合技术的围坝胶涂布方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光学贴合技术的围坝胶涂布方法,属于光学贴合技术领域,本发明的方法包括:1)先对TFT模组表面进行清洁;2)在TFT模组的铁框内圈涂布密封胶水,封住铁框的缝隙;3)对密封胶水进行紫光固化;4)在TFT模组的铁框的表面,涂布设定图形的围坝胶,控制面胶溢出的方向,涂布速度40mm/分钟;5)对围坝胶水进行紫光固化;6)对TFT模组涂布面胶胶水;7)对盖板玻璃表面进行清洁;8)在盖板玻璃上点上贴合引胶;9)将TFT模组和盖板玻璃,使用模具贴合在一起;10)常温静置;11)将贴合后的产品和模具一起烘烤;12)脱泡;13)清洁后产出成品。本发明能够有效的解决渗胶黑斑不良的技术难题。
Description
技术领域
本发明属于光学贴合技术领域,尤其涉及围坝胶的涂布,具体是一种光学贴 合技术的围坝胶涂布方法。
背景技术
在光学贴合技术中,由于TFT模组铁框组合时必然存在卡扣槽及安装槽, 在贴合过程胶水溢出,通过这些区域很容易产生渗胶不良,不良直接导致产品报 废,导致交货不足以及成本损失,渗胶是个比较棘手的问题,在现有围坝胶涂付 方法,无法避免渗胶的发生。贴合面胶渗入铁框,造成背光源的扩散膜被污染, 产品通电显示时,被污染的区域,光的反射路径发生变化,导致通电显示时被污 染区域显示暗,称之为渗胶黑斑不良。渗胶黑斑不良的情形一直是本领域技术人 员厄待解决的。
发明内容
本发明公开了一种围坝的涂布方法,本发明的方法中控制溢胶的方向避开 TFT模组的卡扣槽及安装槽,同时具备贴合时气泡排出的轨迹,能够有效的解决 渗胶黑斑不良的技术难题。
本发明是这样实现的:
一种光学贴合技术的围坝胶涂布方法,所述的方法具体为:
步骤一:先对TFT模组表面进行清洁,或采用等离子设备进行表面异物的 清洁;
步骤二:在TFT模组的铁框内圈涂布密封胶水,胶水为透明有机硅胶,封 住铁框的缝隙;
步骤三:使用紫外光对密封胶水进行紫光固化;
步骤四:在TFT模组的铁框的表面,涂布设定图形的围坝胶,胶水为黑色 有机硅胶,控制面胶溢出的方向,使用涂胶机涂胶,涂布速度40mm/分钟;
步骤五:使用紫外光对围坝胶水进行紫光固化;
步骤六:对涂好密封围坝的TFT模组涂布面胶胶水,胶水为透明有机硅胶;
步骤七:对盖板玻璃表面进行清洁,或采用等离子设备进行表面异物的清洁;
步骤八:在清洁后的盖板玻璃上用面胶胶水作为贴合引胶,胶水为透明有机 硅胶;
步骤九:将涂布好面胶的TFT模组和点好贴合引胶的盖板玻璃,使用模具 贴合在一起;
步骤十:将贴合后的产品和模具一起常温静置5±2分钟,使胶水覆盖整个产 品的显示面;
步骤十一:将贴合后的产品和模具一起放入60℃的烘炉里烘烤,时间30±10 分钟;
步骤十二:将产品从治具上取下,集中放入加压消泡炉里脱泡,压力0.5mpa, 时间30分钟,温度40℃;
步骤十三:将完成消泡的产品,清洁后,产出成品。
进一步,所述的步骤三以及步骤五中的紫光固化中的紫外光量为: 1200±200mj/cm2。
本发明与现有技术相比的有益效果在于:
本发明的围坝预留口避免了TFT模组的卡扣槽及安装槽的位置,避免了渗 胶不良的发生,使贴合胶水溢胶产生的TFT模组渗胶黑斑不良发生极大改善。
附图说明
图1为本发明一种光学贴合技术的围坝胶涂布方法的流程示意图;
图2为本发明方法制备得到的产品侧视图;
图3为本发明方法制备得到的产品俯视图。
图4为本发明实施例中的成品性能测试结果图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚,明确,以下列举实例对本发 明进一步详细说明。应当指出此处所描述的具体实施仅用以解释本发明,并不用 于限定本发明。
