CN113823662A - 显示设备 - Google Patents

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CN113823662A CN202110677978.1A CN202110677978A CN113823662A CN 113823662 A CN113823662 A CN 113823662A CN 202110677978 A CN202110677978 A CN 202110677978A CN 113823662 A CN113823662 A CN 113823662A
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徐荣完
朴京淳
李秀美
李慈恩
金建熙
金亨锡
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Samsung Display Co Ltd
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Abstract

一种显示设备包括：第一显示区域，包括第一多个像素；第二显示区域，包括透射区域和第二多个像素，其中：所述第二显示区域的所述第二多个像素布置在所述第二显示区域的缓冲显示区域和正常显示区域中；所述缓冲显示区域与所述第一显示区域相邻；所述正常显示区域与所述第一显示区域间隔开；并且所述正常显示区域的像素密度小于所述缓冲显示区域的像素密度；以及阻挡金属层，在所述第二显示区域中，并且包括与所述透射区域相对应的开口。

Description

显示设备
相关申请的交叉引用
本申请要求于2020年6月18日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0074442号韩国专利申请的优先权和权益，本韩国专利申请的全部公开内容通过引用合并于此。
技术领域
一个或多个示例实施例的各方面涉及一种显示设备和一种包括该显示设备的电子装置。
背景技术
近来，显示设备已经用于各种用途。另外，随着显示设备的厚度和重量的减小，显示设备的应用范围已经增加。
随着显示设备中显示区域所占据的面积的增加，与显示设备链接或相关联的各种功能也已经增加。
在该背景技术部分中公开的以上信息仅用于增强对背景技术的理解，并且因此，在该背景技术部分中讨论的信息不一定构成现有技术。
发明内容
为了增加显示区域的面积并添加各种功能，一些示例实施例的各方面包括一种显示设备，该显示设备在显示区域的内部具有用于添加除图像显示功能以外的各种功能的区域。为了添加各种功能，可以对显示区域中的像素的布置进行各种设计。一个或多个示例实施例可以包括显示设备和包括该显示设备的电子装置，该显示设备包括定位于显示区域中的像素的设计结构。
一些示例实施例的另外的方面将在下面的描述中部分地阐述，并且部分地从描述中将变得更加显而易见，或者可以通过实践所呈现的实施例而获知。
根据一个或多个示例实施例，一种显示设备包括：第一显示区域，包括多个像素；第二显示区域，包括透射区域和多个像素，其中，所述第二显示区域的所述多个像素布置在所述第二显示区域的缓冲显示区域和正常显示区域中；所述缓冲显示区域与所述第一显示区域相邻，所述正常显示区域远离与所述第一显示区域；并且所述正常显示区域的像素密度小于所述缓冲显示区域的像素密度；以及阻挡金属层，定位于在所述第二显示区域中，并且包括与所述透射区域相对应的开口。
根据一些示例实施例，按照每单位面积，所述缓冲显示区域中的开口率或像素数可以大于所述正常显示区域中的开口率或像素数，并且小于所述第一显示区域中的开口率或像素数。
根据一些示例实施例，所述第二显示区域的所述正常显示区域可以包括所述透射区域中的第一透射区域，所述第一透射区域在彼此间隔开的两个像素组之间，并且所述阻挡金属层可以包括所述开口中的第一开口，所述第一开口与所述正常显示区域的所述第一透射区域相对应。
根据一些示例实施例，所述第二显示区域的所述缓冲显示区域可以包括所述透射区域中的第二透射区域，所述第二透射区域在彼此间隔开的两个像素组之间，并且所述阻挡金属层可以包括所述开口中的第二开口，所述第二开口与所述缓冲显示区域的所述第二透射区域相对应。
根据一些示例实施例，所述正常显示区域的所述第一透射区域的密度可以大于所述缓冲显示区域的所述第二透射区域的密度。
根据一些示例实施例，所述第二显示区域的所述缓冲显示区域可以包括彼此间隔开的两个像素组，并且所述阻挡金属层可以包括金属材料部分，所述金属材料部分与所述缓冲显示区域的所述两个像素组之间的区域相对应。
根据一些示例实施例，所述第二显示区域中的所述多个像素的布置可以与所述第一显示区域中的所述多个像素的布置不同。
根据一些示例实施例，在平面图中，所述透射区域中的每一个的形状可以与所述阻挡金属层的所述开口中的每一个的形状大致相同。
根据一个或多个示例实施例，一种显示设备包括：第一显示区域，包括多个像素；第二显示区域，包括透射区域和彼此间隔开的多个像素组；以及阻挡金属层，包括与所述透射区域相对应的开口，其中，所述第二显示区域包括与所述第一显示区域相邻定位的缓冲显示区域和远离所述第一显示区域定位的正常显示区域，其中，所述第一显示区域和所述缓冲显示区域的最靠近所述第一显示区域的第一像素组之间的第一距离小于所述正常显示区域中彼此相邻的第二像素组和第三像素组之间的第二距离。
根据一些示例实施例，所述正常显示区域可以包括在所述第二像素组和所述第三像素组之间的第一透射区域，并且所述阻挡金属层可以包括与所述正常显示区域的所述第一透射区域相对应的第一开口。
根据一些示例实施例，所述阻挡金属层的所述第一开口可以具有第一宽度，并且所述第一宽度可以等于或小于所述第二距离。
根据一些示例实施例，所述缓冲显示区域可以包括具有第二宽度的第二透射区域，并且所述第二透射区域定位于在所述第一像素组和所述第一显示区域之间。
根据一些示例实施例，所述阻挡金属层可以包括与所述第二透射区域相对应并具有第二宽度的第二开口，其中，所述第二开口的所述第二宽度小于所述第一开口的所述第一宽度。
根据一些示例实施例，所述阻挡金属层可以包括金属材料部分，所述金属材料部分与所述第一显示区域和所述缓冲显示区域的所述第一像素组之间的区域重叠。
根据一些示例实施例，在平面图中，所述透射区域的形状可以是与所述阻挡金属层的与所述透射区域相对应的所述开口的形状大致相同的形状。
根据一些示例实施例，一种显示设备包括：第一显示区域，包括多个像素；和第二显示区域，包括透射区域和彼此间隔开的多个像素组，其中，所述第二显示区域包括与所述第一显示区域相邻定位的缓冲显示区域和远离所述第一显示区域定位的正常显示区域，所述第一显示区域的与所述第二显示区域相邻的像素在平面图中布置成具有之字形配置，并且所述缓冲显示区域的最靠近所述第一显示区域的第一像素组与所述第一显示区域以第一距离间隔开。
根据一些示例实施例，所述第一距离可以小于所述正常显示区域中彼此相邻的第二像素组和第三像素组之间的第二距离。
根据一些示例实施例，所述显示设备还可以包括阻挡金属层，所述阻挡金属层包括与所述透射区域相对应的开口。
根据一些示例实施例，所述正常显示区域可以包括在所述第二像素组和所述第三像素组之间的第一透射区域，并且所述阻挡金属层可以包括与所述第一透射区域相对应的第一开口。
根据一些示例实施例，所述阻挡金属层的所述第一开口可以具有第一宽度，并且所述第一宽度可以等于或小于所述第二距离。
