CN114119691A - 一种贴花材质投射的方法和装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供了一种贴花材质投射的方法和装置，其中，所述的方法包括：获取贴花材质对应的场景深度和像素深度；按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到所述贴花材质的纹理坐标；其中，所述预设材质函数用于实现在粒子系统中投射所述贴花材质；提取受体模型对应的自定义深度和自定义模板；根据所述自定义深度和自定义模板判断所述受体模型是否符合贴花投射条件；当所述受体模型符合贴花投射条件时，根据所述纹理坐标将所述贴花材质投射到所述受体模型的表面上。使得模型可以只接受特定化的贴花材质，且该方案可以在粒子系统中使用。

Description

一种贴花材质投射的方法和装置

技术领域

本发明涉及计算机图形处理技术领域，特别是涉及一种贴花材质投射的方法和一种贴花材质投射的装置。

背景技术

在游戏开发中，贴花材质是非常常用的一项特效技术手段。其效果是将纹理效果像投影一样投射到受体表面上，从而展示出贴花效果。在UE4(Unreal Engine 4，虚幻引擎4)中，通过蓝图逻辑控制生成贴花受体，对这个DecalActor赋予贴花材质，但是这种方式不能够将贴花材质效果在粒子系统中实现，不适合美术流程创作；而且这种通过贴花受体的控制方式，只能设置让贴花受体接受所有贴花材质或不接受所有贴花材质，不能特定化设置贴花受体只接受部分贴花材质。

发明内容

鉴于上述通过蓝图逻辑控制生成DecalActor的方式，不能够将贴花材质效果在粒子系统中实现，不适合美术流程创作，而对于取消勾选ReceivesDecals来不让贴花材质应用在受体上这种方式，会让受体无法接受所有贴花材质，不能特定化设置受体的问题，提出了本发明实施例以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种贴花材质投射的方法和相应的一种贴花材质投射的装置。

本发明实施例公开了一种贴花材质投射的方法，包括：

获取贴花材质对应的场景深度和像素深度；

按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到所述贴花材质的纹理坐标；其中，所述预设材质函数用于实现在粒子系统中投射所述贴花材质；

提取受体模型对应的自定义深度和自定义模板；

根据所述自定义深度和自定义模板判断所述受体模型是否符合贴花投射条件；

当所述受体模型符合贴花投射条件时，根据所述纹理坐标将所述贴花材质投射到所述受体模型的表面上。

可选地，所述按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到所述贴花材质的纹理坐标，包括：

按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到投影坐标；

将所述投影坐标转化为粒子系统中的坐标；

根据所述粒子系统中的坐标转化得到所述贴花材质的纹理坐标。

可选地，所述按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到投影坐标，包括：

对所述场景深度和像素深度进行除法运算，以得到第一坐标；

获取所述贴花材质对应的像素绝对世界坐标和相机的绝对世界坐标；

对所述像素绝对世界坐标和所述第一坐标进行乘法运算，以得到第二坐标；

对所述第二坐标和所述相机的绝对世界坐标进行加法运算，以得到投影坐标。

可选地，所述将所述投影坐标转化为粒子系统中的坐标，包括：

获取所述贴花材质对应的粒子坐标系下的相对坐标；

对所述粒子系统下的相对坐标和所述投影坐标进行减法运算，以得到第三坐标；

对所述第三坐标进行转化得到粒子系统中的坐标。

可选地，所述根据所述粒子系统中的坐标转化得到所述贴花材质的纹理坐标，包括：

对所述粒子系统中的坐标进行归一化处理，得到所述贴花材质的纹理坐标。

可选地，所述根据所述自定义深度和自定义模板判断所述受体模型是否符合贴花投射条件，包括：

对所述自定义深度和所述场景深度进行减法运算，得到深度差值；

当所述深度差值小于预设第一阈值时，则判定所述受体模型不符合贴花投射条件。

可选地，所述根据所述自定义深度和自定义模板判断所述受体模型是否符合贴花投射条件，还包括：

当所述深度差值大于或等于预设第一阈值时，获取所述贴花材质对应的材质模板值；

若所述自定义模板与所述材质模板值一致，则判定所述受体模型符合贴花投射条件；

若所述自定义模板与所述材质模板值不一致，则判定所述受体模型不符合贴花投射条件。

本发明实施例还公开了一种贴花材质投射的装置，包括：

深度获取模块，用于获取贴花材质对应的场景深度和像素深度；

纹理坐标转化模块，用于按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到所述贴花材质的纹理坐标；其中，所述预设材质函数用于实现在粒子系统中投射所述贴花材质；

