CN114141936A - 一种显示基板、其制作方法及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示基板、其制作方法及显示装置，包括：驱动背板、光学模组和在二者之间的绝缘胶层，其中驱动背板包括衬底基板和在衬底基板上的多个连接电极；连接电极包括相互独立的第一连接电极和第二连接电极；光学模组包括与多个连接电极一一对应设置的多个微发光二极管；微发光二极管包括发光部，及在发光部同侧间隔设置且分别与发光部电连接的第一电极和第二电极；光学模组和驱动背板至少之一还包括导电纳米颗粒；微发光二极管的第一电极通过导电纳米颗粒与对应连接电极的第一连接电极电连接，微发光二极管的第二电极通过导电纳米颗粒与对应连接电极所含的第二连接电极电连接；绝缘胶层用于固定对应设置的微发光二极管与连接电极。

Description

一种显示基板、其制作方法及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板、其制作方法及显示装置。
背景技术
近年来众多面板厂商、发光二极管(LED)芯片厂商和新型公司纷纷布局LED显示产品，LED显示技术有望成为继液晶(LCD)和有机电致发光(OLED)显示技术之后的新型显示技术。相比于LCD和OLED显示技术，LED显示技术在色彩还原、显示亮度以及功耗上有着明显的优势，同时LED显示子像素的尺寸可以达到几微米大小，能够在保证高亮度的同时实现超高分辨率(PPI)显示产品。目前LED显示存在的技术瓶颈包括巨量转移技术、键合技术以及修复技术等，其中键合技术是指迷你发光二极管/微发光二极管(Mini/Micro LED)芯片与驱动背板(BP)之间的连接技术，现在主要采用的技术包括锡膏(SAP)、共晶键合和异方性导电胶(ACF)等，然而随着Micro LED芯片的尺寸减小到几微米到十几微米尺寸时，上述键合技术在良率以及成本上存在较大的问题。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供一种显示基板、其制作方法及显示装置，用以解决现有技术中存在的小尺寸微发光二极管的键合良率和成本等技术问题。
因此，本发明实施例提供的一种显示基板，包括：
驱动背板，所述驱动背板包括衬底基板，以及位于所述衬底基板上的多个连接电极；所述连接电极包括相互独立的第一连接电极和第二连接电极；
光学模组，所述光学模组包括多个微发光二极管；所述微发光二极管包括：发光部，以及在所述发光部同侧间隔设置且分别与所述发光部电连接的第一电极和第二电极；所述光学模组和所述驱动背板至少之一还包括导电纳米颗粒；所述多个微发光二极管与所述多个连接电极一一对应设置，所述微发光二极管所含第一电极通过所述导电纳米颗粒与对应设置的所述连接电极所含第一连接电极电连接，所述微发光二极管所含第二电极通过所述导电纳米颗粒与对应设置的所述连接电极所含第二连接电极电连接；
绝缘胶层，位于所述驱动背板与所述光学模组之间，所述绝缘胶层用于固定对应设置的所述微发光二极管与所述连接电极。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述第一连接电极和所述第二连接电极背离所述衬底基板的一侧，且所述导电纳米颗粒在所述衬底基板上的正投影位于所述第一连接电极的正投影和所述第二连接电极的正投影内。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述导电纳米颗粒位于所述第一电极和所述第二电极背离所述发光部的一侧，且所述导电纳米颗粒在所述发光部所在平面上的正投影位于所述第一电极的正投影和所述第二电极的正投影内。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述绝缘胶层整面设置。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述导电纳米颗粒的材料为金、银、镍、铂、铜和铝其中之一或任意组合。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，包括：
制作一驱动背板和一光学模组；其中，
