CN114019728A - 一种液晶显示面板及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明的一个实施例公开了一种液晶显示面板及其制作方法，所述液晶显示面板包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板包括围绕显示面板的显示区的第一周边区域，所述阵列基板包括围绕所述显示区的第二周边区域，在第一周边区域和第二周边区域之间形成有围绕显示区的封框胶，用于密封填充在所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶。显示面板还包括：形成在所述第一周边区域和第二周边区域之间的围绕显示区的阻挡结构，用于阻挡所述液晶与所述封框胶接触，避免了液晶与封框胶固化前接触，提高了产品性能。

Description

一种液晶显示面板及其制作方法

技术领域

本发明涉及液晶显示领域。更具体地，涉及一种液晶显示面板及其制作方法。

背景技术

随着高世代线的投入和TFT-LCD平板时代的到来，大尺寸TFT-LCD的产量越来越大。不同产品的液晶和液晶粘度不同，智慧窗产品往往采用高粘度液晶，在实际生产中，因LC Pattern(液晶涂覆区域)与封框胶区域具有间隔(例如液晶涂覆区域与四周的封框胶间距1厘米)，阵列基板和彩膜基板真空对盒后，被积压的液晶未完全扩散，导致显示区域边缘液晶未充满，如图1中的附图标记1所示。这就要求液晶涂覆区域与封框胶区域间隔设置地更窄，然而，因对盒过程中需要利用紫外线照射封框胶进行固化，液晶涂覆区域与封框胶区域越窄，在封框胶固化前，液晶越容易提前接触封框胶，产生封框胶穿刺，引起液晶泄漏，如图2中的附图标记2所示。另外，在无界屏生产中，因液晶浓度过高，面板四边区域被液晶填充较晚，导致四边区域形成色差即刀型Mura现象，如图3中的附图标记3所示。若液晶涂覆区域与封框胶区域间隔设置地窄(例如调到8mm时)，色差区域的确能减小，但会出现严重封框胶穿刺。

发明内容

为了解决上述技术问题中的至少之一，本发明的实施例提供一种液晶显示面板及其制作方法。

为达到上述目的，本发明采用下述技术方案：

第一方面，本发明提供一种液晶显示面板，包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板包括围绕显示面板的显示区的第一周边区域，所述阵列基板包括围绕所述显示区的第二周边区域，在第一周边区域和第二周边区域之间形成有围绕显示区的封框胶，用于密封填充在所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶，还包括：

形成在所述第一周边区域和第二周边区域之间的围绕显示区的阻挡结构，用于阻挡所述液晶与所述封框胶接触。

在一个具体示例中，所述阻挡结构和所述封框胶相抵接。

在一个具体示例中，所述彩膜基板包括：第一衬底；

形成在所述第一衬底上的位于所述第一周边区域围绕的显示区中的色阻层和围绕所述色阻层的第一黑矩阵层以及位于所述第一周边区域中的第二黑矩阵层，

其中，所述阻挡结构形成在所述第二黑矩阵层上。

在一个具体示例中，所述彩膜基板还包括：

形成在所述色阻层、第一黑矩阵层和第二黑矩阵层上的透明平坦化层，其中所述阻挡结构形成在所述透明平坦化层上。

在一个具体示例中，所述透明平坦化层为有机涂层。

在一个具体示例中，所述彩膜基板还包括：

用于支撑所述彩膜基板和阵列基板的支撑结构，所述阻挡结构与所述支撑结构同层设置。

在一个具体示例中，所述阻挡结构为图案化的光刻胶。

在一个具体示例中，所述阵列基板包括：

第二衬底；

形成在所述第二衬底上的驱动电路层，

其中，所述阻挡结构形成在所述驱动电路层上。

第二方面，本发明提供一种液晶显示面板的制作方法，包括：

形成彩膜基板，其中所述彩膜基板包括围绕显示面板的显示区的第一周边区域，所述阵列基板包括围绕所述显示区的第二周边区域，所述显示区包括色阻层和围绕色阻层的第一黑矩阵层，所述第一周边区域包括第二黑矩阵层；

