CN113867024A - 液晶手写板、手写系统及手写系统的控制方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种液晶手写板、手写系统及手写系统的控制方法，属于显示技术领域。液晶手写板包括：液晶面板、光敏组件和驱动组件。当需要对液晶手写板所显示的书写笔迹进行擦除时，可以采用能够发射目标光线的擦除工具对该书写笔迹进行擦除。在擦除工具向液晶面板发射目标光线后，光敏组件可以通过至少部分光敏元件所感应到的目标光线，确定目标光线照射到液晶面板上的位置，目标光线照射到液晶面板上的位置即为待擦除的像素区域的位置。如此，液晶手写板可以通过控制组件向待擦除的像素区域内的像素电极施加像素电压，以实现对待擦除的像素区域内的书写笔迹进行擦除。

Description

液晶手写板、手写系统及手写系统的控制方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别涉及一种液晶手写板、手写系统及手写系统的控制方法。

背景技术

手写板是一种用于实现文字书写和绘画的电子设备。其中，液晶手写板具有功耗低且笔迹清晰的优势，近年来在占据了较多的市场份额。

为了能够对液晶手写板所显示的书写笔迹进行局部擦除，需要在液晶手写板中集成红外定位装置。在采用擦除工具(例如，板擦)对液晶手写板显示的书写笔迹进行擦除时，可以通过红外定位装置确定擦除工具在液晶手写板上的位置，以在液晶手写板中确定待擦除区域。之后，液晶手写板可以对待擦除区域内的像素电极进行控制，以擦除待擦除区域内的书写笔迹。

然而，液晶手写板中的红外定位装置的定位精度较低，导致液晶手写板极易出现误擦现象，进而导致对液晶手写板进行局部擦除时的效果较差。

发明内容

本申请实施例提供了一种液晶手写板、手写系统及手写系统的控制方法。可以解决现有技术中对液晶手写板进行局部擦除时的效果较差的问题，所述技术方案如下：

一方面，提供了一种液晶手写板，包括：液晶面板、光敏组件和控制组件；

所述液晶面板包括：相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板具有多个像素区域，以及位于所述像素区域内的像素电极，所述第二基板具有公共电极；

所述光敏组件具有多个光敏元件，一个所述光敏元件与至少一个所述像素区域对应，且所述光敏元件在所述第一基板上的正投影与对应的至少一个所述像素区域至少部分交叠；

所述控制组件分别与所述液晶面板和所述光敏组件电连接，所述控制组件被配置为：通过所述光敏组件检测目标光线照射在所述液晶面板上的位置信息，以确定待擦除的像素区域的位置信息，并向所述待擦除的像素区域内的像素电极施加像素电压，以使所述待擦除的像素区域内的像素电极与所述公共电极之间形成电压差。

可选的，所述光敏组件位于所述第一基板远离所述第二基板的一侧。

可选的，所述液晶手写板还包括：黑矩阵，所述黑矩阵位于所述多个像素电极与所述多个光敏元件之间，所述黑矩阵具有多个通光孔，所述多个通光孔与所述多个像素区域一一对应，所述通光孔在所述第一基板上的正投影位于对应的像素区域内，且所述光敏元件与至少一个所述通光孔对应，所述通光孔在所述第一基板上的正投影与对应的光敏元件在所述第一基板上的正投影至少部分交叠。

可选的，在目标方向上，至少两个相邻的像素区域所对应的至少两个通光孔中，任意两个相邻的通光孔的排布方向与所述目标方向相交，所述目标方向为一排所述像素区域的排列方向。

可选的，所述多个通光孔包括至少一个通光孔组，所述通光孔组中的各个通光孔在所述第一基板上的正投影在对应的像素区域内的分布位置不同。

可选的，所述第一基板包括：第一衬底，以及位于所述第一衬底上的所述多个像素电极和多个驱动薄膜晶体管TFT，所述多个像素电极与多个驱动TFT一一对应电连接；

其中，所述黑矩阵位于所述第一衬底背离所述第二基板的一侧；

或者，所述黑矩阵位于所述第一衬底朝向所述第二基板的一侧，且所述第一基板还包括：位于所述黑矩阵与所述驱动TFT之间的第一绝缘层。

可选的，所述通光孔在所述第一基板上的正投影的面积占对应的像素区域的面积的百分比的范围为5％至20％。

可选的，所述光敏组件包括：电路板，以及位于所述电路板上的所述多个光敏元件，所述多个光敏元件均与所述电路板电连接，且所述电路板与所述控制组件电连接。

可选的，所述光敏组件集成在所述第一基板内。所述光敏元件为光敏TFT，多个所述光敏TFT与所述多个像素区域一一对应，且所述光敏TFT位于对应的像素区域内。

可选的，所述光敏组件还具有与所述光敏TFT的第一极电连接的光敏信号线，以及与所述光敏TFT的第二极电连接的第一感测线和第二感测线；

其中，所述控制组件分别与所述光敏信号线、所述第一感测线和所述第二感测线电连接，且所述第一感测线的延伸方向与第二感测线的延伸方向垂直。

可选的，所述光敏组件还具有与所述像素电极同层设置的转接电极，所述转接电极分别与所述光敏TFT的第二极和所述第二感测线电连接。

可选的，所述第一基板包括：第一衬底，以及位于所述第一衬底上的所述多个像素电极和多个驱动TFT，所述多个像素电极与所述多个驱动TFT一一对应电连接，所述多个驱动TFT与多个所述光敏TFT同层设置。

可选的，所述液晶面板还包括：位于所述第一基板和所述第二基板之间的双稳态液晶分子层；

所述双稳态液晶分子层中的双稳态液晶分子被配置为：在所述液晶面板受到外部压力后，由焦锥织构转变为平面织构；在所述待擦除的像素区域内的像素电极与所述公共电极之间形成电压差后，由平面织构转变为焦锥织构。

另一方面，提供了一种手写系统，包括：擦除工具和上述的液晶手写板；

其中，所述擦除工具具有发光组件，所述液晶手写板被配置为：在所述擦除工具的发光组件向所述液晶面板发射目标光线后，通过所述光敏组件检测所述目标光线照射的位置信息，以确定待擦除的像素区域的位置信息。

又一方面，提供了一种手写系统的控制方法，应用于上述的手写系统，所述方法包括：

在所述擦除工具的发光组件向所述液晶面板发射目标光线后，所述液晶手写板通过所述光敏组件检测所述目标光线照射的位置信息，以确定待擦除的像素区域的位置信息；

所述液晶手写板基于所述待擦除的像素区域的位置信息，通过所述控制组件向所述待擦除的像素区域内的像素电极施加像素电压，以使所述待擦除的像素区域内的像素电极与所述公共电极之间形成电压差。