根据一些示例实施例，所述阻挡金属层可以包括与所述第一显示区域和所述第一像素组之间的区域重叠的金属材料部分。
根据一些示例实施例，在平面图中，所述透射区域的形状可以是与所述阻挡金属层的与所述透射区域相对应的所述开口的形状大致相同的形状。
根据本公开的实施例的其他方面、特征和特性将从附图、权利要求和详细描述中变得更加显而易见。
附图说明
通过以下结合附图的描述，特定示例实施例的以上和其他方面、特征和特性将变得更加显而易见，在附图中：
图1A和图1B是各自示出包括根据一些示例实施例的显示设备的电子装置的透视图；
图2是示出包括根据一些示例实施例的显示设备的电子装置的截面图；
图3A和图3B是各自示出根据一些示例实施例的显示设备的平面图；
图4是示出连接到根据一些示例实施例的显示设备的发光二极管的像素电路的等效电路图；
图5是示出根据一些示例实施例的显示设备的一个像素的发光二极管和电连接到发光二极管的像素电路的截面图；
图6是示出根据一些示例实施例的显示设备的显示区域的部分的放大平面图；
图7是示出根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域的平面图；
图8是沿着图7的线VIII-VIII'截取的截面图；
图9是示出根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域的平面图；
图10A和图10B是各自示出根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域的平面图；
图11A是示出定位于根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域中的像素的截止状态的平面图；
图11B是示出定位于根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域中的像素的导通状态的平面图；
图12A和图12B是各自示出根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域的平面图；
图13A和图13B是各自示出根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域的平面图；
图14A和图14B是各自示出根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域的平面图；和
图15A和图15B是各自示出根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域的平面图。
具体实施方式
现在将更加详细地参照在附图中示出的一些示例实施例的各方面，其中，相同的附图标记始终表示相同的元件。在这方面，本实施例可以具有不同的形式，并且不应该被解释为限于在本文中阐述的描述。因此，下面仅通过参照附图描述实施例以说明本说明书的各方面。如在本文中所使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关联的所列项目的任何和所有组合。在整个公开中，表述“a、b和c中的至少一个”表示仅a，仅b，仅c，a和b两者，a和c两者，b和c两者，a、b和c的全部，或者其变型。
由于本公开允许各种改变和许多实施例，所以将在附图中示出并且在书面描述中更加详细地描述一些示例实施例的各方面。根据以下结合附图对实施例的描述，根据本公开的实施例及其所附方法的效果和特征将变得显而易见。然而，根据本公开的实施例不限于在下面描述的实施例，并且可以以许多不同的方式体现。
现在将更详细地参照在附图中示出的一些示例实施例，并且在附图中相同的附图标记表示相同的元件，并且将省略重复的说明。
尽管可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应该被这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。
如本文所使用的，除非内容另外明确指出，否则单数形式的“一个”、“一种”和“所述(该)”也意图包括复数形式。
还将理解的是，本文使用的术语“包括”和/或“包含”说明存在所陈述的特征或组件，但不排除存在或添加一个或多个其他特征或组件。
将理解的是，当层、区域或元件被称为形成“在”另一层、另一区域或另一元件“上”时，层、区域或元件可以直接在另一层、另一区域或另一元件上或者可以间接在另一层、另一区域或另一元件上，其间具有中间层、中间区域或中间元件。
当可以不同地实施某个实施例时，特定工艺顺序可以与描述的顺序不同。例如，两个连续地描述的工艺可以大致同时执行或者以与描述的顺序相反的顺序执行。
将理解的是，当层、区域或元件被称为被“连接”时，层、区域或元件可以被直接连接，或者可以被间接地连接，其间具有中间层、中间区域或中间元件。例如，当层、区域或元件被电连接时，层、区域或元件可以被直接电连接或者可以被间接电连接，其间具有中间层、中间区域或中间元件。
图1A和图1B是各自示出包括根据一些示例实施例的显示设备的电子装置的透视图。
参照图1A和图1B，电子装置1可以包括显示区域DA和显示区域DA的外部的非显示区域NDA(例如，在显示区域DA的外围或覆盖区的外部)。显示区域DA可以包括包含第一多个像素的第一显示区域DA1和包含第二多个像素的第二显示区域DA2。根据一些示例实施例，第二显示区域DA2可以包括正常显示区域NA和缓冲显示区域BA。根据一些示例实施例，缓冲显示区域BA可以围绕正常显示区域NA。电子装置1可以通过布置在显示区域DA中的像素阵列(例如，第一多个像素和第二多个像素)来提供或显示图像。
电子装置1可以通过定位于第一显示区域DA1和第二显示区域DA2中的像素来提供图像。第一显示区域DA1和第二显示区域DA2可以显示不同的图像，或者可以显示一个图像的部分。
如图1A中所示，第二显示区域DA2在平面图中可以具有诸如八边形形状的任何多边形形状。可替代地，第二显示区域DA2可以具有圆形形状或椭圆形形状。可替代地，如图1B中所示，第二显示区域DA2可以具有诸如四边形形状的多边形形状或条形形状。
第二显示区域DA2可以定位于第一显示区域DA1的内部(图1A)，或者可以定位于第一显示区域DA1的一侧上(图1B)。如图1A中所示，第二显示区域DA2可以被第一显示区域DA1包围。在一些示例实施例中，第二显示区域DA2可以被第一显示区域DA1部分地围绕。例如，第二显示区域DA2可以定位于第一显示区域DA1的角部，并且可以被第一显示区域DA1部分地围绕。
第二显示区域DA2与显示区域DA的面积比率可以小于第一显示区域DA1与显示区域DA的面积比率。电子装置1可以包括一个如图1A中所示的第二显示区域DA2，或者可以包括两个或更多个第二显示区域DA2。
电子装置1的示例可以包括移动电话、平板个人计算机(PC)、膝上型计算机以及戴在手腕上的智能手表或智能表带。
图2是示出包括根据一些示例实施例的显示设备的电子装置的截面图。
参照图2，电子装置1可以包括显示设备10和定位于显示设备10的后表面上的组件20。根据一些示例实施例，根据电子装置1的设计，组件20可以包括任何合适的组件。例如，根据一些示例实施例，组件20可以是配置为在第二显示区域DA2的与组件20相对应的透射区域TA处(例如，以光、无线数据传输、声音等的形式)发送或接收信号的电子组件。