自定义深度提取模块，用于提取受体模型对应的自定义深度和自定义模板；

判断模块，用于根据所述自定义深度和自定义模板判断所述受体模型是否符合贴花投射条件；

贴花材质投射模块，用于当所述受体模型符合贴花投射条件时，根据所述纹理坐标将所述贴花材质投射到所述受体模型的表面上。

本发明实施例还公开了一种电子设备，包括：

处理器和存储介质，所述存储介质存储有所述处理器可执行的机器可读指令，当电子设备运行时，所述处理器执行所述机器可读指令，以执行如本发明实施例任一项所述的方法。

本发明实施例还公开了一种计算机可读存储介质，所述存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器运行时执行如本发明实施例任一项所述的方法。

本发明实施例包括以下优点：

在本发明实施例中提供了一种贴花材质投射的方法，通过预先创建一个材质函数，该预设材质函数可以对预设材质函数的纹理进行投影转换，使得转化后贴花材质的纹理坐标可以在粒子系统中应用，实现贴花材质效果，适合美术流程创作。同时，通过设置自定义深度和自定义模板，按照这两个参数进行对受体模型进行进一步的甄别，最后对需要接受该贴花材质的受体模型设置则进行相应投影，而对于不需要接受该贴花材质的受体模型则不投影，这样可以使得受体模型能够灵活设定是否接受某个特定的贴花效果，避免对于取消勾选ReceivesDecals来不让贴花材质应用在受体模型上这种方式，会让受体模型无法接受所有贴花材质，不能特定化的设置受体模型。

附图说明

为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对本发明的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是现有技术中的贴花材质效果的示意图；

图2是本发明实施例提供的一种贴花材质投射的方法的步骤流程图；

图3是本发明实施例提供的一种节点连接的示意图；

图4是本发明实施例提供的另一种的节点连接的示意图；

图5是本发明实施例提供的另一种的节点连接的示意图；

图6是本发明实施例提供的另一种的节点连接的示意图；

图7A是本发明实施例提供的一种未设置模型接受特殊材质的贴花材质效果的示意图；

图7B是本发明实施例提供的一种设置模型接受特殊材质的贴花材质效果的示意图；

图8是本发明实施例提供的一种贴花材质投射的装置的结构框图；

图9是本发明的一种电子设备的结构框图；

图10是本发明的一种计算机可读存储介质的结构框图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

现有技术中，在UE4(Unreal Engine 4，虚幻引擎4)中，贴花材质受到了以下两个方面的使用限制：

其一，贴花材质是与贴花组件DecalComponent一起使用的，若想要在指定位置生成贴花材质，就需要用蓝图逻辑控制创建Spawn一个贴花受体DecalActor，并对这个DecalActor赋予贴花材质。这种方案的缺点是：由于美术设计人员很少使用蓝图工具，导致美术生产并不简易若是美术同学想要在粒子系统中实现贴花材质效果，就不够直接了。

其二，现存贴花材质的受体，是所有受体Actor是默认应用的，也就是只要是物体表面，贴花材质都会响应这个物体并投影上去。如图1所示，要想不让贴花材质投影到物体表面上，现有方法是将受体模型细节面板中的接受贴花ReceivesDecals选项取消勾选(UE4默认勾选)。但这样做同样存在两个问题：一是不方便规范管理；二是勾选了这一项的模型，会不接受所有贴花效果，这样万一出现一种情形：场景中有个模型需要接受A贴花但不接受B贴花，那就没有办法进行处理了。

因此，现有的贴花材质控制方案存在如下问题：通过蓝图逻辑控制生成DecalActor的方式，不能够将贴花材质效果在粒子系统中实现，不适合美术流程创作，而对于取消勾选ReceivesDecals来不让贴花材质应用在受体上这种方式，会让受体无法接受所有贴花材质，不能特定化设置受体。

