CN114325891A - 反射模块、光学照明装置及光学改性设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种反射模块、光学照明装置及光学改性设备，该反射模块包括多个反射单元，多个反射单元呈阵列形式排布，每个所述反射单元能够独立动作以改变照射至其上的光线的入射角度。该反射模块的各反射单元的位置可独立控制，从而实现对光照强度的调节，应用于光学照明装置等光辐射系统中，可根据需要灵活控制光照强度，提高对光能的有效利用率。
Description
技术领域
本发明涉及光辐射技术领域，特别是涉及一种反射模块、光学照明装置及光学改性设备。
背景技术
半导体行业的薄膜光学改性处理，或者LED和平板显示行业的薄膜光学改性处理等，通常是利用光学改性设备进行。
以紫外光改性设备为例，其紫外光照明装置中通过采用面光源辅助照明头旋转的方案，在工程设计上采用一根或者两根紫外线灯管作为光源配合光路设计来达到面光源的效果，在光路上设置反射镜将光线反射至处理件的工作面上。现有的设备设置，在完成装机后，反射镜的位置相对固定，只能通过调整处理件与光源之间的距离来调节处理件工作面上的光照强度均匀性，非常不便，对光能的有效利用率不高。
发明内容
本发明的目的是提供一种反射模块、光学照明装置及光学改性设备，该反射模块的各反射单元的位置可独立控制，从而实现对光照强度的调节，应用于光学照明装置等光辐射系统中，可根据需要灵活控制光照强度，提高对光能的有效利用率。
为解决上述技术问题，本发明提供一种反射模块，包括多个反射单元，多个反射单元呈阵列形式排布，每个所述反射单元能够独立动作以改变照射至其上的光线的入射角度。
该反射模块设有多个反射单元，各反射单元相对独立控制，每个反射单元能够独立动作以改变照射在其上的光线的入射角度，应用时，可以根据使用需求来调节反射模块的各反射单元的位置，以此调节光照强度，灵活性高，能够提高对光能的有效利用率。
如上所述的反射模块，每个所述反射单元对应设有一个驱动单元，所述驱动单元用于驱动所述反射单元绕第一轴线转动，所述第一轴线与所述反射单元的反射面相平行。
如上所述的反射模块，所述驱动单元还用于驱动所述反射单元绕第二轴线转动，所述第二轴线与所述反射单元的反射面相平行，且与所述第一轴线垂直。
如上所述的反射模块，所述驱动单元用于驱动所述反射单元在设定角度范围内连续转动；或者，所述驱动单元用于驱动所述反射单元每次转动预定角度。
如上所述的反射模块，所述驱动单元为电机驱动单元或者气动驱动单元或者电磁驱动单元。
如上所述的反射模块，所述反射模块包括支架，多个所述反射单元设于所述支架的一面，所述驱动单元安装于所述支架内部。
如上所述的反射模块，所述反射模块还包括散热部件，所述散热部件用于冷却所述反射单元。
如上所述的反射模块，所述散热部件包括安装于所述支架的多个散热鳍片，所述散热鳍片设置在所述支架的另一面。
如上所述的反射模块，所述散热部件包括液冷散热单元。
如上所述的反射模块，所述反射单元包括铝制基材和设于所述铝制基材表面的光学薄膜。
如上所述的反射模块，所述反射模块包括控制单元，所述控制单元与各所述反射单元的驱动单元通信连接。
如上所述的反射模块，多个所述反射单元排布呈单行多列的阵列形式或者多行多列的阵列形式。
本发明还提供一种光学照明装置，包括光源和扫描反射部件，所述扫描反射部件用于将所述光源发出的光线反射至处理件的工作面，所述扫描反射部件采用上述任一项所述的反射模块。
由于上述反射模块具有上述技术效果，所以包括该反射模块的光学照明装置也具有相同的技术效果，不再赘述。
本发明还提供另一种光学照明装置，包括光源、至少一个中继反射部件和扫描反射部件，所述光源发出的光线通过所述中继反射部件反射至所述扫描反射部件，各反射部件中至少有一个为上述任一项所述的反射模块。
由于上述反射模块具有上述技术效果，所以包括该反射模块的光学照明装置也具有相同的技术效果，不再赘述。
本发明还提供一种光学改性设备，包括反应腔，所述反应腔内设有用于放置处理件的托盘，所述反应腔配置有光学照明装置，其所述光学照明装置为上述任一项所述的光学照明装置。
