CN114026697A - 抑制通过oled显示器透射的光的散射 - Google Patents

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Abstract

一种装置，包括显示面板，该显示面板包括具有第一像素密度的第一像素区域和具有高于第一像素密度的第二像素密度的第二像素区域，该面板被配置为生成可从前侧观看的图像，以及位于后侧的传感器，该传感器被布置为接收通过第一像素区域从前侧透射到后侧的入射光。第一像素区域具有发光像素和电连接与像素相关联的像素电路的信号线，并且面板包括具有遮光材料的层，该遮光材料被图案化以提供孔，从而透射在一些发光像素和信号线之间的入射光，并且阻挡来自像素电路和信号线的入射光。孔可以有不同的尺寸。

Description

抑制通过OLED显示器透射的光的散射
背景技术
本公开涉及显示器，特别是有机发光二极管(OLED)显示器，其包括位于显示面板下方的前侧传感器，例如相机。当将相机放置在显示面板下时，例如在无边框智能电话中，相机通过显示面板捕获的图像可能会出现严重的雾度(haze)。例如，像素电路和连接像素电路的迹线可以在光穿过显示面板时散射光。这种效果在高像素密度的高分辨率显示器，例如许多智能电话中使用的显示器中尤其明显。
发明内容
总的来说，在第一方面，本发明的特征在于一种装置，该装置包括显示面板，该显示面板包括具有第一像素密度的第一像素区域和具有高于第一像素密度的第二像素密度的第二像素区域，该显示面板被配置为生成从显示面板的前侧可观看的图像；以及传感器，其位于显示器的后侧，并被布置为接收通过第一像素区域从显示器的前侧透射到显示器的后侧的入射光。第一像素区域具有发光像素和电连接与发光像素相关联的像素电路的信号线，并且显示面板包括具有遮光材料的层，该遮光材料被图案化以提供孔，从而透射至少一些发光像素和信号线之间的入射光，并且阻挡来自像素电路和信号线的入射光。孔包括第一孔和第二孔，第一孔在第一方向上具有第一尺寸，第二孔在第二方向上具有第二尺寸，第一尺寸不同于第二尺寸。
该装置的实施例可以包括一个或多个以下特征。例如，至少一些发光像素被布置成像素簇。像素簇可以包括两个或更多个像素(例如，四个或更多个像素)。
第一方向可以不同于第二方向。第一方向可以与第二方向正交。
发光像素之间的间隔可以在至少一个方向上变化。在至少一个方向上变化的发光像素之间的间隔，可能意味着第一像素区域内的第一对相邻像素之间的间隔可以不同于第一像素区域内的第二对相邻像素之间的间隔。
孔可以在第一方向上非周期性地布置，例如在水平方向上。非周期性地布置，可能意味着第一方向上的孔的尺寸和/或间隔对于沿着第一方向的每个孔来说可能不是恒定的。
第一方向可以是水平方向。至少一些孔与水平方向正交的垂直方向上可以具有不同的尺寸。具有不同的尺寸，可能意味着至少一些孔具有彼此不相等的水平和垂直尺寸(例如，至少一些孔不是正方形或圆形)。
孔可以在第二方向上非周期性地布置。非周期性地布置，可能意味着第二方向上的孔的尺寸和/或间隔对于沿着第二方向的每个孔来说可能不是恒定的。
至少一些孔可以是直线形的。
在一些实施例中，至少一些孔是椭圆形或圆形的。孔可以包括不同椭圆度的椭圆孔。孔可以包括不同大小的椭圆形或圆形孔。
在一些实施例中，一些孔可以是直线形的，而其他孔是椭圆形或圆形的。
在一些实施例中，孔被布置为使得它们引入使用符合ASTM D1003的方法测量的小于1.9％的雾度。
第一和第二尺寸可以是50μm或更大。
传感器可以是相机。
该装置可以是智能电话或平板计算机。
显示器可以是有机发光二极管(OLED)显示器。
遮光层可以设置在发光像素的前面。遮光层还可以包括像素孔，该像素孔被配置为允许来自像素的光从显示器的前侧透射。
在一些实施例中，信号线布置在垂直和/或水平线上，这些垂直和/或水平线沿着在第一像素区域中的相邻像素和/或像素簇之间延伸的公共垂直和/或水平线。在某些实施例中，信号线布置在彼此偏移的垂直和/或水平线上。交替的水平信号线和/或垂直信号线可以偏移。例如，水平信号线可以被布置为使得链接第一像素簇和第二相邻像素簇的第一水平线部分相对于链接第二像素簇和与第二像素簇相邻的第三像素簇的第二水平线部分在垂直方向上偏移。此外，或者替代地，垂直信号线可以被布置为使得链接第四像素簇和第五相邻像素簇的第一垂直线部分相对于链接第五像素簇和与第五像素簇相邻的第六像素簇的第二垂直线部分在水平方向上偏移。