为了解决上述技术问题，在本发明实施例中提供了一种贴花材质投射的方法，通过获取贴花材质对应的场景深度和像素深度；按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到所述贴花材质的纹理坐标；提取受体模型对应的自定义深度和自定义模板；根据所述自定义深度和自定义模板判断所述受体模型是否符合贴花投射条件；当所述受体模型符合贴花投射条件时，根据所述纹理坐标将所述贴花材质投射到所述受体模型的表面上。通过预先创建一个预设材质函数，该预设材质函数可以对预设材质函数的纹理进行投影转换，使得转化后贴花材质的纹理坐标可以在粒子系统中应用，实现贴花材质效果，适合美术流程创作。同时，通过设置自定义深度和自定义模板，按照这两个参数进行对受体模型进行进一步的甄别，最后对需要接受该贴花材质的受体模型设置则进行相应投影，而对于不需要接受该贴花材质的受体模型则不投影，这样可以使得受体模型能够灵活设定是否接受某个特定的贴花效果，避免对于取消勾选ReceivesDecals来不让贴花材质应用在受体模型上这种方式，会让受体模型无法接受所有贴花材质，不能特定化的设置受体模型。

参照图2，示出了本发明实施例提供的一种贴花材质投射的方法实施例的步骤流程图，具体可以包括如下步骤：

步骤201，获取贴花材质对应的场景深度和像素深度；

其中，场景深度SceneDepth，表示材质不计算透明物体对应的深度，像素深度PixelDepth用于表示材质计算透明物体对应的深度。

步骤202，按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到所述贴花材质的纹理坐标；其中，所述预设材质函数用于实现在粒子系统中投射所述贴花材质；

其中，预设材质函数MaterialFunction是预先创建的材质函数，用于实现在粒子系统中投射贴花材质，具体的，预设材质函数通过对贴花材质的纹理进行投影转换，将一个普通的纹理坐标往Z轴方向投影，以去除透明物体的影响，因为SceneDepth获取的时候是在Pre-pass/Z-pass渲染阶段，这个阶段并未渲染透明物体，转换后贴花材质的纹理坐标可以在粒子系统中使用。

在本发明实施例中，通过按照预设材质函数对贴花材质的场景深度和像素深度进行转化，以得到贴花材质的纹理坐标，使得美术流程也可以采用该贴花材质在粒子系统中进行创作。

步骤203，提取受体模型对应的自定义深度和自定义模板；

受体模型指在需要进行贴花材质投影的模型，在具体实现中，受体模型可以是游戏场景中任意的一个模型，例如，墙体模型、建筑模型和路面模型等等，本发明实施例对此不作限制。

在本发明实施例中，受体模型具有对应的自定义深度CustomDepth和自定义模板CustomStencil，自定义深度和自定义模板有美术设计人员在创建模型时设置。其中，自定义模板用于表示受体模型所接受的贴花材质，因而，通过自定义模板的设置使得受体模型可以只接受一些特定化的贴花材质。

步骤204，根据所述自定义深度和自定义模板判断所述受体模型是否符合贴花投射条件；

在本发明实施例中，可以根据自定义深度和自定义模板判断受体模型是否符合贴花投射条件，对于符合贴花投射条件的受体模型，则需要将这个贴花材质投射到受体模型的表面上，而对于不符合贴花投射条件的受体模型，则不需要将这个贴花材质投射到受体模型的表面上。

步骤205，当所述受体模型符合贴花投射条件时，根据所述纹理坐标将所述贴花材质投射到所述受体模型的表面上。

在本发明实施例中，当受体模型符合贴花投射条件时，可以根据纹理坐标将贴花材质投射到受体模型的表面上，实现贴花材质效果。

在本发明的一种优选实施例中，所述步骤202具体包括如下子步骤：

按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到投影坐标；将所述投影坐标转化为粒子系统中的坐标；根据所述粒子系统中的坐标转化得到所述贴花材质的纹理坐标。

