CN113838889A - 显示基板、显示面板、电子设备和显示方法 - Google Patents

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王杨
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Abstract

本发明提供一种显示基板、显示面板、电子设备和显示方法，该显示基板包括：位于第一显示区的第一电极和位于第二显示区的第二电极，第一电极呈沿第一方向延伸的条状且沿第二方向间隔分布；位于第一显示区的第一发光部和位于第二显示区的第二发光部；位于第一显示区的第三电极和位于第二显示区的第四电极，第三电极呈沿第二方向延伸的条状且沿第一方向间隔分布；第一电极和第三电极交叉设置，形成多个交叉点，部分交叉点形成发光单元，部分交叉点形成虚拟发光单元。由于第一显示区形成有虚拟发光单元，且驱动控制IC比较简单，屏幕透光率相对较高，可以在第一显示区设置屏下摄像头，保证摄像头的摄像效果。

Description

显示基板、显示面板、电子设备和显示方法
技术领域
本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板、显示面板、电子设备和显示方法。
背景技术
随着科技的不断发展，电子设备(例如手机)越来越普及到我们每个人的身边，我们也在不断要求电子设备的体验升级。首先就是占屏比的问题，例如手机，市场上就出现了许多全面屏产品，比如水滴屏、刘海屏都在挑战手机屏幕的边界。但因为前置摄像头的原因，让这些手机都不能成为真正的全面屏手机。
为了实现真正的全面屏，有提出将前置摄像头放置在显示屏幕下方的方案，但是，放置前置摄像头的屏幕区域既要实现显示功能，又要满足拍照要求，对屏幕的透光率要求较高。因而，如何提高该区域的屏幕的透光率成为亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明实施例提供一种显示基板、显示面板和电子设备，用于提高屏下摄像头对应的显示屏幕的透光率。
为了解决上述技术问题，本发明是这样实现的：
第一方面，本发明实施例提供了一种显示基板，包括：
驱动背板，具有第一显示区和第二显示区；
阳极图案，设于所述驱动背板一侧，包括位于所述第一显示区的多个第一电极和位于所述第二显示区的多个第二电极，所述多个第一电极呈沿第一方向延伸的条状且沿第二方向间隔分布；
发光层，设于所述阳极图案远离所述驱动背板的一侧，包括位于所述第一显示区的第一发光部和位于所述第二显示区的第二发光部；
阴极图案，设于所述发光层远离所述驱动背板的一侧，包括位于所述第一显示区的多个第三电极和位于所述第二显示区的第四电极，所述多个第三电极呈沿所述第二方向延伸的条状且沿所述第一方向间隔分布；
其中，所述多个第一电极和所述多个第三电极交叉设置，形成多个交叉点，所述多个交叉点中部分交叉点形成发光单元，部分交叉点形成虚拟发光单元。
可选的，形成所述发光单元的交叉点处所述第一电极在所述第二方向上的宽度大于形成所述虚拟发光单元的交叉点处的所述第一电极在所述第二方向上的宽度，或者，形成所述发光单元的交叉点处所述第三电极在所述第一方向上的宽度大于形成所述虚拟发光单元的交叉点处的所述第三电极在所述第一方向上的宽度。
可选的，相邻的两行两列四个交叉点中两个交叉点形成发光单元，两个交叉点形成虚拟发光单元，且形成所述发光单元的两个交叉点在所述四个交叉点组成的矩形的对角线上。
可选的，所述第一电极和所述第三电极为透明电极，所述第二电极为反射电极，所述第四电极为半透明电极。
可选的，所述第一电极和第三电极包括透明金属氧化物层，所述第二电极包括第一透明金属氧化物层、金属层和第二透明金属氧化层，所述第四电极包括透明金属层。
可选的，所述第一电极为反射电极，所述第三电极为透明电极，所述第二电极为反射电极，所述第四电极为半透明电极。