总的来说，在另一方面，本发明的特征在于一种装置，该装置包括显示面板，该显示面板包括具有第一像素密度的第一像素区域和具有高于第一像素密度的第二像素密度的第二像素区域，该显示面板被配置为生成从显示面板的前侧可观看的图像；以及传感器，其位于显示器的后侧，并被布置为接收通过第一像素区域从显示器的前侧透射到显示器的后侧的入射光。第一像素区域包括布置在像素簇中的发光像素和电连接与像素簇相关联的像素电路的信号线。显示面板包括具有遮光材料的层，该遮光材料被图案化以提供孔来透射像素簇和信号线之间的入射光，并阻挡来自像素簇和信号线的入射光。至少一些孔是椭圆形或圆形的。
该装置的实施例可以包括一个或多个以下特征和/或其他方面的特征，例如上面结合第一方面描述的特征。例如，每个孔可以是相同的大小和形状。
替代地或附加地，至少一些孔可以具有不同的大小和/或形状。也就是说，并非遮光材料中的所有孔可以具有彼此相同的大小和形状。
总的来说，在另一方面，本发明的特征在于一种装置，该装置包括显示面板，该显示面板包括具有第一像素密度的第一像素区域和具有高于第一像素密度的第二像素密度的第二像素区域，该显示面板被配置为生成从显示面板的前侧可观看的图像；以及传感器，其位于显示器的后侧，并被布置为接收通过第一像素区域从显示器的前侧透射到显示器的后侧的入射光。第一像素区域包括布置在像素簇中的发光像素和电连接与像素簇相关联的像素电路的信号线。显示面板包括具有遮光材料的层，该遮光材料被图案化以提供孔来透射像素簇和信号线之间的入射光，并阻挡来自像素簇和信号线的入射光。这些孔被布置为使得它们引入使用符合ASTM D1003的方法测量的小于1.9％的雾度。
该装置的实施例可以包括上文结合第一方面和/或其他方面描述的一个或多个特征。
根据另一个进一步的方面，本发明的特征在于一种装置，该装置包括显示面板，该显示面板包括具有第一像素密度的第一像素区域和具有高于第一像素密度的第二像素密度的第二像素区域，该面板被配置为生成从前侧可观看的图像，以及位于后侧的传感器，该传感器被布置为接收通过第一像素区域从前侧透射到后侧的入射光。第一像素区域具有发光像素和电连接与像素相关联的像素电路的信号线，并且面板包括具有遮光材料的层，该遮光材料被图案化以提供孔，从而透射在一些发光像素和信号线之间的入射光，并且阻挡来自像素电路和信号线的入射光。孔可以有不同的尺寸。
该装置的实施例可以包括上文结合第一方面和/或其他方面描述的一个或多个特征。
在其他优点中，本文公开的实施例可以从位于显示面板下方的相机提供高质量图像。例如，实施例可以包括掩模层，以减少穿过显示面板到达相机的光的散射和/或衍射。掩模层可以被设计成减少方向相关散射(例如，沿着水平和/或垂直轴)和/或大角度散射(例如，散射成20°或更大的角度)。掩模层可以阻挡来自像素电路和/或连接像素的迹线的光，减少其散射和/或衍射。
实施例还可以提供无边框设备，例如智能电话或平板计算机，其特征在于能够捕获高质量图像的前置相机。
从说明书、附图和权利要求中，其他特征和优点将变得显而易见。
附图说明
图1A和图1B是智能电话的平面图和横截面图，该智能电话的特征在于显示面板下方具有前置相机的显示器。
图2A是示出具有高像素密度的图1A所示的显示器的区域的像素簇图案的图。
图2B是示出具有低像素密度的图1A所示的显示器的区域的像素簇图案的图。
图3A是包括用于低像素密度区域的掩模层的显示器的横截面图。
图3B是示出图3A所示显示器的像素布置的平面图的示意图。
图3C是示出适用于图3B所示的像素布置的掩模层的平面图的示意图。
图4A示出了示例掩模图案的显微照片。
图4B示出了图4A所示的掩模图案的点扩展函数(PSF)的照片。
图4C示出了图4B所示的PSF的强度图。
图5A示出了掩模图案的另一个示例的显微照片。
图5B示出了图5A所示的掩模图案的点扩展函数(PSF)的照片。
