CN114256102A - 用于移除粘合剂层的单元及其使用方法 - Google Patents

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Abstract

本发明构思提供了一种用于移除粘合剂层的单元。在实施例中，处理室包括：第一主体和第二主体，所述第一主体和所述第二主体进行组合而具有用于处理基板的内部空间；抗摩擦层，所述抗摩擦层在所述第一主体与所述第二主体之间的交界处形成；以及粘合剂层，所述粘合剂层用于将所述抗摩擦层与所述第一主体或所述第二主体进行粘合，其中粘合剂层移除单元包括超声波发生器和擦拭件，所述擦拭件被提供来包围所述超声波发生器。在实施例中，所述超声波发生器还包括手柄和振动发生器，所述振动发生器从所述手柄延伸并且产生超声波，在所述振动发生器中包括振动器，并且其中所述擦拭件包围所述振动发生器。

Description

用于移除粘合剂层的单元及其使用方法
背景技术
本文描述的本发明构思的实施例涉及一种用于移除粘合剂层的单元及其使用方法，更具体地，涉及一种用于移除在提供用于处理基板的内部空间的处理室中形成的粘合剂层的单元，以及一种使用该单元的方法。
一般地，半导体装置由诸如晶片的基板制造成。具体地，通过执行诸如沉积、光刻、清洁、干燥和蚀刻等过程在基板的上表面上形成精细电路图案来制造半导体装置。
一般地，清洁过程包括化学处理以通过向基板供应化学物、向基板供应纯净水进行冲洗以从基板移除剩余的化学物并且干燥以从基板移除剩余的纯净水来从基板移除异物。
超临界液体被用来干燥基板。例如，用有机溶剂代替基板上的纯净水，并且向室中的基板的上表面供应超临界液体，以溶解并移除基板上剩余的有机溶剂。如果将异丙醇(IPA)用作有机溶剂，则将二氧化碳(CO2)用作超临界液体，因为它具有相对低的临界温度和临界压力并且很好地溶解IPA。
使用超临界液体对基板的处理如下。当将基板带入室中时，将超临界二氧化碳供应到室中以对室的内部进行加压，并且然后在重复地供应超临界液体并对该室进行排气时用超临界液体处理基板。在处理基板之后，对室进行排气并且减压。在对室进行排气之后，打开室以移除基板并修复该室。
典型地，室提供为两个独立主体，该两个独立主体进行组合并提供用于基板处理的内部处理空间。每个主体由金属制成。然而，当主体被驱动时，主体之间发生碰撞和摩擦。因此，每个主体的接触表面提供有抗摩擦层以减少碰撞和摩擦的发生。使用粘合剂来将抗摩擦层固定到接触表面。在修复室的过程中，存在以下问题：一旦粘合剂层被磨损可能就不容易被移除。
发明内容
本发明构思的目的是容易移除附接到处理室的粘合剂层。
另外，本发明构思的目的是防止在移除附接到处理室的粘合剂层时产生的废物分散。
本发明构思的目的不限于此，并且本领域技术人员根据以下陈述将清楚地理解未提及的其他目的。
本发明构思的实施例提供了一种用于移除在处理室中形成的粘合剂层的单元。在实施例中，所述单元包括超声波发生器和擦拭件，所述擦拭件浸泡在清洁液中，其中所述擦拭件被提供来包围所述超声波发生器。
在实施例中，所述超声波发生器还包括手柄和振动发生器，所述振动发生器从所述手柄延伸并且产生超声波，在所述振动发生器中包括振动器，并且其中所述擦拭件包围所述振动发生器。
在实施例中，所述粘合剂层可以被提供为丙烯酸材料。
在实施例中，所述清洁液可以被提供为有机溶剂。
在实施例中，所述清洁液可以被提供为溶解所述粘合剂层的材料。
在实施例中，所述清洁液可以被提供为乙醇。
在实施例中，所述处理室可以被提供为金属材料。
在实施例中，所述处理室包括：第一主体和第二主体，所述第一主体和所述第二主体进行组合而具有用于处理基板的内部空间；抗摩擦层，所述抗摩擦层在所述第一主体与所述第二主体之间的交界处形成；以及所述粘合剂层，所述粘合剂层用于将所述抗摩擦层与所述第一主体或所述第二主体进行粘合，其中所述抗摩擦层被提供为聚酰亚胺(PI)。
在实施例中，对物质的处理可以是使用所述处理空间内部的超临界液体来干燥物质的处理。