由于上述光学照明装置具有上述技术效果，所以包括该光学照明装置的光学改性设备也具有相同的技术效果，不再赘述。
附图说明
图1为本发明所提供反射模块一种实施例的侧面结构示意图；
图2为本发明所提供反射模块的第一实施例的正面结构示意图；
图3为本发明所提供反射模块的第二实施例的正面结构示意图；
图4为本发明所提供反射模块的第三实施例的正面结构示意图。
附图标记说明：
反射模块10、10a、10b、10c，反射单元11，支架12，散热鳍片13。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。
为便于理解和描述简洁，下文结合反射模块、光学照明装置及光学改性设备一并说明，有益效果部分不再重复论述。
在半导体行业对晶圆薄膜的光学改性处理，或者LED和平板显示行业的薄膜光学改性处理，或者其他领域的光学改性处理中，往往涉及到光学改性设备，这些光学改性设备中包括用于对处理件的工作面进行改性的光学照明装置。
通常，光学改性设备包括反应腔，在反应腔内设有用于放置处理件的托盘，每个反应腔配置光学照明装置，用于对托盘上放置的处理件工作面进行改性处理。
在光学照明装置中，包括光源、至少一个中继反射部件和扫描反射部件，光源发出的光线通过中继反射部件反射至扫描反射部件，扫描反射部件再将接收的光线反射至处理件的工作面。
当然，光学照明装置也可不设置中继反射部件，光源的光线可直接照射至扫描反射部件。
不管光学照明装置的光路如何设置，其中的各反射部件中至少有一个可以设为本发明提供的反射模块。本文重点在于反射模块的结构，下面就反射模块进行详细说明。
请参考图1，图1为本发明所提供反射模块一种实施例的侧面结构示意图。
该实施例中，反射模块10包括多个反射单元11，多个反射单元11呈阵列形式排布，每个反射单元11能够独立动作以改变照射至其上的光线的入射角度。
该反射模块10设有多个反射单元11，各反射单元11相对独立控制，每个反射单元11能够独立动作以改变照射在其上的光线的入射角度，应用时，可以根据使用需求来调节反射模块10的各反射单元11的位置，以此调节光照强度，灵活性高，能够提高对光能的有效利用率。
举例来说，应用至半导体行业的晶圆改性来说，可以通过将光路中的反射部件设置为该反射模块10，根据需要调整反射模块10的各反射单元11的角度，以改变光照强度，实现对特定区域的光强调节。
请一并参考图2至图4，图2为本发明所提供反射模块的第一实施例的正面结构示意图；图3为本发明所提供反射模块的第二实施例的正面结构示意图；图4为本发明所提供反射模块的第三实施例的正面结构示意图。
图2所示的反射模块10a的多个反射单元11排布呈单行多列阵列，即多个反射单元11沿x轴方向排成一行；图3所示的反射模块10b的多个反射单元11排布呈双行多列阵列，即多个反射单元11沿x轴方向排成两行，每行的反射单元11的数量相同，且在y轴方向上位置一一对应设置；图4所示的反射模块10c的多个反射单元11排布呈三行多列阵列，即多个反射单元11沿x轴方向排成三行，每行的反射单元11的数量相同，且在y轴方向上位置一一对应。
图2至图4只是示例性地示出了三种阵列形式的反射模块，可以理解，实际设置时，反射模块10的多个反射单元11可以排布呈其他阵列形式，不限于图中所示，比如说相邻两行的反射单元11可以错开设置，阵列形式也包括圆形阵列或者其他形状的阵列形式。
该实施例中，反射模块10的每个反射单元11对应设有一个驱动单元，该驱动单元用于驱动反射单元11绕第一轴线转动，该第一轴线与反射单元11的反射面相平行，以图2至图4所示来说，该第一轴线可以为平行于x轴的轴线，图2至图4所示方位，反射单元11的反射面即为纸面。
驱动单元还可以驱动反射单元11绕第二轴线转动，该第二轴线与反射单元11的反射面平行，且与第一轴线相垂直，以图2至图4所示来说，第二轴线可以为平行于y轴的轴线。
可以理解，具体设置时，反射单元11可以只绕第一轴线转动，或者只绕第二轴线转动，或者既能绕第一轴线转动，又能绕第二轴线转动。