图6A示出了掩模图案的另一个示例的显微照片。
图6B示出了图6A所示的掩模图案的点扩展函数(PSF)的照片。
图6C示出了图6B所示的PSF的强度图。
图7A示出了掩模图案的另一个示例的显微照片。
图7B示出了图7A所示的掩模图案的点扩展函数(PSF)的照片。
图7C示出了图7B所示的PSF的强度图。
图8A是示出包括像素簇的像素布置的平面图的示意图。
图8B是适于掩蔽图8A的像素布置的掩模层的平面图。
图8C示出了图8A所示的掩模图案的点扩展函数(PSF)的照片。
图9A是示出包括像素簇的另一像素布置的平面图的示意图。
图9B是适于掩蔽图9A的像素布置的掩模层的平面图。
图9C示出了图9A所示的掩模图案的点扩展函数(PSF)的照片。
图9D示出了图9C所示的PSF的强度图。
图10A是示出包括像素簇的另一像素布置的平面图的示意图。
图10B是适于掩蔽图10A的像素布置的掩模层的平面图。
图10C示出了图10A所示的掩模图案的点扩展函数(PSF)的强度图。
图11A是由变化的椭圆形孔组成的示例掩模层的显微照片。
图11B是图11A所示的显微照片，其中示出了像素簇和信号线。
图12是示出根据若干不同掩模层的散射角的透射强度的曲线图。
具体实施方式
参考图1A和图1B，智能电话100包括有机发光二极管(OLED)显示器110，其包括具有高像素密度的区域112和具有低像素密度的区域114。
相机130(和/或其他传感器)位于区域114下方的显示器后面。由镜头和像素化传感器组成的相机130通过显示器的区域114看到并捕获图像。这意味着检测到的光被显示器110的每一层透射，包括显示面板115、触摸面板125和盖片玻璃121。显示面板115又包括多个层，包括由发光元件组成的OLED层116，以及形成像素电路和连接像素电路的金属线的集成电路的层118。触摸面板125还包括金属线127。
参考图2A，显示器110的区域112由以高密度布置的像素簇210组成(例如，每英寸100像素(ppi)或更多、200ppi或更多、300ppi或更多、400ppi或更多、500ppi或更多，例如600ppi或更少)。在图示的实施例中，每个像素簇210由具有红色子像素211和绿色子像素213的第一像素210a和具有蓝色子像素212和绿色子像素213的第二像素210b组成。在其他情况下，像素可以具有RGB子像素的其他组合(例如，一个红色、一个绿色、一个蓝色)和/或子像素颜色的其他组合(例如，青色、黄色、品红色)。水平和垂直定向的金属迹线，用于每个子像素和便于像素的操作的驱动器之间的电连接。
参考图2B，显示器110的区域114具有低于区域112的像素密度。在这种情况下，区域114的像素密度是区域112的像素密度的四分之一。因为区域112和区域114布置在相同的金属迹线阵列上，这意味着存在在其中仅有水平迹线的区域114中的阵列位置(例如，位置230)，仅存在垂直迹线的位置(例如，位置240)，以及不存在(或基本上不存在)垂直或水平迹线的位置(例如，位置220)。更一般地，低像素密度区域的像素密度可以比区域112的像素密度小50％或更小(例如，40％或更小、30％或更小、20％或更小、10％或更小、5％)。
通常，形成水平和垂直迹线的材料(即导电材料，例如金属)在可见光波长下是不透明的或反射性的。此外，当光穿过显示器到达相机130时，相邻像素之间迹线的紧密间距会引起光的衍射和/或散射。
为了减少迹线引起的散射和/或衍射，可以形成不透明掩模层，该掩模层在光与迹线和像素电路相互作用之前阻挡光。掩模层包括无像素和无迹线区域中的孔，用于光通过低像素密度区域到达相机。这方面的一个示例在图3A至图3C中示出，其中显示器300包括在触摸面板310的前向表面上的掩模层301。在本示例中，掩模层301形成在触摸面板310和形成在触摸面板上的钝化层320之间。显示器300还包括位于钝化层320和盖片玻璃340之间的偏光器330，玻璃盖片340提供显示器300的暴露表面。