具体的，按照预设材质函数MaterialFunction对场景深度和像素深度进行转化，以得到投影坐标，这个步骤主要是将一个普通的纹理坐标往Z轴方向投影，以去除透明物体的影响，因为SceneDepth获取的时候是在Pre-pass/Z-pass渲染阶段，这个阶段并未渲染透明物体。然后，将投影坐标转化为粒子系统中的坐标，这个步骤主要是使得贴花材质可以在粒子系统中使用。最后，可以根据粒子系统中的坐标转化得到贴花材质的纹理坐标，以便于在后续步骤中使用该纹理坐标将贴花材质投射到受体模型的表面上。

在本发明的一种优选实施例中，所述按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到投影坐标，包括：

对所述场景深度和像素深度进行除法运算，以得到第一坐标；获取所述贴花材质对应的像素绝对世界坐标和相机的绝对世界坐标；对所述像素绝对世界坐标和所述第一坐标进行乘法运算，以得到第二坐标；对所述第二坐标和所述相机的绝对世界坐标进行加法运算，以得到投影坐标。

其中，相机的绝对世界坐标CameraPosition用于表示拍摄贴花材质的相机的在世界坐标系下的绝对坐标，像素绝对世界坐标AbsoluteWorldPosition用于表示贴花材质中的每个像素点在世界坐标系中对应的绝对坐标。

具体的，在UE4中提供了一些转换的节点，可以通过连接UE4中的节点对进行坐标转换。在具体实现中，可以采用Divide节点对场景深度SceneDepth和像素深度PixelDepth进行除法运算，以得到第一坐标。进而，获取贴花材质对应的像素绝对世界坐标AbsoluteWorldPosition和相机的绝对世界坐标CameraPosition，采用Multiply节点对所述像素绝对世界坐标和所述第一坐标进行乘法运算，以得到第二坐标，最后，采用Add节点对所述第二坐标和所述相机的绝对世界坐标进行加法运算，以得到投影坐标。

作为一种示例，如图3所示，在UE4中通过将SceneDepth节点和PixelDepth节点连接到Divide节点进行除法运算，将Divide节点连接到AbsoluteWorldPosition节点和Multiply节点进行乘法运算，然后连接Multiply节点和CameraPosition节点，即可输出最终需要的投影坐标。

在本发明的一种优选实施例中，所述将所述投影坐标转化为粒子系统中的坐标，包括：

获取所述贴花材质对应的粒子坐标系下的相对坐标；对所述粒子坐标系下的相对坐标和所述投影坐标进行减法运算，以得到第三坐标；对所述第三坐标进行转化得到粒子系统中的坐标。

具体的，获取投影坐标的节点为WorldPositionBehindTranslucency，表示透明材质处理后的世界位置，获取贴花材质对应的粒子坐标系下的相对坐标的节点为ParticlePosition，通过将WorldPositionBehindTranslucency节点和Particle Position节点连接到Subtract节点作减法运算，然后将Subtract节点连接到Transform Vector节点进行转化，得到贴花材质在粒子系统中的坐标，如图4所示。

在本发明的一种优选实施例中，所述根据所述粒子系统中的坐标转化得到所述贴花材质的纹理坐标，包括：

对所述粒子系统中的坐标进行归一化处理，得到所述贴花材质的纹理坐标。

在本发明实施例中，可以通过Saturate节点对粒子系统中的坐标进行归一化处理，得到贴花材质的纹理坐标。

在具体实现中，还可以将粒子系统中的坐标的节点和粒子贴花Particle Decal节点连接到Divide节点，并将Particle Decal节点的Offset通道的数据连接到连接Add节点，并依次连接Mask节点、scaleUVByCenter节点、Saturate节点和OutputUV节点，如图5所示。其中，连接将Particle Decal节点的Offset通道的数据连接到Add节点可以将坐标偏移到原点中心；Mask节点用于将RG通道的数据提取出来作为纹理坐标UV；scaleUVByCenter节点用于将坐标根据原点中心进行缩放，若是无缩放可无视这个节点；Saturate节点用于将数据归一化到(0，1)的范围之内；OutputUV节点用于输出纹理坐标。

