CN113813435A - 一种用于病房科室的医废消毒处理系统 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种用于病房科室的医废消毒处理系统，包括：真空装置，用于对医废处理仓抽真空使已粉碎医废处于真空环境；蒸汽装置，用于产生蒸汽并向医废处理仓输送蒸汽；废液处理装置，接收医废处理仓的废液并对废液进行消毒处理；控制装置，用于对真空装置、蒸汽装置和废液处理装置进行控制；所述真空装置包括真空泵、空气过滤器、压力传感器、第一管道和第二管道；所述蒸汽装置包括蒸汽发生器、第一温度传感器和蒸汽管道；所述废液处理装置包括废液罐、废液泵、第一废液管道和第二废液管道。本发明将医废残渣及医废残液分开处理，对医废进行彻底杀菌消毒，减少空气及水污染。
Description
技术领域
本发明涉及一种医疗废弃物处理技术领域，具体涉及一种用于病房科室的医废消毒处理系统。
背景技术
医疗垃圾是指医疗卫生机构在医疗、预防、保健以及其他相关活动中产生的具有直接或者间接感染性、毒性以及其他危害性的废物，医疗废物具有极强的传染性、生物毒性和腐蚀性，未经处理或处理不彻底的医疗废物任意堆放，极易造成对水体、土壤和空气的污染，对人体产生直接危害。
由于医疗废弃物的成分比较复杂，为了避免细菌病毒等有害生物的二次传播，有采取焚烧的方式进行处理，但是由于医疗废弃物除了有害微生物之外，还可能含有大量的重金属元素和其他有害元素；而目前主流处理方法，是高温高压水蒸气处理，国家政策规定要求集中处理，问题有，对医疗废弃物进行处理的同时，对产生的废气、废液不处理彻底就排放，会造成空气污染及水污染。
发明内容
为了克服上述现有技术存在的问题，本发明提供一种用于病房科室的医废消毒处理系统。
本发明的技术方案是：
一种用于病房科室的医废消毒处理系统，包括：
真空装置，用于对医废处理仓抽真空使已粉碎医废处于真空环境；
蒸汽装置，用于产生蒸汽并向医废处理仓输送蒸汽；
废液处理装置，接收医废处理仓的废液并对废液进行消毒处理；
控制装置，用于对真空装置、蒸汽装置和废液处理装置进行控制；
所述真空装置包括真空泵、空气过滤器、压力传感器、第一管道和第二管道，所述第一管道的入口端与医废处理仓的真空口连接，所述第一管道的出口端与真空泵的入口侧连接，所述真空泵的出口侧与第二管道的入口端连接，所述第二管道的出口端与空气过滤器连接；所述压力传感器设置在医废处理仓内；
所述蒸汽装置包括蒸汽发生器、第一温度传感器和蒸汽管道，所述蒸汽发生器的输出端与蒸汽管道的入口端连接，所述蒸汽管道的出口端连接医废处理仓的蒸汽入口，所述第一温度传感器设置在蒸汽管道的出口端；
所述废液处理装置包括废液罐、废液泵、第一废液管道和第二废液管道；所述废液泵的入口侧连接第一废液管道，所述第一废液管道的入口侧与医废处理仓底部的排液口连接，所述废液泵的出口侧连接第二废液管道，所述第二废液管道的出口侧与废液罐的废液入口连接；
所述控制器的输出端连接真空泵和废液泵，所述第一温度传感器与控制器的输入端连接；
所述废液罐上还设置废气出口和废液出口。
作为本发明的进一步技术方案为：所述废液罐上还设置废蒸汽入口和蒸汽排气管道，所述蒸汽排气管道的入口端与医废处理仓的排气口连接，所述蒸汽排气管道的出口端与废液罐的废蒸汽入口连接。
作为本发明的进一步技术方案为：所述废液罐的废液入口、排气口、废蒸汽入口和废液出口处均设置电磁阀。
作为本发明的进一步技术方案为：所述废液罐内部设置用于对废液进行加热的加热器和用于检测废液温度的第二温度传感器，所述加热器和第二温度传感器与控制器电连接。
作为本发明的进一步技术方案为：所述医废处理仓内抽真空并使其真空度大于等于0.08MPa。
作为本发明的进一步技术方案为：所述医废处理仓内蒸汽温度为135℃，压力不小于220KPa。
作为本发明的进一步技术方案为：所述废液罐内消毒温度不低于125℃，消毒时间不少于30min。
作为本发明的进一步技术方案为：所述空气过滤器采用疏水性介孔材料，所述空气过滤器的孔径小于等于0.2μm。
作为本发明的进一步技术方案为：所述第一管道、第二管道、蒸汽管道、第一废液管道和第二废液管道的连接处设置密封圈。
本发明的有益效果为：
本发明通过对处理仓进行抽真空及送蒸汽对医废残渣进行高温高压杀菌消毒，对于医废残液将其输送到废液罐进行高温杀菌处理，本发明将医废残渣及医废残液分开处理，对医废进行彻底杀菌消毒。通过真空装置对医废处理仓进行抽真空处理，通过蒸汽装置向医废处理仓内输送蒸汽，对医废处理仓进行高温高压处理；在废液罐上还设置蒸汽入口和蒸汽管道，所述蒸汽排气管道的入口端与医废处理仓的排气口连接，所述蒸汽排气管道的出口端与废液罐的蒸汽入口连接。通过蒸汽管道将医废处理仓的余热输送到废液罐中对废液罐进行加热，实现热能回收利用，节约资源；医废经过高温高压处理后，废液、废气通过处理达到排放标准后直接排放，减少空气污染和水污染，保护环境。