在第一周边区域和第二周边区域之间形成有围绕显示区的封框胶，用于密封填充在所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶；

在所述第一周边区域和第二周边区域之间形成围绕显示区的阻挡结构，用于阻挡所述液晶与所述封框胶接触。

在一个具体示例中，所述在所述第一周边区域和第二周边区域之间形成围绕显示区的阻挡结构，用于阻挡所述液晶与所述封框胶接触，包括：

在所述色阻层、第一黑矩阵层和第二黑矩阵层上形成光刻胶层；

图案化所述光刻胶层，留下对应于所述第二黑矩阵层位置处的光刻胶，形成所述阻挡结构。

本发明的有益效果如下：

本发明所述液晶面板及其制作方法，采用阻挡结构避免液晶与封框胶固化前接触造成的封框胶穿刺现象。在优选实施例中，使得阻挡结构与封框胶抵接，最大限度的缩短了液晶涂覆区域与封框胶的距离，减轻高粘度液晶产品液晶未充满现象以及改善刀型Mura不良现象。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出液晶显示面板产品出现液晶未充满现象。

图2示出液晶显示面板产品出现封框胶穿刺现象。

图3示出液晶显示面板产品形成刀型Mura现象。

图4示出根据本发明一个实施例的液晶显示面板的俯视示意图。

图5示出沿图4的AA’线的截面示意图。

图6示出根据本发明另一个实施例的液晶显示面板的俯视示意图。

图7示出沿图6的BB’线的截面示意图。

图8示出根据本发明一个实施例的液晶显示面板制作工艺示意图。

图9示出根据本发明一个实施例的在彩膜基板侧形成阻挡结构的示意图。

图10示出根据本发明另一个实施例的在彩膜基板侧形成阻挡结构的示意图。

图11示出根据本发明另一个实施例的在彩膜基板侧形成阻挡结构的示意图。

图12示出在图11的结构基础上对盒后的显示面板结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。

如图4所示，本发明的一个实施例提供一种液晶显示面板4，显示面板包括显示区(又称为AA区，图中虚线框所围成的区域)41和围绕显示区41的周边区42。

图5为图4中沿AA’线的截面图。液晶显示面板4包括对盒设置的彩膜基板43和阵列基板44。对应于显示面板的周边区42，在俯视方向上的投影关系上，彩膜基板43包括围绕显示区41的第一周边区域，阵列基板44包括围绕显示区41的第二周边区域。

在一个实施例中，在彩膜基板和阵列基板之间的显示区41中形成液晶材料45。在周边区42中形成围绕显示区的封框胶46，也就是说，在彩膜基板的第一周边区域和阵列基板的第二周边区域之间形成封框胶。当彩膜基板和阵列基板对盒时，封框胶46用于密封填充在彩膜基板和阵列基板之间的液晶材料45。

在一个具体示例中，可以在彩膜基板的第一周边区域上涂布封框胶，在显示基板中的显示区中形成液晶材料。然而，本发明并不限于此，也可以在阵列基板的第二周边区域上涂布封框胶，而在彩膜基板的显示区中形成液晶材料。

在一个具体示例中，彩膜基板和阵列基板大小为50cm×50cm，第一周边区域和第二周边区域分别为距彩膜基板和阵列基板边缘处1cm距离。

在一个实施例中，如图所示，液晶显示面板4还包括：形成在第一周边区域和第二周边区域之间的围绕显示区41的阻挡结构47，当彩膜基板和阵列基板对盒时，显示区中形成的液晶被挤压向外围扩散，在这个过程中，利用紫外光例如从阵列基板的下方照射封框胶进行固化时，阻挡结构47能够阻挡液晶45与封框胶46接触。