显示器300还包括OLED显示面板350，其包括封装阴极层352的膜封装层351和OLED层353。OLED层353由发光聚合物的区域(例如，列或行)形成，以提供能够透射不同波长的光的不同区域。OLED层353下面的电路层355包括像素电路356和迹线357。聚酰亚胺层358和保护膜359保护电路层355的后侧。
虽然掩模层301位于触摸面板310的顶表面上，但是更一般地，它可以形成在显示面板中的其他位置。例如，可以在触摸面板和OLED显示面板的封装膜之间形成掩模层。理想地，掩模层应该形成在OLED显示面板的电路层和显示器的顶部之间。然而，在某些实施例中，掩模层可以形成在电路层和显示器后侧之间。在这种情况下，掩模层在光与电路层相互作用之后阻挡光(即，从电路层中的元件散射和/或衍射的光)。替代地或附加地，在一些情况下，触摸面板310本身的一层或多层可以被图案化以形成掩模层和/或包括在触摸面板310内的附加层，以提供掩模层。例如，触摸面板310中的一个或多个金属层可以被图案化以提供掩模层。
总体来说，掩模层由对通过显示器下的传感器检测到的光(例如可见光)不透明(例如反射和/或吸收)的材料形成。例如，掩模层可以由显示器中常用的黑矩阵材料(例如黑色树脂)形成。也可以使用金属。例如，钼、银或铝可用于不透明掩模层。几种不同材料的合金或叠层也可以用于该层。
图3B示出了OLED层353和电路层360的示例，对于该示例的像素之间的水平线363和垂直线362的布置，以及连接像素电路的迹线364。在这个示例中，一个像素簇由两个像素组成(一个像素具有红色和绿色子像素，另一个像素具有蓝色和绿色子像素，这是传统排列方式的像素布置)。这里，每个像素簇包括红色子像素371、蓝色子像素372和两个绿色子像素373的透射区域。
图3C示出了电路层360的掩模层380。掩模层380包括孔381和对应于垂直(382)和水平(383)迹线的不透明区域，以及覆盖像素电路的不透明区域(384)。孔381设置在没有迹线的自由区域中。附加孔391-393被包括在子像素上的不透明区域384中，以允许从子像素透射光。附加孔可以被称为像素孔。
图4A示出了掩模层的显微照片，其代表了OLED显示器的低像素密度区域的投影图。这里，不透明材料用交叉影线表示，并限定了直线形的孔的阵列。每个孔都有相同的大小和形状。使用产生如图4A所示的孔的掩模层被认为大大降低了显示面板中的雾度。然而，进一步认为，孔的形状和布置会导致散射和/或衍射，尽管雾度降低，但会使由显示器下方的图像传感器获取的图像退化。
图4B示出了从图4A所示的掩模层测量的点扩展函数(PSF)。通过引导准直激光束基本垂直于掩模平面穿过掩模来进行测量。使用ASTM D1003兼容雾度计(例如，RhopointNovo-Haze TX雾度计或BYK Gardner Haze-Gard i(4775)雾度计)测量该示例的雾度为1.9％。大量的光被衍射成非零衍射的阶。衍射光沿着垂直轴和水平轴特别明显，并且包括延伸到大角度的更高阶。这是由于孔阵列的直线形特性。图4C中的强度图显示了根据角度的PSF的强度。
虽然掩模层的前述示例的特征在于孔的规则的图案，但是认为沿着每个主方向(垂直或水平)减小阵列的周期性可以减小透射光的衍射效应。此外，虽然掩模层中的孔都是相同的形状，但是还认为改变孔的大小和/或形状可以减少衍射和/或散射效应，并因此减少彩色伪像。因此，描述了掩模图案的示例，其特征在于孔的非周期性阵列和/或不同大小和/或形状的孔。这种掩模层可以将正常入射到其上的准直光的雾度降低到小于1.9％(例如，1.8％或更小、1.7％或更小、1.6％或更小、1.5％或更小、1.4％或更小、1.3％或更小、1.2％或更小、1.1％或更小、1％或更小，例如0.5％)。
例如，掩模图案可以具有在水平和/或垂直方向上以至少两个不同周期间隔开的孔。总的来说，孔之间的间距取决于被掩模层掩蔽的像素元件和像素电路的大小。该间距(在水平和/或垂直方向上)可以是10μm或更大(例如，20μm或更大、30μm或更大、40μm或更大、50μm或更大、大至1mm、大至500μm、大至250μm、大至100μm、大至75μm)。
