CN114203538A - 冷却出气组件、冷却装置及激光退火设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种冷却出气组件、冷却装置及激光退火设备,涉及半导体技术领域。该冷却出气组件用于对激光退火设备中工艺腔室的密封盖进行冷却,包括匀流腔室,匀流腔室内围成匀流腔体,匀流腔体沿第一方向包括进气区、匀流区和出气区,匀流腔室与进气区相应的腔壁设有进气孔,匀流腔室与出气区相应的腔壁设有多个出气孔。该冷却装置包括上述冷却出气组件;该激光退火设备包括上述冷却装置。该冷却出气组件中匀流腔室的设置,能够使冷却气体均匀地从多个出气孔喷出,从而对密封盖的相应区域保持一致性较高的冷却效果,进而减少密封盖热变形甚至破裂对激光退火造成的不良影响,相应确保激光退火精度及退火效果。
Description
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,具体而言,涉及一种冷却出气组件、冷却装置及激光退火设备。
背景技术
半导体芯片制造过程中,部分工艺需要对沉积有金属层的晶圆进行激光退火处理,以使金属层与晶圆反应生成金属硅化物。退火过程中,晶圆一般置于工艺腔室内,激光器发射的激光束透过工艺腔室的密封盖对晶圆进行退火处理,密封盖的温度均匀性及热变形对整体工艺及工艺腔体的密封性有着较大影响,因此退火过程中,需要使用冷却装置对密封盖进行持续冷却处理,然而现有冷却装置对密封盖的冷却效果较差,无法保证密封盖的温度均匀性及密封性,进而无法保证激光退火工艺的精度及效果。
发明内容
本发明的目的包括提供一种冷却出气组件、冷却装置及激光退火设备,以解决现有冷却装置对密封盖的冷却效果较差,无法保证密封盖的温度均匀性及密封性,进而无法保证激光退火工艺的精度及效果的技术问题。
为解决上述问题,本发明提供一种冷却出气组件,用于对激光退火设备中工艺腔室的密封盖进行冷却,包括匀流腔室,所述匀流腔室内围成匀流腔体,所述匀流腔体沿第一方向包括进气区、匀流区和出气区,所述匀流腔室与所述进气区相应的腔壁设有进气孔,所述匀流腔室与所述出气区相应的腔壁设有多个出气孔。
可选地,所述匀流腔室包括盖板、底板和侧围板,所述侧围板围设于所述盖板与所述底板之间;
所述进气孔设于所述盖板与所述进气区相应的区域;和/或,所述出气孔设于所述侧围板与所述出气区相应的区域。
可选地,沿所述第一方向,所述侧围板背离所述进气区的围板段为条形板;
多个所述出气孔均设于所述条形板,且多个所述出气孔沿所述条形板的长度方向均匀间隔排布;和/或,所述进气孔位于所述盖板背离所述条形板的边缘区域。
可选地,所述盖板与所述底板平行设置,于所述盖板的延伸面,沿与所述第一方向垂直的第二方向,所述进气孔位于所述盖板的中部位置,所述进气孔连接有进气接头,所述进气接头与所述盖板的延伸面之间的夹角为85°-90°。
可选地,所述匀流腔体内设有过滤层,所述过滤层隔挡于所述进气孔与所述出气孔之间。
可选地,所述过滤层位于所述匀流区,且所述过滤层的延伸面与所述第一方向垂直设置。
可选地,所述匀流腔室与所述进气区及所述匀流区相应区域的拐角处形成倾斜导流角;
或,所述匀流腔室与所述进气区及所述匀流区相应的区域平滑过渡连接。
本发明还提供了一种冷却装置,包括供气组件、温度调节组件、温度检测组件、处理器和上述冷却出气组件,且所述温度检测组件、所述温度调节组件及所述供气组件均与所述处理器连接;所述冷却出气组件的进气孔与所述供气组件通过进气管路连接,所述温度调节组件与所述供气组件或所述进气管路连接,用于调节流经气体的温度;所述温度检测组件用于检测密封盖的温度。
本发明还提供了一种激光退火设备,包括工作台、工艺腔室、加热组件和上述冷却装置,所述工艺腔室包括设于所述工作台的工艺腔体和封盖于所述工艺腔体顶部开口的密封盖,所述加热组件的加热部位于所述工艺腔体内;所述冷却装置的冷却出气组件设于所述工作台,且所述冷却出气组件的出气孔朝向所述密封盖;所述冷却装置的温度检测组件设于所述密封盖。