实际设置时，在绕某一转动轴线转动时，通过设置可以使驱动单元驱动反射单元11连续转动，相当于反射单元11的位置可以实现无极调节，当然，驱动单元也可以驱动反射单元11每次转动预定角度，即从一个定位位置转到另一个定点位置，类似于步进式转动。
驱动单元具体可以是电机驱动单元或者气动驱动单元或者电磁驱动单元，实际设置时可以根据具体需求来定。
该反射模块10设有支架12，各反射单元11安装在支架12的一面，各反射单元11的各驱动单元可安装在支架12内部，集成化设置，方便安装。
具体的方案中，反射模块10还可以设置散热部件，以对各反射单元11进行散热，避免在高光强光线的照射下，反射单元11发热导致变形或损坏等问题。这样，反射模块10可以应用于高光强密度的环境，适用范围广。
散热部件可以采用风冷的方式，也可以采用液冷的方式，图1中示出了一种风冷散热结构，在支架12的另一面设有多个散热鳍片13，当然，如果设备布局允许，也可以设置风扇等，以便于散热风的流动。液冷的散热结构可以采用已有的常规的散热器等。
该实施例中，反射模块10还可以包括控制单元，控制单元与各驱动单元通信，通过控制单元发送信号至各驱动单元，来控制各反射单元11的转动。
具体的方案中，每个反射单元11包括铝制基材和设于铝制基材表面的光学薄膜。当然，根据实际应用需求，反射单元11也可采用其他材质制成，只要能够满足相关反射要求即可。
以上对本发明所提供的一种反射模块、光学照明装置及光学改性设备均进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。
Claims (15)
1.反射模块，其特征在于，包括多个反射单元，多个反射单元呈阵列形式排布，每个所述反射单元能够独立动作以改变照射至其上的光线的入射角度。
2.根据权利要求1所述的反射模块，其特征在于，每个所述反射单元对应设有一个驱动单元，所述驱动单元用于驱动所述反射单元绕第一轴线转动，所述第一轴线与所述反射单元的反射面相平行。
3.根据权利要求2所述的反射模块，其特征在于，所述驱动单元还用于驱动所述反射单元绕第二轴线转动，所述第二轴线与所述反射单元的反射面相平行，且与所述第一轴线垂直。
4.根据权利要求2或3所述的反射模块，其特征在于，所述驱动单元用于驱动所述反射单元在设定角度范围内连续转动；或者，所述驱动单元用于驱动所述反射单元每次转动预定角度。
5.根据权利要求2或3所述的反射模块，其特征在于，所述驱动单元为电机驱动单元或者气动驱动单元或者电磁驱动单元。
6.根据权利要求2或3所述的反射模块，其特征在于，所述反射模块包括支架，多个所述反射单元设于所述支架的一面，所述驱动单元安装于所述支架内部。
7.根据权利要求6所述的反射模块，其特征在于，所述反射模块还包括散热部件，所述散热部件用于冷却所述反射单元。
8.根据权利要求7所述的反射模块，其特征在于，所述散热部件包括安装于所述支架的多个散热鳍片，所述散热鳍片设置在所述支架的另一面。
9.根据权利要求7所述的反射模块，其特征在于，所述散热部件包括液冷散热单元。
10.根据权利要求1-3任一项所述的反射模块，其特征在于，所述反射单元包括铝制基材和设于所述铝制基材表面的光学薄膜。
11.根据权利要求1-3任一项所述的反射模块，其特征在于，所述反射模块包括控制单元，所述控制单元与各所述反射单元的驱动单元通信连接。
12.根据权利要求1-3任一项所述的反射模块，其特征在于，多个所述反射单元排布呈单行多列的阵列形式或者多行多列的阵列形式。
13.光学照明装置，其特征在于，包括光源和扫描反射部件，所述扫描反射部件用于将所述光源发出的光线反射至处理件的工作面，所述扫描反射部件采用权利要求1-12任一项所述的反射模块。
14.光学照明装置，其特征在于，包括光源、至少一个中继反射部件和扫描反射部件，所述光源发出的光线通过所述中继反射部件反射至所述扫描反射部件，各反射部件中至少有一个为权利要求1-12任一项所述的反射模块。
15.光学改性设备，包括反应腔，所述反应腔内设有用于放置处理件的托盘，所述反应腔配置有光学照明装置，其特征在于，所述光学照明装置为权利要求13或14所述的光学照明装置。
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