显示设备10可以包括基底100、包括定位于基底100的前表面上的像素P的显示层200、像素P上的封装层300、输入感测层400、光学功能层500以及窗口600。下保护膜700可以定位于基底100的后表面上。
显示层200可以包括像素P。每个像素P可以包括显示元件，并且可以发射红光、绿光或蓝光。显示元件可以包括发光二极管，例如有机发光二极管OLED(参见图4)。可替代地，发光二极管可以包括无机发光二极管。
显示元件(例如，无机发光二极管)可以包括包含基于无机半导体的材料的PN结二极管。当在正向上将电压施加到PN结二极管时，空穴和电子被注入，并且由于空穴和电子的复合而产生的能量可以被转换成光能以发射某种颜色的光。无机发光二极管可以具有从几微米到数百微米的范围的宽度，并且在一些示例实施例中，无机发光二极管可以被称为微发光二极管(micro-LED)。为了便于说明，将假设发光二极管是有机发光二极管对以下实施例中进行描述，但是如本领域普通技术人员将认识到的那样，根据本公开的实施例不限于此，并且显示元件可以包括任何合适的显示元件。
封装层300可以覆盖像素P。封装层300可以包括封装基底，该封装基底包括诸如玻璃材料的刚性材料，或者可以包括包含至少一个无机封装层和至少一个有机封装层的柔性薄膜封装层。
输入感测层400可以根据外部输入(例如，诸如用户的手指或手写笔等的外部对象的触摸事件)来获得坐标信息。输入感测层400可以包括触摸电极和连接到触摸电极的迹线。输入感测层400可以通过使用互电容方法或自电容方法来检测外部输入，尽管根据本公开的实施例不限于此，并且根据电子装置1的设计输入感测层400可以包括任何其他合适的输入感测组件。
输入感测层400可以直接形成在封装层300上，并且在这种情况下，在封装层300和输入感测层400之间可以不存在粘合剂层。根据一些示例实施例，输入感测层400可以在单独的工艺中形成，并且然后可以通过粘合剂层附接到封装层300。
光学功能层500可以定位于输入感测层400上。光学功能层500可以改善从每个像素P发射的光的效率，和/或可以减小入射在显示设备10上的外部光的反射率。在一些示例实施例中，光学功能层500可以包括光学板，该光学板包括相位延迟器和/或偏振器。在一些示例实施例中，光学功能层500可以包括包含滤色器和黑矩阵的滤板。在一些示例实施例中，光学功能层500可以包括具有不同折射率的多个层。
窗口600可以定位于光学功能层500上，并且诸如光学透明粘合剂OCA的粘合剂层可以定位于窗口600和光学功能层500之间。
组件20可以定位于第二显示区域DA2中。组件20可以是使用光和/或声音的电子元件。例如，电子元件可以是测量距离的传感器，诸如接近传感器、识别用户的身体部位(例如，指纹、虹膜或面部)的传感器、输出光的小灯或捕获图像的图像传感器(例如，相机)。使用光的电子元件可以使用各种波长带中的任何一种的光，诸如可见光、红外光或紫外光。使用声音的电子元件可以使用超声波或其他频带的声音。在一些示例实施例中，组件20可以包括子组件，诸如光发射器和光接收器。光发射器和光接收器可以集成在一起或者可以在物理上分离，以构成一个组件20。
图3A和图3B是各自示出根据一些示例实施例的显示设备的平面图。
参照图3A和图3B，显示设备10(参照图2)可以包括定位于基底100上的像素阵列。像素阵列可以定位于显示区域DA中，并且可以包括发射红光、绿光和蓝光的像素P(参照图2)。显示区域DA可以包括第一显示区域DA1和第二显示区域DA2，并且第二显示区域DA2可以包括正常显示区域NA和缓冲显示区域BA。
第二显示区域DA2在平面图中可以具有多边形形状，诸如八边形形状或四边形形状，或者圆形形状或椭圆形形状。如图3A中所示，在平面图中，第二显示区域DA2可以被第一显示区域DA1完全围绕。可替代地，如图3B中所示，第二显示区域DA2可以被第一显示区域DA1部分地围绕。第二显示区域DA2的缓冲显示区域BA可以定位于正常显示区域NA和第一显示区域DA1之间，并且可以如图3A中所示完全围绕正常显示区域NA，或者如图3B中所示可以定位于正常显示区域NA的一侧。
非显示区域NDA可以完全围绕显示区域DA。扫描驱动器、数据驱动器等可以定位于非显示区域NDA中。焊盘PD可以定位于非显示区域NDA中。焊盘PD可以与基底100的边缘之一相邻定位。焊盘PD可以被暴露而不被绝缘层覆盖，并且可以电连接到柔性印刷电路板FPCB。柔性印刷电路板FPCB可以电连接控制器和焊盘PD，并且可以被施加从控制器传输的信号或电力。在一些示例实施例中，数据驱动器可以定位于柔性印刷电路板FPCB上。为了将信号或电压从柔性印刷电路板FPCB传输到像素P(参照图2)，焊盘PD可以连接到多条布线。
根据一些示例实施例，代替柔性印刷电路板FPCB的集成电路可以定位于焊盘PD上。集成电路可以包括例如数据驱动器，并且可以通过包括导电球的各向异性导电膜电连接到焊盘PD。
第一显示区域DA1和第二显示区域DA2的每个像素P(参照图2)可以包括发光二极管，并且发光二极管可以电连接到包括晶体管和电容器的像素电路PC(参照图4)。
图4是示出连接到根据一些示例实施例的显示设备的发光二极管的像素电路的等效电路图。
参照图4，发光二极管可以包括有机发光二极管OLED。有机发光二极管OLED电连接到像素电路PC。像素电路PC可以包括第一薄膜晶体管T1、第二薄膜晶体管T2和存储电容器Cst。
作为开关薄膜晶体管的第二薄膜晶体管T2可以连接到扫描线SL和数据线DL，并且可以基于从扫描线SL输入的开关电压(或开关信号Sn)将从数据线DL输入的数据电压(或数据信号Dm)传输到第一薄膜晶体管T1。存储电容器Cst可以连接到第二薄膜晶体管T2和驱动电压线PL，并且可以存储与从第二薄膜晶体管T2接收的电压和供应给驱动电压线PL的第一电源电压ELVDD之间的差相对应的电压。
作为驱动薄膜晶体管的第一薄膜晶体管T1可以连接到驱动电压线PL和存储电容器Cst，并且可以响应于存储在存储电容器Cst中的电压来控制从驱动电压线PL流到有机发光二极管OLED的驱动电流。有机发光二极管OLED可以根据驱动电流发射具有一定亮度的光。有机发光二极管OLED的对电极(例如，阴极)可以接收第二电源电压ELVSS。
尽管在图4中像素电路PC包括两个薄膜晶体管T1和T2以及一个存储电容器Cst，但是可以根据像素电路PC的设计以各种方式改变薄膜晶体管的数量和存储电容器的数量。例如，像素电路PC可以包括三个、四个、五个或更多个薄膜晶体管以及两个或更多个电容器。
图5是示出根据一些示例实施例的显示设备的一个像素的发光二极管和电连接到发光二极管的像素电路的截面图。
参照图5，可以在基底100上形成像素电路PC，并且可以在像素电路PC上形成发光二极管，例如有机发光二极管OLED。
基底100可以包括玻璃或聚合物树脂。聚合物树脂可以包括任何合适的基底材料，包括例如聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯和/或乙酸丙酸纤维素。
缓冲层111可以定位于基底100上。缓冲层111可以减少或防止异物、水分、污染物或外部空气从基底100的底部渗透，并且可以使基底100平坦化。缓冲层111可以包括诸如氧化硅、氮氧化硅或硅的无机绝缘材料，并且可以具有包括以上材料的单层或多层结构。
包括薄膜晶体管TFT(例如图4的第一薄膜晶体管T1)和存储电容器Cst的像素电路PC可以定位于缓冲层111上。薄膜晶体管TFT可以包括半导体层Act、与半导体层Act的沟道区域重叠的栅极电极GE以及分别连接到半导体层Act的源极区域和漏极区域的源极电极SE和漏极电极DE。栅极绝缘层112可以定位于半导体层Act与栅极电极GE之间，并且第一层间绝缘层113和第二层间绝缘层115可以定位于栅极电极GE和源极电极SE之间或者栅极电极GE和漏极电极DE之间。