所述驱动背板包括衬底基板，以及位于所述衬底基板上的多个连接电极；所述连接电极包括相互独立的第一连接电极和第二连接电极；所述光学模组包括多个微发光二极管；所述微发光二极管包括：发光部，以及在所述发光部同侧间隔设置且分别与所述发光部电连接的第一电极和第二电极；所述驱动背板和所述光学模组至少之一还包括导电纳米颗粒；所述多个微发光二极管与所述多个连接电极一一对应设置，所述微发光二极管的第一电极通过所述导电纳米颗粒与对应设置的所述连接电极的第一连接电极电连接，所述微发光二极管的第二电极通过所述导电纳米颗粒与对应设置的所述连接电极所含第二连接电极电连接；
采用绝缘胶层固定对应设置的所述微发光二极管与所述连接电极。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，制作一驱动背板，具体包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成多个连接电极，其中，所述连接电极包括相互独立的第一连接电极和第二连接电极；
在各所述连接电极所在层上形成一层金属膜；
在所述金属膜上形成一层光刻胶，并对所述光刻胶进行曝光、显影后，保留所述第一连接电极和所述第二连接电极所在区域的所述光刻胶；
以所述光刻胶为遮挡，对所述金属膜进行刻蚀，保留位于所述第一连接电极和所述第二连接电极所在区域的所述金属膜；
剥离所述光刻胶，并对保留的所述金属膜进行退火处理，形成位于所述第一连接电极和所述第二连接电极所在区域的导电纳米颗粒。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，制作一光学模组，具体包括：
提供一蓝宝石衬底，并在所述蓝宝石衬底上形成多个微发光二极管，其中所述微发光二极管包括：发光部，以及在所述发光部的同侧间隔设置且分别与所述发光部电连接的第一电极和第二电极；
在所述第一电极和所述第二电极所在层上形成一层金属膜；
对所述金属膜进行退火处理，形成一层导电纳米颗粒；
在所述导电纳米颗粒所在层上形成一层光刻胶，并对所述光刻胶进行曝光、显影后，保留所述第一电极和所述第二电极所在区域的所述光刻胶；
以保留的所述光刻胶为遮挡，对所述导电纳米颗粒所在层进行刻蚀，保留位于所述第一电极和所述第二电极所在区域的所述导电纳米颗粒；
剥离所述第一电极和所述第二电极所在区域的所述光刻胶；
剥离所述蓝宝石衬底。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，对所述金属膜进行退火处理，形成导电纳米颗粒，具体包括：
在惰性氛围内，将所述金属膜置于100℃-400℃的温度下进行退火处理10s-30min，使得所述金属膜自组装成导电纳米颗粒。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，形成一层金属膜，具体包括：形成一层厚度为5nm-1000nm的金属膜。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述显示基板。
本发明有益效果如下：
本发明实施例提供的显示基板、其制作方法及显示装置，包括：驱动背板，驱动背板包括衬底基板，以及位于衬底基板上的多个连接电极；连接电极包括相互独立的第一连接电极和第二连接电极；光学模组，光学模组包括多个微发光二极管；微发光二极管包括：发光部，以及在发光部同侧间隔设置且分别与发光部电连接的第一电极和第二电极；光学模组和驱动背板至少之一还包括导电纳米颗粒；多个微发光二极管与多个连接电极一一对应设置，微发光二极管所含第一电极通过导电纳米颗粒与对应设置的连接电极所含第一连接电极电连接，微发光二极管所含第二电极通过导电纳米颗粒与对应设置的连接电极所含第二连接电极电连接；绝缘胶层，位于驱动背板与光学模组之间，绝缘胶层用于固定对应设置的微发光二极管与连接电极。在本发明中，通过导电纳米颗粒实现微发光二极管所含第一电极与对应设置的连接电极所含第一连接电极的电连接，以及微发光二极管所含第二电极与对应设置的连接电极所含第二连接电极的电连接，且绝缘胶层实现了对相应连接电极与微发光二极管的固定作用，因此导电纳米颗粒结合绝缘胶层的键合工艺，避免了出现电极漏固的情况，提高了良率；另外仅增加了一道在驱动背板和/或光学模组上的键合区域制作导电纳米颗粒的简便工艺，成本可控；再者，导电纳米颗粒的纳米级粒径较小、密度较高，可以更好地应对微米级别电极之间的电连接，使得小尺寸微发光二极管产品的键合精度和导电率更好。
附图说明
图1为本发明实施例提供的显示基板中一组对应设置的微发光二极管与连接电极的电连接关系示意图；