在图5所示的示例中，阻挡结构47的高度为对盒的盒高(即图5所示的阵列基板44上表面与彩膜基板43下表面之间的高度)相等，这种情况下，阻挡结构47形成了封闭式阻挡结构，液晶无法跨过阻挡结构47与封框胶46接触，无论封框胶的固化需要多长时间，均可以避免封框胶穿刺现象，从而提高了产品的性能。

在另一个实施例中，阻挡结构47的高度可以小于对盒的盒高，即液晶可以跨过阻挡结构47与封框胶46接触，但需要更多的时间，只要在达到封框胶的位置所需的时间大于封框胶的固化需要的时间，也可以避免封框胶穿刺现象。这样，阻挡结构47高度的设置可以通过实验来设置。

上述阻挡结构47能够有效避免穿刺现象，在此基础上，本发明的另一个实施例提供的阻挡结构47与封框胶46相抵接，如图6所示。此时，所述阻挡结构47与所述封框胶46接触。

图7为沿图6所示的BB’线的截面图。与图5相比，例如在阵列基板上滴注液晶的区域最大限度地靠近显示面板的边缘，从而使得边缘区域未充满液晶的现象得到缓解，另外，由于滴注的液晶能够最大限度地靠近显示面板的边缘，从而能够最大限度地避免显示区域液晶填充时间差异，改善无界屏产品的刀型Mura不良。

接下来，本发明的一个实施例提供阻挡结构的一种制作方法。

在一个实施例中，阻挡结构形成在彩膜基板上。该方法包括以下步骤：

如图8所示，在彩膜基板的衬底上对应显示区的位置形成黑矩阵层412和由黑矩阵层412围绕的色阻层413(例如图中所述的R/G/B色阻)。

在彩膜基板的衬底上对应第一周边区域的位置形成遮光层414。在一个优选示例中，遮光层414可以与黑矩阵层412使用同一工艺形成，材料相同。

在上述结构上涂布负性光刻胶，并用掩膜板进行图案化(曝光/显影)，其中掩膜板的开口对应第一周边区域中待形成阻挡结构的位置。由于负性光刻胶的属性，显影后，被光照的负性光刻胶被保留，形成阻挡结构47，如图9所示。

其中，对于负性光刻胶的显影可以采用KOH溶液实现。

在上述示例中，采用负性光刻胶形成阻挡结构，然而，本发明不限于此，可以采用正性光刻胶形成阻挡结构，只不过需要改变掩膜板的开口位置，使得未被光照的正性光刻胶得到保留。

在实际工艺中，在显示区的黑矩阵层围绕的凹槽中形成色阻层时，色阻层例如通过喷墨打印的方式来形成，往往色阻层会延伸到黑矩阵层的表面上，造成表面整体不平整，会对后续制作阻挡结构构成不变。

为此，在一个优选实施例中，在涂布光刻胶之前，先形成一层透明平坦化层415，例如有机涂层(例如OC胶)。在透明平坦化层415上形成阻挡结构，如图10所示。

接着图9所示的示例，描述接下了的步骤。

在第一周边区域靠近边缘的位置形成封框胶46。本领域技术人员能够明了，封胶框46和阻挡结构47形成的先后顺序在本发明中不作限定，也就是说，可以在形成阻挡结构47之前先形成封框胶。

在形成了上述结构后，将彩膜基板和阵列基板(已经滴注了液晶材料)对盒，采用紫外线进行封框胶固化，形成如图5所示的结构。

在实际液晶显示面板的制作过程中，为了使得对盒后阵列基板和彩膜基板之间存在支撑，往往需要制作支撑结构(PS)。在一个示例中，支撑结构可以制作在彩膜基板侧，在这种情况下，本发明的阻挡结构可以与支撑结构48同一工艺形成，如图11所示。

