CN114054389A - 半导体存储架清理系统 - Google Patents

Abstract

该发明公开了一种半导体存储架清理系统，所述半导体存储架设有多个棚位，所述半导体存储架清理系统包括：传送装置；清理装置，所述清理装置用于对所述半导体存储架的棚位进行清理，所述清理装置与所述传送装置可分离连接，所述传送装置用于将所述清理装置传送至所述半导体存储架的多个所述棚位上。根据本发明实施例的半导体存储架清理系统，当半导体存储架需要进行清洗时，通过传送装置可将清理装置传送至需要清洗的半导体存储架的棚位上，不需要人工进行现场清理，能够提高清理效率，且能够避免人工登高作业的危险。

Description

半导体存储架清理系统

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，具体涉及一种半导体存储架清理系统。

背景技术

现有技术中半导体的存储架可用于存储半导体晶圆盒，半导体存储架长时间使用后由于污染容易发生报错而影响搬送效率，具体地，当半导体存储架内部环境不良时会影响搬入的晶圆盒，影响产品良率，半导体存储架的棚位上设有用于防止晶圆盒二次搬入的反光板，若反光板有污渍，会造成反光不足，从而会影响半导体存储架重复搬入传感器的判断失误，导致存储架报错率上升，影响存储架正常工作。因此需要对半导体存储架进行清理，目前的存储架清理方法是采用人工清理，半导体存储架一般有4-5m的高度，需要多名清洁人员配合进行清理，但人工清洗不仅效率低而且容易发生危险。

发明内容

本发明的目的在于提供一种半导体存储架清理系统，能够实现对半导体存储架的自动清理，不需要人工清洗，提高了清洗效率且降低人工清洗发生的危险。

根据本发明实施例的半导体存储架清理系统，所述半导体存储架设有多个棚位，所述半导体存储架清理系统包括：传送装置；清理装置，所述清理装置用于对所述半导体存储架的棚位进行清理，所述清理装置与所述传送装置可分离连接，所述传送装置用于将所述清理装置传送至所述半导体存储架的多个所述棚位上。

根据本发明实施例的半导体存储架清理系统，当半导体存储架需要进行清洗时，通过传送装置可将清理装置传送至需要清洗的半导体存储架的棚位上，清理装置与传送装置脱离，通过清理装置可对半导体存储架的棚位进行清洗，从而不需要人工进行现场清理，能够提高清理效率，而且能够避免人工登高作业的危险。

根据本发明的一些实施例，所述传送装置包括传送手臂，所述传送手臂的末端设有用于承载所述清理装置的承载台，所述承载台与所述清理装置可分离连接。

在本发明的一些实施例中，所述清理装置还包括开关装置，所述开关装置被构造成所述清理装置置于所述棚位后出发以定时启动所述清理装置开始清理。

可选地，所述开关装置为用于检测所述棚位的光敏传感器，所述光敏传感器检测到所述棚位时被触发以定时启动所述清理装置开始清理。

可选地，所述开关装置为压力传感器。

根据本发明的一些实施例，所述清理装置包括清洁装置和行走装置，所述行走装置与所述清洁装置相连以驱动所述清洁装置移动。

可选地，所述棚位包括底板和反光板，所述清洁装置包括用于清洗所述反光板的第一清洁部和用于所述清洗所述底板的第二清洁部。

进一步地，所述清洁装置还包括驱动装置和与所述驱动装置相连的传动装置，所述传动装置分别与所述第一清洁部和第二清洁部相连，所述驱动装置通过所述传动装置驱动所述第一清洁部和所述第二清洁部转动。

进一步地，所述驱动装置包括第一清洁电机和第二清洁电机，所述传动装置包括与所述第一清洁电机相连的第一齿轮传动组件和与所述第二清洁电机相连的第二齿轮传动组件，所述第二清洁部包括多个第二清洁刷，所述第一齿轮传动组件分别与所述第一清洁部和至少一个所述第二清洁刷相连，所述第二齿轮传动组件与剩余其它所述第二清洁刷相连。

进一步地，所述第一齿轮传动组件为锥齿轮传动组件，所述第二齿轮传动组件为圆柱齿轮传动组件。

可选地，所述清理装置还包括用于清理污渍的吸尘装置，所述吸尘装置设在所述第二清洁部的一侧。

根据本发明的一些实施例，所述清理装置还包括行走轨道，所述清洁装置设在所述行走轨道上，所述行走装置驱动所述清洁装置沿所述行走轨道可移动。

可选地，所述行走轨道沿所述棚位的前后方向延伸。

可选地，所述行走装置包括行走电机和所述丝杠组件，所述丝杠组件分别与所述行走电机和所述清理装置相连。

可选地，所述清理装置还包括外壳，所述外壳的底部敞开且朝向所述反光板的一侧至少部分敞开，所述清洁装置和所述行走装置设在所述外壳内。

附图说明

图1是根据本发明实施例的半导体存储架清理系统以及半导体存储架的结构示意图；

图2是半导体存储架的棚位的结构示意图；

图3-图5是根据本发明实施例的半导体存储架清理系统以及半导体存储架的棚位的传送清理装置的结构示意图；

图6是根据本发明实施例的半导体存储架清理系统的清理装置的结构示意图；

图7是根据本发明实施例的半导体存储架清理系统的清理装置的仰视图；

图8是根据本发明一个实施例的半导体存储架清理系统的清理装置与清理棚位的一个角度的结构示意图；

图9是根据本发明一个实施例的半导体存储架清理系统的清理装置与清理棚位的另一个角度的结构示意图；

图10是根据本发明一个实施例的半导体存储架清理系统的清理装置的行走装置和清洁装置的部分结构示意图；

图11是根据本发明实施例的半导体存储架清理系统的清理装置的清洁装置的结构示意图；

图12是根据本发明另一个实施例的半导体存储架清理系统的清理装置与棚位的另一个角度的结构示意图。

附图标记：

100：半导体存储架清理系统；

1：传送装置，11：传送手臂，12：承载台，13：第一定位部；

2：清理装置，20：清洁装置，21：第一清洁部，22：第二清洁部，221：第二清洁刷，23：驱动装置，231：第一清洁电机，232：第二清洁电机，24：吸尘装置，25：第一固定部，26：第二固定部，27：开关装置，291：第一齿轮传动组件，292：第一锥齿轮，293：第二锥齿轮，294：第三锥齿轮，295：第二齿轮传动组件，296：圆柱齿轮；

3：行走轨道；

4：行走装置，41：行走电机，42：丝杠组件，43：丝杠，44：丝杠滑块，45：限位轴承；

5：棚位，51：反光板，52：底板，53：第二定位部；

200：半导体存储架。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施方式对本发明提出的一种半导体存储架清理系统100作进一步详细说明。

下面参考附图描述根据本发明实施例的半导体存储架清理系统100，其中半导体存储架200用于存储放置半导体晶圆盒，如图1所示，半导体存储架200设有多个棚位5，多个棚位5间隔开设置且每个棚位5均适于放置半导体晶圆盒。

如图1所示，根据本发明实施例的半导体存储架清理系统100可以包括传送装置1和清理装置2。清理装置2用于对半导体存储架200的棚位5进行清理，清理装置2与传送装置1可分离连接，传送装置1用于将清理装置2传送至半导体存储架的多个棚位5上。

由此，根据本发明实施例的半导体存储架清理系统100，当半导体存储架200需要进行清洗时，通过传送装置1可将清理装置2传送至需要清洗的半导体存储架200的棚位5上，清理装置2与传送装置1脱离，通过清理装置2可对半导体存储架200的棚位5进行清洗，从而不需要人工进行现场清理，能够提高清理效率，而且能够避免人工登高作业的危险。

在本发明的一些实施例中，传送装置1包括传送手臂11，传送手臂11的末端可设有抓取装置，通过抓取装置可将清理装置2抓起后放置在棚位5上。清理装置2和棚位5上分别形成有定位部和配合部，传送手臂11抓取清理装置2放置在棚位上后，定位部和配合部配合实现棚位5与清理装置2的可分离定位连接，清理结束后，抓取装置将清理装置2抓走，定位部与配合部脱离。其中定位部和配合部可形成为凹槽和凸起配合的结构，以便于清理装置2与棚位5的连接和脱离。

在本发明的另一些实施例中，结合图1、图3-图5所示，传送装置1可以包括传送手臂11，传送手臂11的末端设有用于承载清理装置2的承载台12，承载台12与清理装置2可分离连接。这样在不需要对半导体存储架200进行清理时，清理装置2放置在承载台12上，当需要对半导体存储架200进行清理时，通过传送手臂11可将清理装置2传送至需要清洗的棚位5处，清理装置2与承载台12脱离以对棚位5进行清洗。传送装置1可设置为定期对存储架200进行清理，实现半导体存储架清理系统100的自动清理功能，例如每间隔预定时间传送装置1将自动将清理装置2传送至棚位5进行清理。