图2至图28分别为本发明实施例提供的显示基板在制作过程中的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。需要注意的是，附图中各图形的尺寸和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。并且自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“内”、“外”、“上”、“下”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
本发明实施例提供的一种显示基板，如图1所示，包括：
驱动背板01，驱动背板01包括衬底基板101，以及位于衬底基板101上的多个连接电极102；连接电极102包括相互独立的第一连接电极1021和第二连接电极1022；
光学模组02，光学模组02包括多个微发光二极管201；微发光二极管201包括：发光部2011，以及在发光部2011同侧间隔设置且分别与发光部2011电连接的第一电极2012和第二电极2013；光学模组02和驱动背板01至少之一还包括导电纳米颗粒103；多个微发光二极管201与多个连接电极102一一对应设置，微发光二极管201所含第一电极2012通过导电纳米颗粒103与对应设置的连接电极102所含第一连接电极1021电连接，微发光二极管201所含第二电极2023通过导电纳米颗粒103与对应设置的连接电极102所含第二连接电极1022电连接；
绝缘胶层03，位于驱动背板01与光学模组02之间，绝缘胶层03用于固定对应设置的微发光二极管201与连接电极102。
在本发明实施例提供的上述显示基板中，通过导电纳米颗粒103实现微发光二极管201所含第一电极2012与对应设置的连接电极102所含第一连接电极1021的电连接，以及微发光二极管201所含第二电极2013与对应设置的连接电极102所含第二连接电极1022的电连接，且绝缘胶层03实现了对相应连接电极102与微发光二极管201的固定作用，因此导电纳米颗粒103结合绝缘胶层03的键合工艺，避免了出现电极漏固的情况，提高了良率；另外仅增加了一道在驱动背板01和/或光学模组02上的键合区域制作导电纳米颗粒103的简便工艺，成本可控；再者，导电纳米颗粒103的纳米级粒径较小、密度较高，可以更好地应对微米级别(例如1μm-50μm)电极之间的电连接，使得小尺寸微发光二极管201产品的键合精度和导电率更好。
可选地，在本发明实施例提供的上述显示基板中，为有效控制制作成本，可以在驱动背板01和光学模组02其中之一上制作导电纳米颗粒103。具体而言：在导电纳米颗粒103位于驱动背板01上的情况下，导电纳米颗粒103具体位于第一连接电极1021和第二连接电极1022背离衬底基板101的一侧，且导电纳米颗粒103在衬底基板上的正投影位于第一连接电极的正投影和第二连接电极的正投影内(即导电纳米颗粒103仅位于第一连接电极1021和第二连接电极1022所在的键合区域)；在导电纳米颗粒103位于光学模组02上的情况下，导电纳米颗粒103具体位于第一电极2012和第二电极2013背离发光部2011的一侧，且导电纳米颗粒103在发光部2011所在平面上的正投影位于第一电极2012的正投影和第二电极2013的正投影内(即导电纳米颗粒103仅位于第一电极2012和第二电极2013所在的键合区域)。
可选地，在本发明实施例提供的上述显示基板中，绝缘胶层03可以仅位于键合区域，也可以整面设置。较佳地，为实现较好的固定效果、以及防止电极被氧化，宜整面设置绝缘胶层03。示例性的，绝缘胶层03可以为热固化胶或紫外(UV)固化胶。
可选地，在本发明实施例提供的上述显示基板中，为增强导电率，导电纳米颗粒103的材料可以为金(Au)、银(Ag)、镍(Ni)、铂(Pt)、铜(Cu)和铝(Al)其中之一或任意组合。导电纳米颗粒103的形状为球形、或近似为球形，在此不做限定。
一般地，在本发明实施例提供的上述显示基板中，如图1所示，驱动背板01还可以包括晶体管104、缓冲层105、栅极绝缘层106、第一层间绝缘层107、第二层间绝缘层108、平坦层109、电平信号走线110；其中，晶体管104的漏极通过贯穿平坦层109的过孔与第一连接电极1021电连接；电平信号走线110与晶体管104的漏极同层设置，且通过贯穿平坦层109的过孔与第二连接电极1022电连接。另外，电平信号走线110一般提供低电平信号(例如VSS信号)，此时第二电极2013为阴极，第一电极2012为阳极。