半导体层Act可以包括多晶硅。在一些示例实施例中，半导体层Act可以包括非晶硅。在一些示例实施例中，半导体层Act包括选自由铟(In)、镓(Ga)、锡(Sn)、锆(Zr)、钒(V)、铪(Hf)、镉(Cd)、锗(Ge)、铬(Cr)、钛(Ti)和锌(Zn)构成的组的至少一种材料的氧化物。
栅极绝缘层112可以包括诸如氧化硅、氮氧化硅或氮化硅的无机绝缘材料，并且可以具有包括以上材料的单层或多层结构。源极电极SE或漏极电极DE可以包括铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、钙(Ca)、钼(Mo)、钛(Ti)、钨(W)和/或铜(Cu)，并且可以具有包括以上材料的单层或多层结构。例如，源极电极SE或漏极电极DE可以具有包括钛层、铝层和钛层的三层结构。
存储电容器Cst可以包括彼此重叠的第一电容器板Cst1和第二电容器板Cst2。第一层间绝缘层113可以定位于第一电容器板Cst1和第二电容器板Cst2之间。第一电容器板Cst1和栅极电极GE可以包括相同的材料。尽管在图5中第一电容器板Cst1和栅极电极GE在x方向上彼此间隔开，但是根据一些示例实施例，第一电容器板Cst1可以包括栅极电极GE。例如，第一电容器板Cst1可以包括栅极电极GE，或者栅极电极GE的部分可以包括第一电容器板Cst1。在一些示例实施例中，栅极电极GE可以具有第一电容器板Cst1的功能。
栅极电极GE和/或第一电容器板Cst1可以包括低电阻导电材料，诸如钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)和/或钛(Ti)，并且可以具有包括以上材料的单层或多层结构。
第一层间绝缘层113可以包括诸如氧化硅、氮氧化硅或氮化硅的无机绝缘材料，并且可以具有包括以上材料的单层或多层结构。
第二电容器板Cst2可以包括铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、钙(Ca)、钼(Mo)、钛(Ti)、钨(W)和/或铜(Cu)，并且可以具有包括以上材料的单层或多层结构。
第二层间绝缘层115可以包括诸如氧化硅、氮氧化硅或氮化硅的无机绝缘材料，并且可以具有包括以上材料的单层或多层结构。
平坦化层117可以包括与定位于平坦化层117下方的至少一个无机绝缘层例如栅极绝缘层112、第一层间绝缘层113和/或第二层间绝缘层115的材料不同的材料。平坦化层117可以包括有机绝缘材料，诸如丙烯酰基、苯并环丁烯(BCB)、聚酰亚胺或六甲基二硅氧烷(HMDSO)。
像素电极221可以定位于平坦化层117上。像素电极221可以通过形成在平坦化层117中的接触孔电连接到薄膜晶体管TFT。
像素电极221可以包括反射层，该反射层包括银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)或其化合物。像素电极221可以包括包含以上材料的反射膜以及定位于反射膜上方和/或下方的透明导电膜。透明导电层可以包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In2O3)、氧化铟镓(IGO)和/或氧化铝锌(AZO)。根据一些示例实施例，像素电极221可以具有三层结构，该三层结构包括依次堆叠的ITO层、Ag层和ITO层。
上绝缘层119可以覆盖像素电极221的边缘，并且可以具有通孔119H，像素电极221的中央部分通过该通孔119H暴露。在这方面，图5示出了上绝缘层119的通孔119H。上绝缘层119的通孔119H可以限定有机发光二极管OLED的发射区域，并且发射光(例如，红光、蓝光或绿光)的发射区域可能与像素P(参照图2)相对应。上绝缘层119可以包括有机绝缘材料，诸如苯并环丁烯(BCB)、聚酰亚胺或六甲基二硅氧烷(HMDSO)。
发射层222b可以通过上绝缘层119的通孔119H与像素电极221重叠。发射层222b可以包括有机材料。发射层222b可以包括发射某种颜色的光的高分子量有机材料或低分子量有机材料。可以通过使用掩模的沉积工艺来形成发射层222b。
第一功能层222a和第二功能层222c可以分别定位于发射层222b下方和上方。
第一功能层222a可以具有单层或多层结构。例如，当第一功能层222a由高分子量材料形成时，第一功能层222a可以包括具有单层结构的空穴传输层(HTL)，并且可以由聚(3,4)-乙烯-二氧噻吩(PEDOT)或聚苯胺(PANI)形成。当第一功能层222a由低分子量材料形成时，第一功能层222a可以包括空穴注入层(HIL)和空穴传输层(HTL)。
第二功能层222c可以包括电子传输层(ETL)和/或电子注入层(EIL)。
对电极223可以由具有较低功函数的导电材料形成。例如，对电极223可以包括(半)透明的层，该层包括银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、镍(Ni)、铬(Cr)、锂(Li)、钙(Ca)或其合金。可替代地，对电极223还可以包括在包括以上材料的(半)透明层上由ITO、IZO、ZnO或In2O3形成的层。根据一些示例实施例，对电极223可以包括银(Ag)和镁(Mg)。对电极223可以整体形成以完全覆盖第一显示区域DA1和第二显示区域DA2(参见图3A等)。
封装层300可以定位于包括像素电极221、发射层222b和对电极223的有机发光二极管OLED上。封装层300可以包括柔性封装层，该柔性封装层包括无机绝缘层和有机绝缘层，或者可以包括包含诸如封装玻璃的刚性材料的基底。根据一些示例实施例，封装层300可以是具有包括第一无机封装层310、有机封装层320和第二无机封装层330的堆叠结构的柔性封装层。
图6是示出根据一些示例实施例的显示设备的显示区域的部分的放大平面图。
参照图6，第一显示区域DA1和第二显示区域DA2可以包括多个像素P(参照图2)。如参照图2所描述的，因为组件20定位于显示设备10的第二显示区域DA2中，所以第二显示区域DA2包括透射区域TA，向组件20传播的光和/或声音和/或从组件20发射的光和/或声音可以通过透射区域TA传输。
因为第二显示区域DA2包括透射区域TA，所以第二显示区域DA2的像素密度可以与第一显示区域DA1的像素密度不同。例如，在相同面积中，第二显示区域DA2的开口率和/或像素数可以小于第一显示区域DA1的开口率和/或像素数。在这种情况下，存在的问题是显示区域之间的边界可能被用户无意识地(或不必要地)识别。然而，根据一些示例实施例，可以通过使第二显示区域DA2包括具有不同像素密度和/或不同透射区域密度的正常显示区域NA和缓冲显示区域BA来解决该问题。
在一些示例实施例中，可以通过使缓冲显示区域BA具有与正常显示区域NA的像素密度和/或透射区域密度(单位面积中的透射区域TA所占的面积的比率)不同的像素密度和/或透射区域密度来防止或减小第一显示区域DA1和第二显示区域DA2之间的边界的可见性。
在一些示例实施例中，通过调节缓冲显示区域BA的像素P(参照图2)的布置和/或透射区域TA的宽度，可以防止第一显示区域DA1和第二显示区域DA2之间的边界被识别。