可选的，所述第一电极和第二电极均包括第一透明金属氧化物层、金属层和第二透明金属氧化层，所述第三电极包括透明金属氧化物层，所述第四电极包括透明金属层。
可选的，所述第一显示区包括像素区域和位于所述像素区域周边的非像素区域，所述第一电极仅设置于所述像素区域内。
可选的，所述第二显示区还包括：设于所述第二电极远离所述驱动背板一侧的耦合出光层，所述耦合出光层包括：与所述第三电极同层同材料设置的第一部分。
可选的，所述第一电极和所述第二电极均为反射电极，所述第三电极和所述第四电极均为半透明电极。
可选的，所述第一电极和第二电极均包括第一透明金属氧化物层、金属层和第二透明金属氧化层，所述第三电极和所述第四电极包括透明金属层。
可选的，所述第一显示区包括像素区域和位于所述像素区域周边的非像素区域，所述非像素区域内设置有有机发光层和透明材料图形，所述透明材料图形设置于所述有机发光层远离所述驱动背板的一侧，所述透明材料图形能够抑制用于形成所述半透明电极的材料的沉积。
可选的，所述透明材料图形的厚度为5-10nm。
可选的，所述透明材料图形的材料包括：氟聚合物、聚乙烯苯、聚乙烯咔唑或者多个单体形成的聚合物，所述单体具有端基，所述端基包括联苯基、苯基、芴、伸苯基中的至少一种。
可选的，所述第二显示区为凹字形，顶部具有缺口，所述第一显示区位于所述缺口内。
第二方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括上述第一方面的显示基板。
第三方面，本发明实施例提供了一种电子设备，包括上述第二方面的显示面板和屏下摄像头，所述屏下摄像头设置于所述显示面板的第一显示区的远离所述电子设备的显示侧的一侧，所述屏下摄像头的感光面在所述第一显示区的投影位于所述第一显示区内。
第四方面，本发明实施例提供了一种显示方法，应用于上述第三方面的电子设备，所述方法包括：
在显示模式下，若检测到屏下摄像头启动，控制第一显示区的发光单元关闭；若检测到屏下摄像头关闭，控制第一显示区的发光单元开启。
本发明实施例中，将显示基板应用于电子设备时，第一显示区与屏下摄像头相对设置，若检测到摄像头启动，控制第一显示区不显示处于透光状态，若检测到摄像头关闭，控制第一显示区和第二显示区共同显示，第二显示区内设置的是AMOLED，可以保证显示效果，第一显示区内设置的是PMOLED，驱动控制IC比较简单，且形成有虚拟发光单元，屏幕透光率相对较高，可以保证摄像头的摄像效果。
附图说明
通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本发明的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：
图1为本发明一实施例的显示基板的结构示意图；
图2为本发明一实施例的第一显示区的结构示意图；
图3为本发明一实施例的第二显示区的结构示意图；
图4为PMOLED的结构示意图；
图5为本发明另一实施例的显示基板的结构示意图；
图6为本发明实施例一的显示基板的膜层结构示意图；
图7为本发明实施例二的显示基板的膜层结构示意图；
图8为本发明实施例三的显示基板的膜层结构示意图；
图9为本发明实施例四的显示基板的膜层结构示意图；
图10为本发明实施例的电子设备的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
OLED(有机发光二极管)包括AMOLED(有源矩阵有机发光二极管)和PMOLED(无源矩阵有机发光二极管)。AMOLED的驱动控制IC相对复杂，因而设置AMOLED的显示区的屏幕透光率较低，会影响屏下摄像头的拍照效果；而PMOLED的驱动控制IC较简单，设置PMOLED的显示区的屏幕透光率相对较高，有利于屏下摄像头的拍照。因而，本发明实施例中，将显示基板的整个显示区分为两个区域：屏下摄像头对应的显示区(第一显示区)既要正常显示，又要可以透光实现拍照功能，透光率要求较高，所以采用PMOLED，且部分位置形成虚拟发光单元，以提高屏幕透光率；其他显示区(第二显示区)仍采用有AMOLED以保证显示效果。