在本发明的一种优选实施例中，所述步骤204具体可以包括如下子步骤：

对所述自定义深度和所述场景深度进行减法运算，得到深度差值；当所述深度差值小于预设第一阈值时，则判定所述受体模型不符合贴花投射条件。

其中，预设第一阈值是预先设定的深度临界值，用于判断受体模型是否符合贴花投射条件。例如，假设预设第一阈值设置为零，则当深度差值小于零时，表示受体模型不符合贴花投射条件；当深度差值大于或等于零时，表示受体模型符合贴花投射条件。

在本发明实施例中，可以通过对自定义深度和场景深度进行减法运算，得到深度差值，然后对深度差值的大小进行判断，当深度差值小于预设第一阈值时，则判定受体模型不符合贴花投射条件。在具体实现中，预设第一阈值可以设置为0，这样处理主要是为了区别受体模型是否勾选了自定义深度CustomDepth节点，如果勾选了CustomDepth节点，则CustomDepth减去SceneDepth的深度差值就会是正值或0，如果没有勾选CustomDepth节点，深度差值就会小于0，根据这个特性，就可以对受体物体模型进行甄别，当深度差值小于0时，则判定受体模型不符合贴花投射条件。

在本发明的一种优选实施例中，所述根据所述自定义深度和自定义模板判断所述受体模型是否符合贴花投射条件，还包括：

当所述深度差值大于或等于预设第一阈值时，获取所述贴花材质对应的材质模板值；若所述自定义模板与所述材质模板值一致，则判定所述受体模型符合贴花投射条件；若所述自定义模板与所述材质模板值不一致，则判定所述受体模型不符合贴花投射条件。

在本发明实施例中，当深度差值大于或等于预设第一阈值时，则表示受体模型勾选了CustomDepth节点，可以接受贴花材质，此时，可以进一步判断受体模型是否接受当前正在处理的贴花材质。具体的，通过获取贴花材质对应的材质模板值，若自定义模板与材质模板值一致，则判定受体模型符合贴花投射条件；若自定义模板与材质模板值不一致，则判定受体模型不符合贴花投射条件。

作为一种示例，如图6所示，通过将SceneTextureCustomDepth节点和SceneTextureSceneDepth节点连接到Subtract节点作减法运算，并将Subtract节点和Input In Texture节点连接到If节点，进一步将If节点和SceneTextureCustomStencil节点连接到Multiply节点进行乘法运算，并连接OutputColor节点输出最后的纹理颜色值。其中，SceneTextureCustomDepth节点用于获取受体模型的自定义深度值，If节点用于判断深度差值的大小，当CustomDepth大于SceneDepth时，不连接Input In Texture节点，而是连接SceneColor获取场景颜色；当CustomDepth小于或等于SceneDepth时，连接Input InTexture节点获取贴花材质对应的纹理贴图。

此外，在连接SceneTextureCustomStencil节点之前，还需要将SceneTextureCustomStencil节点连接Mask节点提取颜色值，然后将Mask节点到另一个If节点中，采用这个If节点判断受体模型的自定义模板CustomStencil是否大于贴花材质对应的材质模板值。其中，SceneTextureCustomStencil节点用于获取受体模型的自定义模板。

如图7A是一种未设置模型接受特殊材质的贴花材质效果的示意图，其中，正方形的受体模型上投射了一些不需要的贴花材质，如图7B是一种设置模型接受特殊材质的贴花材质效果的示意图，正方形的受体模型上未投射了不需要的贴花材质。

需要说明的是，对于方法实施例，为了简单描述，故将其都表述为一系列的动作组合，但是本领域技术人员应该知悉，本发明实施例并不受所描述的动作顺序的限制，因为依据本发明实施例，某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次，本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于优选实施例，所涉及的动作并不一定是本发明实施例所必须的。

参照图8，示出了本发明实施例提供的一种贴花材质投射的装置的结构框图，具体可以包括如下模块：

深度获取模块801，用于获取贴花材质对应的场景深度和像素深度；

纹理坐标转化模块802，用于按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到所述贴花材质的纹理坐标；其中，所述预设材质函数用于实现在粒子系统中投射所述贴花材质；