基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法，由于该制作方法解决问题的原理与上述显示基板解决问题的原理相似，因此，本发明实施例提供的该显示基板的实施可以参见本发明实施例提供的上述制作方法的实施，重复之处不再赘述。
具体地，本公开实施例提供的一种显示基板的制作方法，包括：
制作一驱动背板和一光学模组；其中，
驱动背板包括衬底基板，以及位于衬底基板上的多个连接电极；连接电极包括相互独立的第一连接电极和第二连接电极；光学模组包括多个微发光二极管；微发光二极管包括：发光部，以及在发光部同侧间隔设置且分别与发光部电连接的第一电极和第二电极；驱动背板和光学模组至少之一还包括导电纳米颗粒；多个微发光二极管与多个连接电极一一对应设置，微发光二极管的第一电极通过导电纳米颗粒与对应设置的连接电极的第一连接电极电连接，微发光二极管的第二电极通过导电纳米颗粒与对应设置的连接电极所含第二连接电极电连接；
采用绝缘胶层固定对应设置的微发光二极管与连接电极。
为更好地理解本发明提供的上述制作方法的技术方案，以下通过具体实施例对上述制作方法的过程进行说明。
具体地，在驱动背板上增设导电纳米颗粒的情况下，本发明实施例提供的上述制作方法具体包括以下步骤：
第一步，制作一驱动背板，具体可以通过以下步骤进行实现：
提供一衬底基板101，并在衬底基板101上依次制作缓冲层105，晶体管104的有源层，栅绝缘层106，晶体管104的栅极，第一层间绝缘层107，第二层间绝缘层108，同层设置的晶体管104的源极、漏极和电平信号走线110，具体过孔的平坦层109。
在平坦层109上形成多个连接电极102，其中，连接电极102包括相互独立的第一连接电极1021和第二连接电极1022，其中，第一连接电极1021通过贯穿平坦层109的过孔与晶体管104的漏极电连接，第二连接电极1022通过贯穿平坦层109的过孔与电平信号走线110电连接，如图2所示。
在各连接电极102所在层上形成一层厚度为5nm-1000nm的金属膜103’，优选厚度为10nm-300nm，如图3所示。
在金属膜103’上形成一层光刻胶04，如图4所示；并对光刻胶04进行曝光、显影后，保留第一连接电极1021和第二连接电极1022所在区域的光刻胶04，如图5所示。
以光刻胶104为遮挡，对金属膜103’进行刻蚀，保留位于第一连接电极1021和第二连接电极1022所在区域的金属膜103’，如图6所示。
剥离光刻胶，如图7所示；并对保留的金属膜103’进行退火处理，使得第一连接电极1021和第二连接电极1022所在区域的金属膜103’自组装成导电纳米颗粒103，如图8所示。具体地，可在惰性氛围内，将金属膜103’置于100℃-400℃(优选150℃-300℃)的温度下进行退火处理10s-30min(优选20s-600s)，使得金属膜103’自组装成导电纳米颗粒103。
需要说明的是，在上述制作过程中是先对金属膜103’进行图案化，然后再对金属膜103’进行退火处理形成导电纳米颗粒103。在具体实施时，还可以先对金属膜103’进行退火处理形成整面的导电纳米颗粒103，如图9所示；然后对整面的导电纳米颗粒103进行图案化，最终保留第一连接电极1021和第二连接电极1022所在区域的导电纳米颗粒103。
具体地，对整面的导电纳米颗粒103进行图案化的过程包括：在整面的导电纳米颗粒103上形成一层光刻胶04，如图10所示；并对光刻胶04进行曝光、显影，保留第一连接电极1021和第二连接电极1022所在区域的光刻胶04，如图11所示；再以光刻胶04为遮挡，对整面的导电纳米颗粒103进行刻蚀，保留第一连接电极1021和第二连接电极1022所在区域的导电纳米颗粒103，如图12所示。随后剥离光刻胶04，获得图8所示的驱动基板01。
值得注意的是，由于导电纳米颗粒103的密度较大，相当于导电纳米颗粒103在第一连接电极1021和第二连接电极1022所在区域形成密实的一导电膜，因此，导电纳米颗粒103与光刻胶04可以看做两个界面清晰的膜层，从而在剥离光刻胶04的过程中，不会对导电纳米颗粒03造成不良影响。
第二步，在导电纳米颗粒103所在侧形成一绝缘胶层03，如图13所示。