在图11所示的结构基础上，将彩膜基板和阵列基板(已经滴注了液晶材料)对盒，采用紫外线进行封框胶固化，形成如图12所示的结构。

虽然上述实施例是在彩膜基板侧制作的阻挡结构的示例，但本发明不限于此，阻挡结构可以制作在阵列基板侧，也就是在阵列基板的第二周边区域中形成阻挡结构。

对应的制作步骤包括：如图7所示，所述阵列基板44包括：

在阵列基板的衬底上形成驱动电路层；

在驱动电路层上对应于第二周边区域中形成阻挡结构。

在这种示例中，对于封框胶、支撑结构的位置均不作限制，例如封框胶可以形成在阵列基板上，液晶材料可以滴注在彩膜基板上，支撑结构可以形成在彩膜基板上等等。

通过本实施例的制作方法，当液晶收到阵列基板和彩膜基板的压力而扩散时，所述阻挡结构阻挡了液晶与封框胶的接触，由此避免了封框胶穿刺现象。当阻挡结构与封框胶抵接时，使得显示区与所述封框胶距离最短，使得高粘度液晶产品不产生液晶未充满现象，其次明显改善了因液晶浓度过高使得显示区域四周被液晶填充较晚造成的刀型Mura不良现象，另一方面对于普通浓度液晶产品，避免了遇到设备异常宕机时引起的封框胶穿刺现象。

本发明另一方面还提供一种显示装置，包括上述实施例提供的液晶显示面板。该显示装置例如为车载显示设备、显示屏等等。

显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定，对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举，凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。

Claims (10)

1.一种液晶显示面板，包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板包括围绕显示面板的显示区的第一周边区域，所述阵列基板包括围绕所述显示区的第二周边区域，在第一周边区域和第二周边区域之间形成有围绕显示区的封框胶，用于密封填充在所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶，其特征在于，还包括：

形成在所述第一周边区域和第二周边区域之间的围绕显示区的阻挡结构，用于阻挡所述液晶与所述封框胶接触。

2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阻挡结构和所述封框胶相抵接。

3.根据权利要求1或2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜基板包括：第一衬底；

形成在所述第一衬底上的位于所述第一周边区域围绕的显示区中的色阻层和围绕所述色阻层的第一黑矩阵层以及位于所述第一周边区域中的第二黑矩阵层，

其中，所述阻挡结构形成在所述第二黑矩阵层上。

4.根据权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：

形成在所述色阻层、第一黑矩阵层和第二黑矩阵层上的透明平坦化层，其中所述阻挡结构形成在所述透明平坦化层上。

5.根据权利要求4所述的液晶显示面板，其特征在于，所述透明平坦化层为有机涂层。

6.根据权利要求1或2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：

用于支撑所述彩膜基板和阵列基板的支撑结构，所述阻挡结构与所述支撑结构同层设置。

7.根据权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阻挡结构为图案化的光刻胶。

8.根据权利要求1或2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括：

第二衬底；

形成在所述第二衬底上的驱动电路层，

其中，所述阻挡结构形成在所述驱动电路层上。

9.一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

形成彩膜基板，其中所述彩膜基板包括围绕显示面板的显示区的第一周边区域，所述阵列基板包括围绕所述显示区的第二周边区域，所述显示区包括色阻层和围绕色阻层的第一黑矩阵层，所述第一周边区域包括第二黑矩阵层；

在第一周边区域和第二周边区域之间形成有围绕显示区的封框胶，用于密封填充在所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶；

在所述第一周边区域和第二周边区域之间形成围绕显示区的阻挡结构，用于阻挡所述液晶与所述封框胶接触。

10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述在所述第一周边区域和第二周边区域之间形成围绕显示区的阻挡结构，用于阻挡所述液晶与所述封框胶接触，包括：

在所述色阻层、第一黑矩阵层和第二黑矩阵层上形成光刻胶层；

图案化所述光刻胶层，留下对应于所述第二黑矩阵层位置处的光刻胶，形成所述阻挡结构。

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