CN114046655B - 烧结气氛场均匀的烧结装置及方法 - Google Patents
烧结气氛场均匀的烧结装置及方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114046655B CN114046655B CN202111449586.6A CN202111449586A CN114046655B CN 114046655 B CN114046655 B CN 114046655B CN 202111449586 A CN202111449586 A CN 202111449586A CN 114046655 B CN114046655 B CN 114046655B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sintering
- space
- shell
- gas
- preheating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B5/00—Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated
- F27B5/04—Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated adapted for treating the charge in vacuum or special atmosphere
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B5/00—Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated
- F27B5/06—Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
- F27B5/14—Arrangements of heating devices
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B5/00—Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated
- F27B5/06—Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
- F27B5/16—Arrangements of air or gas supply devices
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B5/00—Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated
- F27B5/06—Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
- F27B5/14—Arrangements of heating devices
- F27B2005/143—Heating rods disposed in the chamber
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27M—INDEXING SCHEME RELATING TO ASPECTS OF THE CHARGES OR FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS
- F27M2003/00—Type of treatment of the charge
- F27M2003/04—Sintering
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
本发明公开了一种烧结气氛场均匀的烧结装置及方法,涉及烧结技术领域。该烧结气氛场均匀的烧结装置包括第一壳体、第二壳体及第一加热管。第二壳体设置于第一壳体内,且之间具有预热空间。第一加热管设置于预热空间内,第一加热管为空心管,并开设有多个第二进气口。第一壳体设有伸入预热空间的第一进气管,且第一进气管与第一加热管连通,以使气体能够依次经第一进气管、第一加热管、第二进气口进入预热空间,且在预热空间内的气体达到预设压力时能够经第二壳体渗透至第二壳体内。烧结气氛场均匀的烧结方法应用于烧结气氛场均匀的烧结装置,该烧结气氛场均匀的烧结装置及方法均具有能够保持烧结空间内温度场和气氛场均较均匀的特点。
Description
技术领域
本发明涉及烧结技术领域,具体而言,涉及一种烧结气氛场均匀的烧结装置及方法。
背景技术
真空烧结炉是指在真空环境中对被加热物品进行保护性烧结的炉子,现被广泛应用于硬质合金和陶瓷等材料的工业生产当中。现有使用的烧结炉难以保证炉内气氛场的均匀;特别是在向真空烧结炉通入低温气体时,会与炉内高温气体交叉流动,引起炉内气体不稳定,破坏炉内温度场及气氛场的均匀性。