可选地，传送手臂11在上下方向上可移动，这样通过传送手臂11在上下方向的移动能够调节传送位置，以将清理装置2传送至不同高度的半导体存储架200的棚位5上。进一步地，传送手臂11在水平方向上可延伸，由此，在水平方向上可调节传送手臂11的水平传送距离，以将清理装置2传送至不同高度不同位置的棚位5上。

在本发明的一些具体示例中，结合图3-图5所示，承载台12设有第一定位部13，清理装置2设有与第一定位部13配合的第一固定部25，其中第一定位部13和第一固定部25可分离相连，当清理装置2位于承载台12上时第一定位部13和第一固定部25配合以实现清理装置2与承载台12的定位连接，当清理装置2传送至半导体存储架200上时，第一定位部13与第一固定部25分离。可选地，如图3-图5所示，第一定位部13形成为向上凸出的凸起，第一固定部25形成为适于与第一定位部13配合的凹槽，通过凹槽和凸起的配合实现清理装置2和承载台12的定位连接，其中，第一定位部13和第一固定部25分别可以为多个，多个第一定位部13间隔开设置，例如，第一固定部25可以为两个、三个或四个等。优选地，结合图6和图7所示，第一固定部25可以为三个，三个第一固定部25呈三角形分布，第一定位部13与第一固定部25位置对应设置，从而能够提高定位效果。

当然可以理解的是，第一定位部13和第一固定部25可以但不限于上述凹槽凸起配合的结构，例如第一定位部13和第一固定部25可形成为夹取结构，第一定位部13可形成为夹爪或者卡爪等结构，第一固定部25可形成为适于卡爪或者夹爪抓取的夹持部，这样，承载台12通过第一定位部13和第一固定部25配合可将清理装置2抓起放置在棚位5上。

结合图3-图7所示，清理装置2还设有第二固定部26，棚位5设有与第二固定部26配合的第二定位部53，清理装置2位于棚位5上时，第二固定部26与第二定位部53配合定位，由此，通过第二固定部26和第二定位部53的配合从而能够实现清理装置2与棚位5的连接定位，同时传送装置1可与清理装置2脱离。

在本发明的一些实施例中，清理装置2设有开关装置27，开关装置27被构造成清理装置2置于棚位5后触发以定时启动清理装置2开始清理，也就是说，开关装置27可用于控制清理装置2的清理运行，当清理装置2放置在棚位5后，开关装置27被触发，经过一定时间清理装置2开始运行，例如在开关装置27触发3s后清理装置2开始对棚位5进行清理。这样，从而不需要人工控制，实现了对棚位5清洗的自动化，而且清理装置2置于棚位5上定位后清理装置2定时开启运行，也能够减少清洗时间。可选地，开关装置27可以为压力传感器，当清理装置2置于棚位5后，压力传感器感应到压力而被触发，经过一定时间后(例如几秒后)，清理装置2开始对棚位5进行清理。

进一步地，结合图3-图7图所示，开关装置2可被构造成第二定位部53与第二固定部26配合时被触发，具体地，第二固定部26形成为凹槽，开关装置27设在第二固定部26内，第二定位部53与第二固定部26配合时触发开关装置27，其中如图2以及图3-图6所示，第二定位部53可形成为与第二固定部26配合的凸起，开关装置27设在凹槽内，第二定位部53配合在第二固定部26内时，清理装置2支撑在棚位5上，第二定位部53与开关装置27接触使得压力传感器受到压力，从而触发开关装置27使得清理装置2开启运行。

在如5所示的示例中，压力传感器设在第二固定部26的顶部，第二定位部53形成为凸柱，清理装置2置于棚位5上时，第二定位部53伸入至第二固定部26内，第二定位部53的上端止抵压力传感器，压力传感器被触发从而使得清理装置2开始自动清理棚位5。