第三步，制作一光学模组，具体可以包括以下步骤：
提供一蓝宝石衬底200，并在蓝宝石衬底200上形成多个微发光二极管201，其中微发光二极管201包括：发光部2011，以及在发光部2011的同侧间隔设置且分别与发光部2011电连接的第一电极2012和第二电极2013，如图14所示；剥离蓝宝石衬底200，获得多个独立的微发光二极管201，如图15所示。
第四步，采用转移设备将多个微发光二极管201转移至驱动背板01上，然后在一定的压力下采用紫外光或加热的方式使绝缘胶层03凝固，完成微发光二极管201与驱动背板01的键合固定。上述过程中的压力大小需要保证微发光二极管201的第一电极2012和第二电极2013与导电纳米颗粒103接触，以通过导电纳米颗粒103实现微发光二极管201的第一电极2012与对应连接电极102的第一连接电极1021的电连接，以及微发光二极管201的第二电极2013与对应连接电极102的第二连接电极1022的电连接，如图16所示。
具体地，在光学模组上增设导电纳米颗粒的情况下，本发明实施例提供的上述制作方法具体包括以下步骤：
第一步，制作一光学模组，具体可以通过以下方式进行实现：
提供一蓝宝石衬底200，并在蓝宝石衬底200上形成多个微发光二极管201，其中微发光二极管201包括：发光部2011，以及在发光部2011的同侧间隔设置且分别与发光部2011电连接的第一电极2012和第二电极2013，如图14所示。
在第一电极2012和第二电极2013所在层上形成一层厚度为5nm-1000nm(优选10nm-300nm)的金属膜103’，如图17所示。
在金属膜103’上形成一层光刻胶04，如图18所示；并对光刻胶04进行曝光、显影后，保留第一电极2012和第二电极2013所在区域的光刻胶04，如图19所示。
以光刻胶104为遮挡，对金属膜103’进行刻蚀，保留位于第一电极2012和第二电极2013所在区域的金属膜103’，如图20所示。
剥离光刻胶，如图21所示；并对保留的金属膜103’进行退火处理，使得第一电极2012和第二电极2013所在区域的金属膜103’自组装成导电纳米颗粒103，如图22所示。具体地，可在惰性氛围内，将金属膜103’置于100℃-400℃(优选150℃-300℃)的温度下进行退火处理10s-30min(优选20s-600s)，使得金属膜103’自组装成导电纳米颗粒103。
剥离蓝宝石衬底200，获得多个承载有导电纳米颗粒103的微发光二极管201，如图23所示。
需要说明的是，在上述制作过程中是先对金属膜103’进行图案化，然后再对金属膜103’进行退火处理形成导电纳米颗粒103。在具体实施时，还可以先对金属膜103’进行退火处理形成整面的导电纳米颗粒103，如图24所示；然后对整面的导电纳米颗粒103进行图案化，最终保留第一电极2012和第二电极2013所在区域的导电纳米颗粒103。
具体地，对整面的导电纳米颗粒103进行图案化的过程包括：在整面的导电纳米颗粒103上形成一层光刻胶04，如图25所示；并对光刻胶04进行曝光、显影，保留第一连接极2012和第二电极2013所在区域的光刻胶04，如图26所示；再以光刻胶04为遮挡，对整面的导电纳米颗粒103进行刻蚀，保留第一连接极2012和第二电极2013所在区域的导电纳米颗粒103，如图27所示。随后依次剥离光刻胶04和蓝宝石衬底200，获得图23所示的光学模组02。
第二步，制作一驱动背板，具体可以包括以下步骤：
提供一衬底基板101，并在衬底基板101上依次制作缓冲层105，晶体管104的有源层，栅绝缘层106，晶体管104的栅极，第一层间绝缘层107，第二层间绝缘层108，同层设置的晶体管104的源极、漏极和电平信号走线110，具体过孔的平坦层109；在平坦层109上形成多个连接电极102，其中，连接电极102包括相互独立的第一连接电极1021和第二连接电极1022，其中，第一连接电极1021通过贯穿平坦层109的过孔与晶体管104的漏极电连接，第二连接电极1022通过贯穿平坦层109的过孔与电平信号走线110电连接，如图2所示。
第三步，在第一连接电极1021和第二连接电极1022所在侧形成一绝缘胶层03，如图28所示。
