CN113932011A - 一种应用于tft、pecvd工艺的腔体真空传输阀门密封组件 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及密封装置技术领域,具体为一种应用于TFT、PECVD工艺的腔体真空传输阀门密封组件,包括阀门门板、密封圈和腔体,所述阀门门板上设置有凹槽,且所述凹槽的开口呈外小内大设置;所述密封圈包括:扁平段、凹陷段和圆头段,所述扁平段位于所述密封圈的一端,用于卡接入所述凹槽内,所述凹陷段沿所述密封圈中部的周向设置,用于限位在所述凹槽开口的边沿处;所述圆头段位于所述密封圈的另一端,用于凸出所述凹槽的开口外。该密封组件,当外力拉扯时,密封圈不会轻易从凹槽上脱落,且密封效果显著。
Description
技术领域
本发明涉及密封装置技术领域,具体为一种应用于TFT、PECVD工艺的腔体真空传输阀门密封组件。
背景技术
在TFT-LCD G8.5代液晶面板制造行业的PECVD工艺中,PECVD制程腔体内真空传输阀门密封圈安装简易视图如图1所示,密封圈形状呈圆形。密封圈安装在阀门门板上的凹槽内,当工艺腔在进出产品时真空传输阀门门板会进行开关;关门时门板会带着密封圈去挤压腔体从而实现密封作用;开门时门板将会回到原位置,此时由于之前挤压过密封圈面,腔体与密封圈之间会有粘力,当门板后退时腔体会给密封圈一个向外拉扯的力,使得密封圈脱落,腔室密封性不佳;且在脱落时可能会干扰传输手臂运动轨迹,从而导致破片。该异常出现则工艺腔将会降温且需要停下传送腔进行更换密封圈作业,影响整机生产,降低设备稼动率。鉴于此,我们提出一种应用于TFT、PECVD工艺的腔体真空传输阀门密封组件。
发明内容
本发明的目的在于提供一种应用于TFT、PECVD工艺的腔体真空传输阀门密封组件,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种应用于TFT、PECVD工艺的腔体真空传输阀门密封组件,包括阀门门板、密封圈和腔体,所述阀门门板上设置有凹槽,且所述凹槽的开口呈外小内大设置;
所述密封圈包括:扁平段、凹陷段和圆头段,所述扁平段位于所述密封圈的一端,用于卡接入所述凹槽内,所述凹陷段沿所述密封圈中部的周向设置,用于限位在所述凹槽开口的边沿处;
所述圆头段位于所述密封圈的另一端,用于凸出所述凹槽的开口外。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:该应用于TFT、PECVD工艺的腔体真空传输阀门密封组件,密封圈的扁平段更加贴合在凹槽内,增强密封性;且凹陷段限位在凹槽开口的边沿处,当外力拉扯时,密封圈不会轻易从凹槽上脱落,且伸出的圆头段不仅能进一步提高密封效果,且在阀门门板开合时与腔体之间避免刚性接触,起到缓冲减震作用。
附图说明
图1为本发明的现有技术结构示意图;
图2为本发明的结构示意图。
图中:1、阀门门板;11、凹槽;2、密封圈;21、扁平段;22、凹陷段;23、圆头段;3、腔体。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本专利的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置”应做广义理解,例如,可以是固定相连、设置,也可以是可拆卸连接、设置,或一体地连接、设置。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本专利中的具体含义。
一种应用于TFT、PECVD工艺的腔体真空传输阀门密封组件,如图2所示,包括阀门门板1、密封圈2和腔体3,阀门门板1上设置有凹槽11,且凹槽11的开口呈外小内大设置;密封圈2包括:扁平段21、凹陷段22和圆头段23,扁平段21位于密封圈2的一端,用于卡接入凹槽11内,凹陷段22沿密封圈2中部的周向设置,用于限位在凹槽11开口的边沿处;圆头段23位于密封圈2的另一端,用于凸出凹槽11的开口外。因此,密封圈2安装后,密封圈2的扁平段21更加贴合在凹槽11内,增强密封性;且凹陷段22限位在凹槽11开口的边沿处,当外力拉扯时,密封圈2不会轻易从凹槽11上脱落,且伸出的圆头段23不仅能进一步提高密封效果,且在阀门门板1开合时与腔体3之间避免刚性接触,起到缓冲减震作用。通过上述变更,可以使得TFT、PECVD工艺腔的真空传输阀门密封圈更换周期从6月/次提升为12月/次,设备稼动率约提升1.9%。
本实施例的应用于TFT、PECVD工艺的腔体真空传输阀门密封组件在使用时,密封圈2的扁平段21更加贴合在凹槽11内,增强密封性;且凹陷段22限位在凹槽11开口的边沿处,当外力拉扯时,密封圈2不会轻易从凹槽11上脱落,且伸出的圆头段23不仅能进一步提高密封效果,且在阀门门板1开合时与腔体3之间避免刚性接触,起到缓冲减震作用。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的仅为本发明的优选例,并不用来限制本发明,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (1)
1.一种应用于TFT、PECVD工艺的腔体真空传输阀门密封组件,包括阀门门板(1)、密封圈(2)和腔体(3),其特征在于:所述阀门门板(1)上设置有凹槽(11),且所述凹槽(11)的开口呈外小内大设置;