图7是示出根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域的平面图。图8是沿着图7的线VIII-VIII'截取的截面图。
参照图7，第一显示区域DA1可以包括红色像素R、绿色像素G和蓝色像素B。红色像素R、绿色像素G和蓝色像素B可以布置在菱形PenTileTM型中。当红色像素R、绿色像素G和蓝色像素B以菱形PenTileTM型布置时，绿色像素G的数量大约可以是红色像素R的数量和蓝色像素B的数量的两倍。红色像素R可以在倾斜于x方向和y方向的第一对角线方向布置，并且每个绿色像素G可以在第一对角线方向上定位于相邻的红色像素R之间。蓝色像素B可以在与第一对角线方向相交并且倾斜于x方向和y方向的第二对角线方向上布置，并且每个绿色像素G可以定位于在第二对角线方向上的相邻的蓝色像素B之间。在x方向上的一个红色像素R和一个蓝色像素B以及在y方向上的两个绿色像素G可以分别定位于虚拟菱形的顶点处。
如图7中所示，第二显示区域DA2的像素R、G和B可以具有与第一显示区域DA1的像素R、G和B(例如，菱形PenTileTM型)的布置相同的布置。在一些示例实施例中，第二显示区域DA2的像素R、G和B可以具有与第一显示区域DA1的像素R、G和B的布置不同的布置。
第二显示区域DA2可以包括透射区域TA。例如，透射区域TA可以定位于相邻像素组PU之间。透射区域TA是像素组PU不定位于其中并且可以通过其透射光和/或声音的区域。如参照图2描述的，透射区域TA可以提供通道，向组件20传播的光和/或声音或从组件20发射的光和/或声音可以通过该通道透射。
因为第二显示区域DA2包括透射区域TA，所以第一显示区域DA1的像素密度可以不同于第二显示区域DA2的像素密度。例如，第一显示区域DA1中的第一单元U1的开口率和/或像素数可以大于缓冲显示区域BA中的第二单元U2的开口率和/或像素数，并且缓冲显示区域BA中的第二单元U2的开口率和/或像素数可以大于正常显示区域NA中的第三单元U3的开口率和/或像素数，从而防止了第一显示区域DA1和第二显示区域DA2之间的边界被识别。第一单元U1、第二单元U2和第三单元U3的面积相同。
第二显示区域DA2可以包括阻挡金属层BML。参照图8，阻挡金属层BML可以定位于基底100和像素电路PC之间。
参照图8，定位于第二显示区域DA2中的像素R、G和B(参照图7)可以包括定位于基底100上的有机发光二极管OLED，并且有机发光二极管OLED电连接到定位于有机发光二极管OLED下方的像素电路PC。像素电路PC可以包括薄膜晶体管TFT和存储电容器Cst。如以上参照图5所描述的，薄膜晶体管TFT可以包括半导体层Act、栅极电极GE、源极电极SE和漏极电极DE，并且存储电容器Cst可以包括第一电容器板Cst1和第二电容器板Cst2。在一些示例实施例中，如图8中所示，薄膜晶体管TFT的栅极电极GE可以包括存储电容器Cst的第一电容器板Cst1。
阻挡金属层BML可以与定位于第二显示区域DA2中的像素电路PC和/或布线WL重叠。阻挡金属层BML可以防止从组件20发射或向组件20传播的光通过像素电路PC和/或布线WL之间的间隙而被衍射。
阻挡金属层BML可以具有一定的电压，并且在这种情况下，阻挡金属层BML可以改善像素电路PC的工作特性。在一些示例实施例中，阻挡金属层BML可以电连接到薄膜晶体管TFT的栅极电极GE、源极电极SE或漏极电极DE。阻挡金属层BML可以电连接到参照图4描述的驱动电压线PL。
阻挡金属层BML可以具有与透射区域TA相对应的开口BML-OP。为了增加透射区域TA的透射率，基底100上的绝缘层，例如，栅极绝缘层112、第一层间绝缘层113、第二层间绝缘层115、平坦化层117和/或上绝缘层119可以分别具有与透射区域TA重叠的孔112H、113H、115H、117H和/或119H。第一功能层222a和第二功能层222c可以覆盖透射区域TA，而对电极223可以具有与透射区域TA重叠的孔223H。
在第二显示区域DA2中，如图7和图8中所示，阻挡金属层BML可以包括与像素R、G和B重叠的金属材料部分和定位于透射区域TA中的开口BML-OP。透射区域TA可以由阻挡金属层BML的开口BML-OP限定，并且透射区域TA可以与阻挡金属层BML的开口BML-OP相对应。例如，在图7的显示设备的平面图中，透射区域TA的形状可以与阻挡金属层BML的开口BML-OP的形状大致相同，并且透射区域TA的宽度可以与阻挡金属层BML的开口BML-OP的宽度大致相同。
如图7中所示，透射区域TA可以定位于第二显示区域DA2的缓冲显示区域BA和正常显示区域NA中的每一个中。缓冲显示区域BA的透射区域密度可以小于正常显示区域NA的透射区域密度。例如，缓冲显示区域BA中的第二单元U2的透射区域TA的面积可以小于正常显示区域NA中的第三单元U3的透射区域TA的面积。
第二显示区域DA2中的透射区域密度，即，在单位面积中被透射区域TA占据的面积，可以在从正常显示区域NA到缓冲显示区域BA的方向减小。相反，第二显示区域DA2中的开口率和/或像素数可以在从正常显示区域NA到缓冲显示区域BA的方向上增加。
根据一些示例实施例，尽管在图7中，透射区域TA定位于第二显示区域DA2中的相邻像素组PU之间，但是如图9中所示，透射区域TA可以不定位于第二显示区域DA2中的相邻像素组PU之间。
图9是示出根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域的平面图。参照图9，阻挡金属层BML可以定位于第二显示区域DA2中，并且阻挡金属层BML的开口BML-OP可以定位于正常显示区域NA和缓冲显示区域BA的部分中。例如，布置在缓冲显示区域BA中并且在y方向上是相邻的在像素组PU之间的空间(区域)可以被阻挡金属层BML的金属材料部分BML-M覆盖或可以与阻挡金属层BML的金属材料部分BML-M重叠。除上述特征以外的特征与参照图7和图8描述的特征相同。
尽管第一显示区域DA1和第二显示区域DA2的像素例如红色像素R、绿色像素G和蓝色像素B在图7至图9中基于相同的规则布置，但是，根据一些示例实施例，如下面参照图10A和图10B所描述的，显示区域DA1和DA2的像素R、G和B的布置可以彼此不同。
图10A和图10B是各自示出根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域的平面图。
参照图10A，可以以菱形PenTileTM型布置第一显示区域DA1的像素R、G和B，而可以以S-PenTileTM型布置第二显示区域DA2的像素R、G和B。参照第二显示区域DA2的像素R、G和B，红色像素R和绿色像素G可以在相同的列方向(y方向)上交替布置，并且蓝色像素B可以布置在与红色像素R和绿色像素G的列相邻的列中。
尽管在图10A中，阻挡金属层BML的开口BML-OP定位于缓冲显示区域BA和正常显示区域NA中的每一个中，但是根据一些示例实施例，阻挡金属层BML的开口BML-OP可以仅定位于正常显示区域NA中。
尽管在图10A中，定位于第二显示区域DA2中的像素R、G和B的布置结构是相同的，例如，定位于正常显示区域NA中的像素R、G和B的布置结构和定位于缓冲显示区域BA中的像素R、G和B的布置结构是相同的，但是，本公开不限于此。例如，如图10B中所示，定位于正常显示区域NA中的像素R、G和B的布置结构和定位于缓冲显示区域BA中的像素R、G和B的布置结构可以彼此不同。