请参考图1、图2和图3，本发明实施例提供一种显示基板，包括：
驱动背板，所述驱动背板包括第一显示区10和第二显示区20；
阳极图案，设于所述驱动背板一侧，包括位于所述第一显示区10的多个第一电极11和位于所述第二显示区20的多个第二电极21，所述多个第一电极11呈沿第一方向延伸的条状且沿第二方向间隔分布；
发光层，设于所述阳极图案远离所述驱动背板的一侧，包括位于所述第一显示区10的第一发光部12和位于所述第二显示区20的第二发光部22；
阴极图案，设于所述发光层远离所述驱动背板的一侧，包括位于所述第一显示区10的多个第三电极13和位于所述第二显示区20的第四电极23，所述多个第三电极13呈沿所述第二方向延伸的条状且沿所述第一方向间隔分布；
其中，所述多个第一电极11和所述多个第三电极13交叉设置，形成多个交叉点，所述多个交叉点中部分交叉点形成发光单元P1，部分交叉点形成虚拟发光单元P2。
请参考图4，图4是PMOLED的结构示意图，PMOLED的两个电极呈矩阵型结构，即同一行的PMOLED共用一电极(例如阳极)，同一列的PMOLED共用一电极(例如阴极)。在显示时，可以逐行点亮或者要逐列点亮PMOLED，通常采用逐行扫描的方式，列电极为数据电极。实现方式是：循环地给每行电极施加脉冲信号，同时所有列电极给出该行PMOLED的驱动电流脉冲信号，从而实现一行所有PMOLED的显示。与AMOLED相比，PMOLED的结构要简单的多。
本发明实施例中，将显示基板应用于电子设备时，第一显示区与屏下摄像头相对设置，若检测到摄像头启动，控制第一显示区不显示处于透光状态，若检测到摄像头关闭，控制第一显示区和第二显示区共同显示，第二显示区内可以设置AMOLED，可以保证显示效果，第一显示区内设置的是PMOLED，PMOLED驱动控制IC比较简单，且第一显示区形成有虚拟发光单元，屏幕透光率相对较高，可以保证摄像头的摄像效果。
图1所示的实施例中，所述第二显示区20为凹字形，顶部具有缺口，所述第一显示区10位于所述缺口内。当然，在本发明的其他一些实施例中，第一显示区10位置不限于此，例如，请参考图5，第一显示区10还可以设置于第二显示区20的一个边角区域或两个边角区域等。第一显示区10的设置位置，根据所需应用的电子设备的屏下摄像头的位置确定。
本发明实施例中，第一显示区10的形状可以为矩形、椭圆形、圆形或者其他形状。
本发明实施例中，可选的，请参考图1和图5，所述第一显示区10内的发光单元P1的分辨率小于所述第二显示区20内的AMOLED的分辨率。也就是说，第一显示区10单位面积内的PMOLED的个数小于第二显示区20单位面积内的AMOLED的个数，从而进一步提高第一显示区10的透光率。图1所示的实施例中，第一显示区10内的PMOLED与第一显示区10两侧的第二显示区20内的AMOLED的行数相同，且对齐设置，以方便显示，但是列方向上，相邻的两个PMOLED之间的间隔，要大于相邻的两个AMOLED之间的间隔，以提高透光率。或者，在本发明的其他一些实施例中，第一显示区10内的PMOLED的行数也可以小于第一显示区10两侧的第二显示区20内的AMOLED的行数，本发明对第一显示区减小分辨率的方式并不进行限定。
本发明实施例中，可选的，也可以将所述第一显示区10内的发光单元更紧密排列(缩小相邻的第一电极之间的间距和/或相邻的第三电极之间的间距)，以是的第一显示区10内的发光单元与第二显示区20内的AMOLED的分辨率相同。
本发明实施例中，可选的，相邻的第一电极之间的间距可以为10-20微米。