可选地，第二固定部26可以为多个，多个第二固定部26间隔开设置以提高清理装置2和棚位5的定位效果，开关装置27可以为至少一个，即开关装置27可以为一个或者多个，开关装置27可设在至少一个第二固定部26内，例如如图7所示，第二固定部26可以为三个，三个第二固定部26呈三角形设置，每个第二固定部26内均设有压力传感器，当三个压力传感器被同时触发后清理装置2几秒后例如3s后开始清理，这样使得多个第二定位部53与多个第二固定部26配合后清理装置2开启运行，避免清理装置2与棚位5未稳定连接而使得清理装置2开启清理，避免造成清理装置2清理时不稳固而产生安全隐患。

进一步地，多个第一固定部25呈三角形分布，多个第二固定部26呈三角形分布，其中，多个第一固定部25形成的三角形成位于多个第二固定部26形成的三角形内，棚位5上形成有缺口，多个第一固定部25位置与缺口位置对应，由此多个第二固定部26与棚位5定位固定后，从而便于传送装置1能够与多个第一固定部25脱离。

在本发明的另一些实施例中，如图12所示，开关装置27可以为物体感应装置，例如开关装置27可以为光敏传感器，图12中A可以为光敏传感器的照射范围，光敏传感器被构造成清理装置2放置在棚位5上后能够检测到棚位5而被触发，具体地，当清理装置2未放置在棚位5上时，光敏传感器无法照射到棚位5，从而无法检测到棚位5而不能被触发，当传送装置1将清理装置2传送至棚位5后，光敏传感器能够检测到棚位5而被触发，从而能够控制清理装置2定时开始清理，可选地，光敏传感器可用于检测棚位5的底板。

在本发明的一些实施例中，清理装置2可以包括清洁装置20和行走装置4，行走装置4与清洁装置20相连以驱动清洁装置20移动，其中清洁装置20可用于对棚位5进行清洗，行走装置4用于驱动清洁装置20移动，从而使得清洁装置20能够对棚位5进行全面清洗，增加对棚位5的清洗面积和清洗效果。进一步地，清理装置2可设有电源装置，电源装置分别与清洁装置20和行走装置4相连以为清洁装置20和行走装置4提供动力源。

如图2所示，棚位5包括底板52和反光板51，结合图9和图11所示，清洁装置20可以包括用于清洗反光板51的第一清洁部21和用于清洗底板52的第二清洁部22。具体地，反光板51用于防止晶圆盒二次搬入，反光板51有污渍容易影响半导体存储架200重复搬入传感器的判断失误，底板52用于承载晶圆盒，底板52的表面有污渍从而会影响搬入的晶圆盒，容易影响产品的良率，因此在对棚位5进行清洗时，需对底板52的表面和反光板51进行清洗。其中反光板51设在底板52的侧部，第一清洁部21与反光板51位置对应，第二清洁部22与底板52位置对应，由此通过设置第一清洁部21可对反光板51进行清洗，通过第二清洁部22能够对底板52进行清洗，从而能够实现对棚位5的有效清理。

进一步地，清洁装置20还包括驱动装置23和与驱动装置23相连的传动装置，传动装置分别与第一清洁部21和第二清洁部22相连，驱动装置23通过传动装置分别驱动第一清洁部21和第二清洁部22转动，从而能够实现第一清洁部21和第二清洁部22对棚位5的清洗。对于驱动装置23和传动装置而言，驱动装置23可以为电机，传动装置可以为齿轮传动组件，电机驱动齿轮传动组件运行以带动第一清洁部21和第二清洁部22运行。

在本发明的一些具体示例中，驱动装置23可以包括第一清洁电机231和第二清洁电机232，传动装置包括与第一清洁电机231相连的第一齿轮传动组件291和与第二清洁电机232相连的第二齿轮传动组件295，第二清洁部22包括多个第二清洁刷221，第一齿轮传动组件291分别与第一清洁部21和至少一个第二清洁刷221相连，第二齿轮传动组件295与剩余其它第二清洁刷221相连。

具体地，半导体存储架200的棚位5可以包括底板52和反光板51，反光板51设在底板52的侧部，第一清洁部21与反光板51位置对应，第二清洁部22与底板52位置对应，第一清洁部21设在第二清洁部22的侧部，第二清洁部22包括多个第二清洁刷221，多个第二清洁刷221沿底板52的宽度方向成排设置，进一步地，多个第二清洁刷221的在底板52的宽度方向的清洁范围至少能够覆盖底板52的表面宽度，从而通过多个第二清洁刷221能够在宽度方向对棚位5进行完全清洗。