总的来说，掩模层可以包括具有不同尺寸的孔，例如不同的水平宽度、不同的垂直高度和/或不同的面积。通常，孔的尺寸可以变化，但是应该足够大，以允许足够用于显示器后传感器操作的光透射。例如，孔可以具有20μm或更大的至少一个尺寸(例如，30μm或更大、50μm或更大、75μm或更大、100μm或更大、150μm或更大、200μm或更大，例如大至400μm、大至350μm、大至300μm、大至250μm)。孔可以具有50μm2或更大的面积(例如，100μm2或更大、200μm2或更大、400μm2或更大、500μm2或更大、750μm2或更大、1,000μm2或更大、大至1,500μm2、大至1,250μm2)。
掩模层可以包括两种或多种不同形状的孔，包括但不限于直线形形状(例如正方形、矩形)和弯曲的形状(例如圆形和椭圆形)。
在低像素密度区域中，像素可以在水平和/或垂直方向上周期性或非周期性地加以布置。例如，多个像素(例如，两个、三个、四个、五个、六个或更多)可以被聚集在一起，在水平和/或垂直方向上被不同的距离分开。
图5A示出了示例掩模图案，其中与图4A所示的掩模层相比，孔图案的周期性减小。具体而言，虽然孔基本上都是直线形的，但是它们的大小和形状不同。例如，不同行中的孔的垂直范围不同，不同列中的孔的水平范围不同。相邻行和列之间的间距也不同。照片的左下角有一个刻度。
图5B示出了从图5A所示的掩模层测量的PSF。通过引导准直激光束基本垂直于掩模平面穿过掩模来进行测量。该示例的雾度被测量为1.3％，比图4A中的示例测量的雾度提高了32％。然而，大量的光沿着垂直轴和水平轴散射。这被认为是由于孔阵列的直线形特性。然而，与图4B所示的PSF相比，沿着垂直和水平方向的衍射峰不太明显，并且远离这些方向的衍射峰显著减少。
虽然前述示例的特征在于掩模层包括直线形孔，但是其他形状的孔也是可能的。例如，可以使用椭圆形或圆形孔。图6A示出了包括椭圆形孔的规则阵列的掩模层的示例的显微照片。椭圆形孔的长轴与水平方向对齐，短轴与垂直方向对齐。沿着每行的孔之间的间距是相同的，并且沿着每列的孔之间的间距是相同的。
图6B示出了从图6A所示的掩模层测量的PSF。通过引导准直激光束基本垂直于掩模平面穿过掩模来进行测量。雾度被测量为1.7％，与图4A所示的掩模布局相比减少了大约10％。此外，与图4B和图5C所示的PSF相比，沿水平和垂直轴的散射减少(即，方向散射减少)。此外，垂直方向的散射比水平方向多。这被认为是由于孔的椭圆形形状。根据角度的PSF的强度在图6C的强度图中示出，并且与图4C的强度图相比，证明了大角度散射的减少。
非直线形的孔也可以以不规则的图案加以布置。例如，掩模可以包括不同面积、椭圆度和/或间距的椭圆形和/或圆形孔。图7A示出了包括椭圆孔的不规则阵列的掩模示例的显微照片。这里，一行中的每个椭圆孔(在水平方向上)具有相同的垂直高度，一列中的每个椭圆孔(在垂直方向上)具有相同的水平宽度。
图7B示出了从图7A所示的掩模层测量的PSF。通过引导准直激光束基本垂直于掩模平面穿过掩模来进行测量。与图6B所示的PSF相比，到大角度中的散射被减少。此外，垂直方向的散射比水平方向多。根据角度的PSF的强度在图7C的强度图中示出，与图4C的强度图相比，证明了方向散射和大角度散射的减少。
虽然图2B所示的低密度像素布置的特征在于在水平和垂直方向两者上由单个阵列位置彼此隔开的像素，但是其他布置也是可能的。例如，像素可以在任一个方向上被多个阵列位置分开。替代地或附加地，像素可以被布置在相邻的阵列位置，形成像素簇。通常，低密度像素区域可以包括像素簇的规则布置，其中每个簇具有相同的像素布置，或者像素簇可以不同。像素簇可以包括两个、三个、四个或更多像素。像素簇可以是正方形、矩形或其他形状。图8A中示出了包括像素簇的像素布置的示例。这里，每个像素簇810包括被布置成正方形的四个像素820a、820b、830a、830b。图8B示出了适于掩蔽图8A所示的像素簇布置和信号线的掩模层。图8C示出了来自该掩模层的PSF。
在前述示例中，像素簇的每行和每列由共线的水平和垂直信号线连接。换句话说，一行中的每个像素簇由水平信号线连接，每个水平信号线沿着公共水平线。类似地，沿着公共垂直线的垂直信号线连接一列中的每个像素簇。这种布置在图8A的示例中示出。
