CN113889396A - 用于光谱测定的生成器 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及用于光谱测定的生成器。用于在光谱测定中生成电感耦合等离子体的HF等离子体生成器，包括：电压供应装置，其具有DC电压源；振荡器电路，其连接到电源装置以用于生成HF功率；以及负载电路，其耦合到振荡器电路以用于生成等离子体，所述负载电路具有至少一个感应线圈和并联连接到感应线圈的一个电容器。根据本发明，HF等离子体生成器(特别是电压供应装置)包括布置在振荡器电路的支路中的至少一个可控电压源，其中，可控电压源被设计成设定施加到负载电路的电压和/或感应线圈与光谱仪(特别是光谱仪的锥体)之间的至少一个电位差。本发明还涉及具有根据本发明的HF等离子体生成器的光谱仪。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于在光谱测定中生成电感耦合等离子体的HF等离子体生成器，并且涉及一种具有根据本发明的HF等离子体生成器的光谱仪。
电感耦合等离子体广泛用于光谱学领域，例如用于在质谱法中生成离子，或者用于在光发射光谱学中生成光谱。
背景技术
从现有技术中已知多种用于生成电感耦合等离子体的HF等离子体生成器(诸如自由运行或频率稳定的生成器)，以及基于高性能管的生成器和使用半导体的生成器。原则上，等离子体生成器通常包括电压供应装置和振荡器电路，该振荡器电路耦合到负载电路以用于生成等离子体。例如，振荡器电路是根据Colpitts、Meienner或Huth-Kühn的电路。但是，半桥电路或全桥电路的使用也已众所周知。因此，已经在WO2007/134363A1中公开了一种基于全桥电路原理的用于光谱学的HF生成器，其中使用了半导体开关元件。
一种用于生成电感耦合等离子体的装置还包括一个或多个感应线圈，这些感应线圈与燃烧器同轴布置，气体(通常是氩气)被引入到该燃烧器中并在其中被加热。通过高频生成器(HF生成器)在线圈中生成强交变电磁场，该强交变电磁场通过电感耦合为等离子体提供所需能量。等离子体的典型温度在3,000K(开尔文)-10,000K的范围内。用于生成交变磁场的频率进而在MHz(兆赫兹)至GHz(吉赫兹)的范围内，并且经常在10MHz-50MHz之间的范围内。原则上，HF等离子体生成器必须能够提供用于生成并维持等离子体的足够的功率。功率通常在500W(瓦特)-3kW(千瓦特)的范围内。此外，高效率和高质量是期望的。
同样特别重要的是等离子体形状，该等离子体形状尤其取决于等离子体附近的主导电位(例如特定光谱仪的锥体(cone of the particular spectrometer))、取决于所采用的感应线圈的形状和机械设计并且取决于所使用的部件的各种特性。为了有针对性地影响等离子体的形状(特别是等离子体核心)，例如，将主导的电位变化移动到分析最优值是合适的。在这方面，尽管已经描述了不同的电路概念(这些电路概念实际上为在分析上最佳的等离子体形状建立了条件)但是它们通常是静态的并且不能自动调整以改变条件。为了实现最佳的等离子体形状，通常还必需对所采用的部件以及等离子体线圈的几何形状进行复杂的适应。因此，每个等离子体生成器都是独一无二的，具有复杂且昂贵的制造工艺。相比之下，能够生成在分析上最佳成形的等离子体的等离子体生成器的大规模生产实现起来非常困难。
发明内容
在这种背景下，本发明的目的是提供一种等离子体生成器，利用该等离子体生成器可以以简单的方式产生最佳成形的等离子体。
该目的通过根据权利要求1的HF等离子体生成器和根据权利要求8的光谱仪实现。
关于HF等离子体生成器，该目的通过一种用于在光谱测定中生成电感耦合等离子体的HF等离子体生成器来实现，该HF等离子体生成器包括：电压供应装置，该电压供应装置呈DC电压源形式；振荡器电路，该振荡器电路连接到电源装置以用于生成HF功率；以及负载电路，该负载电路耦合到振荡器电路以用于生成等离子体，所述负载电路具有至少一个感应线圈和一个电容器，该一个电容器并联连接到感应线圈。根据本发明，HF等离子体生成器(特别是电压供应装置)包括至少一个可控电压源，该至少一个可控电压源布置在振荡器电路的支路中，其中，可控电压源被设计成设定施加到负载电路的电压和/或感应线圈与光谱仪(特别是光谱仪的锥体，例如采样器或截取器)之间的至少一个电位差。
此外，在一个可能的实施例中，等离子体生成器可以包括计算单元以用于控制可控电压源。
提供可控电压源允许在HF等离子体生成器的持续运行期间对等离子体(特别是等离子体核心)进行成形。通过有针对性地改变施加到负载电路的电压和/或感应线圈与光谱仪的锥体之间的至少一个电位差，等离子体(特别是等离子体核心)可以被有针对性地压缩或拉伸，或者也可以改变到光谱仪的锥体的距离。以这种方式，等离子体形状可以相应地被连续优化，并且例如关于分析优化进行校正。这实现了每个生成的离子束的可控成束。