可选地,所述加热部的底部连接有延伸筒,所述延伸筒的底端作为进气端伸出所述工艺腔体的腔底壁,所述延伸筒位于所述工艺腔体内的筒壁设有输气孔,所述工艺腔体的腔侧壁设有排气孔。
可选地,所述排气孔位于所述工艺腔体的顶部区域,所述输气孔位于所述工艺腔体的底部区域。
本发明提供的冷却出气组件中匀流腔室的设置,进气孔和出气孔沿气流方向(即第一方向)位于相对的两侧区域,匀流腔体的匀流区能够对进入进气区的冷却气体进行一次匀流处理,以提高其流动均匀性成为匀流体;出气区能够对匀流体进行二次匀流处理,以进一步提高其流动均匀性,使其能够均匀地从多个出气孔喷出,从而对密封盖的相应区域保持一致性较高的冷却效果,进而实现对密封盖的均匀冷却,减少密封盖热变形甚至破裂对激光退火造成的不良影响,相应确保激光退火精度及退火效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的激光退火设备中冷却出气组件安装于工作台的示意图;
图2为图1中工作台的剖视示意图;
图3为本发明提供的激光退火设备中加热组件的示意图;
图4为本发明提供的冷却出气组件的示意图;
图5为图4中冷却出气组件中去除部分盖板的示意图;
图6为本发明提供的冷却出气组件中匀流腔体的内部示意图,其中,虚线表示进气区、匀流区和出气区的分界线,箭头表示匀流腔体内冷却气体的流向。
附图标记说明:
10-工作台;20-工艺腔室;21-工艺腔体;22-密封盖;23-排气孔;30-加热组件;31-加热部;32-延伸筒;33-进气端;34-输气孔;40-冷却出气组件;100-匀流腔室;110-匀流腔体;111-进气区;112-匀流区;113-出气区;120-盖板;121-进气孔;130-底板;140-侧围板;141-条形板;142-出气孔;150-进气接头;160-倾斜导流角;200-过滤层。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
本实施例提供一种冷却出气组件40,如图4-图6所示,用于对激光退火设备中工艺腔室20的密封盖22进行冷却,包括匀流腔室100,匀流腔室100内围成匀流腔体110,匀流腔体110沿第一方向包括进气区111、匀流区112和出气区113,匀流腔室100与进气区111相应的腔壁设有进气孔121,匀流腔室100与出气区113相应的腔壁设有多个出气孔142。
本实施例提供的冷却出气组件40,包括作为气体流通通道并对流经气流进行匀流处理的匀流腔室100,沿第一方向,匀流腔室100相对的两侧区域分别设有用于进气的进气孔121和用于出气的出气孔142。使用时,进气孔121与外部的供气组件通过进气管路连接,将冷却出气组件40的出气孔142朝向激光退火设备中工艺腔室20的密封盖22,需要对密封盖22进行冷却处理时,开启供气组件,供气组件通过进气管路和进气孔121向匀流腔体110的进气区111输入冷却气体,由于进气区111、匀流区112和出气区113的流通面积均大于进气孔121的流通面积,进入进气区111的冷却气体会沿第一方向向匀流区112扩散流动,扩散流动的过程中,冷却气体的流速逐渐减小,形成整体流速较为均匀的匀流体,匀流区112的匀流体进一步沿第一方向朝向出气区113流动,且流动的过程中,出气区113能够对匀流体进行进一步匀流处理,使得进入出气区113的匀流体的流速更加均匀,随后,进气区111的匀流体经出气区113腔壁的多个出气孔142均匀喷出,均匀喷出的冷却气体对密封盖22相应区域的冷却效果一致性较高,从而提高冷却出气组件40对密封盖22的冷却均匀性,减少冷却出气组件40的不同出气孔142出气流速不同,导致对密封盖22不同区域的冷却均匀性较差,密封盖22发生热变形影响激光退火精度以及对工艺腔体21密封效果情况的发生,相应确保激光退火退火精度及退火效果。
即该冷却出气组件40中匀流腔室100的设置,进气孔121和出气孔142沿气流方向(即第一方向)位于相对的两侧区域,匀流腔体110的匀流区112能够对进入进气区111的冷却气体进行一次匀流处理,以提高其流动均匀性成为匀流体;出气区113能够对匀流体进行二次匀流处理,以进一步提高其流动均匀性,使其能够均匀地从多个出气孔142喷出,从而对密封盖22的相应区域保持一致性较高的冷却效果,进而实现对密封盖22的均匀冷却,减少密封盖22热变形甚至破裂对激光退火造成的不良影响,相应确保激光退火精度及退火效果。