图8B中示出了适于掩蔽图8A中的布置的掩模层，该掩模层由直线形十字形状的孔组成。图8C示出了最终的PSF。
然而，信号线的其他布置也是可能的。例如，链接像素簇的一条或多条信号线是一列和/或一行，可以偏离连接相邻像素簇的信号线。例如，参考图9A，在示例实施例中，交替的垂直信号线920在水平方向上偏移，使得相邻列中的信号线之间的水平距离变化。类似地，一行中的交替水平信号线930在垂直方向上偏移，使得相邻行中信号线之间的垂直距离变化。
图9B示出了适用于图9A所示像素布置的掩模层950。掩模层950由布置成行和列的矩形孔组成，其中相邻孔的取向相对于彼此旋转成直角。图9C示出了显示掩模层950的PSF的照片，图9D示出了PSF的强度图。PSF在远离垂直和水平轴的大部分方向上表现出较低的光散射。不希望被理论所束缚，据信这是由于掩模形状比图8B所示的掩模层具有更少的周期性拐点。
具有非直线形孔的掩模层也可以用于掩蔽图9A所示的电路结构。例如，图10A和图10B示出了这种掩模层1050的示例，该掩模层1050由相似大小的椭圆组成，其中交替的椭圆具有水平取向(1010)和垂直取向(1020)的长轴。
图10C示出了掩模层1050的PSF的照片。从PSF可以明显看出，与图8B和图9B所示的掩模层相比，掩模层减少了更高的角度散射。
参考图11A和图11B，其示出了另一掩模图案1150的显微照片，在某些实施例中，椭圆形和/或圆形孔可以与偏移信号线结合使用。图11A示出了掩模图案1150的显微照片。右下角的刻度显示水平和垂直方向上的100μm。掩模1150中的椭圆形孔是非周期性布置的，并且相邻孔之间的间距变化。椭圆形孔被布置为使得它们的长轴垂直或水平地延伸。在垂直和水平方向上。
图11B示出了与图11A相同的显微照片，但是具有重叠的像素簇和信号线。如图所示，像素簇的大小是变化的。例如，最小的像素簇(例如1151)包括两个像素(每个包含四个子像素)，最大的像素簇(例如1152)包含八个像素。包含四个像素的像素簇(例如，1153、1154)形成被布置为垂直和水平地延伸的矩形。在这种布局中，像素簇被布置成恒定垂直高度的行(例如，对应于一个或两个像素)和恒定水平宽度的列(例如，对应于一个或两个像素)。其他布置也是可能的。
成束的信号线在水平和垂直方向上具有不同的成束宽度和间距。每个成束的信号线包括与信号线相关联的群集像素的操作所需的信号线。
图12示出了根据若干不同孔布置的衍射角的透射信号强度，并将它们与没有掩模层的显示器进行了比较的曲线图。纵轴是对数刻度。从图中可以明显看出，与没有掩模层相比，所有掩模层散射成20°或更大的角度的情况显著减少。散射成更小的角度的情况也减少了，最显著的减少来自于具有圆形孔的规则阵列的掩模层和图7A所示的掩模层。
虽然公开了某些实施例，但是其他实现方式也是可能的。例如，虽然上述显示面板是OLED显示器，但是这里公开的原理也可以被应用于其他显示技术，例如微LED显示器。此外，掩模层可以应用于以多个低像素密度区域为特征的显示器。例如，当设备在显示器后面具有不止一个前置传感器时，每个传感器可以被定位于具有掩模层的相应低像素密度区域的后面。
其他实施例在所附权利要求书中。

Claims (20)

1.一种装置，包括：
显示面板，所述显示面板包括具有第一像素密度的第一像素区域和具有高于所述第一像素密度的第二像素密度的第二像素区域，所述显示面板被配置为生成从所述显示面板的前侧可观看的图像；以及
传感器，所述传感器位于显示器的后侧，并且被布置为接收通过所述第一像素区域从所述显示器的前侧透射到所述显示器的后侧的入射光，其中：
所述第一像素区域包括发光像素和电连接与所述发光像素相关联的像素电路的信号线，并且
所述显示面板包括包含遮光材料的层，所述遮光材料被图案化以提供孔，以透射在所述发光像素中的至少一些和所述信号线之间的入射光并阻挡来自所述像素电路和所述信号线的入射光，并且
所述孔包括一个或多个第一孔和一个或多个第二孔，所述一个或多个第一孔在第一方向上具有第一尺寸，并且所述一个或多个第二孔在第二方向上具有第二尺寸，所述第一尺寸不同于所述第二尺寸。
2.根据权利要求1所述的装置，其中所述发光像素中的至少一些被布置在像素簇中。