本发明的优点在于，能够利用根据本发明的等离子体生成器对等离子体进行变形，而在无需干预生成器的部件。这种电子调整选项允许显著降低特定生成器的成本和生产时间，并在持续运行期间优化特定装置的分析性能。
在一个实施例中，HF等离子体生成器的振荡器电路包括桥式电路，特别是半桥电路或全桥电路。
在这方面，有利的是，桥式电路是具有布置在四个支路中的四个晶体管的全桥电路，其中，每个晶体管具有栅电极，经由该栅电极能够向每个晶体管施加栅极控制电压，并且其中，晶体管以交替方式切换以生成HF功率。
进一步有利的是，HF等离子体生成器包括栅极控制电路，该栅极控制电路用于生成用于切换晶体管的栅极控制电压。
最后，相对于栅极控制电路有利的是，其被设计成设定负载振荡电路的等离子体振荡频率的可预定值。栅极控制电路可以优选地通过使用栅极控制电压的时序来设定等离子体振荡频率，例如栅极控制电压可以是时间周期信号(特别是方波信号)，通过该时间周期信号可以以适当的方式开关通断晶体管。栅极控制电压的这种靶向控制有利地允许变化的等离子体负载的补偿以及特定部件特性的补偿。因此，可以通过根据本发明的HF等离子体生成器以简单的方式提供可靠的、能够用于分析的等离子体。在这方面，参考先前未公开的申请号为102020106692.9的德国专利申请，在本申请的上下文中对其进行完整参考。
在进一步的实施例中，HF等离子体生成器包括至少两个可控电压源，该至少两个可控电压源布置在振荡器电路的两个不同支路中。
在又一实施例中，HF等离子体生成器包括至少四个可控电压源，该至少四个可控电压源布置在振荡器电路的四个不同支路中。该实施例与以全桥电路形式设计的振荡器电路结合是特别有利的。在这种情况下，产生所有四个象限中的电位靶向调整选项。
使用多个(特别是结构相同的)可控电压源允许对施加到负载电路的电压和/或感应线圈与光谱仪的锥体之间的至少一个电位差进行特定调整。
本发明的目的还通过一种光谱仪实现，该光谱仪包括根据至少一个所述实施例的本发明的HF等离子体生成器。
在这种情况下，有利的是，光谱仪是质谱仪或光发射光谱仪。
应当注意，结合根据本发明的HF等离子体生成器描述的实施例也可以通过必要的修改而适用于根据本发明的光谱仪，反之亦然。
附图说明
参考以下附图解释本发明的进一步细节。示出如下：
图1是具有可控电压源的HF等离子体生成器的示意图，
图2是可控电压源的运行模式的示意图，
图3是具有四个晶体管和附加电感元件的全桥电路形式的可能的振荡器电路的电路图，以及
图4是根据图3且具有四个可控电压源的可能的振荡器电路的电路图。
在附图中，相同的元件由相同的附图标记表示。
具体实施方式
图1示出了根据本发明的HF等离子体生成器1的示意框图。生成器1包括呈DC电压源形式的电压供应装置2，通过该电压供应装置为振荡器电路3供电。通过振荡器电路3生成所需的高频功率。振荡器电路3对应地耦合到负载电路4以用于生成等离子体，负载电路4具有感应线圈LP(在此未单独示出)和电容器CP，该电容器CP并联连接到感应线圈。
HF等离子体生成器1(特别是电压供应装置2)还包括可控电压源5，该可控电压源布置在振荡器电路3的支路中并设计成设定施加到负载电路4的电压和/或感应线圈(在此未示出)与光谱仪(同样未示出)(特别是光谱仪的锥体)之间的至少一个电位差。
图2示意性地描绘了可控电压源5的运行模式。在每种情况下生成的等离子体P(特别是在此示出的等离子体核心)的形状尤其决定性地取决于等离子体线圈LP与光谱仪6的锥体7(诸如采样器)(等离子体生成器1可以与该锥体一起使用)之间的电位U1、U2，并且还取决于施加到负载电路4的电压UL。因此，等离子体形状可以受到这些电位中的一个或多个的特定设定的具体影响。特别地，甚至可以在持续运行期间动态适应等离子体形状。
图3中描绘了振荡器电路3的示例性实施例。振荡器电路3包括由四个晶体管T1-T4组成的全桥电路，其中，每个晶体管具有栅电极E1-E4，经由这些栅电极可以对该晶体管施加栅极控制电压UG。晶体管T1-T4以交替方式切换，以便为具有感应线圈LP和电容CP的负载电路4生成HF功率。电感元件L1-L4可选地串联连接到每个晶体管T1-T4。然后，电感元件L1-L4各自与晶体管T1-T4的输出电容器C1-C4形成串联谐振电路。
图4以示例的方式示出了本发明的优选变型，其中使用了四个可控电压源5a-5d。例如，当使用设计成全桥电路的振荡器电路3时，这可能是有利的。在此示出的振荡器电路3的设计与图3所示的类似。四个支路a、b、c、d中的每一个均包括晶体管T1-T4和用于生成的可控电压源5a-5d，通过这些可控电压源可以生成电压Usa-Usd。可选地，也能够设想到在图4的情况下使用如图3的情况下的附加的串联电感器L1-L4。