有鉴于此,研发设计出一种能够解决上述技术问题的烧结气氛场均匀的烧结装置及方法显得尤为重要。
发明内容
本发明的目的在于提供一种烧结气氛场均匀的烧结装置及方法,其均具有能够保持烧结空间内温度场和气氛场均较均匀的特点。
本发明提供一种技术方案:
第一方面,本发明实施例提供了一种烧结气氛场均匀的烧结装置,其包括第一壳体、第二壳体及第一加热管;
所述第二壳体内设有烧结空间,所述烧结空间用于容置被烧结物;所述第二壳体设置于所述第一壳体内,且所述第二壳体的外侧面与所述第一壳体的内壁之间具有预热空间;
所述第一加热管设置于所述预热空间内,且用于加热,所述第一加热管为空心管,并开设有多个第二进气口;所述第一壳体设有伸入所述预热空间的第一进气管,且所述第一进气管与所述第一加热管连通,以使气体能够依次经所述第一进气管、所述第一加热管、所述第二进气口进入所述预热空间,且在所述预热空间内的所述气体达到预设压力时,所述气体能够经所述第二壳体渗透至所述烧结空间内。
结合第一方面,在第一方面的另一种实现方式中,所述第一进气管和所述第一加热管的数量均为多根,多根所述第一加热管沿所述第二壳体的外侧面依次间隔排列设置,且多根所述第一进气管与多根所述第一加热管一一连通;
所述烧结气氛场均匀的烧结装置还包括导气件,所述导气件与多根所述第一进气管连通,以向多根所述第一进气管输送所述气体。
结合第一方面及其上述实现方式,在第一方面的另一种实现方式中,所述烧结气氛场均匀的烧结装置还包括多个分隔件;
所述多个分隔件间隔设置于所述预热空间内,且与所述第二壳体的外侧面及所述第一壳体的内壁连接,以分隔所述预热空间为多个分隔空间;且多个所述第二进气口与多个所述分隔空间一一对应,以通过多个所述第二进气口分别向多个所述分隔空间通入所述气体。
结合第一方面及其上述实现方式,在第一方面的另一种实现方式中,所述第二壳体为水平筒体,所述预热空间由所述第二壳体顶部沿所述第二壳体的外侧面延伸,并呈开口向下的C状空间设置;
所述分隔件由所述第二壳体顶部沿所述第二壳体的外侧面延伸,以使所述分隔空间呈开口向下的C状空间设置。
结合第一方面及其上述实现方式,在第一方面的另一种实现方式中,所述第二壳体为水平筒体,所述预热空间由所述第二壳体顶部沿所述第二壳体的外侧面延伸,并呈开口向下的C状空间设置;所述烧结空间内设有用于承载所述被烧结物的承载件,所述承载件的高度高于所述预热空间两端的高度。
结合第一方面及其上述实现方式,在第一方面的另一种实现方式中,所述第一加热管的数量为多根,且多根所述第一加热管沿所述第二壳体的外周依次排列设置,并均沿所述第二壳体的轴向方向延伸;在指向所述第二壳体顶部的周向方向上,相邻两根所述第一加热管之间的间距逐渐增大。
结合第一方面及其上述实现方式,在第一方面的另一种实现方式中,所述第二壳体的外侧面与所述第一壳体的内壁之间还具有排气空间;
所述排气空间与所述预热空间首尾相接,共同绕所述第二壳体外周设置;
所述第一壳体的底部设有第一排气管,所述第一排气管与所述排气空间的中部对应,并与所述排气空间连通。
结合第一方面及其上述实现方式,在第一方面的另一种实现方式中,所述第二壳体与所述排气空间对应的部分开设有多个第一排气口,多个所述第一排气口沿所述第二壳体的轴向方向分布设置,且由所述第一排气口至所述第二壳体两端的方向上,所述第一排气口的口径逐渐增大。
结合第一方面及其上述实现方式,在第一方面的另一种实现方式中,所述承载件上开设有多个第二排气口,多个所述第二排气口沿所述第二壳体的轴向方向延伸设置,且由所述第二壳体中部至所述第二壳体两端的方向上,所述第二排气口的口径逐渐增大。
第二方面,本发明实施例还提供了一种烧结气氛场均匀的烧结方法,其应用于上述的烧结气氛场均匀的烧结装置;所述烧结气氛场均匀的烧结方法包括:
通过所述第一加热管预热流经所述第一加热管的所述气体;
通过所述预热空间预热经所述第二进气口进入所述预热空间内的所述气体;
通过所述第二壳体使得所述预热空间内的所述气体在达到预设压力时经所述第二壳体渗透至所述烧结空间内。
相比现有技术,本发明实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置相对于现有技术的有益效果包括:
该烧结气氛场均匀的烧结装置包括第一壳体、第二壳体及第一加热管,其中,第二壳体内设有烧结空间,该烧结空间用于容置被烧结物,第二壳体设置于第一壳体内,并且,第二壳体的外侧面与第一壳体的内壁之间具有预热空间。而第一加热管设置于预热空间内,且用于加热,从而对烧结空间内的被烧结物进行加热,该第一加热管为空心管,且第一加热管上开设有多个第二进气口。而第一壳体设有伸入预热空间的第一进气管,且第一进气管与第一加热管连通,该第一进气管用于输入气体,以使气体能够依次经第一进气管、第一加热管、第二进气口进入预热空间,并且,在预热空间内的气体达到预设压力时,气体能够经第二壳体渗透至烧结空间内。这样一来,气体先经过第一加热管进入预热空间,再经第二壳体渗透至烧结空间内,使得气体在第一加热管及预热空间两个气氛场中进行了预热,从而使得进入烧结空间的气体与烧结空间内的气体之间的温度差较小,从而减少通入气体时对烧结空间内温度场和气氛场的影响,提高烧结空间内温度场和气氛场的均匀性,并且,通过渗透通入气体的方式,从而保证气体均匀地进入烧结区,进入的气体与烧结空间内的气体之间交叉对流的程度较小,进一步减少了进入气体对烧结空间内气氛场均匀性及温度场均匀性的影响。