本发明实施例中，可选的，形成所述发光单元P1的交叉点处所述第一电极11在第二方向上的宽度大于形成所述虚拟发光单元P2的交叉点处的所述第一电极11在第二方向上的宽度，或者，形成所述发光单元P1的交叉点处所述第三电极13在第一方向上的宽度大于形成所述虚拟发光单元P2的交叉点处的所述第三电极13在第一方向上的宽度。请参考图3，图3所示的实施例中，形成所述发光单元P1的交叉点处所述第三电极13在第一方向上的宽度大于形成所述虚拟发光单元P2的交叉点处的所述第三电极13在第一方向上的宽度。进一步可选的，形成虚拟发光单元P2的交叉点处的第一电极或第三电极的上述宽度小于预设阈值。由于形成虚拟发光单元P2的交叉点处的第一电极或第三电极的上述宽度较窄，因而不能形成有效的发光单元，但是透光率明显高于发光单元P1处的透光率，从而提高第一显示区10的透光率。
在本发明的其他一些实施例中，也可以通过不在形成虚拟发光单元P2的交叉点处设置第一发光部的方式，形成虚拟发光单元。
请参考图2，本发明实施例中，可选的，相邻的两行两列四个交叉点中两个交叉点形成发光单元P1，两个交叉点形成虚拟发光单元P2，且形成所述发光单元P1的两个交叉点在所述四个交叉点组成的矩形的对角线上，从而使得发光单元P1的分布更加均匀。
下面对本发明实施例中的PMOLED和AMOLED的膜层结构进行说明。
为了实现第一显示区的透光，在本发明的一些实施例中，可选的，所述第一电极和所述第三电极为透明电极，所述第二电极为反射电极，所述第四电极为半透明电极。
可选的，所述第一电极和第三电极包括透明金属氧化物层，所述第二电极包括第一透明金属氧化物层、金属层和第二透明金属氧化层，所述第四电极包括透明金属层。
透明金属氧化物例如可以为ITO(氧化铟锡)或IZO(氧化铟锌)等，透明金属层例如可以采用金属或金属合金制成。
下面举例进行说明。
实施例1：
请参考图6，本发明实施例的显示基板包括：驱动背板100，所述驱动背板100包括第一显示区和第二显示区，所述第二显示区内设置有阵列排布的多个AMOLED，所述第一显示区内设置有阵列排布的多个发光单元(即PMOLED)和多个虚拟发光单元。
第二显示区的AMOLED包括：反射阳极21、有机发光层(EL)22、半透明阴极13和耦合出光层24，反射阳极11可以采用ITO、Ag和ITO叠层结构，半透明阴极13可以采用Mg和Ag合金材料。
为了提高第一显示区的透光率，不同于第二显示区，第一显示区的发光单元包括：透明阳极11、有机发光层12和透明阴极13，透明阳极11可以采用ITO，透明阴极13可以采用IZO。
可选的，所述透明阳极11的厚度可以为100nm，所述透明阴极13的厚度可以为200-400nm。
可选的，所述第一显示区和第二显示区的有机发光层的厚度可以为150-300nm。
在本发明的一些实施例中，可选的，所述第一电极为反射电极，所述第三电极为透明电极，所述第二电极为反射电极，所述第四电极为半透明电极。
可选的，所述第一电极和第二电极均包括第一透明金属氧化物层、金属层和第二透明金属氧化层，所述第三电极包括透明金属氧化物层，所述第四电极包括透明金属层。
进一步可选的，所述第一显示区包括像素区域和位于所述像素区域周边的非像素区域，所述第一电极仅设置于所述像素区域内。
本发明实施例中，第一显示区的非像素区域不设置阳极，从而提高了第一显示区的透光率。
下面举例进行说明。
实施例2：
请参考图7，本发明实施例的显示基板包括：驱动背板100，所述驱动背板100包括第一显示区和第二显示区。所述第一显示区包括像素区域和位于所述像素区域周边的非像素区域。
第二显示区的AMOLED包括：反射阳极21(如ITO、Ag和ITO叠层结构)、有机发光层22、半透明阴极23(如Mg和Ag合金材料)和耦合出光层24。
可选的，所述耦合出光层的厚度小于100nm。
第一显示区的像素区域包括：反射阳极11(如ITO、Ag和ITO叠层结构)、有机发光层12和透明阴极13(如IZO)。
可选的，所述透明阴极13的厚度可以为200-400nm。
可选的，所述第一显示区和第二显示区的有机发光层的厚度可以为150-300nm。
第一显示区的非像素区域包括：有机发光层12和透明阴极13(如IZO)。所述反射阳极11仅位于所述像素区域内，非像素区域内不设置反射阳极11。