等离子体线圈LP与锥体7之间的电位U1、U2以及施加到负载电路4的电压UL可以通过受控电压源5a-5d或通过电压Usa-Usd而变化。进而，这允许等离子体形状(特别是等离子体核心)被线圈LP有针对性地影响，例如平行于和/或垂直于纵轴l(参见图2)拉伸或压缩。所有这些都可以在不改变其它使用的部件并且在不改变线圈几何形状的情况下完成。此外，等离子体核心到光谱仪6的锥体7的距离可以适当调整。总之，因此，通过使用电压源5a-5d也能够有针对性地控制所产生的离子束的成束。
在其它实施例中，还可以提供不同数量的可控电压源5。有利的是(但绝不是绝对必要的)，振荡器电路3的支路数量对应于可控电压源5的使用数量。
参考标记
1 HF等离子体生成器
2 电压供应装置
3 振荡器电路
4 负载电路
5，5a-5d 可控电压源
6 光谱仪
7 锥体
T1-T4 晶体管
E1-E4 栅电极
LP 感应线圈
CP 电容
L1-L4 电感元件
C1-C4 输出电容
Usa-Usd 可控电压源的电压
U1，U2 感应线圈与锥体之间的电位
P 等离子体，等离子体核心
l 纵轴
Claims (9)
1.一种用于在光谱测定中生成电感耦合等离子体(P)的HF等离子体生成器(1)，包括：
电压供应装置(2)，所述电压供应装置(2)具有DC电压源，
振荡器电路(3)，所述振荡器电路(3)连接到所述电源装置(2)以用于生成HF功率，以及
负载电路(4)，所述负载电路(4)耦合到所述振荡器电路(3)以用于生成所述等离子体(P)，所述负载电路(4)具有至少一个感应线圈(LP)和电容器(CP)，所述电容器(CP)并联连接到所述感应线圈(LP)，
其特征在于，
所述HF等离子体生成器(1)--特别是所述电压供应装置(2)--包括布置在所述振荡器电路(3)的支路中的至少一个可控电压源(5)，并且
所述可控电压源(5)被设计成设定施加到所述负载电路(4)的电压(UL)和/或所述感应线圈(LP)与光谱仪(6)--特别是所述光谱仪(6)的锥体(7)--之间的至少一个电位差(U1、U2)。
2.根据权利要求1所述的HF等离子体生成器(1)，
其中，所述振荡器电路(3)包括桥式电路，特别是半桥电路或全桥电路。
3.根据权利要求2所述的HF等离子体生成器(1)，
其中，所述桥式电路是具有布置在四个支路(a-d)中的四个晶体管(T1-T4)的全桥电路，其中，每个所述晶体管(T1-T4)具有栅电极(E1-E4)，经由所述栅电极能够向每个所述晶体管(T1-T4)施加栅极控制电压，并且其中，所述晶体管(T1-T4)以交替方式切换以生成所述HF功率。
4.根据权利要求3所述的HF等离子体生成器(1)，
包括栅极控制电路，以用于生成用于切换所述晶体管的所述栅极控制电压。
5.根据权利要求4的HF等离子体生成器(1)，
其中，所述栅极控制电路被设计成设定负载振荡电路的等离子体振荡频率的可预定值。
6.根据前述权利要求中至少一项所述的HF等离子体生成器(1)，
其中，所述电压供应装置(2)包括至少两个可控电压源(5)，所述至少两个可控电压源(5)布置在所述振荡器电路(3)的两个不同支路中。
7.根据权利要求1至5中至少一项所述的HF等离子体生成器(1)，
其中，所述电压供应装置(2)包括至少四个可控电压源(5a-5d)，所述至少四个可控电压源(5a-5d)布置在所述振荡器电路(3)的四个不同支路(a-d)中。
8.一种光谱仪(6)，包括根据前述权利要求中至少一项所述的HF等离子体生成器(1)。
9.根据权利要求8所述的光谱仪(6)，
其中，所述光谱仪(6)是质谱仪或光发射光谱仪。
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1505250A (zh) * | 2002-12-03 | 2004-06-16 | 夏义峰 | 带有功率控制的电感耦合等离子体自激式射频发生器 |
| US20060017388A1 (en) * | 2004-07-22 | 2006-01-26 | Stevenson Hugh C | Radio frequency power generator |
| US20090129131A1 (en) * | 2006-05-22 | 2009-05-21 | Steven William Hosemans | Power generator for spectrometry |
| CN102959857A (zh) * | 2009-12-17 | 2013-03-06 | 意法半导体有限公司 | 压控振荡器的电路配置 |
| CN108353493A (zh) * | 2016-01-22 | 2018-07-31 | Spp科技股份有限公司 | 等离子体控制装置 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8025775B2 (en) * | 2002-03-15 | 2011-09-27 | Oerlikon Trading Ag, Truebbach | Vacuum plasma generator |