本发明实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结方法相对于现有技术的有益效果与上述的烧结气氛场均匀的烧结装置相对于现有技术的有益效果相同,在此不再赘述。
为使本发明的上述目的、特征及优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合所附附图,作详细说明如下。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍。应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定。对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置的立体结构示意图。
图2为本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置在侧向视角下的结构示意图。
图3为图2中A-A处的剖面结构示意图。
图4为图2中B-B处的剖面结构示意图。
图5为本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置的部分切割结构示意图。
图6为图5中I处的局部结构放大示意图。
图7为图5中II处的局部结构放大示意图。
图8为本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置的第一加热管的结构示意图。
图9为本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置的承载件的结构示意图。
图10为本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置的第二壳体的结构示意图。
图11为本发明第二实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结方法的流程示意图。
图标:10-烧结气氛场均匀的烧结装置;11-第一壳体;111-预热空间;112-分隔件;113-分隔空间;114-保温盖;115-排气空间;116-主进气管;117-导气件;118-第一进气管;119-第一排气管;12-第二壳体;120-烧结空间;121-第一排气口;13-炉门;14-炉壳;15-端盖;16-第一加热管;161-第二进气口;17-第二加热管;18-承载件;181-第二排气口;19-支撑件。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。术语“上”、“下”、“内”、“外”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,“设置”、“连接”等术语应做广义理解,例如,“连接”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接连接,也可以通过中间媒介间接连接,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
第一实施例:
下面结合附图,对本发明的具体实施方式进行详细说明。
请参阅图1,图1为本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置10的立体结构示意图。
本发明第一实施例提供一种烧结气氛场均匀的烧结装置10,该烧结气氛场均匀的烧结装置10具有能够保持烧结空间120内温度场和气氛场均较均匀的特点。该烧结气氛场均匀的烧结装置10能够应用于烧结装置等场景,当然,该烧结气氛场均匀的烧结装置10也能够独立使用。在烧结气氛场均匀的烧结装置10应用于烧结装置时,烧结装置的电源机构及真空泵等装置可与烧结气氛场均匀的烧结装置10连接,以为烧结炉提供电源,或进行抽真空等工作,以辅助烧结气氛场均匀的烧结装置10完成烧结工作,由于烧结装置采用了本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置10,所以该烧结装置也具有能够保持烧结空间120内温度场和气氛场均较均匀的特点,从而保证所烧结产品的质量。
以下将具体介绍本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置10的结构组成、工作原理及有益效果。
请参阅图2-图5,图2为本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置10在侧向视角下的结构示意图。图3为图2中A-A处的剖面结构示意图。图4为图2中B-B处的剖面结构示意图。图5为本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置10的部分切割结构示意图。