第一清洁电机231能够驱动第一齿轮传动组件291以带动第一清洁部21和至少一个第二清洁刷221转动，第二清洁电机232能够驱动第二齿轮传动组件295以带动其它第二清洁刷221转动。由于第一清洁部21设在多个第二清洁刷221的侧部，这样，通过两个电机驱动不仅便于驱动装置23和第一清洁部21以及第二清洁部22之间的传动连接，而且通过第一清洁电机231不仅能够带动第一清洁部21转动，也能够带动第二清洁部22的部分第二清洁刷221转动，由此使得第一清洁电机231和第二清洁电机232均能够带动多个清洁刷转动，从而利于均衡每个清洁电机带动的清洁刷。

其中第一齿轮传动组件291可以为锥齿轮传动组件，第一清洁部21设在第二清洁刷221的侧部，通过锥齿轮传动组件从而便于第一清洁部21、第二清洁刷221以及第一清洁电机231的连接，第二齿轮传动组件295可以为圆柱齿轮组件，多个第二清洁刷221通过圆柱齿轮组件相连。在如图11所示的示例中，第一齿轮传动组件291可以包括与第一清洁电机231相连的第一锥齿轮292、与第一清洁部21相连的第二锥齿轮293和与第二清洁刷221相连的第三锥齿轮294，其中第一锥齿轮292和第三锥齿轮294分别与第二锥齿轮293啮合，第二齿轮传动组件296可以包括多个圆柱齿轮296，多个圆柱齿轮296分别与多个第二清洁刷221相连且多个圆柱齿轮296彼此依次啮合，第二清洁电机232可与多个圆柱齿轮296中的一个连接以驱动多个圆柱齿轮296转动。

在本发明的另一些示例中，驱动装置23可以包括第一清洁电机231和第二清洁电机232，第一清洁电机231可用于驱动第一清洁部21转动，第二清洁电机232用于驱动第二清洁部22的运行，具体地，第一清洁部21设在第二清洁部22的侧部，这样通过第一清洁电机231驱动第一清洁部21运行，通过第二清洁电机232驱动第二清洁部22运行，从而使得第一清洁部21和第二清洁部22能够分别通过不同电机驱动，不仅利于驱动装置23驱动位于不同方向的第一清洁部21和第二清洁部22的运行，而且由于清理装置2体积相对较小，采用的驱动电机相对较小，通过采用两个驱动电机也能够为第一清洁部21和第二清洁部22的运行提供足够的动力输出。而且第一清洁电机231和第一清洁部21之间以及第二清洁电机232和第二清洁部22之间采用独立的传动机构连接，相对采用一个电机同时驱动第一清洁部21和第二清洁部22运转，也能够简化传动装置的结构。

进一步地，如图8和图9所示，清理装置2还包括用于清理污渍的吸尘装置24，吸尘装置24设在第二清洁部22的一侧。这样通过吸尘装置24能够吸附清洁时扬起的灰尘，以提高清洁效果。其中吸尘装置24可以形成为吸尘器结构，例如吸尘装置24可以包括吸尘风机、滤尘袋以及吸尘通道等，吸尘通道具有吸尘口，吸尘口形成在清理装置2的下表面，吸尘风机运转从而吸尘口吸附带有灰尘的空气，空气沿吸尘通道流通，通过滤尘袋过滤后从而吸尘风机的出风口流出，从而达到吸尘清理的目的。

在本发明的一些实施例中，清理装置2还包括行走轨道3，清洁装置20设在行走轨道3上，行走装置4驱动清洁装置20沿行走轨道3可移动。这样，行走装置4驱动清洁装置20沿行走轨道3移动从而使得清洁装置20能够对棚位5进行全面清洗。可选地，行走轨道3可沿棚位5的前后方向延伸，这样，清理装置2沿棚位5的前后方向可移动，从而能够在前后方向上对棚位5进行全面清洗。

进一步地，如图9和图10所示，行走装置4可以包括行走电机41和丝杠组件42，丝杠组件42分别与行走电机41和清理装置2相连。丝杠组件42可以包括丝杠43、丝杠滑块44和限位轴承45，其中丝杠43与行走电机41相连，丝杠滑块44可滑动地设在丝杠43上且与清理装置2相连，限位轴承45为两个且分别固设在丝杠43的两端，丝杠滑块44设置在两个限位轴承45之间以对丝杠滑块44的滑动距离进行限位，这样行走电机41驱动丝杠43转动带动丝杠滑块44沿丝杠43滑动，丝杠滑块44运动从而带动清理装置2沿行走滑轨移动，通过限位轴承45能够限定丝杠滑块44的移动距离，以限定清理装置2的移动距离。