第四步，采用转移设备将多个微发光二极管201转移至驱动背板01上，然后在一定的压力下采用紫外光或加热的方式使绝缘胶层03凝固，完成微发光二极管201与驱动背板01的键合固定。上述过程中的压力大小需要保证连接电极102的第一连接电极1021和第二连接电极1022与导电纳米颗粒103接触，以通过导电纳米颗粒103实现微发光二极管201的第一电极2012与对应连接电极102的第一连接电极1021的电连接，以及微发光二极管201的第二电极2013与对应连接电极102的第二连接电极1022的电连接，如图16所示。
需要说明的是，在本发明实施例提供的上述制作方法中，形成各层结构涉及到的构图工艺，不仅可以包括沉积、光刻胶涂覆、掩模板掩模、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等部分或全部的工艺过程，还可以包括其他工艺过程，具体以实际制作过程中形成所需构图的图形为准，在此不做限定。例如，在显影之后和刻蚀之前还可以包括后烘工艺。
其中，沉积工艺可以为化学气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积法或物理气相沉积法，在此不做限定；掩膜工艺中所用的掩膜板可以为半色调掩膜板(Half ToneMask)、单缝衍射掩模板(Single Slit Mask)或灰色调掩模板(Gray Tone Mask)，在此不做限定；刻蚀可以为干法刻蚀或者湿法刻蚀，在此不做限定。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示基板，该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪、智能手表、健身腕带、个人数字助理等任何具有显示功能的产品或部件。对于显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。另外，由于该显示装置解决问题的原理与上述显示基板解决问题的原理相似，因此，该显示装置的实施可以参见上述显示基板的实施例，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的上述显示基板、其制作方法及显示装置，包括：驱动背板，驱动背板包括衬底基板，以及位于衬底基板上的多个连接电极；连接电极包括相互独立的第一连接电极和第二连接电极；光学模组，光学模组包括多个微发光二极管；微发光二极管包括：发光部，以及在发光部同侧间隔设置且分别与发光部电连接的第一电极和第二电极；光学模组和驱动背板至少之一还包括导电纳米颗粒；多个微发光二极管与多个连接电极一一对应设置，微发光二极管所含第一电极通过导电纳米颗粒与对应设置的连接电极所含第一连接电极电连接，微发光二极管所含第二电极通过导电纳米颗粒与对应设置的连接电极所含第二连接电极电连接；绝缘胶层，位于驱动背板与光学模组之间，绝缘胶层用于固定对应设置的微发光二极管与连接电极。在本发明中，通过导电纳米颗粒实现微发光二极管所含第一电极与对应设置的连接电极所含第一连接电极的电连接，以及微发光二极管所含第二电极与对应设置的连接电极所含第二连接电极的电连接，且绝缘胶层实现了对相应连接电极与微发光二极管的固定作用，因此导电纳米颗粒结合绝缘胶层的键合工艺，避免了出现电极漏固的情况，提高了良率；另外仅增加了一道在驱动背板和/或光学模组上的键合区域制作导电纳米颗粒的简便工艺，成本可控；再者，导电纳米颗粒的纳米级粒径较小、密度较高，可以更好地应对微米级别电极之间的电连接，使得小尺寸微发光二极管产品的键合精度和导电率更好。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (11)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：
驱动背板，所述驱动背板包括衬底基板，以及位于所述衬底基板上的多个连接电极；所述连接电极包括相互独立的第一连接电极和第二连接电极；
光学模组，所述光学模组包括多个微发光二极管；所述微发光二极管包括：发光部，以及在所述发光部同侧间隔设置且分别与所述发光部电连接的第一电极和第二电极；所述光学模组和所述驱动背板至少之一还包括导电纳米颗粒；所述多个微发光二极管与所述多个连接电极一一对应设置，所述微发光二极管所含第一电极通过所述导电纳米颗粒与对应设置的所述连接电极所含第一连接电极电连接，所述微发光二极管所含第二电极通过所述导电纳米颗粒与对应设置的所述连接电极所含第二连接电极电连接；