本实施例中,如图4和图5所示,匀流腔室100包括盖板120、底板130和侧围板140,侧围板140围设于盖板120与底板130之间,进气孔121设于盖板120与进气区111相应的区域。这里是匀流腔室100的一种具体形式,进气孔121位于盖板120,则供气组件输送的冷却气体经进气孔121自上向下流入匀流腔体110的进气区111,冷却气体进入进气区111的流向与第一方向相异,进入进气区111的冷却气体在底板130和侧围板140的阻碍作用下发生流向转变,随后才能沿第一方向流向匀流区112和出气区113,其中,冷却气体于进气区111内发生流向转变的过程中,能够沿各个方向向进气区111扩散,随后经进气区111沿第一方向流向匀流区112和出气区113,从而确保冷却气体对匀流区112和出气区113的有效填充,相应确保匀流区112和出气区113对冷却气体的匀流作用,进而进一步提高出气区113的冷却气体经各个出气孔142喷出气体的均匀性。
可选地,本实施例中,出气孔142设于侧围板140与出气区113相应的区域。出气孔142位于侧围板140,出气孔142的流向与第一方向的朝向一致,出气区113的冷却气体随后继续沿第一方向或发生较小的角度转向即可经出气孔142自内向外喷出,从而减少进气区111的冷却气体经出气孔142喷出时流向转变角度较大影响其流速及均匀性情况的发生,相应进一步提高冷却出气组件40出气的均匀性,并确保冷却出气组件40对密封盖22的冷却均匀性,进而提高密封盖22的温度均匀性,减少其热变形对退火精度及效果的不良影响;此外,冷却气体的流量较大时,出气孔142的流向与第一方向的朝向一致,还能够有效减少冷却气体流动产生的噪音及振动,从而提高激光退火精度,并减少运行过程对周围设备的影响。
本实施例中,沿第一方向,如图4-图6所示,侧围板140背离进气区111的围板段为条形板141,多个出气孔142均设于条形板141,且多个出气孔142沿条形板141的长度方向均匀间隔排布。一方面,出气孔142的流向与第一方向相同,出气区113的冷却气体无需发生流向转变即可直接经出气孔142向外喷出,从而进一步减少进气区111的冷却气体经出气孔142喷出时刘相转变对其流速及均匀性造成的影响,相应进一步提高冷却气体经出气孔142喷出的均匀性,并进而提高冷却出气组件40对密封盖22的冷却均匀性。
本实施例中,如图4和图5所示,进气孔121位于盖板120背离条形板141的边缘区域。侧围板140与条形板141相对的围板段为进气围板段,进气孔121位于盖板120靠近进气围板段的边缘区域,冷却气体经进气孔121流入进气区111靠近进气围板段的区域,进气围板段能够阻碍冷却气体朝向背离第一方向的一侧流动,即冷却气体能够在进气围板段和底板130的阻碍作用下发生流向转变,沿第一方向向匀流区112和出气区113流动,从而减少进气孔121位于盖板120靠近进气区111的区域,导致进入进气区111的部分冷却气体在底板130作用下首先沿第一方向的反向流向进气围板段,随后才转向流向进气区111,在进气孔121与进气围板段形成涡流影响冷却气体流动稳定性和均匀性情况的发生,相应提高匀流腔体110对冷却气体的匀流作用,进而进一步提高冷区出气组件喷出冷却气体的均匀性,以及喷出的冷却气体对密封盖22的冷却均匀性。