在本发明的一些实施例中，清理装置2还包括外壳，外壳的底部敞开且朝向反光板的一侧至少部分敞开，清洁装置20和行走装置4设在外壳内，清洁装置20包括第一清洁部21和第二清洁部22，这样，第一清洁部21可从底部伸出以便于对棚位5的底板52进行清理，第二清洁部22可从外壳的侧部伸出以对反光板51进行清理。可选地，外壳的底部和侧部均可完全敞开，即外壳的底部和朝向反光板51的一侧均不设置挡板，以便于对棚位5的清理。进一步地，清理装置2的外壳的大小形状可与用于盛放晶圆的晶圆盒大体相同，或者外壳也可在晶圆和的基础上进行改进以适于容纳清洁装置20和行走装置4，这样，不仅便于清理装置2置于棚位5上，也便于清理装置2与棚位5的定位连接。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (14)

1.一种半导体存储架清理系统，所述半导体存储架设有多个棚位，其特征在于，包括：

传送装置；

清理装置，所述清理装置用于对所述半导体存储架的棚位进行清理，所述清理装置与所述传送装置可分离连接，所述传送装置用于将所述清理装置传送至所述半导体存储架的多个所述棚位上。

2.根据权利要求1所述的半导体存储架清理系统，其特征在于，所述传送装置包括传送手臂，所述传送手臂的末端设有用于承载所述清理装置的承载台，所述承载台与所述清理装置可分离连接。

3.根据权利要求1所述的半导体存储架清理系统，其特征在于，所述清理装置设有开关装置，所述开关装置被构造成所述清理装置置于所述棚位后触发以定时启动所述清理装置开始清理。

4.根据权利要求3所述的半导体存储架清理系统，其特征在于，所述开关装置为压力传感器。

5.根据权利要求1所述的半导体存储架清理系统，其特征在于，所述清理装置包括清洁装置和行走装置，所述行走装置与所述清洁装置相连以驱动所述清洁装置移动。

6.根据权利要求5所述的半导体存储架清理系统，其特征在于，所述棚位包括底板和反光板，所述清洁装置包括用于清洗所述反光板的第一清洁部和用于所述清洗所述底板的第二清洁部。

7.根据权利要求6所述的半导体存储架清理系统，其特征在于，所述清洁装置还包括驱动装置和与所述驱动装置相连的传动装置，所述传动装置分别与所述第一清洁部和第二清洁部相连，所述驱动装置通过所述传动装置驱动所述第一清洁部和所述第二清洁部转动。

8.根据权利要求7所述的半导体存储架清理系统，其特征在于，所述驱动装置包括第一清洁电机和第二清洁电机，所述传动装置包括与所述第一清洁电机相连的第一齿轮传动组件和与所述第二清洁电机相连的第二齿轮传动组件，所述第二清洁部包括多个第二清洁刷，所述第一齿轮传动组件分别与所述第一清洁部和至少一个所述第二清洁刷相连，所述第二齿轮传动组件与剩余其它所述第二清洁刷相连。

9.根据权利要求8所述的半导体存储架清理系统，其特征在于，所述第一齿轮传动组件为锥齿轮传动组件，所述第二齿轮传动组件为圆柱齿轮传动组件。

10.根据权利要求6所述的半导体存储架清理系统，其特征在于，所述清理装置还包括用于清理污渍的吸尘装置，所述吸尘装置设在所述第二清洁部的一侧。

11.根据权利要求5所述的半导体存储架清理系统，其特征在于，所述清理装置还包括行走轨道，所述清洁装置设在所述行走轨道上，所述行走装置驱动所述清洁装置沿所述行走轨道移动。

12.根据权利要求10所述的半导体存储架清理系统，其特征在于，所述行走轨道沿所述棚位的前后方向延伸。

13.根据权利要求8所述的半导体存储架清理系统，其特征在于，所述行走装置包括行走电机和丝杠组件，所述丝杠组件分别与所述行走电机和所述清洁装置相连。

14.根据权利要求6所述的半导体存储架清理系统，其特征在于，所述清理装置还包括外壳，所述外壳的底部敞开且朝向所述反光板的一侧至少部分敞开，所述清洁装置和所述行走装置设在所述外壳内。

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