绝缘胶层，位于所述驱动背板与所述光学模组之间，所述绝缘胶层用于固定对应设置的所述微发光二极管与所述连接电极。
2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述导电纳米颗粒位于所述第一连接电极和所述第二连接电极背离所述衬底基板的一侧，且所述导电纳米颗粒在所述衬底基板上的正投影位于所述第一连接电极的正投影和所述第二连接电极的正投影内。
3.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述导电纳米颗粒位于所述第一电极和所述第二电极背离所述发光部的一侧，且所述导电纳米颗粒在所述发光部所在平面上的正投影位于所述第一电极的正投影和所述第二电极的正投影内。
4.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述绝缘胶层整面设置。
5.如权利要求1-4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述导电纳米颗粒的材料为金、银、镍、铂、铜和铝其中之一或任意组合。
6.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
制作一驱动背板和一光学模组；其中，
所述驱动背板包括衬底基板，以及位于所述衬底基板上的多个连接电极；所述连接电极包括相互独立的第一连接电极和第二连接电极；所述光学模组包括多个微发光二极管；所述微发光二极管包括：发光部，以及在所述发光部同侧间隔设置且分别与所述发光部电连接的第一电极和第二电极；所述驱动背板和所述光学模组至少之一还包括导电纳米颗粒；所述多个微发光二极管与所述多个连接电极一一对应设置，所述微发光二极管的第一电极通过所述导电纳米颗粒与对应设置的所述连接电极的第一连接电极电连接，所述微发光二极管的第二电极通过所述导电纳米颗粒与对应设置的所述连接电极所含第二连接电极电连接；
采用绝缘胶层固定对应设置的所述微发光二极管与所述连接电极。
7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，制作一驱动背板，具体包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成多个连接电极，其中，所述连接电极包括相互独立的第一连接电极和第二连接电极；
在各所述连接电极所在层上形成一层金属膜；
在所述金属膜上形成一层光刻胶，并对所述光刻胶进行曝光、显影后，保留所述第一连接电极和所述第二连接电极所在区域的所述光刻胶；
以所述光刻胶为遮挡，对所述金属膜进行刻蚀，保留位于所述第一连接电极和所述第二连接电极所在区域的所述金属膜；
剥离所述光刻胶，并对保留的所述金属膜进行退火处理，形成位于所述第一连接电极和所述第二连接电极所在区域的导电纳米颗粒。
8.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，制作一光学模组，具体包括：
提供一蓝宝石衬底，并在所述蓝宝石衬底上形成多个微发光二极管，其中所述微发光二极管包括：发光部，以及在所述发光部的同侧间隔设置且分别与所述发光部电连接的第一电极和第二电极；
在所述第一电极和所述第二电极所在层上形成一层金属膜；
对所述金属膜进行退火处理，形成一层导电纳米颗粒；
在所述导电纳米颗粒所在层上形成一层光刻胶，并对所述光刻胶进行曝光、显影后，保留所述第一电极和所述第二电极所在区域的所述光刻胶；
以保留的所述光刻胶为遮挡，对所述导电纳米颗粒所在层进行刻蚀，保留位于所述第一电极和所述第二电极所在区域的所述导电纳米颗粒；
剥离所述第一电极和所述第二电极所在区域的所述光刻胶；
剥离所述蓝宝石衬底。
9.如权利要求7或8所述的制作方法，其特征在于，对所述金属膜进行退火处理，形成导电纳米颗粒，具体包括：
在惰性氛围内，将所述金属膜置于100℃-400℃的温度下进行退火处理10s-30min，使得所述金属膜自组装成导电纳米颗粒。
10.如权利要求7或8所述的制作方法，其特征在于，形成一层金属膜，具体包括：形成一层厚度为5nm-1000nm的金属膜。
11.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的显示基板。
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