具体地,本实施例中,如图4-图6所示,盖板120与底板130平行设置,于盖板120的延伸面,沿与第一方向垂直的第二方向,进气孔121位于盖板120的中部位置,进气孔121连接有进气接头150,进气接头150与盖板120的延伸面之间的夹角为85°-90°。冷却气体经进气孔121流入进气区111后,在底板130的阻碍导流作用下,部分冷却气体沿第二方向流向匀流腔体110的第一侧,另一部分冷却气体沿第二方向的反向流向匀流腔体110的第二侧,由于第二方向与第一方向近似垂直,且进气孔121位于盖板120沿第二方向的中部位置,则两部分冷却气体的流量近似相等,就整体而言,经进气孔121流入进气区111的冷却气体近似呈对称的扩口状扩散流至匀流区112,从而提高冷却气体对进气区111及匀流区112的填充均匀度,确保整个匀流腔体110对冷却气体的匀流作用,减少冷却气体进入进气区111及匀流区112不同区域的流量差距较大,降低匀流腔体110匀流效果情况的发生。此外,进气接头150外凸于匀流腔室100,可以用于与进气管路的连接,以提高冷却出气组件40与进气管路的连接便捷度。较佳地,进气接头150与盖板120之间的夹角可以为90°。
可选地,本实施例中,匀流腔体110内设有过滤层200,过滤层200隔挡于进气孔121与出气孔142之间。冷却气体经进气孔121流入匀流腔体110并经出气孔142流出,过滤层200隔挡于进气孔121与出气孔142之间,则流经匀流腔体110的冷却气体必然需要流经过滤层200,过滤层200能够对流经的冷却气体中的杂质进行过滤处理,以提高流入出气区113及经出气孔142喷出冷却气体的洁净度,从而减少冷却出气组件40对密封盖22进行冷却过程中对其造成的污染,相应确保密封盖22的正常使用。此外,冷却气体流经过滤层200的过滤孔的过程中,过滤孔能够对流速较快的冷却气体的流速起到削弱作用,并对不同区域的冷却气体的流量起到均衡分配作用,从而提高进入出气区113的冷却气体的流动均匀性,相应提高经多个出气孔142喷出冷却气体的均匀性,进而确保冷却出气组件40对密封盖22的冷却均匀性。
具体地,本实施例中,如图6所示,过滤层200位于匀流区112,且过滤层200的延伸面与第一方向垂直设置。如上文所述,空间较大的匀流区112能够对进入匀流腔体110内的冷却气体起到匀流作用,在此基础上,过滤层200位于匀流区112,且过滤层200的延伸面与冷却气体的流向(第一方向)近似垂直,即冷却气体的流向与过滤孔的轴向近似一致,冷却气体流经过滤层200的过程中流向变化较小,且冷却气体流经过滤孔时产生的涡流、噪音更小,相应地,过滤层200对冷却气体的匀流效果及静音效果更佳,从而进一步提高进入出气区113的冷却气体的流动均匀性,相应进一步提高经多个出气孔142喷出冷却气体的均匀性,进而确保冷却出气组件40对密封盖22的冷却均匀性。
可选地,本实施例中,如图4-图6所示,匀流腔室100与进气区111及匀流区112相应区域的拐角处形成倾斜导流角160。经进气孔121流入进气区111的冷却气体中,部分冷却气体在侧围板140的导流作用下沿侧围板140流向两侧,匀流腔室100与进气区111及匀流区112相应区域的拐角处形成倾斜导流角160,相应地,侧围板140在拐角处形成倾斜导流面,则冷却气体流至拐角处时,能够在倾斜导流面的导流作用下较为平缓地流入进气区111,从而减少冷却气体流经拐角处时在拐角处形成涡流,影响其流动稳定性及均匀度,进而影响匀流腔体110对其匀流效果情况的发生。具体地,如图4和图5所示,盖板120和底板130可以相应为矩形,位于第一方向上游的两个拐角处均设有倾斜导流角160,以减少拐角的弯转程度,减少冷却气体在该处形成的涡流。
除在拐角处设置倾斜导流角160以提高冷却气体流动稳定性外,匀流腔室100与进气区111及匀流区112相应的区域也可以平滑过渡连接。侧围板140与进气区111及稳定区相应区域的围板段为平滑的弧形板,进入进气区111的冷却气体在弧形板的导流作用下沿其平滑内壁面流向进气区111,并在弧形板的导流作用下转向沿第一方向流动,从而有效减少甚至避免冷却气体流经进气区111及匀流区112形成涡流的几率,相应进一步提高匀流腔体110对冷却气体的匀流效果,提高冷却出气组件40喷出冷却气体的均匀度。
本实施例还提供一种冷却装置,包括供气组件、温度调节组件、温度检测组件、处理器和上述冷却出气组件40,且温度检测组件、温度调节组件及供气组件均与处理器连接;冷却出气组件40的进气孔121与供气组件通过进气管路连接,温度调节组件与供气组件或进气管路连接,用于调节流经气体的温度;温度检测组件用于检测密封盖22的温度。