附图说明
图1为本发明提出的一种用于病房科室的医废消毒处理系统结构图；
图2为本发明提出的控制电路原理结构图；
图中所示：
10-真空装置，20-蒸汽装置，30-废液处理装置，40-控制器；50-医废处理仓；
101-真空泵，102-空气过滤器，103-压力传感器，104-第一管道，105-第二管道；
201-蒸汽发生器，202-第一温度传感器，203-蒸汽管道；
301-废液罐，302-废液泵，303-第一废液管道，304-第二废液管道；
3011-废液入口，3012-废气出口，3013-废液出口，3014-蒸汽入口，3015-蒸汽排气管道，3016-加热器，3017-第二温度传感器；
501-真空口，502-蒸汽入口，503-排液口，504-排气口。
具体实施方式
以下将结合实施例和附图对本发明的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本发明的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本发明的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本发明的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本发明保护的范围。
参见图1和图2，图1为本发明提出的一种用于病房科室的医废消毒处理系统结构图；图2为本发明提出的控制电路原理结构图；
如图1和图2所示，一种用于病房科室的医废消毒处理系统，包括：
真空装置10，用于对医废处理仓抽真空使已粉碎医废处于真空环境；
蒸汽装置20，用于产生蒸汽并向医废处理仓输送蒸汽；
废液处理装置30，接收医废处理仓的废液并对废液进行消毒处理；
控制器40，用于对真空装置、蒸汽装置和废液处理装置进行控制；
所述真空装置10包括真空泵101、空气过滤器102、压力传感器103、第一管道104和第二管道105，所述第一管道104的入口端与医废处理仓50的真空口501连接，所述第一管道104的出口端与真空泵101的入口侧连接，所述真空泵101的出口侧与第二管道105的入口端连接，所述第二管道105的出口端与空气过滤器102连接；所述压力传感器103设置在医废处理仓50内；
所述蒸汽装置20包括蒸汽发生器201、第一温度传感器202和蒸汽管道203，所述蒸汽发生器201的输出端与蒸汽管道203的入口端连接，所述蒸汽管道203的出口端连接医废处理仓50的蒸汽入口502，所述第一温度传感器202设置在蒸汽管道203的出口端。
所述废液处理装置30包括废液罐301、废液泵302、第一废液管道303和第二废液管道304；所述废液泵302的入口侧连接第一废液管道303，所述第一废液管道303的入口侧与医废处理仓50底部的排液口503连接，所述废液泵302的出口侧连接第二废液管道304，所述第二废液管道304的出口侧与废液罐301的废液入口3011连接；
所述控制器40的输出端连接真空泵101和废液泵302，所述第一温度传感器202与控制器40的输入端连接；
所述废液罐301上还设置废气出口3012和废液出口3013。
本发明实施例中，医废处理仓内为已经过粉碎的医废，医废中存在的化学药品及处理伤口的医废材料沾染的细菌等，需要进行高温高压进行杀菌消毒处理，通过对处理仓进行抽真空及送蒸汽对医废残渣进行高温高压杀菌消毒，对于医废残液将其输送到废液罐进行高温杀菌处理，本发明将医废残渣及医废残液分开处理，对医废进行彻底杀菌消毒。通过真空装置对医废处理仓进行抽真空处理，通过蒸汽装置向医废处理仓内输送蒸汽，对医废处理仓进行高温高压处理。
本发明实施例中，医废处理仓内经过蒸汽杀菌，其内部为高温蒸汽，余热如果直接排放，则造成资源的浪费，因此在废液罐201上还设置蒸汽入口3014和蒸汽排气管道3015，所述蒸汽排气管道3015的入口端与医废处理仓50的排气口504连接，所述蒸汽排气管道3015的出口端与废液罐301的蒸汽入口3014连接。通过蒸汽管道将医废处理仓的余热输送到废液罐中对废液罐进行加热，实现热能回收利用，节约资源。医废经过高温高压处理后，废液、废气通过处理达到排放标准后直接排放，减少空气污染和水污染，保护环境。
本发明实施例中，废液罐301的废液入口3011、排气口3012、废蒸汽入口3014和废液出口3013处均设置电磁阀，电磁阀连接控制器和操作按钮，通过操作按钮可以进行手动控制，也可以通过控制器设定启动指令，实现自动控制。