自定义深度提取模块803，用于提取受体模型对应的自定义深度和自定义模板；

判断模块804，用于根据所述自定义深度和自定义模板判断所述受体模型是否符合贴花投射条件；

贴花材质投射模块805，用于当所述受体模型符合贴花投射条件时，根据所述纹理坐标将所述贴花材质投射到所述受体模型的表面上。

在本发明的一种优选实施例中，所述纹理坐标转化模块802，包括：

第一转化子模块，用于按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到投影坐标；

第二转化子模块，用于将所述投影坐标转化为粒子系统中的坐标；

第三转化子模块，用于根据所述粒子系统中的坐标转化得到所述贴花材质的纹理坐标。

在本发明的一种优选实施例中，所述第一转化子模块，包括：

除法运算单元，用于对所述场景深度和像素深度进行除法运算，以得到第一坐标；

世界坐标获取单元，用于获取所述贴花材质对应的像素绝对世界坐标和相机的绝对世界坐标；

乘法运算单元，用于对所述像素绝对世界坐标和所述第一坐标进行乘法运算，以得到第二坐标；

加法运算单元，用于对所述第二坐标和所述相机的绝对世界坐标进行加法运算，以得到投影坐标。

在本发明的一种优选实施例中，所述第二转化子模块，包括：

粒子坐标获取单元，用于获取所述贴花材质对应的粒子坐标系下的相对坐标；

减法运算单元，用于对所述粒子坐标系下的相对坐标和所述投影坐标进行减法运算，以得到第三坐标；

坐标转化单元，用于对所述第三坐标进行转化得到粒子系统中的坐标。

在本发明的一种优选实施例中，所述第三转化子模块，包括：

归一化处理单元，用于对所述粒子系统中的坐标进行归一化处理，得到所述贴花材质的纹理坐标。

在本发明的一种优选实施例中，所述判断模块804，包括：

减法运算子模块，用于对所述自定义深度和所述场景深度进行减法运算，得到深度差值；

第一判定子模块，用于当所述深度差值小于预设第一阈值时，则判定所述受体模型不符合贴花投射条件。

在本发明的一种优选实施例中，所述判断模块804，还包括：

材质模板值获取子模块，用于当所述深度差值大于或等于预设第一阈值时，获取所述贴花材质对应的材质模板值；

第二判定子模块，用于若所述自定义模板与所述材质模板值一致，则判定所述受体模型符合贴花投射条件；

第三判定子模块，用于若所述自定义模板与所述材质模板值不一致，则判定所述受体模型不符合贴花投射条件。

对于装置实施例而言，由于其与方法实施例基本相似，所以描述的比较简单，相关之处参见方法实施例的部分说明即可。

本发明实施例还提供了一种电子设备，如图9所示，包括：

处理器901和存储介质902，所述存储介质902存储有所述处理器901可执行的机器可读指令，当电子设备运行时，所述处理器901执行所述机器可读指令，以执行如本发明实施例任一项所述的方法。具体实现方式和技术效果类似，这里不再赘述。

本发明实施例还提供了一种计算机可读存储介质，如图10所示，所述存储介质上存储有计算机程序1001，所述计算机程序1001被处理器运行时执行如本发明实施例任一项所述的方法。具体实现方式和技术效果类似，这里不再赘述。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

本领域内的技术人员应明白，本发明实施例的实施例可提供为方法、装置、或计算机程序产品。因此，本发明实施例可采用完全硬件实施例、完全软件实施例、或结合软件和硬件方面的实施例的形式。而且，本发明实施例可采用在一个或多个其中包含有计算机可用程序代码的计算机可用存储介质(包括但不限于磁盘存储器、CD-ROM、光学存储器等)上实施的计算机程序产品的形式。

本发明实施例是参照根据本发明实施例的方法、终端设备(系统)、和计算机程序产品的流程图和/或方框图来描述的。应理解可由计算机程序指令实现流程图和/或方框图中的每一流程和/或方框、以及流程图和/或方框图中的流程和/或方框的结合。可提供这些计算机程序指令到通用计算机、专用计算机、嵌入式处理机或其他可编程数据处理终端设备的处理器以产生一个机器，使得通过计算机或其他可编程数据处理终端设备的处理器执行的指令产生用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的装置。