若PMOLED采用双面透明电极，双面发光，底发射的光透过背板损失掉了。为了兼顾显示效率，第一显示区采用反射阳极和透明或半透明阴极，以提高第一显示区的像素区域的显示效果，而非像素区域不设置反射阳极，提高透光率。
在本发明的一些实施例中，可选的，所述第一电极和所述第二电极均为反射电极，所述第三电极和所述第四电极均为半透明电极。
进一步可选的，所述第一电极和第二电极均包括第一透明金属氧化物层、金属层和第二透明金属氧化层，所述第三电极和所述第四电极包括透明金属层。
可选的，所述第一显示区包括像素区域和位于所述像素区域周边的非像素区域，所述非像素区域内设置有有机发光层和透明材料图形，所述透明材料图形设置于所述有机发光层远离所述驱动背板的一侧，所述透明材料图形能够抑制用于形成所述半透明电极的材料的沉积。
由于第二显示区的顶发射器件中存在较强的微腔效应，有利于提高屏幕效率及色域。为了保持第二显示区和第一显示区有相同的显示效果，第一显示区也可以采用与第二显示区相同的顶发射结构。但是为了提高第一显示区的非像素区域的透光率，可以在蒸镀金属顶电极前在第一显示区的非像素区域形成透明材料(Pattern material)图形，所述透明材料图形能够抑制用于形成所述PMOLED的阴极的材料(金属材料)的沉积，从而使得顶电极金属材料无法附着其表面，从而既保证了第一显示区的像素区域的显示效果又提高了第一显示区的非像素区域的透光率。即所述非像素区域内设置有有机发光层和透明材料图形，所述透明材料图形设置于所述有机发光层远离所述驱动背板的一侧，所述透明材料图形能够抑制用于形成阴极的材料(金属材料)的沉积。本发明实施例中，设置透明材料图形的作用是有助于有机发光层上方厚度进一步减薄，提高透过率。可选的，所述透明材料图形的材料包括：氟聚合物、聚乙烯苯、聚乙烯咔唑或者多个单体形成的聚合物，所述单体具有端基，所述端基包括联苯基、苯基、芴、伸苯基中的至少一种。氟聚合物包括：全氟化合物、聚四氟乙烯(PTFE)等中的至少一种。透明材料对金属材料具有相对较低的解吸能、对其扩散具有较高的活化，处于高温时或经过低蒸汽撞击率后该金属材料在透明材料表面的沉积受到抑制。下面举例进行说明。
实施例3：
请参考图8，本发明实施例的显示基板包括：驱动背板100，所述驱动背板100包括第二显示区和第一显示区，所述第一显示区包括像素区域和位于所述像素区域周边的非像素区域。
第二显示区的AMOLED包括：反射阳极21(如ITO、Ag和ITO叠层结构)、有机发光层22、半透明阴极23(半透明金属层，如Mg和Ag合金材料)和耦合出光层24。可选的，半透明阴极23的厚度可以为10-20nm。
第一显示区的像素区域包括：反射阳极11(如ITO、Ag和ITO叠层结构)、有机发光层12、半透明阴极13(半透明金属层，如Mg和Ag合金材料)和耦合出光层308。可选的，半透明阴极13的厚度可以为10-20nm。
第一显示区的非像素区域包括：有机发光层12、透明材料图形14和耦合出光层15。所述反射阳极305仅位于所述像素区域内，非像素区域内不设置反射阳极11。可选的，透明材料图形14的厚度可以为5-10nm。
在本发明的一些实施例中，可选的，所述第二显示区还包括：设于所述第二电极远离所述驱动背板一侧的耦合出光层，所述耦合出光层包括：与所述第三电极同层同材料设置的第一部分，可以防止第二显示区和第一显示区界面处出现搭接黑线。
下面举例进行说明。
实施例4：
请参考图9，本发明实施例的显示基板包括：驱动背板100，所述驱动背板100包括第二显示区和第一显示区。
第二显示区的AMOLED包括：反射阳极21、有机发光层(EL)22、半透明阴极23、耦合出光层，耦合出光层包括：与所述第三电极同层同材料设置的第一部分，以及，位于第一部分和半透明阴极23之间的第二部分(CPL Capping Layer，耦合出光层)，第二部分可以采用有机材料形成，反射阳极21可以采用ITO、Ag和ITO叠层结构，半透明阴极23可以采用Mg和Ag合金材料，所述第一部分可以采用IZO。可选的，所述第二部分(CPL)的厚度小于100nm，反射阳极21的厚度可以为20nm。