根据图7、图9、图10A和图10B的实施例，第二显示区域DA2包括具有不同像素密度和/或不同透射区域密度的缓冲显示区域BA和正常显示区域NA。根据一些示例实施例，可以通过导通/截止像素R、G和B来防止或减小第一显示区域DA1和第二显示区域DA2之间的边界的可见性。
图11A是示出定位于根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域中的像素的截止状态的平面图。图11B是示出定位于根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域中的像素的导通状态的平面图。在图11B中，虚线表示处于截止状态的像素R、G和B，实线表示处于导通状态的像素R、G和B。
参照图11A，第一显示区域DA1和第二显示区域DA2可以包括如参照图7所描述布置的像素R、G和B。第一显示区域DA1可以包括相对邻近第二显示区域DA2的缓冲显示区域BA'和相对远离第二显示区域DA2的正常显示区域NA'。阻挡金属层BML可以定位于第二显示区域DA2中，并且可以具有与透射区域TA相对应的开口BML-OP。
第一显示区域DA1的缓冲显示区域BA'和正常显示区域NA'可以具有相同的像素密度。例如，第一显示区域DA1的正常显示区域NA'中的第一单元U1'的像素数可以与缓冲显示区域BA'中的第二单元U2'的像素数相同。第二显示区域DA2可以包括透射区域TA，并且透射区域TA可以由阻挡金属层BML的开口BML-OP限定。
第二显示区域DA2中的第三单元U3'的像素数可以小于第一单元U1'和第二单元U2'的像素数。第一单元U1'、第二单元U2'和第三单元U3'具有相同的面积。
具有图11A的像素布置的显示设备可以如图11B中所示操作，并且第一显示区域DA1的正常显示区域NA'的所有像素R、G和B可以被导通，而缓冲显示区域BA'的仅一些像素R、G和B可以被导通。在这种情况下，如图11B中所示，缓冲显示区域BA'的像素R、G和B的开口率可以小于第一显示区域DA1的正常显示区域NA'的像素R、G和B的开口率并且可以大于第二显示区域DA2的像素R、G和B的开口率。因此，可以防止或减小由于第一显示区域DA1和第二显示区域DA2的像素R、G和B之间的开口率差异引起的边界部分的可见性或识别性。
图12A和图12B是各自示出根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域的平面图。
参照图12A，第一显示区域DA1和第二显示区域DA2可以彼此相邻定位，并且第二显示区域DA2可以包括缓冲显示区域BA和正常显示区域NA。第一显示区域DA1和第二显示区域DA2可以包括像素例如红色像素R、绿色像素G和蓝色像素B，并且第二显示区域DA2可以包括透射区域TA。
第二显示区域DA2的像素R、G和B可以包括彼此间隔开的像素组PU，并且每个像素组PU可以包括以特定图案布置的多个像素R、G和B。透射区域TA可以定位于相邻像素组PU之间。透射区域TA可以定位于第一显示区域DA1和第二显示区域DA2的最靠近第一显示区域DA1的第一像素组PU1之间。例如，如图12A中所示，透射区域TA可以定位于第一像素组PU1和第一显示区域DA1之间，可以定位于第二像素组PU2和第三像素组PU3之间，和/或第四像素组PU4和第一显示区域DA1之间。
第二显示区域DA2包括透射区域TA，并且因此用户可能无意识地识别出具有不同像素密度的第一显示区域DA1和第二显示区域DA2之间的边界。然而，根据一些示例实施例，可以通过调整缓冲显示区域BA的像素R、G和B的布置和/或调整透射区域TA的宽度来防止或减小第一显示区域DA1和第二显示区域DA2之间的边界的可见性或识别性。如上所述，因为透射区域TA可以由阻挡金属层BML的开口BML-OP限定，所以可以通过调整阻挡金属层BML的开口BML-OP的宽度来解决识别边界部分的问题。
第一显示区域DA1和缓冲显示区域BA的最靠近第一显示区域DA1的第一像素组PU1之间在第一方向(例如，x方向)上的距离可以小于正常显示区域NA的两个相邻像素组PU之间的距离。根据一些示例实施例，如图12A中所示，第一显示区域DA1和第二显示区域DA2之间的边界线(虚拟边界线)VL可以包括在第二方向(例如，y方向)上延伸的第一部分VL-1。缓冲显示区域BA可以包括与边界线VL的第一部分VL-1相邻定位的第一像素组PU1。第一像素组PU1可以在第一方向(例如，x方向)上和第一显示区域DA1以第一距离a间隔开。第一距离a可以小于定位于正常显示区域NA中并且彼此相邻的第二像素组PU2和第三像素组PU3之间的第二距离b。例如，第一距离a可以是第二距离b的大约1/4。
第二显示区域DA2可以包括透射区域TA，并且显示设备可以包括具有与透射区域TA相对应的开口BML-OP的阻挡金属层BML。阻挡金属层BML可以包括与像素R、G和B重叠的金属材料部分BML-M和与透射区域TA重叠的开口BML-OP。
根据一些示例实施例，透射区域TA可以定位于第一像素组PU1和第一显示区域DA1之间，并且第一像素组PU1和第一显示区域DA1之间的透射区域TA可以具有第一宽度w1。在一些示例实施例中，当第一像素组PU1和第一显示区域DA1之间的透射区域TA具有第一宽度w1时，这可能意味着阻挡金属层BML的多个开口BML-OP中的定位于第一像素组PU1和第一显示区域DA1之间的开口BML-OP具有第一宽度w1。第一宽度w1是在第一方向(例如，x方向)上的值，并且可以等于或小于第一距离a。
第一宽度w1可以小于定位于正常显示区域NA中且彼此相邻的第二像素组PU2和第三像素组PU3之间的透射区域TA的第二宽度w2。在一些示例实施例中，当定位于正常显示区域NA中且彼此相邻的第二像素组PU2和第三像素组PU3之间的透射区域TA具有第二宽度w2时，这可以意味着定位于正常显示区域NA中的阻挡金属层BML的多个开口BML-OP中的定位于第二像素组PU2和第三像素组PU3之间的开口BML-OP具有第二宽度w2。可以在与第一宽度w1相同的方向上，例如在第一方向(例如，x方向)上测量第二宽度w2。正常显示区域NA中的第二像素组PU2和第三像素组PU3可以彼此以第二距离b间隔开，并且第二宽度w2可以等于或小于第二距离b的宽度。
如图12A中所示，第一显示区域DA1和第二显示区域DA2之间的边界线VL可以包括第二部分VL-2，第二部分VL-2在倾斜于x方向和y方向的第一对角线方向ob1上延伸，并且缓冲显示区域BA可以包括与边界线VL的第二部分VL-2相邻定位的第四像素组PU4。第四像素组PU4可以在第一方向(例如，x方向)上与第一显示区域DA1以第三距离c间隔开。
当边界线VL的第二部分VL-2在第一对角线方向ob1上延伸时，第四像素组PU4和第一显示区域DA1之间的第三距离c可以根据测量点而变化。例如，根据测量点，第四像素组PU4可以在第一方向(例如，x方向)上与第一显示区域DA1以第三-一距离c1间隔开，可以以第三-二距离c2间隔开，或者可以以第三-三距离c3间隔开。第三-一距离c1、第三-二距离c2和第三-三距离c3中的每一个均小于第二距离b。
例如，第三-一距离c1可以与第二距离b的大约1/4相对应，第三-二距离c2可以与第二距离b的大约2/4相对应，并且第三-三距离c3可以与第二距离b的大约3/4相对应。第三距离c可以指示在第一方向(例如，x方向)上第四像素组PU4和第一显示区域DA1之间的最大距离。例如，第三距离c可以指示第三-三距离c3。第一距离a、第二距离b、第三距离c、第三-一距离c1、第三-二距离c2和第三-三距离c3中的每一个和两个相邻像素之间的距离相区别，并且大于相邻像素之间的距离。
透射区域TA可以定位于第四像素组PU4和第一显示区域DA1之间，并且第四像素组PU4和第一显示区域DA1之间的透射区域TA可以具有第三宽度w3。在一些示例实施例中，当第四像素组PU4和第一显示区域DA1之间的透射区域TA具有第三宽度w3时，这可能意味着阻挡金属层BML的多个开口BML-OP中的定位于第四像素组PU4和第一显示区域DA1之间的开口BML-OP具有第三宽度w3。可以在与宽度w1和/或第二宽度w2的方向相同的方向上例如在第一方向(例如，x方向)上测量第三宽度w3。
当边界线VL的第二部分VL-2在第一对角线方向ob1上延伸时，第四像素组PU4和第一显示区域DA1之间的透射区域TA可以具有大致三角形的形状。透射区域TA在第一方向(例如，x方向)上的第三宽度w3可以根据测量点而变化。在这种情况下，第三宽度w3可以指示透射区域TA的最大宽度，并且第三宽度w3的最大值可以等于或小于作为第三距离c的最大值的第三-三距离c3。
在图12A中，尽管具有第一宽度w1或第三宽度w3的透射区域TA和/或开口BML-OP定位于第一显示区域DA1和缓冲显示区域BA的最靠近第一显示区域DA1的像素组PU(例如，第一像素组PU1或第四像素组PU4)之间，但是本公开不限于此。
在一些示例实施例中，如图12B中所示，在第一显示区域DA1和缓冲显示区域BA的最靠近第一显示区域DA1的像素组(例如，第一像素组PU1或第四像素组PU4)之间可能没有透射区域。例如，在第一显示区域DA1和第一像素组PU1之间以及在第一显示区域DA1和第四像素组PU4之间可能不存在透射区域。第一显示区域DA1和第一像素组PU1之间的部分以及第一显示区域DA1和第四像素组PU4之间的部分可以由阻挡金属层BML的金属材料部分BML-M覆盖或可以与阻挡金属层BML的金属材料部分BML-M重叠。
图13A和图13B是各自示出根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域的平面图。图13A的显示设备可以包括参照图12A描述的特征，例如，第一宽度w1、第二宽度w2和第三宽度w3之间的关系以及第一距离a、第二距离b和第三距离c之间的关系。图13A的显示设备与图12A的显示设备的不同之处在于，第一显示区域DA1在与第二显示区域DA2相邻的部分中包括更多的像素。为了便于说明，以下将重点讨论不同之处。
参照图13A，第一显示区域DA1和第二显示区域DA2之间的边界线VL可以具有之字形或蛇形的配置。例如，边界线VL的第一部分VL-1通常可以在第二方向(例如，y方向)上延伸，并且可以局部地具有之字形或蛇形的配置。同样，边界线VL的第三部分VL-3通常可以在第一方向(例如，x方向)上延伸，并且可以局部地具有之字形或蛇形的配置。
与第二显示区域DA2相邻定位的第一显示区域DA1的像素R、G和B可以布置为在平面图(例如，正交于或垂直于电子装置1的主平面或显示表面的视图)中具有之字形或蛇形配置。根据一些示例实施例，第一显示区域DA1可以包括定位于最靠近边界线VL的第一部分VL-1并且布置在y方向上的两个第一像素组PU1之间的第一像素APU1。同样地，第一显示区域DA1可以包括定位于最靠近边界线VL的第三部分VL-3并且布置在x方向上的两个像素组例如第四像素组PU4和第五像素组PU5之间的第一像素APU1。
在图13A中，尽管具有第一宽度w1或第三宽度w3的透射区域TA和/或开口BML-OP定位于第一显示区域DA1和缓冲显示区域BA的最靠近第一显示区域DA1的像素组(例如，第一像素组PU1或第四像素组PU4)之间，但是本公开不限于此。
在一些示例实施例中，如图13B中所示，在第一显示区域DA1和缓冲显示区域BA的最靠近第一显示区域DA1的像素组(例如，第一像素组PU1或第四像素组PU4)之间可能没有透射区域。例如，在第一显示区域DA1和第一像素组PU1之间以及在第一显示区域DA1和第四像素组PU4之间可能不存在透射区域。第一显示区域DA1和第一像素组PU1之间的部分以及第一显示区域DA1和第四像素组PU4之间的部分可以由阻挡金属层BML的金属材料部分BML-M覆盖或可以与阻挡金属层BML的金属材料部分BML-M重叠。
图14A、图14B、图15A和图15B是各自示出根据一些示例实施例的显示设备的第一显示区域和第二显示区域的平面图。
图14A和图15A的显示设备可以包括参照图12A描述的特征例如第一宽度w1、第二宽度w2和第三宽度w3之间的关系以及第一距离a、第二距离b和第三距离c之间的关系。图14A和图15A的显示设备可以包括参照图13A描述的特征。图14A和图15A的显示设备与图13A的显示设备的不同之处在于，第一显示区域DA1在与第二显示区域DA2相邻的部分中包括更多的像素R、G和B。
参照图14A和图15A，第一显示区域DA1和第二显示区域DA2之间的边界线VL可以具有之字形或蛇形配置，例如，阶梯状(阶梯式)配置。边界线VL的第二部分VL-2通常可以在第一对角线方向(例如，ob1)上延伸，并且可以局部地具有阶梯状配置。
与第二显示区域DA2相邻定位的第一显示区域DA1的像素R、G和B可以布置为具有阶梯状配置。第一显示区域DA1可以包括定位于最靠近边界线VL的第二部分VL-2的两个第四像素组PU4之间的第二像素APU2(参见图14A)和第二像素APU2'(参见图15A)，并且第二像素APU2和APU2'可以以阶梯状配置来布置。
由于第一显示区域DA1的第二像素APU2和APU2'与边界线VL的第二部分VL-2相邻，因此在第一显示区域DA1和缓冲显示区域BA的最靠近第一显示区域DA1的第四像素组PU4之间的透射区域TA可以具有如图14A中所示的大致L形形状或者可以具有如图15A中所示的大致I形形状。在一些示例实施例中，当与边界线VL的第二部分VL-2相邻的透射区域TA具有大致L形形状或大致I形形状时，这可能意味着阻挡金属层BML的开口BML-OP中的与边界线VL的第二部分VL-2相邻的开口BML-OP具有大致L形形状或大致I形形状。
如上所述，第一显示区域DA1和第四像素组PU4之间在第一方向(例如，x方向)上的透射区域TA的第三宽度w3可以小于定位于正常显示区域NA中的第二像素组PU2和第三像素组PU3之间的透射区域TA的第二宽度w2。
在一些示例实施例中，如图14A中所示，当透射区域TA在第一方向(例如，x方向)上的第三宽度w3根据测量点而变化时，定位于第一显示区域DA1和第四像素组PU4之间的透射区域TA的第三宽度w3可以指示最大宽度，并且第三宽度w3的最大值可以等于或小于作为第一显示区域DA1和第四像素组PU4之间的第三距离c的最大值的第三-三距离c3。例如，第三宽度w3可以等于或小于第二距离b的2/4。
在一些示例实施例中，如图15A中所示，第一显示区域DA1和第四像素组PU4之间的透射区域TA可以具有在第一方向(例如，x方向)上具有恒定宽度的形状。例如，定位于第一显示区域DA1和第四像素组PU4之间的透射区域TA的第三宽度w3可以等于或小于第二距离b的1/4。
在图14A和图15A中，尽管具有第一宽度w1或第三宽度w3的透射区域TA和/或开口BML-OP定位于第一显示区域DA1和缓冲显示区域BA的最靠近第一显示区域DA1的像素组(例如，第一像素组PU1或第四像素组PU4)之间。
如图14B和图15B中所示，在一些示例实施例中，在第一显示区域DA1和缓冲显示区域BA的最靠近第一显示区域DA1的像素组(例如，第一像素组PU1或第四像素组PU4)之间可能没有透射区域。例如，在第一显示区域DA1和第一像素组PU1之间以及在第一显示区域DA1和第四像素组PU4之间可能不存在透射区域。第一显示区域DA1和第一像素组PU1之间的部分以及第一显示区域DA1和第四像素组PU4之间的部分可以由阻挡金属层BML的金属材料部分BML-M覆盖或可以与阻挡金属层BML的金属材料部分BML-M重叠。
在图12A、图13A、图14A和图15A中，尽管定位于第一显示区域DA1和定位于缓冲显示区域BA中的像素组中的第四像素组PU4之间的透射区域TA的形状与边界线VL的第二部分VL-2的形状一致，但是本公开不限于此。根据一些示例实施例，定位于第一显示区域DA1和缓冲显示区域BA中的第四像素组PU4之间的透射区域TA的形状可以不与边界线VL的第二部分VL-2的形状一致。根据一些示例实施例，例如，边界线VL的第二部分VL-2可以具有在第一对角线方向ob1上延伸的直线形状，并且与边界线VL的第二部分VL-2相邻的透射区域TA可以具有如图14A或图15A中所示的形状。
尽管在图12A至图15B中第二显示区域DA2的像素R、G和B和第一显示区域DA1的像素R、G和B具有相同的布置(例如，菱形PenTileTM型)，但是根据一些示例实施例，第二显示区域DA2的像素R、G和B和第一显示区域DA1的像素R、G和B可以具有不同的布置。
根据实施例，可以防止或减小第一显示区域DA1和第二显示区域DA2之间的边界部分的可见性。
应当理解的是，本文描述的实施例应仅在描述性意义上考虑，而不是出于限制的目的。每个实施例内的特征或方面的描述通常应被认为可用于其他实施例中的其他类似特征或方面。尽管已经参照附图描述了一个或多个实施例，但是本领域普通技术人员将理解，在不脱离由所附权利要求及其等价物限定的精神和范围的情况下，可以在形式和细节上进行各种改变。

Claims (22)

1.一种显示设备，其中，所述显示设备包括：
第一显示区域，包括第一多个像素；
第二显示区域，包括透射区域和第二多个像素，其中：
所述第二显示区域的所述第二多个像素布置在所述第二显示区域的缓冲显示区域和正常显示区域中；
所述缓冲显示区域与所述第一显示区域相邻；
所述正常显示区域与所述第一显示区域间隔开；并且
所述正常显示区域的像素密度小于所述缓冲显示区域的像素密度；以及
阻挡金属层，在所述第二显示区域中，并且包括与所述透射区域相对应的开口。
2.根据权利要求1所述的显示设备，其中，按照每单位面积，所述缓冲显示区域中的开口率或像素数大于所述正常显示区域中的开口率或像素数，并且小于所述第一显示区域中的开口率或像素数。
3.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述第二显示区域的所述正常显示区域包括所述透射区域中的第一透射区域，所述第一透射区域在彼此间隔开的两个像素组之间，并且
所述阻挡金属层包括所述开口中的第一开口，所述第一开口与所述正常显示区域的所述第一透射区域相对应。
4.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述第二显示区域的所述缓冲显示区域包括所述透射区域中的第二透射区域，所述第二透射区域在彼此间隔开的两个像素组之间，并且
所述阻挡金属层包括所述开口中的第二开口，所述第二开口与所述缓冲显示区域的所述第二透射区域相对应。
5.根据权利要求4所述的显示设备，其中，所述正常显示区域的所述第一透射区域的密度大于所述缓冲显示区域的所述第二透射区域的密度。
6.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述第二显示区域的所述缓冲显示区域包括彼此间隔开的两个像素组，并且
所述阻挡金属层包括金属材料部分，所述金属材料部分与所述缓冲显示区域的所述两个像素组之间的区域相对应。
7.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述第二显示区域中的所述第二多个像素的布置与所述第一显示区域中的所述第一多个像素的布置不同。
8.根据权利要求1所述的显示设备，其中，在平面图中，所述透射区域中的每一个具有与所述阻挡金属层的所述开口相同的形状。
9.一种显示设备，其中，所述显示设备包括：
第一显示区域，包括第一多个像素；
第二显示区域，包括透射区域和彼此间隔开的第二多个像素组；以及
阻挡金属层，包括与所述透射区域相对应的开口，
其中，所述第二显示区域包括与所述第一显示区域相邻的缓冲显示区域和与所述第一显示区域间隔开的正常显示区域，
其中，所述第一显示区域和所述缓冲显示区域的最靠近所述第一显示区域的第一像素组之间的第一距离小于所述正常显示区域中彼此相邻的第二像素组和第三像素组之间的第二距离。
10.根据权利要求9所述的显示设备，其中，所述正常显示区域包括在所述第二像素组和所述第三像素组之间的第一透射区域，并且
所述阻挡金属层包括与所述正常显示区域的所述第一透射区域相对应的第一开口。
11.根据权利要求10所述的显示设备，其中，所述阻挡金属层的所述第一开口具有第一宽度，并且所述第一宽度等于或小于所述第二距离。
12.根据权利要求11所述的显示设备，其中，所述缓冲显示区域包括具有第二宽度的第二透射区域，并且所述第二透射区域在所述第一像素组和所述第一显示区域之间。
13.根据权利要求12所述的显示设备，其中，所述阻挡金属层包括与所述第二透射区域相对应并具有第二宽度的第二开口，
其中，所述第二开口的所述第二宽度小于所述第一开口的所述第一宽度。
14.根据权利要求10所述的显示设备，其中，所述阻挡金属层包括金属材料部分，所述金属材料部分与所述第一显示区域和所述缓冲显示区域的所述第一像素组之间的区域重叠。
15.根据权利要求9所述的显示设备，其中，在平面图中，所述透射区域具有与所述阻挡金属层的与所述透射区域相对应的所述开口相同的形状。
16.一种显示设备，其中，所述显示设备包括：
第一显示区域，包括第一多个像素；和
第二显示区域，包括透射区域和彼此间隔开的第二多个像素组，
其中，所述第二显示区域包括与所述第一显示区域相邻的缓冲显示区域和与所述第一显示区域间隔开的正常显示区域，
所述第一显示区域的与所述第二显示区域相邻的像素在平面图中具有之字形配置，并且
所述缓冲显示区域的最靠近所述第一显示区域的第一像素组与所述第一显示区域以第一距离间隔开。
17.根据权利要求16所述的显示设备，其中，所述第一距离小于所述正常显示区域中彼此相邻的第二像素组和第三像素组之间的第二距离。
18.根据权利要求17所述的显示设备，其中，所述显示设备还包括阻挡金属层，所述阻挡金属层包括与所述透射区域相对应的开口。
19.根据权利要求18所述的显示设备，其中，所述正常显示区域包括在所述第二像素组和所述第三像素组之间的第一透射区域，并且
所述阻挡金属层包括与所述第一透射区域相对应的第一开口。
20.根据权利要求19所述的显示设备，其中，所述阻挡金属层的所述第一开口具有第一宽度，并且所述第一宽度等于或小于所述第二距离。
21.根据权利要求18所述的显示设备，其中，所述阻挡金属层包括与所述第一显示区域和所述第一像素组之间的区域重叠的金属材料部分。
22.根据权利要求18所述的显示设备，其中，在平面图中，所述透射区域具有与所述阻挡金属层的与所述透射区域相对应的所述开口相同的形状。
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