3.根据权利要求2所述的装置，其中所述像素簇包括两个或更多个像素(例如，四个或更多个像素)。
4.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述发光像素之间的间隔在至少一个方向上变化。
5.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述孔在所述第一方向上非周期性地加以布置。
6.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述第一方向是水平方向。
7.根据权利要求6所述的装置，其中所述孔中的至少一些在与所述水平方向正交的垂直方向上具有不同的尺寸。
8.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述孔在所述第二方向上非周期性地加以布置。
9.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述孔中的至少一些是直线形的。
10.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述孔中的至少一些是椭圆形或圆形的。
11.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述孔包括不同椭圆度的椭圆孔。
12.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述孔包括不同大小的椭圆形孔或圆形孔。
13.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述第一尺寸和所述第二尺寸为50μm或更大。
14.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述传感器是相机。
15.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述装置是智能电话或平板计算机。
16.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述显示器是有机发光二极管(OLED)显示器。
17.一种装置，包括：
显示面板，所述显示面板包括具有第一像素密度的第一像素区域和具有高于所述第一像素密度的第二像素密度的第二像素区域，所述显示面板被配置为生成从所述显示面板的前侧可观看的图像；以及
传感器，所述传感器位于显示器的后侧，并且被布置为接收通过所述第一像素区域从所述显示器的前侧透射到所述显示器的后侧的入射光，其中：
所述第一像素区域包括布置在像素簇中的发光像素和电连接与所述像素簇相关联的像素电路的信号线，并且
所述显示面板包括包含遮光材料的层，所述遮光材料被图案化以提供孔，以透射所述像素簇和所述信号线之间的入射光并阻挡来自所述像素簇和所述信号线的入射光，并且
所述孔中的至少一些是椭圆形或圆形的。
18.根据权利要求17所述的装置，其中所述孔中的每个孔具有相同的大小和形状。
19.根据权利要求17所述的装置，其中所述孔中的至少一些具有不同的大小和/或形状。
20.一种装置，包括：
显示面板，所述显示面板包括具有第一像素密度的第一像素区域和具有高于所述第一像素密度的第二像素密度的第二像素区域，所述显示面板被配置为生成从所述显示面板的前侧可观看的图像；以及
传感器，所述传感器位于显示器的后侧，并且被布置为接收通过所述第一像素区域从所述显示器的前侧透射到所述显示器的后侧的入射光，其中：
所述第一像素区域包括布置在像素簇中的发光像素和电连接与所述像素簇相关联的像素电路的信号线，并且
所述显示面板包括包含遮光材料的层，所述遮光材料被图案化以提供孔，以透射所述像素簇和所述信号线之间的入射光并阻挡来自所述像素簇和所述信号线的入射光，并且
所述孔被布置为使得它们引入使用符合ASTM D1003的方法测量的小于1.9％的雾度。
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