第一显示区的发光单元包括：透明阳极11、有机发光层12和透明阴极13，透明阳极11可以采用ITO，透明阴极13可以采用IZO。
可选的，所述透明阳极11的厚度可以为100nm，所述透明阴极13的厚度可以为200-400nm。
可选的，所述第一显示区和第二显示区的有机发光层的厚度可以为150-300nm。
透明阴极13为整层覆盖，从而防止第二显示区和第一显示区界面处出现搭接黑线。
在本发明的一些实施例中，第二显示区的半透明阴极23上方的耦合出光层中的第二部分也可以省去，或者，耦合出光层的第二部分和半透明阴极均可省去，从而减少膜层厚度。
本发明实施例还提供一种显示面板，包括上述任一实施例中的显示基板。
可选的，所述显示基板还包括用于封装所述显示基板的封装层。
请参考图10，本发明实施例还提供一种电子设备，包括显示面板1和屏下摄像头30，所述显示面板1的结构参见上述实施例中的显示面板，所述屏下摄像头30设置于所述显示面板1的第一显示区10的远离所述电子设备的显示侧的一侧，所述屏下摄像头30的感光面在所述第一显示区10的投影位于所述第一显示区10内。
所述电子设备可以为手机、平板电脑等电子设备。
可选的，所述电子设备还包括：第一驱动控制IC40，与所述第二显示区内的AMOLED连接，用于驱动AMOLED，第一驱动控制IC50，与所述第一显示区内的发光单元连接，用于驱动发光单元。为了实现全面屏，第一驱动控制IC40和第二驱动控制IC50可以弯折到显示面板的非显示侧。
本发明中，显示面板的第一显示区与屏下摄像头相对设置，若检测到摄像头启动，控制第一显示区不显示处于透光状态，若检测到摄像头关闭，控制第一显示区和第二显示区共同显示，第二显示区内设置的是AMOLED，可以保证显示效果，第一显示区内设置的是发光单元驱动控制IC比较简单，且还形成有虚拟发光单元，屏幕透光率相对较高，可以保证摄像头的摄像效果。
本发明实施例还提供一种显示方法，应用于上述电子设备，所述方法包括：
在显示模式下，若检测到屏下摄像头启动，控制第一显示区的发光单元关闭；若检测到屏下摄像头关闭，控制第一显示区的发光单元开启。
上面结合附图对本发明的实施例进行了描述，但是本发明并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，均属于本发明的保护之内。

Claims (18)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：
驱动背板，具有第一显示区和第二显示区；
阳极图案，设于所述驱动背板一侧，包括位于所述第一显示区的多个第一电极和位于所述第二显示区的多个第二电极，所述多个第一电极呈沿第一方向延伸的条状且沿第二方向间隔分布；
发光层，设于所述阳极图案远离所述驱动背板的一侧，包括位于所述第一显示区的第一发光部和位于所述第二显示区的第二发光部；
阴极图案，设于所述发光层远离所述驱动背板的一侧，包括位于所述第一显示区的多个第三电极和位于所述第二显示区的第四电极，所述多个第三电极呈沿所述第二方向延伸的条状且沿所述第一方向间隔分布；
其中，所述多个第一电极和所述多个第三电极交叉设置，形成多个交叉点，所述多个交叉点中部分交叉点形成发光单元，部分交叉点形成虚拟发光单元。
2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，形成所述发光单元的交叉点处所述第一电极在所述第二方向上的宽度大于形成所述虚拟发光单元的交叉点处的所述第一电极在所述第二方向上的宽度，或者，形成所述发光单元的交叉点处所述第三电极在所述第一方向上的宽度大于形成所述虚拟发光单元的交叉点处的所述第三电极在所述第一方向上的宽度。