这些计算机程序指令也可存储在能引导计算机或其他可编程数据处理终端设备以特定方式工作的计算机可读存储器中，使得存储在该计算机可读存储器中的指令产生包括指令装置的制造品，该指令装置实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能。

这些计算机程序指令也可装载到计算机或其他可编程数据处理终端设备上，使得在计算机或其他可编程终端设备上执行一系列操作步骤以产生计算机实现的处理，从而在计算机或其他可编程终端设备上执行的指令提供用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的步骤。

尽管已描述了本发明实施例的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明实施例范围的所有变更和修改。

最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者终端设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者终端设备中还存在另外的相同要素。

以上对本发明所提供的一种贴花材质投射的方法和一种贴花材质投射的装置，进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种贴花材质投射的方法，其特征在于，包括：

获取贴花材质对应的场景深度和像素深度；

按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到所述贴花材质的纹理坐标；其中，所述预设材质函数用于实现在粒子系统中投射所述贴花材质；

提取受体模型对应的自定义深度和自定义模板；

根据所述自定义深度和自定义模板判断所述受体模型是否符合贴花投射条件；

当所述受体模型符合贴花投射条件时，根据所述纹理坐标将所述贴花材质投射到所述受体模型的表面上。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到所述贴花材质的纹理坐标，包括：

按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到投影坐标；

将所述投影坐标转化为粒子系统中的坐标；

根据所述粒子系统中的坐标转化得到所述贴花材质的纹理坐标。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到投影坐标，包括：

对所述场景深度和像素深度进行除法运算，以得到第一坐标；

获取所述贴花材质对应的像素绝对世界坐标和相机的绝对世界坐标；

对所述像素绝对世界坐标和所述第一坐标进行乘法运算，以得到第二坐标；

对所述第二坐标和所述相机的绝对世界坐标进行加法运算，以得到投影坐标。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述将所述投影坐标转化为粒子系统中的坐标，包括：

获取所述贴花材质对应的粒子坐标系下的相对坐标；

对所述粒子坐标系下的相对坐标和所述投影坐标进行减法运算，以得到第三坐标；

对所述第三坐标进行转化得到粒子系统中的坐标。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述粒子系统中的坐标转化得到所述贴花材质的纹理坐标，包括：

对所述粒子系统中的坐标进行归一化处理，得到所述贴花材质的纹理坐标。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述自定义深度和自定义模板判断所述受体模型是否符合贴花投射条件，包括：

对所述自定义深度和所述场景深度进行减法运算，得到深度差值；

当所述深度差值小于预设第一阈值时，则判定所述受体模型不符合贴花投射条件。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述根据所述自定义深度和自定义模板判断所述受体模型是否符合贴花投射条件，还包括：

当所述深度差值大于或等于预设第一阈值时，获取所述贴花材质对应的材质模板值；

若所述自定义模板与所述材质模板值一致，则判定所述受体模型符合贴花投射条件；

若所述自定义模板与所述材质模板值不一致，则判定所述受体模型不符合贴花投射条件。

8.一种贴花材质投射的装置，其特征在于，包括：

深度获取模块，用于获取贴花材质对应的场景深度和像素深度；

纹理坐标转化模块，用于按照预设材质函数对所述场景深度和像素深度进行转化，以得到所述贴花材质的纹理坐标；其中，所述预设材质函数用于实现在粒子系统中投射所述贴花材质；

自定义深度提取模块，用于提取受体模型对应的自定义深度和自定义模板；

判断模块，用于根据所述自定义深度和自定义模板判断所述受体模型是否符合贴花投射条件；

贴花材质投射模块，用于当所述受体模型符合贴花投射条件时，根据所述纹理坐标将所述贴花材质投射到所述受体模型的表面上。

9.一种电子设备，其特征在于，包括：

处理器和存储介质，所述存储介质存储有所述处理器可执行的机器可读指令，当电子设备运行时，所述处理器执行所述机器可读指令，以执行如权利要求1-7任一项所述的方法。

10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器运行时执行如权利要求1-7任一项所述的方法。

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