该烧结气氛场均匀的烧结装置10包括第一壳体11、第二壳体12及第一加热管16,其中,第二壳体12内设有烧结空间120,该烧结空间120用于容置被烧结物,第二壳体12设置于第一壳体11内,并且,第二壳体12的外侧面与第一壳体11的内壁之间具有预热空间111。而第一加热管16设置于预热空间111内,且用于加热,从而对烧结空间120内的被烧结物进行加热,该第一加热管16为空心管,且第一加热管16上开设有多个第二进气口161。而第一壳体11设有伸入预热空间111的第一进气管118,且第一进气管118与第一加热管16连通,该第一进气管118用于输入气体,以使气体能够依次经第一进气管118、第一加热管16、第二进气口161进入预热空间111,并且,在预热空间111内的气体达到预设压力时,气体能够经第二壳体12渗透至烧结空间120内。这样一来,气体先经过第一加热管16进入预热空间111,再经第二壳体12渗透至烧结空间120内,使得气体在第一加热管16及预热空间111两个气氛场中进行了预热,从而使得进入烧结空间120的气体与烧结空间120内的气体之间的温度差较小,从而减少通入气体时对烧结空间120内温度场和气氛场的影响,提高烧结空间120内温度场和气氛场的均匀性,并且,通过渗透通入气体的方式,从而保证气体均匀地进入烧结区,进入的气体与烧结空间120内的气体之间交叉对流的程度较小,进一步减少了进入气体对烧结空间120内气氛场均匀性及温度场均匀性的影响。
需要说明的是,在本实施例中,第二壳体12为石墨壳体,以便于气体渗透,当然,在其他实施例中,第二壳体12也可为其他气体可渗透的材料制成。
并且,第一壳体11为保温壳体,以为烧结空间120及预热空间111保温,提高对第一加热管16及预热空间111内气体的预热效果。
此外,在本实施例中,烧结气氛场均匀的烧结装置10还包括炉壳14,炉壳14为筒状结构,其的两端分别设置有炉门13及端盖15,第一壳体11及第二壳体12也为筒状结构,且均设置于炉壳14内,在炉门13关闭时,可封闭烧结空间120,在第一壳体11接第二壳体12的两端,设有保温盖114,以封闭预热空间111。
请继续参阅图3-图5,以及参阅图6和图7,图6为图5中I处的局部结构放大示意图。图7为图5中II处的局部结构放大示意图。
第一进气管118和第一加热管16的数量可均为多根,且多根第一加热管16沿第二壳体12的外侧面依次间隔排列设置,多根第一进气管118与多根第一加热管16一一连通,而烧结气氛场均匀的烧结装置10还可包括导气件117,导气件117与多根第一进气管118连通,以向多根第一进气管118输送气体,换言之,气体经导气件117分散至多个第一进气管118,再进入不同的第一加热管16,再经第一加热管16上不同的第二进气口161进入预热空间111,以使气体能够较均匀的进入到预热空间111,以便于较均匀地渗透至烧结空间120内。
需要说明的是,在本实施例中,导气件117沿第一壳体11的外侧面延伸设置,导气件117内的导气通道为导气件117与第一壳体11外侧面之间共同围成的,并且,在导气件117的中部设有主进气管116,以通过主进气管116向导气件117输送气体,从而较均匀的向不同的第一进气管118输送气体。在本实施例中,中部是指将对应物件按其长度分为三等份时,其中的中间等份所对应的位置。
进一步地,烧结气氛场均匀的烧结装置10还可包括多个分隔件112,且多个分隔件112间隔设置于预热空间111内,且分隔件112与第二壳体12的外侧面及第一壳体11的内壁连接,以分隔预热空间111为多个分隔空间113,或者说,分隔件112设置于第二壳体12的外侧面及第一壳体11的内壁之间,以支撑起预热空间111。并且,多个第二进气口161与多个分隔空间113一一对应,或者说,一根第一加热管16上的一个第二进气口161用于向一个分隔空间113输送气体,以通过多个第二进气口161分别向多个分隔空间113通入气体,以使气体能够较均匀地输送至预热空间111内的不同位置。
请继续参阅图3-图7,以及参阅图8,图8为本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置10的第一加热管16的结构示意图。
第二壳体12为水平设置的筒体,而预热空间111为由第二壳体12顶部沿第二壳体12的外侧面延伸的,并呈开口向下设置的C状空间,以包裹大部分烧结空间120,而分隔件112由第二壳体12顶部沿第二壳体12的外侧面延伸,以使分隔空间113呈开口向下的C状空间设置,或者说,分隔件112竖向分隔预热空间111,以使分隔空间113也为开口向下的C状空间,这样一来,由于气体在被加热后,会具有上移并聚集在顶部的趋势,设置开口向下的C状分隔空间113后,其内部的气体在预热后,也能够上移并聚集在顶部,使得其内的气体分布与烧结空间120内的气体分布大致相同,以进一步降低预热空间111内的气体渗透进入到烧结空间120时对烧结空间120内的气氛场和温度场均匀性的影响。
进一步地,烧结空间120内还可设有用于承载被烧结物的承载件18,被烧结物在承载件18上进行烧结作业,而承载件18的高度高于预热空间111两端的高度,这样一来,在预热空间111内的气体渗透进入烧结空间120时,气体将同时由烧结空间120的顶部及被烧结物的两侧的侧面渗透进入,且部分气体还从斜向上的方向被烧结物渗透进入,以进一步提高被烧结物外周温度场及气氛场的均匀性。