3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，相邻的两行两列四个交叉点中两个交叉点形成发光单元，两个交叉点形成虚拟发光单元，且形成所述发光单元的两个交叉点在所述四个交叉点组成的矩形的对角线上。
4.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极和所述第三电极为透明电极，所述第二电极为反射电极，所述第四电极为半透明电极。
5.如权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极和第三电极包括透明金属氧化物层，所述第二电极包括第一透明金属氧化物层、金属层和第二透明金属氧化层，所述第四电极包括透明金属层。
6.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极为反射电极，所述第三电极为透明电极，所述第二电极为反射电极，所述第四电极为半透明电极。
7.如权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极和第二电极均包括第一透明金属氧化物层、金属层和第二透明金属氧化层，所述第三电极包括透明金属氧化物层，所述第四电极包括透明金属层。
8.如权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述第一显示区包括像素区域和位于所述像素区域周边的非像素区域，所述第一电极仅设置于所述像素区域内。
9.如权利要求4或6所述的显示基板，其特征在于，所述第二显示区还包括：设于所述第二电极远离所述驱动背板一侧的耦合出光层，所述耦合出光层包括：与所述第三电极同层同材料设置的第一部分。
10.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极和所述第二电极均为反射电极，所述第三电极和所述第四电极均为半透明电极。
11.如权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极和第二电极均包括第一透明金属氧化物层、金属层和第二透明金属氧化层，所述第三电极和所述第四电极包括透明金属层。
12.如权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述第一显示区包括像素区域和位于所述像素区域周边的非像素区域，所述非像素区域内设置有有机发光层和透明材料图形，所述透明材料图形设置于所述有机发光层远离所述驱动背板的一侧，所述透明材料图形能够抑制用于形成所述半透明电极的材料的沉积。
13.如权利要求12所述的显示基板，其特征在于，所述透明材料图形的厚度为5-10nm。
14.如权利要求12所述的显示基板，其特征在于，所述透明材料图形的材料包括：氟聚合物、聚乙烯苯、聚乙烯咔唑或者多个单体形成的聚合物，所述单体具有端基，所述端基包括联苯基、苯基、芴、伸苯基中的至少一种。
15.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二显示区为凹字形，顶部具有缺口，所述第一显示区位于所述缺口内。
16.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-15任一项所述的显示基板。
17.一种电子设备，其特征在于，包括如权利要求16所述的显示面板和屏下摄像头，所述屏下摄像头设置于所述显示面板的第一显示区的远离所述电子设备的显示侧的一侧，所述屏下摄像头的感光面在所述第一显示区的投影位于所述第一显示区内。
18.一种显示方法，其特征在于，应用于如权利要求17所述的电子设备，所述方法包括：
在显示模式下，若检测到屏下摄像头启动，控制第一显示区的发光单元关闭；若检测到屏下摄像头关闭，控制第一显示区的发光单元开启。
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