如图1所示,本发明的步骤为:步骤一:先对TFT模组表面进行清洁,并 可选择性使用等离子设备进行表面异物的清洁。步骤二:在TFT模组的铁框内 圈涂布密封胶水,胶水为透明有机硅胶,封住铁框的缝隙。步骤三:使用紫外光 对密封胶水进行紫光固化,紫外光量:1200±200mj/cm2。步骤四:在TFT模组 的铁框的表面,涂布设定图形的围坝胶,胶水为黑色有机硅胶,控制面胶溢出的 方向,使用涂胶机涂胶,涂布速度40mm/分钟。步骤五:使用紫外光对围坝胶水 进行紫光固化,紫外光量:1200±200mj/cm2。步骤六:对涂好密封围坝的TFT 模组涂布面胶胶水,胶水为透明有机硅胶。步骤七:对盖板玻璃表面进行清洁, 并可选择性使用等离子设备进行表面异物的清洁。步骤八:在清洁后的盖板玻璃 上点上少量的面胶胶水作为贴合引胶,胶水为透明有机硅胶。步骤九:将涂布好 面胶的TFT模组和点好贴合引胶的盖板玻璃,使用模具贴合在一起。步骤十: 将贴合后的产品和模具一起常温静置5±2分钟,使胶水覆盖整个产品的显示面。 步骤十一:将贴合后的产品和模具一起放入60℃的烘炉里烘烤,时间30±10分 钟。步骤十二:将产品从治具上取下,集中放入加压消泡炉里脱泡,压力0.5mpa, 时间30分钟,温度40℃。步骤十三:将完成消泡的产品,清洁后,产出成品。
将本发明制备的成品进行性能测试,得出的结果如图4所示。
通过对比可以得出,本发明围坝预留口避免了TFT模组的卡扣槽及安装槽 的位置,避免了渗胶不良的发生,使贴合胶水溢胶产生的TFT模组渗胶黑斑不 良发生极大改善。
如图2~3所示,通过本发明的一种光学贴合技术的围坝胶涂布方法制备得带 的产品包括铁框,所述的铁框内圈表面为贴合胶,铁框外圈为围坝胶,铁框外圈 的围坝胶之间有溢胶口,盖板玻璃与TFT模组(LCD模组)贴合在一起时,能 够避免了渗胶不良的发生。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技 术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进,这些改进也 应视为本发明的保护范围。
Claims (2)
1.一种光学贴合技术的围坝胶涂布方法,其特征在于,所述的方法具体为:
步骤一:先对TFT模组表面进行清洁,或采用等离子设备进行表面异物的清洁;
步骤二:在TFT模组的铁框内圈涂布密封胶水,胶水为透明有机硅胶,封住铁框的缝隙;
步骤三:使用紫外光对密封胶水进行紫光固化;
步骤四:在TFT模组的铁框的表面,涂布设定图形的围坝胶,胶水为黑色有机硅胶,控制面胶溢出的方向,使用涂胶机涂胶,涂布速度40mm/分钟;
步骤五:使用紫外光对围坝胶水进行紫光固化;
步骤六:对涂好密封围坝的TFT模组涂布面胶胶水,胶水为透明有机硅胶;
步骤七:对盖板玻璃表面进行清洁,或采用等离子设备进行表面异物的清洁;
步骤八:在清洁后的盖板玻璃上用面胶胶水作为贴合引胶,胶水为透明有机硅胶;
步骤九:将涂布好面胶的TFT模组和点好贴合引胶的盖板玻璃,使用模具贴合在一起;
步骤十:将贴合后的产品和模具一起常温静置5±2分钟,使胶水覆盖整个产品的显示面;
步骤十一:将贴合后的产品和模具一起放入60℃的烘炉里烘烤,时间30±10分钟;
步骤十二:将产品从治具上取下,集中放入加压消泡炉里脱泡,压力0.5mpa,时间30分钟,温度40℃;
步骤十三:将完成消泡的产品,清洁后,产出成品。
2.根据权利要求1所述的一种光学贴合技术的围坝胶涂布方法,其特征在于,所述的步骤三以及步骤五中的紫光固化中的紫外光量为:1200±200mj/cm2。
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