并且,在本实施例中,第一加热管16的数量为多根,且多根第一加热管16沿第二壳体12的外周依次排列设置,并均沿第二壳体12的轴向方向延伸。而在指向第二壳体12顶部的周向方向上,相邻两根第一加热管16之间的间距逐渐增大,或者说,靠近第二壳体12顶部的第一加热管16之间更稀疏,靠近预热空间111两端的第一加热管16之间更密集,这样一来,由于气体在被加热后,会具有上移并聚集在顶部的趋势,这使得预热空间111顶部的气体浓度较高,通过在较低位置设置更密集的第一加热管16,以使预热空间111内较低位置通入气体的流量更大,从而使得经较低位置和较高位置渗透至第二壳体12内的气体流量大致相同,使得预热空间111内的气体能够较均匀地渗透进入到烧结空间120。
需要说明的是,在本实施例中,第一加热管16与第一壳体11内壁之间具有间隔,第一加热管16与第二壳体12的外侧面之间也具有间隔,以较均匀地加热第二壳体12,且第二进气口161背向第二壳体12设置,以增加进入预热空间111的气体的停留时间,提高预热效果,也避免进入的气体直接渗透至烧结空间120内。并且,在本实施例中,第一加热管16依次穿过多个分隔件112,且两端与保温盖114连接,从而连接第一加热管16于预热空间111内,保温盖114还能与第一加热管16电连接,以向第一加热管16输送电能。
此外,第一加热管16的加热功率由中部至两端逐渐增大,以降低第二壳体12端部和中部的温度差,提高加热的均匀性。在本实施例中,第一加热管16为电阻加热器,其中部直径较大,两端直径较小,以实现第一加热管16的加热功率由中部至两端逐渐增大的目的,其结构简单,便于生产制造。
请继续参阅图4,以及参阅图9和图10,图9为本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置10的承载件18的结构示意图。图10为本发明第一实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结装置10的第二壳体12的结构示意图。
第二壳体12的外侧面与第一壳体11的内壁之间还可具有排气空间115,该排气空间115与预热空间111首尾相接,以共同绕设于第二壳体12外周,并且,在第一壳体11的底部设有第一排气管119,第一排气管119与排气空间115的中部对应,且与排气空间115连通,这样一来,在进行排出蜡气的工作时,烧结空间120中的蜡气可由第二壳体12与排气对应的部分渗透至排气空间115,再由第一排气管119排出,其排气较均匀,且排气空间115起到了缓冲作用,从而减少排气时产生的气流对烧结空间120内的气氛场均匀性和温度场均匀性的影响,并且,在排气时可同时进行通入气体的操作,这样一来,气体经第二壳体12上与预热空间111对应的部分渗透至烧结空间120,再经第二壳体12上与排气空间115对应的部分渗透至排气空间115,这使得烧结空间120内的气体大致由上向下流动,气体交叉流动的程度较小,进一步减少了排气时产生的气流对烧结空间120内的气氛场均匀性和温度场均匀性的影响。
进一步地,第二壳体12与排气空间115对应的部分开设有多个第一排气口121,多个第一排气口121沿第二壳体12的轴向方向分布设置,且由第一排气口121至第二壳体12两端的方向上,第一排气口121的口径逐渐增大,或者说,靠近第一排气管119的第一排气口121口径较小,以在排出蜡气时,蜡气能够更多分布到远离第一排气管119的位置,降低聚集程度,提高排气的均匀性。
并且,在本实施例中,承载件18上开设有多个第二排气口181,多个第二排气口181沿第二壳体12的轴向方向延伸设置,且由第二壳体12中部至第二壳体12两端的方向上,第二排气口181的口径逐渐增大,或者说,靠近第一排气管119的第二排气口181的口径较小,也能够在排出蜡气时,将部分蜡气分布到远离第一排气管119的位置,从而降低蜡气的聚集程度,进一步提高排气的均匀性。在本实施例中,第二排气口181为条形孔,且沿承载件18的宽度方向延伸设置,以降低被烧结物完全遮挡第二排气口181的几率,提高排气时的顺畅度。
并且,在本实施例中,烧结气氛场均匀的烧结装置10还包括支撑件19,支撑件19连接于炉壳14内,且伸入第二壳体12内,以支撑承载件18,而承载件18滑动连接于支撑件19,以便于承载件18沿支撑件19滑入或滑出烧结空间120。且在本实施例中,支撑件19经第一壳体11与排气空间115对应的部分、排气空间115及第二壳体12与排气空间115对应的部分穿入烧结空间120内,其不影响第二壳体12与预热空间111对应的部分,保证了第二壳体12与预热空间111对应部分的完整性,以避免因支撑件19与第二壳体12之间的装配间隙进气而影响烧结空间120内气场不均的情况出现。此外,烧结气氛场均匀的烧结装置10还包括第二加热管17,该第二加热管17设置在排气空间115内,以便于对被烧结物底部加热,提高烧结作业的均匀性。