本发明实施例中，废液罐301内部设置用于对废液进行加热的加热器3016和用于检测废液温度的第二温度传感器3017，加热器3016和第二温度传感器3017与控制器40电连接。通过加热器对废液罐进行加热，使其达到消毒杀菌温度，通过第二温度传感器对废液罐内温度进行检测，并向控制器传送控制信号，实现温度自动控制。
本发明实施例中，空气过滤器102采用疏水性介孔材料，所述空气过滤器102的孔径小于等于0.2μm。能够满足一定的耐温要求，过滤孔径不得大于0.2μm；
本发明在具体实施过程中，对医废进行蒸汽处理前利用真空装置将处理仓抽至某一负压值，再充入高温蒸汽至某一正压值，上述过程进行两次以上形成脉动真空对医废处理仓进行高温高压杀菌。第一次抽真空时，处理仓内抽真空度一般不低于0.09MPa；脉动真空形式抽真空时处理仓内抽真空度一般不低于0.08MPa，抽真空与充蒸汽的循环过程次数不应少于3次；以保证脉动真空结束后医废处理仓内空气排出率不小于98％。医废处理仓内抽真空并使其真空度大于等于0.08MPa。废液罐内消毒温度不低于125℃，消毒时间不少于30min。
医疗废物蒸汽处理过程要求在医废处理仓内处理温度不低于135℃、压力不小于220KPa(表压)的条件下进行，相应处理时间不应少于45分钟。
在真空装置、蒸汽装置、医废处理仓和废液处理装置上安装安全阀，安全阀开启压力不应大于设备安全设计压力，并在达到设定压力时或在设备工作过程中出现故障时应能自动打开进行泄压。第一管道、第二管道、蒸汽管道、第一废液管道和第二废液管道的的连接处设置密封圈。保证管道与设备之间连接的气密性。
最后应当说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对其限制，所属领域的普通技术人员参照上述实施例依然可以对本发明的具体实施方式进行修改或者等同替换，这些未脱离本发明精神和范围的任何修改或者等同替换，均在申请待批的本发明的权利要求保护范围之内。
Claims (9)
1.一种用于病房科室的医废消毒处理系统，其特征在于，包括：
真空装置，用于对医废处理仓抽真空使已粉碎医废处于真空环境；
蒸汽装置，用于产生蒸汽并向医废处理仓输送蒸汽；
废液处理装置，接收医废处理仓的废液并对废液进行消毒处理；
控制装置，用于对真空装置、蒸汽装置和废液处理装置进行控制；
所述真空装置包括真空泵、空气过滤器、压力传感器、第一管道和第二管道，所述第一管道的入口端与医废处理仓的真空口连接，所述第一管道的出口端与真空泵的入口侧连接，所述真空泵的出口侧与第二管道的入口端连接，所述第二管道的出口端与空气过滤器连接；所述压力传感器设置在医废处理仓内；
所述蒸汽装置包括蒸汽发生器、第一温度传感器和蒸汽管道，所述蒸汽发生器的输出端与蒸汽管道的入口端连接，所述蒸汽管道的出口端连接医废处理仓的蒸汽入口，所述第一温度传感器设置在蒸汽管道的出口端；
所述废液处理装置包括废液罐、废液泵、第一废液管道和第二废液管道；所述废液泵的入口侧连接第一废液管道，所述第一废液管道的入口侧与医废处理仓底部的排液口连接，所述废液泵的出口侧连接第二废液管道，所述第二废液管道的出口侧与废液罐的废液入口连接；
所述控制器的输出端连接真空泵和废液泵，所述第一温度传感器与控制器的输入端连接；
所述废液罐上还设置废气出口和废液出口。
2.根据权利要求1所述的一种用于病房科室的医废消毒处理系统，其特征在于，所述废液罐上还设置废蒸汽入口和蒸汽排气管道，所述蒸汽排气管道的入口端与医废处理仓的排气口连接，所述蒸汽排气管道的出口端与废液罐的废蒸汽入口连接。
3.根据权利要求2所述的一种用于病房科室的医废消毒处理系统，其特征在于，所述废液罐的废液入口、排气口、废蒸汽入口和废液出口处均设置电磁阀。
4.根据权利要求1所述的一种用于病房科室的医废消毒处理系统，其特征在于，所述废液罐内部设置用于对废液进行加热的加热器和用于检测废液温度的第二温度传感器，所述加热器和第二温度传感器与控制器电连接。
5.根据权利要求1所述的一种用于病房科室的医废消毒处理系统，其特征在于，所述医废处理仓内抽真空并使其真空度大于等于0.08MPa。
6.根据权利要求1所述的一种用于病房科室的医废消毒处理系统，其特征在于，所述医废处理仓内蒸汽温度为135℃，压力不小于220KPa。
7.根据权利要求1所述的一种用于病房科室的医废消毒处理系统，其特征在于，所述废液罐内消毒温度不低于125℃，消毒时间不少于30min。
8.根据权利要求1所述的一种用于病房科室的医废消毒处理系统，其特征在于，所述空气过滤器采用疏水性介孔材料，所述空气过滤器的孔径小于等于0.2μm。
9.根据权利要求1所述的一种用于病房科室的医废消毒处理系统，其特征在于，所述第一管道、第二管道、蒸汽管道、第一废液管道和第二废液管道的的连接处设置密封圈。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20211221 |