| DE102007036592B4 (de) * | 2007-08-02 | 2014-07-10 | Astrium Gmbh | Hochfrequenzgenerator für Ionen- und Elektronenquellen |
| US8610501B2 (en) * | 2009-11-16 | 2013-12-17 | Covidien Lp | Class resonant-H electrosurgical generators |
| CN103222344B (zh) | 2010-09-22 | 2015-12-16 | 株式会社岛津制作所 | 高频电源装置 |
| JP5729693B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2015-06-03 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源装置 |
| CN102891613A (zh) * | 2011-07-21 | 2013-01-23 | 台达电子企业管理（上海）有限公司 | 一种ac-dc 电源转换器及其dc 充电站 |
| US9028479B2 (en) * | 2011-08-01 | 2015-05-12 | Covidien Lp | Electrosurgical apparatus with real-time RF tissue energy control |
| US9283028B2 (en) * | 2013-03-15 | 2016-03-15 | Covidien Lp | Crest-factor control of phase-shifted inverter |
| US9872719B2 (en) * | 2013-07-24 | 2018-01-23 | Covidien Lp | Systems and methods for generating electrosurgical energy using a multistage power converter |
| JP2016054041A (ja) * | 2014-09-03 | 2016-04-14 | 株式会社島津製作所 | 高周波電源装置 |
| US20220294346A1 (en) * | 2019-08-19 | 2022-09-15 | Signify Holding B.V. | A switched power converter for converting a dc supply voltage to multiple balanced dc output voltages |
| DE102020106692A1 (de) | 2020-03-11 | 2021-09-16 | Analytik Jena Gmbh | Generator für die Spektrometrie |
-
2020
- 2020-07-01 DE DE102020117402.0A patent/DE102020117402A1/de active Pending
-
2021
- 2021-06-18 EP EP21180224.4A patent/EP3933884A1/de active Pending
- 2021-06-28 CN CN202110718867.0A patent/CN113889396A/zh active Pending
- 2021-06-29 US US17/362,041 patent/US20220007490A1/en active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1505250A (zh) * | 2002-12-03 | 2004-06-16 | 夏义峰 | 带有功率控制的电感耦合等离子体自激式射频发生器 |
| US20060017388A1 (en) * | 2004-07-22 | 2006-01-26 | Stevenson Hugh C | Radio frequency power generator |
| US20090129131A1 (en) * | 2006-05-22 | 2009-05-21 | Steven William Hosemans | Power generator for spectrometry |
| CN102959857A (zh) * | 2009-12-17 | 2013-03-06 | 意法半导体有限公司 | 压控振荡器的电路配置 |
| CN108353493A (zh) * | 2016-01-22 | 2018-07-31 | Spp科技股份有限公司 | 等离子体控制装置 |
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