所述密封圈(2)包括:扁平段(21)、凹陷段(22)和圆头段(23),所述扁平段(21)位于所述密封圈(2)的一端,用于卡接入所述凹槽(11)内,所述凹陷段(22)沿所述密封圈(2)中部的周向设置,用于限位在所述凹槽(11)开口的边沿处;
所述圆头段(23)位于所述密封圈(2)的另一端,用于凸出所述凹槽(11)的开口外。
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Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5579718A (en) * | 1995-03-31 | 1996-12-03 | Applied Materials, Inc. | Slit valve door |
US6089543A (en) * | 1997-07-11 | 2000-07-18 | Applied Materials, Inc. | Two-piece slit valve door with molded-in-place seal for a vacuum processing system |
US20040089836A1 (en) * | 2002-11-07 | 2004-05-13 | Wei-Yueh Wu | Gate valve assembly |
US20050274459A1 (en) * | 2004-06-14 | 2005-12-15 | Yoshiaki Tanase | Slit valve door seal |
KR20080015884A (ko) * | 2005-06-02 | 2008-02-20 | 듀폰 퍼포먼스 엘라스토머스 엘.엘.씨. | 교체식 차단 차폐부를 갖춘 내플라즈마성 시일 조립체 |
KR20130007040A (ko) * | 2011-06-28 | 2013-01-18 | 조찬형 | 보호용 실 플레이트 및 이를 포함하는 전자 부품 제조 장치 |
KR101268874B1 (ko) * | 2011-12-26 | 2013-05-29 | 이노레스 주식회사 | 진공 공정용 게이트 밸브의 도어 |
JP2014214863A (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-17 | Smc株式会社 | ゲートバルブ |
CN204852388U (zh) * | 2015-05-25 | 2015-12-09 | 江苏牧羊控股有限公司 | 一种密封结构 |
CN111207214A (zh) * | 2018-11-21 | 2020-05-29 | 长鑫存储技术有限公司 | 一种半导体制造设备及用于该设备腔室的阀门 |
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2021
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5579718A (en) * | 1995-03-31 | 1996-12-03 | Applied Materials, Inc. | Slit valve door |
US6089543A (en) * | 1997-07-11 | 2000-07-18 | Applied Materials, Inc. | Two-piece slit valve door with molded-in-place seal for a vacuum processing system |
US20040089836A1 (en) * | 2002-11-07 | 2004-05-13 | Wei-Yueh Wu | Gate valve assembly |
US20050274459A1 (en) * | 2004-06-14 | 2005-12-15 | Yoshiaki Tanase | Slit valve door seal |
KR20080015884A (ko) * | 2005-06-02 | 2008-02-20 | 듀폰 퍼포먼스 엘라스토머스 엘.엘.씨. | 교체식 차단 차폐부를 갖춘 내플라즈마성 시일 조립체 |
KR20130007040A (ko) * | 2011-06-28 | 2013-01-18 | 조찬형 | 보호용 실 플레이트 및 이를 포함하는 전자 부품 제조 장치 |
KR101268874B1 (ko) * | 2011-12-26 | 2013-05-29 | 이노레스 주식회사 | 진공 공정용 게이트 밸브의 도어 |
JP2014214863A (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-17 | Smc株式会社 | ゲートバルブ |
CN204852388U (zh) * | 2015-05-25 | 2015-12-09 | 江苏牧羊控股有限公司 | 一种密封结构 |
CN111207214A (zh) * | 2018-11-21 | 2020-05-29 | 长鑫存储技术有限公司 | 一种半导体制造设备及用于该设备腔室的阀门 |
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