在使用时,可向打开炉门13,被烧结物放置在承载件18上,将承载件18送入烧结空间120内,启动第一加热管16及第二加热管17开始升温,到达一定温度时,通入氢气,氢气经主进气管116、导气件117、第一进气管118、第一加热管16、第二进气口161进入预热空间111中不同位置的分隔空间113,到达一定压力之后再透过对应的第二壳体12进入烧结空间120,排气时,氢气可由上之下,穿过承载件18上面的第二排气口181及第一排气口121进入排气空间115,再通过第一排气管119排出。
综上所述,本发明第一实施例提供一种烧结气氛场均匀的烧结装置10,其具有能够保持烧结空间120内温度场和气氛场均较均匀的特点。
第二实施例:
请参阅图11,图11为本发明第二实施例提供的烧结气氛场均匀的烧结方法的流程示意图。
本发明第二实施例提供了一种烧结气氛场均匀的烧结方法,其应用于上述实施例中的烧结气氛场均匀的烧结装置10;其基本原理及产生的技术效果和上述实施例相同,为简要描述,本实施例部分未提及之处,可参考上述的实施例中相应内容。
烧结气氛场均匀的烧结方法包括:
步骤S100:通过第一加热管16预热流经第一加热管16的气体;
步骤S200:通过预热空间111预热经第二进气口161进入预热空间111内的气体;
步骤S300:通过第二壳体12使得预热空间111内的气体在达到预设压力时经第二壳体12渗透至烧结空间120内。
这样一来,气体先经过第一加热管16进入预热空间111,再经第二壳体12渗透至烧结空间120内,使得气体在第一加热管16及预热空间111两个气氛场中分别进行了预热,且通过渗透通入气体的方式,从而保证气体均匀地进入烧结区,减少进入的气体与烧结空间120内的气体之间交叉对流的程度。
此外,该预热空间111还设有分隔预热空间111的部件,在第二壳体12的外侧面与第一壳体11的内壁之间还设有与预热空间111对应的排气空间115,其基本原理及产生的技术效果和上述实施例相同,此处不再赘述。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,在不冲突的情况下,上述的实施例中的特征可以相互组合,本发明也可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。并且,应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的。
Claims (8)
1.一种烧结气氛场均匀的烧结装置,其特征在于,包括第一壳体(11)、第二壳体(12)及第一加热管(16);
所述第二壳体(12)内设有烧结空间(120),所述烧结空间(120)用于容置被烧结物;所述第二壳体(12)设置于所述第一壳体(11)内,且所述第二壳体(12)的外侧面与所述第一壳体(11)的内壁之间具有预热空间(111);
所述第一加热管(16)设置于所述预热空间(111)内,且用于加热,所述第一加热管(16)为空心管,并开设有多个第二进气口(161);所述第一壳体(11)设有伸入所述预热空间(111)的第一进气管(118),且所述第一进气管(118)与所述第一加热管(16)连通,以使气体能够依次经所述第一进气管(118)、所述第一加热管(16)、所述第二进气口(161)进入所述预热空间(111),且在所述预热空间(111)内的所述气体达到预设压力时,所述气体能够经所述第二壳体(12)渗透至所述烧结空间(120)内;
所述第一进气管(118)和所述第一加热管(16)的数量均为多根,多根所述第一加热管(16)沿所述第二壳体(12)的外侧面依次间隔排列设置,且多根所述第一进气管(118)与多根所述第一加热管(16)一一连通;
所述烧结气氛场均匀的烧结装置还包括导气件(117),所述导气件(117)与多根所述第一进气管(118)连通,以向多根所述第一进气管(118)输送所述气体;
所述烧结气氛场均匀的烧结装置还包括多个分隔件(112);
所述多个分隔件(112)间隔设置于所述预热空间(111)内,且与所述第二壳体(12)的外侧面及所述第一壳体(11)的内壁连接,以分隔所述预热空间(111)为多个分隔空间(113);且多个所述第二进气口(161)与多个所述分隔空间(113)一一对应,以通过多个所述第二进气口(161)分别向多个所述分隔空间(113)通入所述气体。
2.根据权利要求1所述的烧结气氛场均匀的烧结装置,其特征在于,所述第二壳体(12)为水平筒体,所述预热空间(111)由所述第二壳体(12)顶部沿所述第二壳体(12)的外侧面延伸,并呈开口向下的C状空间设置;
所述分隔件(112)由所述第二壳体(12)顶部沿所述第二壳体(12)的外侧面延伸,以使所述分隔空间(113)呈开口向下的C状空间设置。
3.根据权利要求1所述的烧结气氛场均匀的烧结装置,其特征在于,所述第二壳体(12)为水平筒体,所述预热空间(111)由所述第二壳体(12)顶部沿所述第二壳体(12)的外侧面延伸,并呈开口向下的C状空间设置;
所述烧结空间(120)内设有用于承载所述被烧结物的承载件(18),所述承载件(18)的高度高于所述预热空间(111)两端的高度。
4.根据权利要求3所述的烧结气氛场均匀的烧结装置,其特征在于,所述第一加热管(16)的数量为多根,且多根所述第一加热管(16)沿所述第二壳体(12)的外周依次排列设置,并均沿所述第二壳体(12)的轴向方向延伸;在指向所述第二壳体(12)顶部的周向方向上,相邻两根所述第一加热管(16)之间的间距逐渐增大。