本实施例提供的冷却装置,包括用于作为冷却气体输送源的供气组件、用于对冷却气体进行温度调节的温度调节组件、用于对冷却气体进行匀流处理的冷却出气组件40、用于对工艺腔室20的密封盖22进行温度检测的温度检测组件以及用于对上述组件进行智能控制调节的处理器。
本实施例还提供一种激光退火设备,如图1所示,包括工作台10、工艺腔室20、加热组件30和上述冷却装置,工艺腔室20包括设于工作台10的工艺腔体21和封盖于工艺腔体21顶部开口的密封盖22,加热组件30的加热部31位于工艺腔体21内;冷却装置的冷却出气组件40设于工作台10,且冷却出气组件40的出气孔142朝向密封盖22;冷却装置的温度检测组件设于密封盖22。
本实施例提供的冷却装置应用于激光退火设备中,激光退火设备使用时,密封盖22封盖工艺腔体21形成工艺腔室20,晶圆置于加热部31上,激光退火设备的激光器透过密封盖22对晶圆进行激光退火处理;退火过程中,供气组件通过进气管路向冷却出气组件40输送冷却气体,冷却出气组件40对流经其内的冷却气体进行匀流处理后经出气孔142向密封盖22喷出冷却气体,冷却气体对密封盖22进行冷却降温;冷却过程中,温度检测组件实时检测密封盖22的温度,并将密封盖22相关的温度信号传递至处理器,当密封盖22温度高于设定阈值时,处理器相应控制供气组件调大冷却气体的输送流量、控制温度调节组件降低冷却气体的温度,以提高冷却装置对密封盖22的冷却降温效果,以确保密封盖22处于均匀且较佳的温度范围,保证其正常工作。则上述设置,能够实现冷却装置对密封盖22的高精度冷却降温以及智能控制,从而提高冷却装置及激光退火设备的使用便捷度及温度调节精确度,确保激光退火设备的正常运行。
本实施例中,如图2和图3所示,加热部31的底部连接有延伸筒32,延伸筒32的底端作为进气端33伸出工艺腔体21的腔底壁,延伸筒32位于工艺腔体21内的筒壁设有输气孔34,工艺腔体21的腔侧壁设有排气孔23。延伸筒32用于向工艺腔体21内输送惰性气体,使用时,可以将延伸筒32的底端与外部惰性气源接通,惰性气体经延伸筒32的底端向上流至输气孔34,然后经输气孔34流入工艺腔体21内,工艺腔体21内的原始气体在惰性气体的挤压作用下经排气孔23排出,从而使得工艺腔体21内保持惰性氛围。其中,延伸筒32在作为加热部31的支撑基台的基础上,还能够作为惰性气体的输送管路,一物两用,从而提高激光退火设备的结构简化性。
较佳地,如图2所示,延伸筒32可以位于工艺腔体21的中部位置,输气孔34可以为多个,多个输气孔34沿延伸筒32的周向间隔排布,延伸筒32内的惰性气体能够经输气孔34同时向工艺腔体21的四周流出,从而全面地将工艺腔体21内的原始气体赶出,从而提高工艺腔体21内形成惰性氛围的效率,并能够保证工艺腔体21内全面良好的惰性氛围质量,进而提高激光退火设备的运行效率,并保证其退火质量。
本实施例中,如图2所示,排气孔23位于工艺腔体21的顶部区域,输气孔34位于工艺腔体21的底部区域。外部惰性气源通过延伸筒32向工艺腔体21内输送惰性气体时,惰性气体经输气孔34流入工艺腔体21的底部区域,随着惰性气体的持续输入,工艺腔体21内的惰性气体自工艺腔体21的底部区域逐渐向上填充,相应挤压工艺腔体21内的原始气体向上流动并经顶部区域的排气孔23排出,则输气孔34及排气孔23的位置分布与惰性气体及原始气体的流动方向一致,能够有效且全面地将工艺腔体21底部死区的原始气体排出,从而进一步提高工艺腔体21内形成惰性氛围的效率,并能够保证工艺腔体21内全面良好的惰性氛围质量。
最后,还需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (11)
1.一种冷却出气组件,用于对激光退火设备中工艺腔室(20)的密封盖(22)进行冷却,其特征在于,包括匀流腔室(100),所述匀流腔室(100)内围成匀流腔体(110),所述匀流腔体(110)沿第一方向包括进气区(111)、匀流区(112)和出气区(113),所述匀流腔室(100)与所述进气区(111)相应的腔壁设有进气孔(121),所述匀流腔室(100)与所述出气区(113)相应的腔壁设有多个出气孔(142)。