本发明构思的实施例提供了一种用于使用先前提及的粘合剂层移除单元来移除粘合剂层的方法，所述方法包括：用浸泡有清洁液的擦拭件包裹超声波发生器；以及使所述擦拭件接触所述粘合剂层，同时向所述擦拭件提供超声波，以在一定方向上推动所述擦拭件。
在实施例中，所述超声波发生器还包括手柄和振动发生器，所述振动发生器从所述手柄延伸并且产生超声波，在所述振动发生器中包括振动器，并且其中所述擦拭件包围所述振动发生器。
在实施例中，所述粘合剂层可以被提供为丙烯酸材料。
在实施例中，所述清洁液可以被提供为溶解所述粘合剂层的材料。
在实施例中，所述清洁液可以被提供为有机溶剂。
在实施例中，所述清洁液可以被提供为乙醇。
在实施例中，处理室可以被提供为金属材料。
在实施例中，所述抗摩擦层可以被提供为聚酰亚胺(PI)。
在实施例中，对物质的处理可以是使用所述处理空间内部的超临界液体来干燥所述物质的处理。
本发明构思的实施例提供了一种用于移除在处理室中形成的粘合剂层的方法，所述处理室包括：第一主体和第二主体，所述第一主体和所述第二主体进行组合而具有用于处理基板的内部空间；抗摩擦层，所述抗摩擦层在所述第一主体与所述第二主体之间的交界处形成；以及所述粘合剂层，所述粘合剂层用于将所述抗摩擦层与所述第一主体或所述第二主体进行粘合，其中所述第一主体和所述第二主体被提供为金属材料，所述抗摩擦层被提供为聚酰亚胺(PI)，并且所述粘合剂层被提供为丙烯酸材料，所述方法包括：用浸泡有所述清洁液的所述擦拭件包裹所述超声波发生器；以及使所述擦拭件接触所述粘合剂层，同时向所述擦拭件提供超声波，以在一定方向上推动所述擦拭件。
在实施例中，所述清洁液可以被提供为溶解所述粘合剂层的材料。
根据本发明构思的实施例，可以容易移除附接到所述处理室的所述粘合剂层。
另外，根据本发明构思的实施例，有可能防止在移除附接到所述处理室的所述粘合剂层时废物被分散。
本发明的效果不限于以上所述的效果，并且未提及的效果可以根据本说明书和附图而被本发明所属技术领域的普通技术人员清楚地理解。
附图说明
根据以下参考附图的描述，上述和其他目的和特征将变得显而易见，其中除非另有说明，否则相同附图标记在各个附图中是指相同部分，并且在附图中：
图1是示意性地示出根据本发明构思的实施例的基板处理设备的俯视图。
图2是示意性地示出图1的液体处理装置的视图。
图3至图4各自是示意性地示出图1的超临界装置的实施例的视图。
图5是示意性地示出根据实施例的在处理室中形成的粘合剂层的视图。
图6是示意性地示出根据实施例的超声波发生器的外观的视图。
图7至图9各自是示意性地示出根据本发明构思的实施例的粘合剂层的移除的视图。
具体实施方式
本发明构思可以不同地修改且可以具有各种形式，并且将在附图中示出并详细地描述本发明构思的具体实施例。然而，根据本发明构思的构思的实施例不意图限制具体公开的形式，并且应理解，本发明构思包括本发明构思的精神和技术范围中所包括的所有变形、等效物的替换。在本发明构思的描述中，当可能使本发明构思的本质不清楚时，可以省略对相关已知技术的详细描述。
本文中使用的术语仅是为了描述特定实施例的目的，而不意图限制本发明构思。如本文所使用，单数形式“一(a)”、“一(an)”和“该”也旨在包括复数形式，除非上下文清楚地指出。还应理解，当在本说明书中使用时，术语“包括(comprise)”和/或“包括(comprising)”指定所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或其组合的存在或添加。如本文所使用，术语“和/或”包括一个或多个相关联的所列项目的任何和所有组合。另外，术语“示例性”旨在指代示例或说明。
应理解，尽管在本文中术语“第一”、“第二”、“第三”等可用于描述各种元件、部件、区域、层和/或区段，但这些元件、部件、区域、层和/或区段应不受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、部件、区域、层或区段与另一个区域、层或区段区分开来。因此，在不脱离本发明构思的情况下，可以将以下论述的第一元件、第一部件、第一区域、第一层或第一区段称为第二元件、第二部件、第二区域、第二层或第二区段。
图1示出了根据本发明构思的实施例的基板处理设备。参考图1，基板处理设备包括转向模块10、处理模块20和控制器(未示出)。根据实施例，转向模块10和处理模块20布置在一个方向上。在下文中，布置有转向模块10和处理模块20的方向将被称为第一方向92。当从上方观察时垂直于第一方向92的方向将被称为第二方向，并且垂直于第一方向92和第二方向94两者的方向将被称为第三方向96。
转向模块10将基板W从存储有基板W的容器80返回到处理模块20，并且从处理模块20得到经处理的基板W，其将被储存在容器80中。转向模块10设置为使其长度沿着第二方向94延伸。转向模块10具有装载端口12和转向框架14。转向框架14放置在装载端口12与处理模块20之间。存储有基板W的容器80放置在装载端口12上。可以提供多个装载端口12，并且多个装载端口12可以沿着第二方向94放置。
对于容器80，可以使用封闭型容器，诸如前开式统一吊舱(FOUP)。容器80可以通过高架转移装置、高架输送器、自动引导载具或由操作员放置在装载端口12上。
转向框架14设置有转向机器人120。在转向框架14中，导轨140设置为使其长度沿着第二方向94延伸，并且转向机器人120可以设置为可在导轨140上移动。转向机器人120包括在其上放置基板W的手122，并且手122可以设置为可前后移动，可以第三方向96作为轴线进行旋转，并且可沿着第三方向96移动。多个手122设置为竖直地分开放置，并且手122可以彼此独立地前后移动。
处理模块20包括缓冲单元200、转移装置300、液体处理装置400和超临界装置500。缓冲单元200提供临时空间以便使基板W被带到处理模块20中以及从处理模块20取出基板W。液体处理装置400将液体供应到基板W以在基板W上执行液体处理过程。超临界装置500执行干燥过程以移除保留在基板W上的液体。转移装置300在缓冲单元200、液体处理装置400与超临界装置500之间转移基板W。
转移装置300可以设置为使其长度沿着第一方向92延伸。缓冲单元200可以放置在转向模块10与转移装置300之间。液体处理装置400和超临界装置500可以放置在转移单元300的侧上。液体处理装置400和转移装置300可以布置在第二方向94上。超临界装置500和转移装置300可以布置在第二方向94上。缓冲单元200可以设置在转移装置300的端部处。
在实施例中，液体处理装置400可以放置在转移装置300的两侧上，超临界单元500可以放置在转移装置300的两侧上，并且液体处理装置400可以放置成比超临界单元500更靠近缓冲单元200。在转移装置300的一侧上，液体处理装置400可以分别沿着第一方向92和第三方向96设置成A×B的阵列(A、B分别是大于1的自然数或1)。另外，在转移装置300的一侧上，超临界单元500可以分别沿着第一方向92和第三方向96设置成C×D的阵列(C、D分别是大于1的自然数或1)。不同于前述内容，只有液体处理装置400可以设置在转移装置300的一侧上，并且只有超临界单元500可以设置在另一侧上。
转移装置300具有转移机器人320。在转移装置300内，导轨340设置为使其长度沿着第一方向92延伸，并且转移机器人320可以设置为可在导轨340上移动。转移机器人320包括在其上放置衬底W的手322，并且手322可以设置为可前后移动，可以第三方向96作为轴线进行旋转，并且可沿着第三方向96移动。多个手122设置为竖直地分开放置，并且手122可以彼此独立地前后移动。
缓冲单元200具有在其上放置基板W的多个缓冲器220。缓冲器220可以设置为沿着第三方向96彼此分开放置。缓冲单元200具有开放的前侧和开放的后侧。前侧面向转向模块10，并且后侧面向转移装置300。转向机器人120可以通过前侧接近缓冲单元200，并且转移机器人320可以通过后侧接近缓冲单元200。
图2示出了图1中的液体处理装置400的实施例。参考图2，液体处理装置400具有壳体410、杯420、支撑单元440、液体供应单元460、提升单元480和控制器40。控制器40控制液体供应单元460、支撑单元440和提升单元480的操作。壳体410一般设置为矩形平行六面体形状。杯420、支撑单元440和液体供应单元460位于壳体410中。
杯420具有带开放的顶部部分的处理空间，并且在该处理空间内用液体处理基板W。支撑单元440将基板W支撑在处理空间内。液体供应单元460将液体供应到由支撑单元440支撑的基板W上。可以提供多种类型的液体并且相继地供应到基板W上。提升单元480调节杯420与支撑单元440之间的相对高度。
在实施例中，杯420具有多个收集碗422、424和426。收集碗422、424和426中的每一个具有收集空间来收集用于处理基板的液体。每个收集碗422、424和426设置为包围支撑单元440的环形形状。当执行液体处理过程时，通过基板W的旋转分散的处理液体通过每个收集碗422、424和426的入口422a、424a和426a流入收集空间中。在实施例中，杯420具有第一收集碗422、第二收集碗424和第三收集碗426。第一收集碗422被放置成包围支撑单元440，第二收集碗424被放置成包围第一收集碗422，并且第三收集碗426被放置成包围第二收集碗424。使液体流入第二收集碗424中的第二入口424a可以位于使液体流入第一收集碗422中的第一入口422a的上方，并且使液体流入第三收集碗426的第三入口426a可以位于第二入口424a的上方。
支撑单元440具有支撑板442和驱动轴444。支撑板442的上表面一般设置为圆形形状，并且可以具有大于基板W的直径。在支撑板442的中心处，设置支撑销442a以支撑基板W的底表面，并且支撑销442a的上端被设置为从支撑板442突出，使得基板W与支撑板442分开放置。卡盘销442b设置在支撑板442的边缘处。
卡盘销442b设置为从支撑板442向上突出，从而支撑基板W的侧面，使得当基板W旋转时，基板W不会脱离支撑单元440。驱动轴444由驱动构件446驱动，并且连接到基板W的底表面的中心并使支撑板442相对于其中心轴线旋转。
在实施例中，液体供应单元460具有第一喷嘴462、第二喷嘴464和第三喷嘴466。第一喷嘴462将第一液体供应到基板W上。第一液体可以是移除停留在基板W上的层或异物的液体。第二喷嘴464将第二液体供应到基板W上。第二液体可以在第三液体中很好地溶解。例如，第二液体可以在第三液体中比在第一液体中更好地溶解。第二液体可以中和供应在基板W上的第一液体。另外，第二液体可以中和第一液体，并且同时与第一液体相比，在第三液体中更好地溶解。
在实施例中，第二液体可以是水。第三喷嘴466将第三液体供应到基板W上。第三液体可以在超临界装置500中使用的超临界液体中很好地溶解。例如，与第二液体相比，第三液体可以在超临界装置500中使用的超临界流体中更好地溶解。在实施例中，第三液体可以是有机溶剂。有机溶剂可以是异丙醇(IPA)。在实施例中，超临界液体可以是二氧化碳。
第一喷嘴462、第二喷嘴464和第三喷嘴466由不同的臂461支撑，并且这些臂461可以独立地移动。任选地，第一喷嘴462、第二喷嘴464和第三喷嘴466可以安装在相同的臂上并且同时移动。
提升单元480竖直地移动杯420。杯420与基板W之间的相对高度通过杯420的竖直移动来改变。因此，收集处理液体的收集碗422、424和426根据供应到基板W的液体的类型而改变，因此液体可以被分开收集。不同于前述内容，杯420固定地安装，并且提升单元480可以竖直地移动支撑单元440。
图3至图4分别示出了图1中的超临界装置500的实施例。根据实施例，超临界装置500使用超临界流体来从基板W移除液体。根据一个实施例，基板W上的液体是异丙醇(IPA)。超临界装置500将超临界液体供应到基板上并且将基板W上的IPA溶解在超临界液体中，以从基板W移除IPA。
超临界装置500包括处理室520、液体供应线540、支撑单元580、驱动构件590和排气单元550。
处理室520提供在其中执行超临界处理的处理空间502。在一个示例中，处理室520可以设置为圆柱形形状。替代地，可以设置为矩形平行六面体形状。处理室520具有第一主体522和第二主体524。第一主体522和第二主体524进行组合以提供处理空间502。在一个示例中，当从顶部观察时，第一主体522设置为圆形形状。类似地，当从顶部观察时，第二主体524设置为圆形形状。在一个示例中，第一主体522设置在第二主体524的上方。在这种情况下，第一主体522和第二主体524可以竖直地打开和关闭。任选地，第一主体522和第二主体524可以设置在相同高度处。在这种情况下，第一主体522和第二主体524可以水平地打开和关闭。
在第一主体522和第二主体524断开联接以暴露处理空间502之后，将基板W带入或带出。驱动构件590使第一主体522或第二主体524上升或下降，使得处理室520变为打开状态或关闭状态。在一个示例中，驱动构件590可以设置为圆柱体。打开状态是在第一主体522和第二主体524断开联接以彼此分开放置时的状态，并且关闭状态是在第一主体522和第二主体524的接触表面彼此接触以联接在一起时的状态。换句话说，在打开状态，处理空间502对外部开放，并且在关闭状态，处理空间502被封闭。在一个示例中，驱动构件590使第一主体522或第二主体524提升或降低。
在一个示例中，在第一主体522中，可以形成与第一供应线542连接的第一排放孔525。液体可以通过第一排放孔525供应到处理空间502。在该示例中，在第二主体524中，可以形成与第二供应线562连接的第二排放孔526和与排气线552连接的排气孔527。任选地，处理室520可以仅设置有第一排放孔525或第二排放孔526。在一个示例中，加热器570设置在处理室520的壁的内部。加热器570对处理室520的处理空间502进行加热，使得供应到处理室520的内部空间中的液体保持超临界。在处理空间502的内部，由超临界液体形成气氛。
支撑单元580将基板W支撑在处理室520的处理空间502内。被带入处理室520的处理空间502中的基板W放置在支撑单元580上。例如，基板W由支撑单元580支撑，其中图案表面面向上方。在示例中，支撑单元580将基板W支撑在第二排放孔526的上方。在示例中，支撑单元580可以联接到第一主体522。任选地，支撑单元580可以联接到第二主体524。
另外，排气单元550联接到第二主体524。处理室520的处理空间502中的超临界液体通过排气单元550排到处理室520的外部。排气单元550包括排气线552和排气阀5521。排气阀5521安装在排气线552中，以调整处理空间502的排气和排气速率。
在处理期间，第一主体522和第二主体524紧密地附接，并且处理空间502从外部密封。
在一个示例中，第一主体522和第二主体524被提供为金属材料。例如，第一主体522和第二主体524可以被提供为不锈钢。在第一主体522和第二主体524的紧密接触期间，在第一主体522和第二主体524的接触表面上发生冲击和振动。因此，提供抗摩擦层510以减小第一主体522和第二主体524的接触表面上的撞击和振动。在一个示例中，抗摩擦层510在接触表面上设置为环形形状。在一个示例中，抗摩擦层510放置在第二主体524上。在一个示例中，抗摩擦层510被提供为聚酰亚胺(PI)。抗摩擦层510阻止第一主体522与第二主体524之间的直接接触。在一个示例中，抗摩擦层510是0.5mm至3mm厚。
图5示出了根据本发明构思的实施例的在处理室520形成粘合剂层4000。参考图5，在抗摩擦层510与第二主体524之间形成粘合剂层4000。抗摩擦层510和第二主体524进行粘结。在一个示例中，粘合剂层4000被提供为增加在被提供为金属材料的处理室520与抗摩擦层510之间的粘合强度的材料。在一个示例中，粘合剂层4000被提供为与金属材料高度粘合的材料。在一个示例中，粘合剂层4000可以被提供为与金属材料高度接触且具有优异的高温性能的材料。例如，粘合剂层4000可以被提供为丙烯酸材料。
在一个示例中，粘合剂层4000可以设置在形成于第一主体522或第二主体524处的凹槽处。在其中设置粘合剂层4000的凹槽可以在第一主体522和第二主体524的相对表面(即，接触表面)处形成。例如，粘合剂可以施加到在第二主体524处形成的凹槽。然后，具有凹槽的抗摩擦层510放置在所施加的粘合剂的顶部上。在一个示例中，所施加的粘合剂的宽度小于在第二主体524处形成的凹槽的宽度。任选地，粘合剂层4000可以设置在形成于第一主体522处的凹槽中。
如果第一主体522和第二主体524重复地打开和关闭，则粘合剂将部分地丢失或受污染。因此，移除现有的粘合剂层4000并且施加新的粘合剂。本发明构思的实施例使用粘合剂层移除单元来移除现有的粘合剂层4000。图6示出了根据本发明构思的实施例的超声波发生器600的形状，并且图7至图9分别示出了根据本发明构思的实施例的移除粘合剂层的方法。参考图6至图9，本发明构思的粘合剂层移除单元包括超声波发生器600和擦拭件700。
在一个示例中，超声波发生器600具有手柄610和振动发生器620。振动发生器620从手柄610延伸。操作员或用户可以抓握手柄610来处理超声波发生器600。振动发生器620包括产生超声波的振动器(未示出)。任选地，振动发生器620可以产生除了超声波外的频率的振动。在一个示例中，振动发生器620可以被设置为离手柄610越远宽度变得越窄且厚度变得越薄的形状。任选地，振动发生器620可以被设置为具有恒定宽度和厚度的形状。
参考图7至图9，使用超声波发生器600和擦拭件700来移除在处理室520中形成的粘合剂层4000。在一个示例中，擦拭件700包裹在振动发生器620周围。在一个示例中，擦拭件700被设置为浸泡在清洁液中。在一个示例中，清洁液可以被提供为有机溶剂。在一个示例中，清洁液可以包含可以溶解粘合剂的成分。例如，清洁液可以被提供为乙醇。
用于移除粘合剂层4000的方法如下。首先，当在处理基板之后，通过将第一主体522和第二主体524分开放置来打开室。然后，移除放置在第一主体522与第二主体524之间的接触表面处的抗摩擦层510。此后，当粘合剂层4000被暴露时，用浸泡在清洁液中的擦拭件700包裹超声波发生器600，并且操作员将擦拭件700紧密地接触粘合剂并推靠在其上。在一个示例中，擦拭件700包裹在振动发生器620周围。当操作员用擦拭件700推动粘合剂时，在振动发生器620处发生振动。由振动发生器620产生的振动经由充当媒介的擦拭件700传输到粘合剂层4000。因此，与在操作员用手移除粘合剂层4000时相比，可以更容易移除粘合剂。因此，可以减少现有的粘合剂层4000未被适当地移除且因此进入处理空间中而影响处理的问题。如图7至图9所示，操作员仅在一个方向上移动超声波发生器600。因此，可以减少在移除现有粘合剂层4000的过程中粘合剂凝聚在一起的问题。
在前述示例中，本发明构思的粘合剂层移除单元被示出为意图清洁设置在超临界装置500中的处理室520。然而，相反，本发明构思的粘合剂层移除单元也可以用于清洁其他物体以移除具有粘合剂性质的物质。
本发明构思的效果不限于上述效果，并且未提及的效果可以根据本说明书和附图而被本发明构思所涉及的领域的技术人员清楚地理解。
尽管直到现在一直在示出和描述本发明构思的优选实施例，但本发明构思不限于上述具体实施例，并且应注意，在不脱离权利要求书中要求的本发明构思的本质的情况下，本发明构思所涉及领域的普通技术人员可以不同地执行本发明构思，并且不应与本发明构思的技术精神或前景分开解释所做修改。

Claims (20)

1.一种用于移除在处理室中形成的粘合剂层的单元，所述单元包括：
超声波发生器；以及
擦拭件，所述擦拭件浸泡在清洁液中，
其中所述擦拭件被提供来包围所述超声波发生器。
2.根据权利要求1所述的单元，其中所述超声波发生器还包括手柄和振动发生器，所述振动发生器从所述手柄延伸并且产生超声波，在所述振动发生器中包括振动器，并且
其中所述擦拭件包围所述振动发生器。
3.根据权利要求1所述的单元，其中所述粘合剂层被提供为丙烯酸材料。
4.根据权利要求1所述的单元，其中所述清洁液被提供为有机溶剂。
5.根据权利要求1所述的单元，其中所述清洁液被提供为溶解所述粘合剂层的材料。
6.根据权利要求5所述的单元，其中所述清洁液被提供为乙醇。
7.根据权利要求1所述的单元，其中所述处理室被提供为金属材料。
8.根据权利要求1所述的单元，其中所述处理室包括：
第一主体和第二主体，所述第一主体和所述第二主体进行组合而具有用于处理基板的内部空间；
抗摩擦层，所述抗摩擦层在所述第一主体与所述第二主体之间的交界处形成；以及
所述粘合剂层，所述粘合剂层用于将所述抗摩擦层与所述第一主体或所述第二主体进行粘合，
其中所述抗摩擦层被提供为聚酰亚胺。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的单元，其中所述处理室使用超临界液体来干燥设置在所述处理室中的所述基板。
10.一种使用根据权利要求1所述的单元来移除粘合剂层的方法，所述方法包括：
用浸泡有所述清洁液的所述擦拭件包裹所述超声波发生器；以及
使所述擦拭件接触所述粘合剂层，同时向所述擦拭件提供超声波，以在一定方向上推动所述擦拭件。
11.根据权利要求10所述的移除粘合剂层的方法，其中所述超声波发生器还包括手柄和振动发生器，所述振动发生器从所述手柄延伸并且产生超声波，在所述振动发生器中包括振动器，并且
其中所述擦拭件包围所述振动发生器。
12.根据权利要求10所述的移除粘合剂层的方法，其中所述粘合剂层被提供为丙烯酸材料。
13.根据权利要求10所述的移除粘合剂层的方法，其中所述清洁液被提供为溶解所述粘合剂层的材料。
14.根据权利要求10所述的移除粘合剂层的方法，其中所述清洁液被提供为有机溶剂。
15.根据权利要求10所述的用于移除粘合剂层的方法，其中所述清洁液被提供为乙醇。
16.根据权利要求10所述的移除粘合剂层的方法，其中所述处理室被提供为金属材料。
17.根据权利要求10所述的移除粘合剂层的方法，其中所述处理室包括：
第一主体和第二主体，所述第一主体和所述第二主体进行组合而具有用于处理基板的内部空间；
抗摩擦层，所述抗摩擦层在所述第一主体与所述第二主体之间的交界处形成；以及
所述粘合剂层，所述粘合剂层用于将所述抗摩擦层与所述第一主体或所述第二主体进行粘合，
其中所述抗摩擦层被提供为聚酰亚胺。
18.根据权利要求10至权利要求17中任一权利要求所述的移除粘合剂层的方法，其中所述处理室使用超临界液体来干燥设置在所述处理室中的所述基板。
19.一种用于移除在处理室中形成的、被提供为丙烯酸材料的粘合剂层的方法，所述处理室包括：
第一主体和第二主体，所述第一主体和所述第二主体进行组合而具有用于处理基板的内部空间；
抗摩擦层，所述抗摩擦层在所述第一主体与所述第二主体之间的交界处形成；以及
所述粘合剂层，所述粘合剂层用于将所述抗摩擦层与所述第一主体或所述第二主体进行粘合，
其中所述第一主体和所述第二主体被提供为金属材料，所述抗摩擦层被提供为聚酰亚胺，并且所述粘合剂层被提供为丙烯酸材料，
所述方法包括：
用浸泡有所述清洁液的所述擦拭件包裹所述超声波发生器；以及
使所述擦拭件接触所述粘合剂层，同时向所述擦拭件提供超声波，以在一定方向上推动所述擦拭件。
20.根据权利要求19所述的用于移除粘合剂层的方法，其中所述清洁液被提供为溶解所述粘合剂层的材料。
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