5.根据权利要求3所述的烧结气氛场均匀的烧结装置,其特征在于,所述第二壳体(12)的外侧面与所述第一壳体(11)的内壁之间还具有排气空间(115);
所述排气空间(115)与所述预热空间(111)首尾相接,共同绕所述第二壳体(12)外周设置;
所述第一壳体(11)的底部设有第一排气管(119),所述第一排气管(119)与所述排气空间(115)的中部对应,并与所述排气空间(115)连通。
6.根据权利要求5所述的烧结气氛场均匀的烧结装置,其特征在于,所述第二壳体(12)与所述排气空间(115)对应的部分开设有多个第一排气口(121),多个所述第一排气口(121)沿所述第二壳体(12)的轴向方向分布设置,且由所述第一排气口(121)至所述第二壳体(12)两端的方向上,所述第一排气口(121)的口径逐渐增大。
7.根据权利要求5所述的烧结气氛场均匀的烧结装置,其特征在于,所述承载件(18)上开设有多个第二排气口(181),多个所述第二排气口(181)沿所述第二壳体(12)的轴向方向延伸设置,且由所述第二壳体(12)中部至所述第二壳体(12)两端的方向上,所述第二排气口(181)的口径逐渐增大。
8.一种烧结气氛场均匀的烧结方法,其特征在于,应用于如权利要求1-7中任意一项所述的烧结气氛场均匀的烧结装置;所述烧结气氛场均匀的烧结方法包括:
通过所述第一加热管(16)预热流经所述第一加热管(16)的所述气体;
通过所述预热空间(111)预热经所述第二进气口(161)进入所述预热空间(111)内的所述气体;
通过所述第二壳体(12)使得所述预热空间(111)内的所述气体在达到预设压力时经所述第二壳体(12)渗透至所述烧结空间(120)内。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202111449586.6A CN114046655B (zh) | 2021-12-01 | 2021-12-01 | 烧结气氛场均匀的烧结装置及方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202111449586.6A CN114046655B (zh) | 2021-12-01 | 2021-12-01 | 烧结气氛场均匀的烧结装置及方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN114046655A CN114046655A (zh) | 2022-02-15 |
CN114046655B true CN114046655B (zh) | 2022-07-12 |
Family
ID=80212136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202111449586.6A Active CN114046655B (zh) | 2021-12-01 | 2021-12-01 | 烧结气氛场均匀的烧结装置及方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN114046655B (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114754585B (zh) * | 2022-04-21 | 2024-03-26 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 烧结设备 |
CN115200365B (zh) * | 2022-07-13 | 2023-09-08 | 四川大学 | 一种具有对称导流结构的烧结装置 |
CN115164593B (zh) * | 2022-07-13 | 2023-08-04 | 四川大学 | 一种具有异形石墨盒的均匀气氛烧结炉 |
CN115183584B (zh) * | 2022-07-14 | 2023-08-11 | 四川大学 | 一种多级均流烧结装置及方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN200952900Y (zh) * | 2006-09-27 | 2007-09-26 | 比亚迪股份有限公司 | 一种气氛保护装置 |
TW201721074A (zh) * | 2015-12-09 | 2017-06-16 | Metal Ind Res & Dev Ct | 具有熱流場均勻化之蓄熱式燃燒器 |
CN206531390U (zh) * | 2016-11-17 | 2017-09-29 | 湖南瑞翔新材料股份有限公司 | 一种正极材料烧结用马弗炉 |
CN207556266U (zh) * | 2017-06-28 | 2018-06-29 | 长兴鑫迪耐火材料厂 | 一种提供氧化氛围的电窑 |
CN111306931A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-06-19 | 时新 | 一种气氛填充均匀的高效型箱式炉 |