2.根据权利要求1所述的冷却出气组件,其特征在于,所述匀流腔室(100)包括盖板(120)、底板(130)和侧围板(140),所述侧围板(140)围设于所述盖板(120)与所述底板(130)之间;
所述进气孔(121)设于所述盖板(120)与所述进气区(111)相应的区域;和/或,所述出气孔(142)设于所述侧围板(140)与所述出气区(113)相应的区域。
3.根据权利要求2所述的冷却出气组件,其特征在于,沿所述第一方向,所述侧围板(140)背离所述进气区(111)的围板段为条形板(141);
多个所述出气孔(142)均设于所述条形板(141),且多个所述出气孔(142)沿所述条形板(141)的长度方向均匀间隔排布;和/或,所述进气孔(121)位于所述盖板(120)背离所述条形板(141)的边缘区域。
4.根据权利要求2所述的冷却出气组件,其特征在于,所述盖板(120)与所述底板(130)平行设置,于所述盖板(120)的延伸面,沿与所述第一方向垂直的第二方向,所述进气孔(121)位于所述盖板(120)的中部位置,所述进气孔(121)连接有进气接头(150),所述进气接头(150)与所述盖板(120)的延伸面之间的夹角为85°-90°。
5.根据权利要求1-4任一项所述的冷却出气组件,其特征在于,所述匀流腔体(110)内设有过滤层(200),所述过滤层(200)隔挡于所述进气孔(121)与所述出气孔(142)之间。
6.根据权利要求5所述的冷却出气组件,其特征在于,所述过滤层(200)位于所述匀流区(112),且所述过滤层(200)的延伸面与所述第一方向垂直设置。
7.根据权利要求1-4任一项所述的冷却出气组件,其特征在于,所述匀流腔室(100)与所述进气区(111)及所述匀流区(112)相应区域的拐角处形成倾斜导流角(160);
或,所述匀流腔室(100)与所述进气区(111)及所述匀流区(112)相应的区域平滑过渡连接。
8.一种冷却装置,其特征在于,包括供气组件、温度调节组件、温度检测组件、处理器和权利要求1-7任一项所述的冷却出气组件(40),且所述温度检测组件、所述温度调节组件及所述供气组件均与所述处理器连接;所述冷却出气组件(40)的进气孔(121)与所述供气组件通过进气管路连接,所述温度调节组件与所述供气组件或所述进气管路连接,用于调节流经气体的温度;所述温度检测组件用于检测密封盖(22)的温度。
9.一种激光退火设备,其特征在于,包括工作台(10)、工艺腔室(20)、加热组件(30)和权利要求8所述的冷却装置,所述工艺腔室(20)包括设于所述工作台(10)的工艺腔体(21)和封盖于所述工艺腔体(21)顶部开口的密封盖(22),所述加热组件(30)的加热部(31)位于所述工艺腔体(21)内;所述冷却装置的冷却出气组件(40)设于所述工作台(10),且所述冷却出气组件(40)的出气孔(142)朝向所述密封盖(22);所述冷却装置的温度检测组件设于所述密封盖(22)。
10.根据权利要求9所述的激光退火设备,其特征在于,所述加热部(31)的底部连接有延伸筒(32),所述延伸筒(32)的底端作为进气端(33)伸出所述工艺腔体(21)的腔底壁,所述延伸筒(32)位于所述工艺腔体(21)内的筒壁设有输气孔(34),所述工艺腔体(21)的腔侧壁设有排气孔(23)。
11.根据权利要求10所述的激光退火设备,其特征在于,所述排气孔(23)位于所述工艺腔体(21)的顶部区域,所述输气孔(34)位于所述工艺腔体(21)的底部区域。
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CN116411343B (zh) * | 2023-06-12 | 2023-12-29 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 一种反应设备、半导体镀膜设备及其镀膜方法 |
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