本申请实施例提供的技术方案带来的有益效果至少包括：

一种液晶手写板包括：液晶面板、光敏组件和驱动组件。当需要对液晶手写板所显示的书写笔迹进行擦除时，可以采用能够发射目标光线的擦除工具对该书写笔迹进行擦除。由于光敏组件中的光敏元件在液晶面板中的第一基板上的正投影与对应的像素区域至少部分交叠。因此，在擦除工具向液晶面板发射目标光线后，光敏组件可以通过至少部分光敏元件所感应到的目标光线，确定目标光线照射到液晶面板上的位置，目标光线照射到液晶面板上的位置即为待擦除的像素区域的位置。如此，液晶手写板可以通过控制组件向待擦除的像素区域内的像素电极施加像素电压，以实现对待擦除的像素区域内的书写笔迹进行擦除。在这种情况下，即使用户在书写的过程中，用户的手部与液晶手写板进行接触，光敏组件也不会将用户与液晶手写板接触的区域识别为待擦除的像素区域，进而降低了液晶手写板出现误擦现象的概率，有效的提高了液晶手写板进行局部擦除时的擦除效果。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是相关技术提供的一种液晶手写板的俯视图；

图2是图1示出的液晶手写板在A-A’处的截面图；

图3是图1示出的液晶手写板呈现书写笔迹的原理图；

图4是本申请实施例提供的一种液晶手写板的结构示意图；

图5是本申请实施提供的另一种液晶手写板的结构示意图；

图6是本申请实施例的一种第一基板、黑矩阵和光敏组件叠层后的俯视图；

图7是图6示出的结构中的黑矩阵的俯视图；

图8是图6示出的结构中的光敏组件的俯视图；

图9是本申请实施例提供的一种第一基板的俯视图；

图10是图9示出的第一基板在B-B’处的膜层结构示意图；

图11是图9示出的第一基板在B-B’处的另一种膜层结构示意图；

图12是本申请实施例提供一种的光敏组件的膜层结构示意图；

图13是本申请实施提供的又一种液晶手写板的结构示意图；

图14是本申请实施例提供的一种第一基板和黑色膜层叠层后的俯视图；

图15是本申请实施例提供的一种第一基板中的一个像素区域的俯视图；

图16是图15示出的第一基板在C-C’处的膜层结构示意图；

图17是本申请实施例提供的一种控制组件的结构框图；

图18是本申请实施例提供的一种液晶面板的膜层结构示意图；

图19是图18示出的液晶面板中的第一基板的俯视图；

图20是本申请实施例提供的一种手写系统的结构示意图；

图21是本申请实施例提供的一种液晶手写板的产品结构示意图；

图22是本发明实施例提供的一种手写系统的控制方法的流程图。

具体实施方式

为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。

在相关技术中，请参考图1和图2，图1是相关技术提供的一种液晶手写板的俯视图，图2是图1示出的液晶手写板在A-A’处的截面图。液晶手写板00通常可以包括：液晶面板01、黑色铝蜂窝板02和红外定位装置03。

其中，液晶面板01可以包括：相对设置的第一基板011和第二基板012，以及位于二者之间的液晶层013。第一基板011通常具有阵列排布的多个像素电极(图中未画出)，第二基板012具有面状的公共电极(图中未画出)，液晶层013中的液晶分子可以为双稳态液晶分子。

黑色铝蜂窝板04和位于第一基板011远离第二基板012的一侧。红外定位装置03位于液晶面板01和黑色铝蜂窝板04的外围，红外定位装置03需要凸出于液晶面板01，并且可以发出红外光，以确定液晶面板01上的擦除工具的位置。

如图3所示，图3是图1示出的液晶手写板呈现书写笔迹的原理图。当液晶手写板00处于书写模式时，书写工具001(例如，书写笔)可以向液晶面板01施加压力，使得液晶面板01中的液晶层013内的部分液晶分子受外部压力的作用由焦锥织构转变为平面织构。这样，转变为平面织构的液晶分子能够对射入的环境光线中的一定波长的光线(例如，绿色光线)进行反射，使得液晶手写板可以显示书写笔迹。

当液晶手写板00处于书写模式时，擦除工具002在液晶面板01上进行移动，液晶手写板00通过红外定位装置03发出的红外光，确定擦除工具002在液晶面板01上的位置，进而可以在液晶手写板00中确定待擦除区域。之后，液晶手写板可以向待擦除区域内的像素电极施加电压，以使待擦除区域内的像素电极与公共电极之间能够形成电压差，进而使得待擦除区域内的液晶分子在该电压差的作用下重新排列，也即液晶分子可以由平面织构转变为焦锥织构。这样，转变为焦锥织构的液晶分子能够对射入的环境光线进行透射，使得待擦除区域可以呈现出与黑色铝蜂窝板04颜色相同的黑色背景，进而实现对待擦除区域内的书写笔迹进行擦除。

液晶手写板00中的红外定位装置03通常需要对书写工具001和擦除工具002进行区分，以保证书写工具001能够正常在液晶手写板00上进行书写，且保证擦除工具002能够对液晶手写板00所显示的书写笔迹进行擦除。为此，需要保证擦除工具002与液晶手写板00接触的面远大于书写工具001与液晶手写板00接触的面积，使得红外定位装置03通过检测物体与液晶手写板00的接触面积，对书写工具001与擦除工具002进行区分。

然而，用户在通过书写工具001在液晶手写板00进行书写的过程中，用户的手部极易与液晶手写板00进行接触，而用户的手部与液晶手写板00接触的面积通常较大，导致红外定位装置03极易将用户的手部识别为擦除工具002，进而导致用户的手部与液晶手写板00接触的区域所显示的书写笔迹被误擦。如此，液晶手写板00进行局部擦除时的效果较差。

请参考图4，图4是本申请实施例提供的一种液晶手写板的结构示意图。该液晶手写板000可以包括：

液晶面板100、光敏组件200和控制组件300。

液晶面板100可以包括：相对设置的第一基板101和第二基板102。在本申请实施例中，液晶面板100通常还可以包括：位于第一基板101和第二基板102之间的液晶层103。其中，液晶层103可以为双稳态液晶分子层，也即是，该液晶层103中的液晶分子为双稳态液晶分子。示例的，双稳态液晶分子被配置为：在液晶手写板000中的液晶面板100受到外部压力时，由焦锥织构转变为平面织构。例如，在用户通过书写工具在液晶手写板000上进行书写时，用户可以通过书写工具向液晶面板100施加压力，使得液晶面板000中受到压力的区域内的双稳态液晶分子由焦锥织构转变为平面织构。在这种情况下，呈平面织构的双稳态液晶分子能够反射照射在液晶面板100上环境光线中的一定波长的光线(例如，绿色光线)进行反射，以使液晶手写板000可以显示相应的书写笔迹。

其中，液晶面板100中的第一基板101具有多个像素区域101a(图4中未标注，在后文中的图6中进行了标注)以及，位于像素区域内101a的像素电极1011。示例的，第一基板101中的每个像素区域101a内均可以布置一个像素电极1011，且该像素电极1011可以为块状的电极。第一基板101的多个像素区域101a可以呈阵列排布，因此，第一基板101中的多个像素电极1011也是阵列排布的。需要说明的是，第一基板101通常还具有多条数据信号线和多条栅线(也即后文中提到的第一栅线G1)，任意两条相邻的数据信号线与任意两条相邻的栅线能够围成一个像素区域101a，第一基板101中的一个像素电极1011可以位于一个像素区域101a内。

液晶面板100中的第二基板102具有公共电极1021，示例的，第二基板102中的公共电极1021可以为面状的电极，也即是，公共电极1021为整层的电极。

光敏组件200具有多个光敏元件201。一个光敏元件201可以与第一基板101的至少一个像素区域101a对应，并且，光敏组件200中的光敏元件201在第一基板101上的正投影与对应的至少一个像素区域101a至少部分交叠。在本申请中，光敏组件200中的每个光敏元件201可以与至少一个像素区域101a对应。

控制组件300分别与连接液晶面板100和光敏组件200电连接。示例的，控制组件300可以与液晶面板100中的各个像素电极1011电连接，该控制组件300还可以与光敏组件200中的各个光敏元件201电连接。

其中，控制组件300可以被配置为：通过光敏组件200检测目标光线照射在液晶面板100上的位置信息，以确定待擦除的像素区域的位置信息，并向待擦除的像素区域内的像素电极1011施加像素电压，以使待擦除的像素区域内的像素电极1011与公共电极1021之间形成电压差。

在本申请实施例中，当需要对液晶手写板000所显示的书写笔迹进行擦除时，可以采用能够发射目标光线的擦除工具对该书写笔迹进行擦除。由于光敏组件200中的光敏元件201在第一基板101上的正投影与对应的至少一个像素区域101a至少部分交叠。因此，在擦除工具向液晶面板100发射目标光线后，光敏组件200中的至少部分光敏元件201可以感测到由擦除工具发出并穿过液晶面板100的目标光线，并通过控制组件300确定该目标光线照射到液晶面板100上的位置，该光线照射到液晶面板000上的位置即为待擦除的像素区域的位置。

示例的，光敏组件200中的多个光敏元件201可以是阵列排布的，因此，控制组件300在通过光敏组件200中的某个光敏元件感测到由擦除工具发出的目标光线后，控制组件300可以确定该某个光敏元件在多个光敏元件201中的位置信息。之后，控制组件300可以基于该某个光敏元件在多个光敏元件201中的位置信息，以及光敏元件201与像素区域101a之间的对应关系，确定光线照射在液晶面板100上的位置信息，即可得到待擦除的像素区域的位置信息。

如此，液晶手写板000通过光敏组件200可以检测到待擦除的像素区域的位置信息，之后，该液晶手写板000可以通过控制组件300向待擦除的像素区域内的像素电极1011施加像素电压，使得待擦除的像素区域内的像素电极1011与公共电极1021之间形成电压差。示例的，双稳态液晶分子还被配置为：在擦除的像素区域内的像素电极1011与公共电极1021之间形成电压差后，由平面织构转变为焦锥织构。例如，在用户通过能够发出光线的擦除工具在液晶手写板000上擦除时，用户可以通过擦除工具向液晶面板100发射目标光线，使得控制组件300可以确定出待擦除的像素区域，并向待擦除的像素区域内的像素电极1011施加像素电压，使得其与公共电极1021之间形成电压差，进而使得液晶面板000中待擦除的像素区域内的双稳态液晶分子由平面织构恢复为焦锥织构。如此，呈焦锥织构的双稳态液晶分子能够透射照射在液晶面板100上的环境光线，以实现对待擦除的像素区域内的书写笔迹进行擦除。

综上所述，本申请实施例提供的液晶手写板，包括：液晶面板、光敏组件和驱动组件。当需要对液晶手写板所显示的书写笔迹进行擦除时，可以采用能够发射目标光线的擦除工具对该书写笔迹进行擦除。由于光敏组件中的光敏元件在液晶面板中的第一基板上的正投影与对应的像素区域至少部分交叠。因此，在擦除工具向液晶面板发射目标光线后，光敏组件可以通过至少部分光敏元件所感应到的目标光线，确定目标光线照射到液晶面板上的位置，目标光线照射到液晶面板上的位置即为待擦除的像素区域的位置。如此，液晶手写板可以通过控制组件向待擦除的像素区域内的像素电极施加像素电压，以实现对待擦除的像素区域内的书写笔迹进行擦除。在这种情况下，即使用户在书写的过程中，用户的手部与液晶手写板进行接触，光敏组件也不会将用户与液晶手写板接触的区域识别为待擦除的像素区域，进而降低了液晶手写板出现误擦现象的概率，有效的提高了液晶手写板进行局部擦除时的擦除效果。

需要说明的是，为了让光敏组件200能够对目标光线与环境光线进行区别，需要保证目标光线的光强远大于环境光线的光强。又由于光敏组件200通常位于液晶面板100中的液晶层103远离第二基板102的一侧。因此，目标光线通常需要穿过液晶层103后射向光敏组件200。而当液晶面板000中的双稳态液晶分子在呈平面织构时，其能够反射绿色的光线，为此，为了能够让目标光线正常穿过呈平面织构的双稳态液晶分子，需要保证目标光线为除绿色光线之前的其他颜色的光线。例如，目标光线可以为白光、红光或蓝光等。

在本申请实施例中，液晶手写板000中的光敏组件200的结构有多种，本申请实施例以以下两种可选的实现方式为例进行示意性的说明：

第一种可选的实现方式，请参考图5，图5是本申请实施提供的另一种液晶手写板的结构示意图。液晶手写板000中光敏组件200位于第一基板101远离第二基板102的一侧。示例的，光敏组件200可以包括：电路板202，以及位于电路板202上的多个光敏元件201。其中，光敏组件200中的多个光敏元件201均可以与电路板202电连接，且该电路板202可以与控制组件300电连接。其中，控制组件300可以通过电路板202对各个光敏元件201的参数进行监测。可选的，光敏组件200中的各个光敏元件201均可以为光敏电阻、光敏二极管或光敏三极管等。

在这种情况下，光敏组件200可以贴合在第一基板101远离第二基板102的一侧，且需要保证光敏组件200中的多个光敏元件201朝向第一基板101，以保证穿过液晶面板100的目标光线能够射入光敏元件201。在光敏元件201接收到目标光线后，光敏元件201的参数(例如，电阻)发生变化，这样，控制组件300通过电路板202能够确定出参数发生变化的光敏元件201在多个光敏元件201中的位置，进而可以确定出目标光线照射在液晶面板100上的位置信息。需要说明的是，光敏组件200中的电路板202可以为印刷电路板(英文：PrintedCircuit Board；简称：PCB)或柔性电路板(英文：Flexible Printed Circuit；简称：FPC)。

示例的，可以采用表面组装(英文：Surface Mounted Technology；简称：SMT)贴片工艺将光敏组件200中的多个光敏元件201与电路板202进行连接。例如，可以先在电路板202上印刷多个锡膏；然后，将多个光敏元件201转移到电路板202上，以使多个光敏元件201和多个锡膏一一对应接触；之后，对电路板进行回流焊接，以使每个光敏元件201通过对应锡膏与电路板202电连接；最后，采用自动光学检测(英文：Automatic Optic Inspection；简称：AOI)系统对具有多个光敏元件201的电路板202进行光学检测。

在本申请实施例中，液晶手写板000还可以包括：黑矩阵400。液晶手写板000中的黑矩阵400位于可以第一基板101的多个像素电极1011与光敏组件200的多个光敏元件201之间。

如图6、图7和图8所示，图6是本申请实施例的一种第一基板、黑矩阵和光敏组件叠层后的俯视图，图7是图6示出的结构中的黑矩阵的俯视图，图8是图6示出的结构中的光敏组件的俯视图。液晶手写板000中的黑矩阵400具有与多个通光孔401。黑矩阵400中的多个通光孔401与第一基板101的多个像素区域101a一一对应，且每个通光孔401在第一基板101上的正投影位于对应的像素区域101a内。又由于光敏组件200中的每个光敏元件201与至少一个像素区域101a对应，因此，黑矩阵400中的至少一个通光孔401与光敏组件200中的一个光敏元件201对应，且每个所述通光孔401在第一基板101上的正投影与对应的光敏元件201在第一基板101上的正投影位于至少部分交叠。

在这种情况下，射向液晶面板100中的第一基板101的各个像素区域101a的目标光线，可以依次穿过对应的通光孔401后射入光敏组件200中对应的光敏元件201，以保证光敏组件200可以通过多个光敏元件201感测到射向任一像素区域101a的目标光线。

需要说明的是，图6是以黑矩阵400中的各个通光孔401的形状为正方形为例进行示意性说明的。在其他可能的实现方式中，黑矩阵400中的各个通光孔401的形状还可以为圆形、矩形或其他形状，本申请实施例对此不做限定。

示例的，由于用户通过书写工具在液晶手写板000上进行书写时的书写笔迹通常较宽，而像素区域101a的宽度通常较小。因此，为了提高对书写笔迹的擦除效率，需要保证光敏组件200中的每个光敏元件201能够对应多个像素区域101a。例如，每个光敏元件201可以与4个像素区域101a对应，且这4个像素区域101a可以排布为两行和两列，这4个像素区域101a内排布的4个像素电极1011在光敏组件200上的正投影位于对应的光敏元件201所在区域内。

在这种情况下，这4个像素区域101a能够组成一个最小的擦除区域，在这4个像素区域101a中的任一像素区域101a接收到目标光线的照射后，均可以被与其对应的光敏元件201检测到，从而能够将这4个像素区域101a组成的最小的擦除区域所显示的书写笔迹进行擦除。

可选的，黑矩阵400中的通光孔401在第一基板101上的正投影的面积不能过小，以保证目标光线能够正常穿过通光孔401后进入光敏元件201。黑矩阵400中的通光孔401在第一基板101上的正投影的面积也不能过大，以保证液晶手写板000中的双稳态液晶分子在呈现焦锥织构时，目标光线能够穿过液晶层103后被黑矩阵400吸收，使得其呈现出黑色背景。示例的，黑矩阵400中的通光孔401在第一基板101上的正投影的面积占对应的像素区域101a的面积的百分比的范围为5％至20％。例如，假设，第一基板101的像素区域101a的尺寸为1mm*1mm(毫米)，本申请中通光孔401在第一基板101上的正投影的面积占对应的像素区域101a的面积的百分比为10％，则，黑矩阵400中的通光孔401的尺寸为0.1mm*0.1mm。

在本申请实施例中，在目标方向上，至少两个相邻的像素区域101a所对应的至少两个通光孔401中，任意两个相邻的通光孔401的排布方向与该目标方向相交。例如，任意两个相邻的像素区域101a所对应的两个通光孔401的排布方向与该目标方向相交。其中，目标方向为一排像素区域101a的排布方向，该一排像素区域101a的排布方向可以为像素区域的行排布方向、像素区域的列排布方向或像素区域的倾斜排布方向。如此，可以保证黑矩阵400中的多个通光孔401是呈杂乱分布的，以避免黑矩阵400中的通光孔401在排布呈一行或排布为一列时，在液晶面板000的背面出现漏光后让其呈现出亮线的问题。

可选的，黑矩阵400中的多个通光孔401包括至少一个通光孔组，通光孔组中的各个通光孔401在第一基板101上的正投影在对应的像素区域101a内的分布位置不同。在本申请中，黑矩阵400中的多个通光孔401被划分为多个通光孔组时，各个通光孔组中的通光孔401的排布方式可以相同。例如，每36个像素区域101a对应的36个通光孔401可以组成一个通光孔组，且这36个像素区域101a可以排布为六行和六列。每个通光孔组中的各个通光孔401在第一基板101上的正投影在对应的像素区域101a内的位置不同。通过对多个通光孔401进行分组划分的方式，可以有效的降低黑矩阵400的制造难度。

可选的，请参考图9和图10，图9是本申请实施例提供的一种第一基板的俯视图，图10是图9示出的第一基板在B-B’处的膜层结构示意图。液晶面板100中的第一基板101可以包括：第一衬底1012，以及位于第一衬底1012上的多个像素电极1011和多个驱动薄膜晶体管(英文：Thin-film transistor；简称：TFT)1013。其中，第一基板101中的多个像素电极1011和多个驱动TFT 1013一一对应电连接。

在本申请实施例中，液晶手写板000中的黑矩阵400的位置有多种位置，本申请实施例以以下两种情况对应的实现方式为例进行示意性的说明。

第一种情况，如图10所示，液晶手写板000中的黑矩阵400位于第一基板101中的第一衬底1012背离第二基板102的一侧。

第二种情况，如图11所示，图11是图9示出的第一基板在B-B’处的另一种膜层结构示意图。液晶手写板000中的黑矩阵400位于第一基板101中的第一衬底1012朝向第二基板102的一侧。在这种情况下，由于黑矩阵400也具备一定的导电性能，因此，为了避免第一衬底1012上的各个驱动TFT 1013发生短路的现象，需要在黑矩阵400与驱动TFT 1013之间设置第一绝缘层1014。示例的，该第一绝缘层1014可以为透明的绝缘层，这样，可以在不影响目标光线通过黑矩阵400中的通光孔401射向光敏组件200的前提下，对黑矩阵400与驱动TFT 1013进行绝缘。

在本申请实施例中，上述的两种情况中的黑矩阵400在第一衬底1012上形成的工艺均可以为：丝网印刷工艺或构图工艺。

当采用丝网印刷工艺在第一衬底1012上形成黑矩阵400时，可以采用丝网印刷设备在第一衬底1012上印刷一层黑色油墨，并对其进行烘干处理后即可得黑矩阵400。

当采用构图工艺在第一衬底1012上形成黑矩阵400时，可以在第一衬底1012通过沉积、涂敷、溅射等多种方式中的任一种形成黑色薄膜，然后对该黑色薄膜进行曝光处理和显影处理即可得到黑矩阵400。

在本申请实施例中，由于液晶手写板000中的黑矩阵400能够替代传统的液晶手写板中的黑色铝蜂窝板，且黑矩阵400的厚度相对于黑色铝蜂窝板的厚度较小。因此，本申请实施例提供的液晶手写板000的厚度较小，且重量较小。

需要说明的是，液晶手写板000中的黑矩阵400不仅可以集成在第一基板101内，也可以集成在光敏组件200内。示例的，如图12所示，图12是本申请实施例提供一种的光敏组件的膜层结构示意图。光敏组件200还可以包括：位于多个光敏元件201远离电路板202一侧的平坦层203，液晶手写板000中的黑矩阵400可以位于平坦层203远离电路板202的一侧。其中，该平坦层203可以为透明的绝缘层，这样，不仅可以保证平坦层203能够提高光敏组件朝向第一基板101一侧的平坦性，以保证黑矩阵400的平坦性较号，还可以在不影响目标光线通过黑矩阵400中的通光孔401射向光敏组件200的前提下，对黑矩阵400与光敏元件201进行绝缘。

可选的，如图10和图11所示，第一基板101中的驱动TFT 1013可以包括：栅极1013a、第一极1013b、第二极1013c和有源层1013d。在驱动TFT 1013中，第一极1013b和第二极1013c均与有源层1013d搭接，且有源层1013d与栅极1013a绝缘，例如，有源层1013d与栅极1013a之间可以通过栅极绝缘层1015绝缘。需要说明的是，本申请实施例均是以驱动TFT1013中的栅极1013a相对于有源层1013d靠近衬底1012的一侧为例进行示意性说明的，也即是驱动TFT 1013为底栅型的TFT。在其他可能的实现方式中，驱动TFT 1013还可以为顶栅型的TFT，本申请实施例对此不做限定。还需要说明的是，驱动TFT 1013中的第一极1013b可以为源极和漏极中的一个，第二极1013c可以为源极和漏极中的另一个。

在本申请实施例中，如图10和图11所示，第一基板101还可以包括：位于驱动TFT1013与像素电极1011之间的第二绝缘层1016。其中，该像素电极1011可以位于第二绝缘层1016上，该第二绝缘层1016不仅能够对驱动TFT 1013进行保护，还能够提高像素电极1011的平坦性。在这种情况下，该第二绝缘层1016具有第一过孔V1，像素电极1011可以通过该第一过孔V1与驱动TFT 1013中的第二极1013c电连接。

第一基板101还可以包括：位于像素电极1011远离第一衬底1012一侧的第三绝缘层1017。在将第一基板101与第二基板102相对设置时，由于设备环境非无尘环境，因此会导致第一基板101与第二基板102之间出现异物，通过第三绝缘层1017可以用于防止位于第一基板101与第二基板102之间的异物，导通第一基板101中的像素电极1011和第二基板102中的公共电极1021。

如图9所示，第一基板101还可以包括：与驱动TFT 1013中的栅极1013a电连接的第一栅线G1，以及与TFT 1013中的第一极1013b电连接的数据信号线D1。其中，第一栅线G1的条数通常为多条，且多条第一栅线G1是平行排布的；数据信号线D1的条数为多条，且多条数据信号线D1是平行排布的。该第一栅线G1的延伸方向与数据信号线D1的延伸方向是垂直的。如此，任意两条相邻的第一栅线G1与任意两条相邻的数据信号线D1可以围成一个呈矩形状的像素区域101a。

在本申请实施例中，第一基板101中的第一栅线G1与数据信号线D1均可以与控制组件300电连接，以保证控制组件300能够通过第一栅线G1与数据信号线D1向像素电极1011施加像素电压。

第二种可选的实现方式，请参考图13，图13是本申请实施提供的又一种液晶手写板的结构示意图。液晶手写板000中的光敏组件200可以集成在第一基板100内。如此，无需在液晶手写板000中的液晶面板100贴合具有光敏元件的电路板，保证液晶手写板000的厚度较低。

在本申请实施例中，液晶手写板000还可以包括：黑色膜层500。其中，黑色膜层500可以位于液晶面板100中的液晶层103远离第二基板102的一侧。如此，液晶手写板000中的双稳态液晶分子在呈现焦锥织构时，目标光线能够穿过液晶层103后被黑色膜层500吸收，使得其呈现出黑色背景。需要说明的是，黑色膜层500与上述第一种可选的实现方式中的黑矩阵400的区别仅在于：黑色膜层500中无需设置通光孔，为此，该黑色膜层500的设置位置和形成方式均可以参考上述第一种可选的实现方式中的黑矩阵400的设置位置和形成方式，本申请实施例对此不再赘述。

如图14所示，图14是本申请实施例提供的一种第一基板和黑色膜层叠层后的俯视图。由于第一基板101通常为集成了多个阵列排布的驱动TFT 1013的基板，因此，为了保证光敏组件200能够集成在第一基板101内，可以将光敏元件201作为能够对目标光线进行检测的光敏TFT。也即是，光敏组件200中的各个光敏元件201均可以为光敏TFT 201’。

在本申请实施例中，第一基板101中的多个光敏元件TFT 201’可以与多个像素区域101a一一对应的，且每个光敏元件TFT 201’可以位于对应的像素区域101a内。

在这种情况下，射向液晶面板100中的第一基板101的各个像素区域101a的目标光线，可以被各个像素区域101a内设置的光敏TFT 201’进行感测，以保证光敏组件200可以通过多个光敏TFT 201’感测到射向多个像素区域101a中的任一像素区域101a的目标光线。并且，通过单独的光敏TFT 201’感测射向像素区域101a的目标光线时，无需目标光线的光强过大便能够让光敏TFT 201’感测到目标光线，这样，仅需要保证目标光线的光强略大于环境光线的光强即可，使得射向像素区域101a的目标光线不会影响驱动TFT 1013的正常工作。

在本申请实施例中，如图15和图16所示，图15是本申请实施例提供的一种第一基板中的一个像素区域的俯视图，图16是图15示出的第一基板在C-C’处的膜层结构示意图。第一基板101可以包括：第一衬底1012，以及位于第一衬底1012上的多个像素电极1011和多个驱动TFT 1013。需要说明的是，第一基板101中的像素电极1011与驱动TFT 1013连接的方式，第一基板101中包含的其他结构均可以参考上述第一种可选的实现方式中的对应内容，本申请实施例在此不再赘述。为了简化第一基板101的制造工艺，需要保证第一基板101内的驱动TFT 1012与光敏TFT 201’同层设置。也即是，在第一基板101的制造过程中，驱动TFT1012与光敏TFT 201’是同时形成的。

示例的，光敏TFT 201’可以包括：栅极201a、第一极201b、第二极201c和有源层201d。在光敏TFT 201’中，第一极201b和第二极201c均与有源层201d搭接，且有源层201d与栅极201a绝缘，例如，有源层201d与栅极201a之间可以通过栅极绝缘层1015绝缘。需要说明的是，驱动光敏TFT 201’中的第一极201b可以为源极和漏极中的一个，第二极201c可以为源极和漏极中的另一个。

在这种情况下，光敏TFT 201’中的栅极201a与驱动TFT 1013中的栅极1013a是通过一次构图工艺形成的；光敏TFT 201’中的第一极201b和第二极201c，和驱动TFT 1013中的第一极1013b和第二极1013c是通过一次构图工艺形成的；光敏TFT 201’中的有源层201d与驱动TFT 1013中的栅极1013d是通过一次构图工艺形成的。需要说明的是，本申请实施例中的一次构图工艺是指：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离。

可选的，如图15所示，光敏组件200还具有与光敏TFT 201’的第一极201b电连接的光敏信号线D2，以及与光敏TFT 201’的第二极201c电连接的第一感测线L1和第二感测线L2。其中，液晶手写板000中控制组件200可以分别与光敏信号线D2、第一感测线L1和第二感测线L2电连接，且第一感测线L1的延伸方向与第二感测线L2的延伸方向垂直，第一感测线L1的延伸方向可以与光敏信号线D2的延伸方向平行。

在本申请实施例中，光敏组件200中的光敏信号线D2、第一感测线L1和第二感测线L2的条数均可以为多条。多个光敏TFT 201’是呈阵列排布的，每条光敏信号线D2可以与一列光敏TFT 201’的第一极201b电连接，且每条第一感测线L1可以与一列光敏TFT 201’的第二极201c电连接，每条第二感测线L2可以与一行光敏TFT 201’的第二极201c电连接。如此，任意两条相交的第一感测线L1与第二感测线L2在交叉位置可以与同一个感光TFT 201’的第二极201c电连接。

在这种情况下，在感光组件200处于工作状态时，控制组件300可以同时向光敏信号线D2施加电信号。在没有目标光线照射的情况下，光敏TFT 201’的第一极201b和第二极201c之间无法导通，使得光敏信号线D2上施加电信号无法传输给第一感测线L1和第二感测线L2。在目标光线照射的情况下，光敏TFT 201’的有源层201d内的空穴-电子对的数量增加，使得该光敏TFT 201’中的漏电流增大，使得光敏TFT 201’的第一极201b和第二极201c导通，进而使得光敏信号线D2上施加电信号可以传输给第一感测线L1和第二感测线L2。并且，第一感测线L1和第二感测线L2可以均与控制组件300电连接，如此，控制组件300能够通过感测第一感测线L1的电流变化和第二感测线L2的电流变化，对感测到目标光线的光敏TFT 201’进行定位，进而可以确出定目标光线照射到像素区域101a的位置。

可选的，光敏组件200还具有与光敏TFT 201’的栅极201a电连接的第二栅线G2。第二栅线G2也可以与控制组件300电连接，且该第二栅线G2的延伸方向可以与第二感测线L2的延伸方向平行。在感光组件200处于工作状态时，控制组件300可以通过第二栅线G2向光敏TFT 201’的栅极201a施加栅极电压，该栅极电压较小，在没有目标光线照射的情况下，光敏TFT 201’的栅极201a上加载的栅极电压无法控制光敏TFT 201’的第一极201b和第二极201c导通。通过第二栅线G2向光敏TFT 201’的栅极201a施加伏值较小的栅极电压，可以保证目标光线在射向光敏TFT201’的有源层201d时，让光敏TFT 201’的第一极201b和第二极201c导通。

在本申请实施例中，为了简化第一基板101的制造难度，可以将第一基板101内的数据信号线D1、光敏信号线D2和第一感测信号线L1同层设置，也即是，可以采用一次构图工艺同时形成包括数据信号线D1、光敏信号线D2和第一感测信号线L1的源漏极金属层；且可以将第一基板101内的第一栅线G1、第二栅线G2和第一感测信号线L2同层设置，也即是，可以采用一次构图工艺同时形成包括第一栅线G1、第二栅线G2和第二感测信号线L2的栅极金属层。其中，源漏极金属层还可以包括：第一基板101内集成的TFT的第一极和第二极，栅极金属层还可以包括：第一基板101内集成的TFT的栅极。

在这种情况下，如图16所示，光敏信号线D2可以直接与光敏TFT 201’中的第一极201b电连接，第一感测信号线L1可以直接与光敏TFT 201’中的第二极201c电连接。而第一基板101中的栅极金属层与源漏极金属层之间通常存在栅极绝缘层1014，为了保证第二感测信号线L2能够与光敏TFT 201’中的第二极201c电连接，可以采用转接电极连接第二感测信号线L2和光敏TFT 201’中的第二极201c。

示例的，感光组件200还具有与像素电极1011同层设置的转接电极204，该转接电极204可以分别与光敏TFT 201’中的第二极201c和第二感测信号线L2电连接。例如，第一基板101中的第二绝缘层1016还具有第二过孔V2，且第一基板101中的栅极绝缘层1015和第二绝缘层1016具有相互连通的第三过孔V3。如此，转接电极204可以通过第二过孔V2与光敏TFT 201’中的第二极201c电连接，转接电极204还可以通过第三过孔V3与第二感测信号线L2电连接。

需要说明的是，像素电极1011可以与转接电极204采用同一次构图工艺形成，且像素电极1011与转接电极204之间可以通过狭缝d绝缘。

可选的，为了减小第一基板101内的走线数量，可以将第一基板101内的数据信号线D1与光敏信号线D2进行复用。在这样情况下，光敏TFT 201’中的第一极201b与驱动TFT1013中的第二极1013c可以与同一条数据线连接。驱动组件300可以通过分时驱动的方式分别驱动光敏TFT 201’和驱动TFT 1013a进行工作。例如，每个驱动周期可以分别第一子周期和第二子周期，在第一子周期内，控制组件300可以向数据线发出第一驱动信号，以保证光敏TFT 201’能够进行工作，进而可以确定出目标光线的照射位置；在第二子周期内，控制组件300可以向数据线发出第二驱动信号，以保证驱动TFT 1013能够进行工作，进而能够实现向待擦除的像素区域内的像素电极1011施加像素电压。

在本申请实施例中，光敏TFT 201’中的有源层201d具有沟道区，沟道区是指有源层201d中位于有源层201d与第一极201b接触的区域，和有源层201d与第二极201c接触的区域之间的区域。其中，TFT 201’中的有源层201d具有沟道区可以为一字型沟道区、U型沟道区或L型沟道区。在本申请中，该有源层201d的沟道区的长宽比的范围可以为(4～10)/(2.5～6)。例如，该有源层201d的沟道区的长宽比可以为5/4。需要说明的是，第一基板101中的驱动TFT 1013的结构可以与光敏TFT 201’的结构相同，也即是，驱动TFT 1013中的有源层1013d的沟道区可以为一字型沟道区、U型沟道区或L型沟道区。

结合上述两种可选的实现方式，请参考图17，图17是本申请实施例提供的一种控制组件的结构框图。控制组件300可以包括：感测芯片301和驱动芯片302。其中，感测芯片301可以与驱动芯片302电连接。控制组件300中的驱动芯片302可以与液晶面板100中的第一基板101电连接；控制组件300中的感测芯片201可以与光敏组件200电连接。这里，感测芯片201可以通过光敏组件200确定感应到目标光线的光敏元件201在多个光敏元件201中的位置，以确定待擦除的像素区域的位置信息；之后，该感测芯片301可以将待擦除的像素区域的位置信息发送给驱动芯片302，使得驱动芯片302能够向待擦除的像素区域内的像素电极施加像素电压。

对于控制组件300与第一基板101之间的电连接，以及与光敏组件200之间的电连接。由于光敏组件200的结构有两种可选的实现方式，为此，本申请实施例将以以下两种情况分别进行说明。

第一种情况，当光敏组件200的结构为上述第一种可选的实现方式示出的结构时，控制组件300中的感测芯片301可以与光敏组件200中的电路板202电连接；控制组件300中的驱动芯片302可以分别与第一基板101中的第一栅线G1和数据信号线D1电连接。

第二种情况，当光敏组件200的结构为上述第二种可选的实现方式示出的结构时，控制组件300中的感测芯片301可以分别与光敏组件200中的第一感测线L1和第二感测线L2电连接；控制组件300中的驱动芯片302可以分别与第一基板101中的第一栅线G1和数据信号线D1电连接，且该驱动芯片302还可以分别与光敏组件200中的第二栅线G2和感光信号线D2电连接。

在本申请中，如图18和图19所示，图18是本申请实施例提供的一种液晶面板的膜层结构示意图，图19是图18示出的液晶面板中的第一基板的俯视图。液晶手写板000中的第一基板101还可以包括：位于衬底基板101上的辅助电极线1018，该辅助电极线1018可以与第一栅线G1同层设置，且该辅助电极线1018的延伸方向与第一栅线G1的延伸方向相同。

示例的，第一基板101中的像素电极1011排布为多行，该第一基板101中的辅助电极线1018的条数为与像素电极1011的行数相同。每条辅助电极线1018在第一衬底1012上的正投影，与对应的一行像素电极1011在第一衬底1012上的正投影交叠，该辅助电极线1018可以与一行像素电极1011中的每个像素电极1011构成存储电容Cst。该存储电容Cst可以用于保持像素电极1011的像素电压，因此，当液晶手写板000进行擦除时，该存储电容Cst可以避免待擦除的像素区域内的像素电极1011的电压变化，影响其周围的像素电极1011的电压，进而避免了影响待擦除的像素区域周围的像素区域的显示效果。

可选的，液晶面板100中的第二基板102包括：第二衬底1022，以及位于第二基板102中第二衬底1022上的公共电极1021。其中，公共电极1021上可以加载恒定的公共电压(例如，0伏电压)，从而可以保证在像素电极1011被施加像素电压时，二者之间能够形成电压差。第二衬底1022可以为柔性衬底，该第二衬底1022的材料可以包括：聚对苯二甲酸乙二醇酯(英文：Polyethylene Terephthalate；简称：PET)。

在本申请实施例中，第一基板101中的像素电极1011和第二基板102中的公共电极1021的材料均可以包括：氧化铟锡(英文：Indium Tin Oxide；简称：ITO)或氧化铟锌(英文：Indium Zinc Oxide；简称：IZO)等透明导电材料。如此，可以保证目标光线可以穿过液晶面100后射向光敏组件200。

综上所述，本申请实施例提供的液晶手写板，包括：液晶面板、光敏组件和驱动组件。当需要对液晶手写板所显示的书写笔迹进行擦除时，可以采用能够发射目标光线的擦除工具对该书写笔迹进行擦除。由于光敏组件中的光敏元件在液晶面板中的第一基板上的正投影与对应的像素区域至少部分交叠。因此，在擦除工具向液晶面板发射目标光线后，光敏组件可以通过至少部分光敏元件所感应到的目标光线，确定目标光线照射到液晶面板上的位置，目标光线照射到液晶面板上的位置即为待擦除的像素区域的位置。如此，液晶手写板可以通过控制组件向待擦除的像素区域内的像素电极施加像素电压，以实现对待擦除的像素区域内的书写笔迹进行擦除。在这种情况下，即使用户在书写的过程中，用户的手部与液晶手写板进行接触，光敏组件也不会将用户与液晶手写板接触的区域识别为待擦除的像素区域，进而降低了液晶手写板出现误擦现象的概率，有效的提高了液晶手写板进行局部擦除时的擦除效果。

本申请实施例还提供了一种手写系统，请参考图20，图20是本申请实施例提供的一种手写系统的结构示意图。该手写系统可以包括：擦除工具111和液晶手写板000。其中，液晶手写板000可以为上述实施例中的液晶手写板，例如，该液晶手写板000可以为图4、图5或图13示出的液晶手写板。擦除工具111可以具有发光组件111a，该发光组件111a用于发出目标光线。这里，发光组件111a所发出的目标光线的光强需要远大于环境光线的光强，使得液晶手写板000中的光敏组件200能够对目标光线和环境光线进行区别；发光组件111a所发出的目标光线为除绿色光线之前的其他颜色的光线，以保证目标光线不会被呈平面织构的双稳态液晶分子反射。

在本申请实施例中，液晶手写板000可以被配置为：在擦除工具111的发光组件111a向液晶面板100发射目标光线后，通过光敏组件200检测目标光线照射的位置信息，以确定待擦除区域的位置信息。

示例的，在需要对液晶手写板000所显示的书写笔迹进行擦除时，可以采用擦除工具111中的发光组件111a向液晶面板000的待擦除区域发射目标光线。之后，液晶手写板000可以通过光敏组件200检测目标光线在液晶面板000上的照射的位置信息，如此，液晶手写板000中的控制组件300便能够通过光敏组件200到的目标光线的照射的位置信息，确定出待擦除的像素区域的位置信息，并向该待擦除的像素区域内的像素电极施加像素电压，使得待擦除的像素区域内的书写笔迹被擦除。

可选的，请参考图21，图21是本申请实施例提供的一种液晶手写板的产品结构示意图。为了保证液晶手写板000的功耗较低，可以在液晶手写板000中设置切换开关600。其中，切换开关600可以与控制组件300电连接，该切换开关600用于控制液晶手写板000进行擦除模式和书写模式之间的切换。其中，在液晶手写板000处于书写模式时，控制组件300和光敏组件200均处于非工作状态，此时，液晶手写板000无需为控制组件300和光敏组件200供电；在液晶手写板000处于擦除模式时，控制组件300和光敏组件200均处于工作状态，此时，液晶手写板000才需要为控制组件300和光敏组件200供电。如此，仅在液晶手写板000处于擦除模式时，液晶手写板000才需要消耗电能，有效的降低了液晶手写板000的功耗。

在本申请实施例中，如图21所示，手写系统中的板擦工具111中也可以设置有开关按钮111b。用户可以通过对板擦工具111b中的开关按钮111b的按压操作，让板擦工具111中的发光组件111a发射目标光线或停止发射目标光线。

本申请实施例还提供了一种手写系统的控制方法，请参考图22，图22是本发明实施例提供的一种手写系统的控制方法的流程图。该手写系统的控制方法可以应用于上述实施例中的手写系统，例如，该手写系统可以为图20或图21示出的手写系统。该手写系统的控制方法可以包括：

步骤S1、在擦除工具的发光组件向液晶面板发射目标光线后，液晶手写板通过光敏组件检测目标光线照射的位置信息，以确定待擦除的像素区域的位置信息。

步骤S2、液晶手写板基于待擦除的像素区域的位置信息，通过控制组件向待擦除的像素区域内的像素电极施加像素电压，以使待擦除的像素区域内的像素电极与公共电极之间形成电压差。

所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的手写系统的控制方法的具体工作原理，可以参考前述手写系统的结构的实施例和液晶手写面板的结构实施例中的对应部分，在此不再赘述。

需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间惟一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。

在本申请中，术语“第一”和“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上，除非另有明确的限定。

以上所述仅为本申请的可选的实施例，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (15)

1.一种液晶手写板，其特征在于，包括：液晶面板、光敏组件和控制组件；

所述液晶面板包括：相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板具有多个像素区域，以及位于所述像素区域内的像素电极，所述第二基板具有公共电极；

所述光敏组件具有多个光敏元件，一个所述光敏元件与至少一个所述像素区域对应，且所述光敏元件在所述第一基板上的正投影与对应的至少一个所述像素区域至少部分交叠；

所述控制组件分别与所述液晶面板和所述光敏组件电连接，所述控制组件被配置为：通过所述光敏组件检测目标光线照射在所述液晶面板上的位置信息，以确定待擦除的像素区域的位置信息，并向所述待擦除的像素区域内的像素电极施加像素电压，以使所述待擦除的像素区域内的像素电极与所述公共电极之间形成电压差。

2.根据权利要求1所述的液晶手写板，其特征在于，所述光敏组件位于所述第一基板远离所述第二基板的一侧。

3.根据权利要求2所述的液晶手写板，其特征在于，所述液晶手写板还包括：黑矩阵，所述黑矩阵位于所述多个像素电极与所述多个光敏元件之间，所述黑矩阵具有多个通光孔，所述多个通光孔与所述多个像素区域一一对应，所述通光孔在所述第一基板上的正投影位于对应的像素区域内，且所述光敏元件与至少一个所述通光孔对应，所述通光孔在所述第一基板上的正投影与对应的光敏元件在所述第一基板上的正投影至少部分交叠。

4.根据权利要求3所述的液晶手写板，其特征在于，在目标方向上，至少两个相邻的像素区域所对应的至少两个通光孔中，任意两个相邻的通光孔的排布方向与所述目标方向相交，所述目标方向为一排所述像素区域的排列方向。

5.根据权利要求4所述的液晶手写板，其特征在于，所述多个通光孔包括至少一个通光孔组，所述通光孔组中的各个通光孔在所述第一基板上的正投影在对应的像素区域内的分布位置不同。

6.根据权利要求3所述的液晶手写板，其特征在于，所述第一基板包括：第一衬底，以及位于所述第一衬底上的所述多个像素电极和多个驱动薄膜晶体管TFT，所述多个像素电极与多个驱动TFT一一对应电连接；

其中，所述黑矩阵位于所述第一衬底背离所述第二基板的一侧；

或者，所述黑矩阵位于所述第一衬底朝向所述第二基板的一侧，且所述第一基板还包括：位于所述黑矩阵与所述驱动TFT之间的第一绝缘层。

7.根据权利要求3所述的液晶手写板，其特征在于，所述通光孔在所述第一基板上的正投影的面积占对应的像素区域的面积的百分比的范围为5％至20％。

8.根据权利要求2-7任一所述的液晶手写板，其特征在于，所述光敏组件包括：电路板，以及位于所述电路板上的所述多个光敏元件，所述多个光敏元件均与所述电路板电连接，且所述电路板与所述控制组件电连接。

9.根据权利要求1所述的液晶手写板，其特征在于，所述光敏组件集成在所述第一基板内，所述光敏元件为光敏TFT，多个所述光敏TFT与所述多个像素区域一一对应，且所述光敏TFT位于对应的像素区域内。

10.根据权利要求9所述的液晶手写板，其特征在于，所述光敏组件还具有与所述光敏TFT的第一极电连接的光敏信号线，以及与所述光敏TFT的第二极电连接的第一感测线和第二感测线；

其中，所述控制组件分别与所述光敏信号线、所述第一感测线和所述第二感测线电连接，且所述第一感测线的延伸方向与第二感测线的延伸方向垂直。

11.根据权利要求10所述的液晶手写板，其特征在于，所述光敏组件还具有与所述像素电极同层设置的转接电极，所述转接电极分别与所述光敏TFT的第二极和所述第二感测线电连接。

12.根据权利要求9-11任一所述的液晶手写板，其特征在于，所述第一基板包括：第一衬底，以及位于所述第一衬底上的所述多个像素电极和多个驱动TFT，所述多个像素电极与所述多个驱动TFT一一对应电连接，所述多个驱动TFT与多个所述光敏TFT同层设置。

13.根据权利要求1-7、9-11任一所述的液晶手写板，其特征在于，所述液晶面板还包括：位于所述第一基板和所述第二基板之间的双稳态液晶分子层；

所述双稳态液晶分子层中的双稳态液晶分子被配置为：在所述液晶面板受到外部压力后，由焦锥织构转变为平面织构；在所述待擦除的像素区域内的像素电极与所述公共电极之间形成电压差后，由平面织构转变为焦锥织构。

14.一种手写系统，其特征在于，包括：擦除工具和权利要求1-13任一所述的液晶手写板；

其中，所述擦除工具具有发光组件，所述液晶手写板被配置为：在所述擦除工具的发光组件向所述液晶面板发射目标光线后，通过所述光敏组件检测所述目标光线照射的位置信息，以确定待擦除的像素区域的位置信息。

15.一种手写系统的控制方法，其特征在于，应用于权利要求14所述的手写系统，所述方法包括：

在所述擦除工具的发光组件向所述液晶面板发射目标光线后，所述液晶手写板通过所述光敏组件检测所述目标光线照射的位置信息，以确定待擦除的像素区域的位置信息；

所述液晶手写板基于所述待擦除的像素区域的位置信息，通过所述控制组件向所述待擦除的像素区域内的像素电极施加像素电压，以使所述待擦除的像素区域内的像素电极与所述公共电极之间形成电压差。

Images