CN214199733U (zh) * | 2020-12-30 | 2021-09-14 | 湖南维尚科技有限公司 | 一种压力烧结炉内杂质气的排出结构 |
-
2021
- 2021-12-01 CN CN202111449586.6A patent/CN114046655B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN200952900Y (zh) * | 2006-09-27 | 2007-09-26 | 比亚迪股份有限公司 | 一种气氛保护装置 |
TW201721074A (zh) * | 2015-12-09 | 2017-06-16 | Metal Ind Res & Dev Ct | 具有熱流場均勻化之蓄熱式燃燒器 |
CN206531390U (zh) * | 2016-11-17 | 2017-09-29 | 湖南瑞翔新材料股份有限公司 | 一种正极材料烧结用马弗炉 |
CN207556266U (zh) * | 2017-06-28 | 2018-06-29 | 长兴鑫迪耐火材料厂 | 一种提供氧化氛围的电窑 |
CN111306931A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-06-19 | 时新 | 一种气氛填充均匀的高效型箱式炉 |
CN214199733U (zh) * | 2020-12-30 | 2021-09-14 | 湖南维尚科技有限公司 | 一种压力烧结炉内杂质气的排出结构 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114046655A (zh) | 2022-02-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN114046655B (zh) | 烧结气氛场均匀的烧结装置及方法 | |
KR101193169B1 (ko) | 극판 건조장치 및 방법 | |
US9845534B2 (en) | CVI densification installation including a high capacity preheating zone | |
US10233540B2 (en) | Device for loading porous substrates of three-dimensional shape in order to be densified by directed flow chemical vapor infiltration | |
CN113847806B (zh) | 烧结炉及烧结装置 | |
KR100985377B1 (ko) | 화학적 증기침투에 의한 기판의 치밀화 방법 및 이의 장치 | |
US20200309454A1 (en) | Method for manufacturing ceramic product containing silicon carbide | |
US11512024B2 (en) | Method for densifying porous annular substrates by chemical vapour infiltration | |
CN110603417A (zh) | 一种真空脱脂烧结炉及其使用方法 | |
TW200908202A (en) | Thermal batch reactor with removable susceptors | |
KR20220004620A (ko) | 밀폐로 | |
US11766718B2 (en) | Compound furnace | |
US11859281B2 (en) | Ampoule for a semiconductor manufacturing precursor | |
CN115183584B (zh) | 一种多级均流烧结装置及方法 | |
CN112687596A (zh) | 晶舟、工艺腔室及半导体工艺设备 | |
CN115164593B (zh) | 一种具有异形石墨盒的均匀气氛烧结炉 | |
JP7081037B1 (ja) | 連続加熱炉 | |
CN211595793U (zh) | 一种气相沉积炉 | |
JP7013608B1 (ja) | 連続焼成炉 | |
CN113314248A (zh) | 辐照装置 | |
JP2008179517A (ja) | ガラス母材の製造装置及び製造方法 | |
CN210486472U (zh) | 可分离式坩埚熔融机炉体 | |
CN115200365B (zh) | 一种具有对称导流结构的烧结装置 | |
CN220550222U (zh) | 气体预热装置和沉积炉 | |
CN209295678U (zh) | 烧成炉的炉膛侧墙防开裂排气装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |