CN113792525B - 集成电路版图设计方法、装置及设备 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种集成电路版图设计方法、装置及设备。该方法包括：获取集成电路的原始版图数据中的版图元素集合；从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合；所述目标版图元素集合满足DRC校验要求；将所述原始版图数据中的所述版图元素集合替换为所述目标版图元素集合。根据本申请实施例，能够将原始版图数据中的版图元素集合进行替换调整，并且替换后不会产生新的DRC异常，从而提升DRC校验过程中修改调整的效率。

Description

集成电路版图设计方法、装置及设备

技术领域

本申请属于集成电路设计技术领域，尤其涉及一种集成电路版图设计方法、装置及设备。

背景技术

在集成电路的设计过程中，在设计人员对电路功能进行需求分析并设计出原始版图后，需要对原始版图进行DRC（Design Rule Check，设计规则检查）校验，并根据校验的结果对原始版图数据进行调整。

现有的版图调整方式主要是人工调节，在确定原始版图中存在DRC校验异常时，需要设计人员对存在异常的版图元素进行手动调整，以使调整后的版图符合DRC校验要求。并且，设计人员对于经过DRC校验后未发生异常的部分版图元素，也需要进行调整替换，以替换为另一种结构的版图元素，并且替换后的版图元素同样需要符合DRC校验要求。然而，上述手动调整的方式需要设计人员了解DRC具体的参数及检查要求，因此调整效率较低。

发明内容

本申请实施例提供了一种集成电路版图设计方法、装置及设备，能够解决对版图元素进行手动调整的效率较低的问题。

第一方面，本申请实施例提供一种集成电路版图设计方法，方法包括：

获取集成电路的原始版图数据中的版图元素集合；

从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合；所述目标版图元素集合满足DRC校验要求；

将所述原始版图数据中的所述版图元素集合替换为所述目标版图元素集合。

在一些实施例中，所述版图元素集合包括正常版图元素集合或异常版图元素集合，所述异常版图元素集合包括未通过DRC校验的版图元素；

所述将所述原始版图数据中的所述版图元素集合替换为所述目标版图元素集合，包括：

将所述原始版图数据中的所述异常版图元素集合替换为所述目标版图元素集合。

在一些实施例中，所述集成电路版图设计方法，还包括：

生成预备模型版图元素集合；

对所述预备模型版图元素集合进行DRC校验；

将通过DRC校验的预备模型版图元素集合存储至所述模型数据库中。

在一些实施例中，所述生成预备模型版图元素集合，包括：

根据预设模型生成算法生成多个不同的预备模型版图元素集合，和/或，响应于用户触发的绘制输入指令生成对应的预备模型版图元素集合。

在一些实施例中，所述生成预备模型版图元素集合，包括：

响应于用户触发的模型参数设置指令，根据所述模型参数设置指令对应的模型参数生成多个不同的预备模型版图元素集合。

在一些实施例中，所述将通过DRC校验的预备模型版图元素集合存储至所述模型数据库中，包括：

将通过DRC校验的预备模型版图元素集合中的每个预备模型版图元素集合转换为对应的文本格式文件；

将所述文本格式文件存储至所述模型数据库中；

所述从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合，包括：

从所述模型数据库中查找到与所述异常版图元素集合对应的目标版图元素集合对应的文本格式文件；

将所述文本格式文件转换为对应的目标版图元素集合。

在一些实施例中，其特征在于，所述从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合，包括：

从模型数据库中查找与所述版图元素集合对应的多个模型版图元素集合；

从多个模型版图元素集合中选择第一模型版图元素集合；

将所述原始版图数据中的版图元素集合替换为所述第一模型版图元素集合。

在一些实施例中，所述将所述原始版图数据中的版图元素集合替换为所述第一模型版图元素集合之后，还包括：

在接收到用户触发的切换指令时，将所述原始版图数据中的所述第一模型版图元素集合替换为第二模型版图元素集合；所述第二模型版图元素集合为所述多个模型版图元素集合中未替换至所述原始版图数据中的版图元素集合。

在一些实施例中，所述在接收到用户触发的切换指令时，将所述原始版图数据中的所述第一模型版图元素集合替换为第二模型版图元素集合之后，还包括：

在所述多个模型版图元素集合中不包括第二模型版图元素集合时，返回步骤：从多个模型版图元素集合中选择第一模型版图元素集合。

在一些实施例中，所述从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合，包括：

响应于用户触发的参数设置指令，根据所述参数设置指令确定参数；所述参数包括DRC校验要求；

从所述模型数据库中获取满足所述参数的模型版图元素集合作为与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合。

在一些实施例中，所述从所述模型数据库中获取满足所述参数的模型版图元素集合作为与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合，包括：

从所述模型数据库中获取满足所述参数的多个模型版图元素集合；

分别判断每个模型版图元素集合替换所述原始版图数据中的所述版图元素集合后是否与周围的版图元素产生DRC校验异常；

在模型版图元素集合替换所述原始版图数据中的所述版图元素集合后不与周围的版图元素产生DRC校验异常时，将不与周围的版图元素产生DRC校验异常的模型版图元素集合作为所述目标版图元素集合。

在一些实施例中，所述异常版图元素集合为未通过DRC校验的复合孔或复合图形，所述正常版图元素集合为通过DRC校验的复合孔或复合图形，所述目标版图元素集合为通过DRC校验的复合孔或复合图形。

第二方面，本申请实施例提供一种集成电路版图设计装置，装置包括：

获取模块，用于获取集成电路的原始版图数据中的版图元素集合；

查询模块，用于从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合；所述目标版图元素集合满足DRC校验要求；

替换模块，用于将所述原始版图数据中的所述版图元素集合替换为所述目标版图元素集合。

第三方面，本申请实施例提供了一种集成电路版图设计设备，设备包括：处理器以及存储有计算机程序指令的存储器；

处理器执行计算机程序指令时实现如上的集成电路版图设计方法。

第四方面，本申请实施例提供了一种计算机存储介质，计算机存储介质上存储有计算机程序指令，计算机程序指令被处理器执行时实现如上的集成电路版图设计方法。

目前人们在集成电路的设计过程中，对原始版图进行DRC校验后，通常采用人工调节的方式，由设计人员手动对版图元素进行调整。基于此，本申请实施例提供的集成电路版图设计方法、装置及设备，在对原始版图数据进行DRC校验后，可以确定校验后的版图元素集合，并从模型数据库中查找到满足DRC校验要求的目标版图元素集合，将版图元素集合进行替换。并且无论替换前的版图元素集合是否存在DRC异常，替换后的目标版图元素集合中都不会产生新的DRC异常，从而提升DRC校验过程中版图元素集合的修改效率。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请一实施例提供的集成电路版图设计方法的流程示意图；

图2是本申请又一实施例提供的集成电路版图设计方法的流程示意图；

图3是本申请一实施例提供的集成电路版图设计方法中S20的细化流程示意图；

图4是本申请一实施例提供的集成电路版图设计方法的流程示意图；

图5是本申请又一实施例提供的集成电路版图设计方法的流程示意图；

图6是本申请再一实施例提供的集成电路版图设计方法的流程示意图；

图7是本申请再一实施例提供的集成电路版图设计方法的流程示意图；

图8是本申请一实施例中多个预备模型版图元素集合的界面排布示意图；

图9是本申请一实施例中异常版图元素集合的模型示意图；

图10是图9中异常版图元素集合DRC校验异常区域的示意图；

图11至图13是图10中每个异常区域的具体参数示意图；

图14和图15是与图9中异常版图元素集合不相符的预备模型版图元素集合的模型示意图；

图16是与图9中异常版图元素集合相符合的预备模型版图元素集合的模型示意图；

图17是与图9中异常版图元素集合的方向不符合的预备模型版图元素集合的模型示意图；

图18是本申请一个实施例提供的集成电路版图设计装置的结构示意图；

图19为本申请一个实施例提供的集成电路版图设计设备的结构示意图。

具体实施方式

下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本申请进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅意在解释本申请，而不是限定本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请的更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将结合附图对实施例进行详细描述。

目前集成电路的设计过程中，对原始版图进行DRC校验后通常采用人工调节的方式，由设计人员手动对存在DRC异常的版图元素进行调整。然而，在设计人员对版图元素进行调整时，调整一种DRC异常可能会导致该版图元素产生另一种DRC异常。因此，在人工调整时需要设计人员对DRC的参数要求十分了解，在调整过程中做到调整DRC异常时不会发生新的错误，因而调整效率较低。

为了解决现有技术问题，本申请实施例提供了一种集成电路版图设计方法、装置及设备。下面首先对本申请实施例所提供的集成电路版图设计方法进行介绍。

图1示出了本申请一个实施例提供的集成电路版图设计方法的流程示意图。该方法包括以下步骤：

S10，获取集成电路的原始版图数据中的版图元素集合；

S20，从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合；所述目标版图元素集合满足DRC校验要求；

S30，将所述原始版图数据中的所述版图元素集合替换为所述目标版图元素集合。

在本实施例中，集成电路可以为设计人员自行设计而成，也可以是其他人员或客户设计提供。

目前集成电路的设计需要对原始版图进行DRC（Design Rule Check，设计规则检查）校验后，根据校验信息对版图元素进行手动调整。因此，根据本申请实施例的集成电路版图设计方法、装置及设备，通过获取集成电路的原始版图数据中的版图元素集合，可以根据该版图元素集合的元素特征从模型数据库中预先存储的大量版图元素集合中查找到与该版图元素集合对应的目标版图元素集合。其中，该版图元素集合是在对原始版图数据进行DRC校验后，得到的通过DRC校验的版图元素的集合以及未通过DRC校验的版图元素的集合。由于模型数据库中存储的版图元素均已满足DRC校验要求，在确定目标版图元素集合后，将原始版图数据中的版图元素集合替换为目标版图元素集合即可实现DRC校验后的版图元素调整，并且调整后不会产生新的DRC异常，即，该替换后的目标版图元素集合内部不会产生DRC异常，且该目标换图元素在替换原始版图数据中原有的版图元素集合后，也不会与周围的其他版图元素产生新的DRC异常。通过选择目标版图元素对原始版图数据中的版图元素集合进行替换，能够提升DRC校验过程中版图元素集合的调整修改效率。

在S10中，集成电路版图设计装置可以获取该集成电路的原始版图数据以及原始版图数据中的版图元素集合。集成电路在设计完成后可以生成相应的版图数据文件，版图数据文件中包含了集成电路中的各个硬件单元在芯片上的形状、面积、尺寸和位置信息等，可使用版图EDA工具查看、验证。该版图数据文件即为集成电路的原始版图数据。原始版图数据在经过相应的应用程序或软件进行DRC校验后，能够从原始版图数据中识别出已通过DRC校验的版图元素和未通过DRC校验的版图元素，形成版图元素集合。例如，在获取到集成电路的原始版图数据后，可以对该原始版图数据进行DRC校验。该DRC校验可以是通过运行软件程序检查集成电路的原始版图数据，软件程序可以为Calibre DRC，并根据软件程序运行后得到的DRC校验结果中是否存在报错信息来确定原始版图数据中是否存在DRC异常。

在S20中，装置获取到原始版图数据以及原始版图数据中的版图元素集合后，可以得到版图元素集合中各个版图元素的特征，并根据这些版图元素的特征从模型数据库中查找到特征相同的目标版图元素集合。例如，各个版图元素的特征可以为各个版图元素的类型、形状、数量、面积以及位置信息等。需要说明的是，模型数据库中的目标版图元素集合为预先存储在模型数据库中，并且模型数据库中的目标版图元素集合均为通过DRC校验的版图元素。

模型数据库中存储有各种不同的目标版图元素集合，在装置确定版图元素集合的版图元素组成后，即可查询出相同版图元素组成的目标版图元素集合。例如，以正常版图元素集合为例，在对正常版图元素集合进行替换时，正常版图元素集合可以为两个引线孔及布线形成的一组双孔，两个引线孔及布线呈L型。根据上述版图元素特征可以从从模型数据库中查找到对应的目标版图元素集合，该目标版图元素集合与原有的正常版图元素集合的结构并不相同，但该目标版图元素集合能够实现与正常版图元素集合相同的作用。

在S30中，装置在获取到与版图元素集合对应的目标版图元素集合后，可以将原始版图数据中的版图元素集合替换为目标版图元素集合。

在版图元素集合为异常版图元素集合时，由于该异常版图元素集合和目标版图元素集合具备相同的元素特征，并且目标版图元素集合已通过DRC校验，在将异常版图元素集合进行替换后，即可使得替换后的目标版图元素集合中对应该异常版图元素集合的DRC校验异常消除。

在版图元素集合为正常版图元素集合时，虽然目标版图元素集合与该正常版图元素集合在版图元素的结构上并不相同，但替换后的目标版图元素集合能够在原始版图中实现相同或更好的作用，例如，在原始版图数据的正常版图元素集合为一组双小孔时，若从模型数据库查找到的目标版图元素集合为一组双长孔，则在采用双长孔对双小孔进行替换后，不仅能够实现原有的双小孔所能够起到的相同作用，还能够进一步实现连通性优化。并且，模型数据库中的目标版图元素集合已通过DRC校验，在将正常版图元素集合进行替换后，即可将一种通过DRC校验的正常版图元素集合替换为另一种同样通过DRC校验但结构与正常版图元素集合不同的目标版图元素集合。

作为一个可选实施例，请参照图2，上述版图元素集合包括正常版图元素集合或异常版图元素集合，异常版图元素集合包括未通过DRC校验的版图元素；在模型数据库中查找到正常版图元素集合或异常版图元素集合时，为了对上述版图元素集合进行替换，以优化性能或消除DRC异常，S10，可以包括：

S110，获取集成电路的原始版图数据中的版图元素集合，所述版图元素集合包括正常版图元素集合或异常版图元素集合；

S30，可以包括：

S130，将原始版图数据中的异常版图元素集合替换为目标版图元素集合。

在本实施例中，上述版图元素集合可以包括正常版图元素集合或异常版图元素集合。即，被目标版图元素集合进行替换的版图元素集合，既可以是正常版图元素集合，也可以是异常版图元素集合。其中，在进行DRC校验后，根据生成的每一个报错信息即可确定该报错信息在原始版图数据中对应的DRC异常的版图区域，该版图区域对应的版图元素即可组成为异常版图元素集合。通过对异常版图元素集合进行替换，能够消除原有的DRC异常。而在进行DRC校验后未发生报错信息的版图元素即可组成为正常版图元素集合。通过对正常版图元素集合进行替换，能够实现性能优化。每个异常版图元素集合或正常版图元素集合中可以包括至少一个版图元素。可以理解的是，原始版图数据中的一个异常版图元素集合中可能存在一处或多处异常，而DRC校验结果会对应产生一个或多个报错信息。

在版图元素集合包括正常版图元素集合或异常版图元素集合时，以下以异常版图元素集合的替换为例进行说明。异常版图元素集合可以为两个引线孔及布线形成的一组双孔，两个引线孔及布线呈L型。则根据上述版图元素特征可以从模型数据库中查找到对应的目标版图元素集合，该目标版图元素集合的特征同样为两个引线孔及布线呈L型的双孔。而模型数据库中引线孔数量不为两个的双孔以及布线不为L型的双孔因版图元素的特征均与异常版图元素集合的特征不相符而被过滤排除，不会被作为目标版图元素集合。

在从模型数据库中查找到对应的目标版图元素集合后，即可将原始版图数据中的异常版图元素集合替换为目标版图元素集合。由于异常版图元素集合和目标版图元素集合具备相同的元素特征，并且目标版图元素集合已通过DRC校验，在将异常版图元素集合进行替换后，即可使得替换后的目标版图元素集合中对应该异常版图元素集合的DRC校验异常消除，实现原始版图数据的DRC校验调整。

可以理解的是，若原始版图数据在DRC校验中产生多个报错信息，且对应至少两个异常版图元素集合，则装置可以对于每个异常版图元素集合从模型数据库中查找到其对应的目标版图元素集合进行替换。可以理解的是，对于一个异常版图元素集合存在多个DRC校验的报错信息时，通过将异常版图元素集合进行替换能够同时处理多个报错信息。在所有DRC校验异常的异常版图元素集合均替换完毕后，即可实现原始版图数据的DRC校验调整。

作为一个可选实施例，请参照图3，在模型数据库中查找到有多个符合元素特征的版图元素时，为了从筛选出的多个版图元素中确定目标版图元素集合，S20，可以包括：

S121，从模型数据库中查找与版图元素集合对应的多个模型版图元素集合；

S122，从多个模型版图元素集合中选择第一模型版图元素集合；

S123，将原始版图数据中的版图元素集合替换为第一模型版图元素集合。

在本实施例中，模型数据库中预先存储有多个模型版图元素集合，在版图元素集合包括正常版图元素集合或异常版图元素集合时，以下以异常版图元素元素集合为例进行说明。

在装置根据异常版图元素集合的元素特征进行查找时，可能查找到多个模型版图元素集合与异常版图元素集合的元素特征相符合，此时需要从多个模型版图元素集合中确定出目标版图元素集合，以实现异常版图元素集合的替换。

在S121中，装置可以根据异常版图元素集合的元素特征从模型数据库中查找得到多个模型版图元素集合，这些模型版图元素集合的元素特征与异常版图元素集合的元素特征均是相符合的。

在S122中，装置所查找到的多个模型版图元素集合中，可以在用户触发选择指令时，从多个模型版图元素集合中选择一个模型版图元素集合作为第一模型版图元素集合。

在S123中，装置可以根据该异常版图元素集合在原始版图数据中的相对位置确定对应的目标版图区域，并在该版图区域内将异常版图元素集合替换为第一模型版图元素集合。由于第一模型版图元素集合为模型数据库中预先存储的模型版图元素集合，而模型数据库内的模型版图元素集合均已通过DRC校验，即第一模型版图元素集合已通过DRC校验，能够作为满足DRC校验要求的目标版图元素。

可以理解的是，装置可以包括显示模块，通过显示模块的显示界面可以将异常版图元素集合替换为第一模型版图元素集合后的版图数据进行可视化显示。装置向用户显示的版图数据可以是替换后的完整版图数据，也可以是包含替换后的第一模型版图元素集合在内的部分版图区域。装置在显示版图数据时，还可以将替换后的版图数据中的第一模型版图元素集合进行差异化标记，例如调整底色、放大显示、框选处理等，以使用户能够注意到该第一模型版图元素集合。

可以理解的是，用户可以通过各种不同的触发操作向装置发送指令。例如，可以是通过装置上设置的相应指令按键触发指令；也可以是在装置的可视化界面上通过点击屏幕进行指令操作；还可以是通过操作终端设备的应用程序，使得应用程序向装置发送指令。

作为一个可选实施例，继续参照图3，在模型数据库中查找到有多个符合元素特征的版图元素时，为了装置在选择第二模型版图元素时不会选取到已经替换至原始版图数据中的异常版图元素集合，S123之后，可以包括：

S124，在接收到用户触发的切换指令时，将所述原始版图数据中的所述第一模型版图元素集合替换为第二模型版图元素集合；所述第二模型版图元素集合为所述多个模型版图元素集合中未替换至所述原始版图数据中的异常版图元素集合。

在本实施例中，装置从多个模型版图元素集合中选择第一模型版图元素集合，并对原始版图数据中的异常版图元素集合进行替换后。用户可以通过触发切换指令将该第一模型版图元素切换为多个模型版图元素集合中的第二模型版图元素集合。可以理解的是，为了避免同样的模型版图元素集合重复出现，第二模型版图元素集合可以从未替换至原始版图数据中的异常版图元素集合中进行选择。即，在选择第二模型版图元素集合时，将已经在原始版图数据中进行替换显示过的模型版图元素集合进行排除，仅在未替换过原始版图数据的模型版图元素集合中进行选取。此时，用户可以通过不断触发切换指令实现多个模型版图元素集合的依次替换，从而方便用户根据替换后的原始版图数据确认所需的模型版图元素集合。

例如，装置可以采用标记方式进行区分，在多个模型版图元素集合中，未替换至原始版图数据中的模型版图元素集合未进行标记，在装置选择某一个模型版图元素作为第一模型版图元素集合时，可以将该模型版图元素进行标记，在装置选择第二模型版图元素集合时，该第二模型版图元素集合是从未被标记的模型版图元素集合中进行选择，并且在第二模型版图元素集合替换原始版图数据中的第一模型版图元素集合时，该第二模型版图元素集合也进行标记，从而在下一次选择过程中将已替换原始版图数据的模型版图元素集合进行去除。

装置可以根据用户触发的指令进行模型版图元素集合的切换，以使用户能够对装置查找到的版图元素进行切换。装置每次在对异常版图元素集合进行替换并显示给用户时，若当前切换的模型版图元素集合不符合期望，用户可以选择继续切换至下一个模型版图元素集合。

可以理解的是，在另一实施例中，还可以采用编号方式实现模型版图元素集合的不重复切换，例如，将多个模型版图元素集合按顺序进行编号，并在接收用户触发的切换指令时，根据编号顺序选择模型版图元素集合，从而避免切换到重复的模型版图元素集合。

作为一个可选实施例，请继续参照图3，为了使得用户能够在浏览所有模型版图元素集合后，能够重新进行循环切换，S124之后，可以包括：

在所述多个模型版图元素集合中不包括第二模型版图元素集合时，返回S122，从多个模型版图元素集合中选择第一模型版图元素集合。

在本实施例中，若装置在切换过程中，多个模型版图元素集合均已替换至原始版图数据中进行显示后，则多个模型版图元素集合中不存在第二模型版图元素集合，此时表示用户已经遍历所有模型数据库中筛选出的模型版图元素集合。若用户在遍历所有模型版图元素集合后还未确定所需的目标版图元素集合，则装置可以将多个模型版图元素集合重新进行循环切换，即将多个模型版图元素重新依次替换原始版图数据中的异常版图元素集合，以使用户在重新循环替换的过程中重新选择合适的模型版图元素集合作为目标版图元素集合。

在一些实施例中，若用户在切换显示所有模型版图元素集合后，仍未能选择到合适的目标版图元素集合，还可以通过触发绘制操作进行手工绘制，以生成目标版图元素集合。用户在进行绘制时，可以是在空模板中绘制版图元素并生成相应的模板版图元素集合，也可以是从多个模型版图元素集合中选择最合适的模型版图元素集合，在该模型版图元素集合的基础上进行编辑绘制，以形成用户所需的目标版图元素集合。

需要说明的是，用户在手动绘制版图元素时，该版图元素未进行DRC校验操作。因此，用户绘制的版图元素替换掉异常版图元素集合并显示给用户替换后的版图数据后，还需要对进行DRC校验并通过后才能作为目标版图元素集合。若未能通过DRC校验，则需要将未通过校验的信息显示给用户。

在一些可选实施例中，在模型数据库中查找到多个模型版图元素集合时，还可以在页面中向用户显示多个模型版图元素集合，以供用户从中选择第一模型版图元素集合，则多个模型版图元素集合不需要在每次替换异常版图元素集合时进行标记。用户可以在多个模型版图元素集合中进行选择，以择一模型版图元素集合作为第一模型版图元素集合。例如，请参照图8，装置可以生成相应的窗口页面，并在窗口页面中对各个模型版图元素集合进行排列显示。其中，窗口页面可以对各个模型版图元素集合进行完整显示，也可以是对各个模型版图元素进行代替显示，例如不显示模型版图元素的具体特征，而是采用相应的编号或图形进行代替。用户可以通过手势操作、点击操作、拖动操作或按键操作等方式从窗口页面中选择用户指定的模型版图元素集合作为第一模型版图元素集合，并对原始版图数据中的异常版图元素集合进行替换。其中，在窗口页面中显示的各个模型版图元素集合同时显示有对应编号时，用户可以通过输入相应的编号选择对应的模型版图元素集合对异常版图元素集合进行替换，用户还可以通过触发编号切换按键对选择的模型版图元素集合进行切换，通过触发编号切换按键可以将选择的模型版图元素集合切换为相邻编号的模型版图元素集合。

作为一个可选实施例，为了生成符合DRC校验要求的版图元素并存储至模型数据库中，请参照图4，集成电路版图设计方法还可以包括：

S310，生成预备模型版图元素集合；

S320，对预备模型版图元素集合进行DRC校验；

S330，将通过DRC校验的预备模型版图元素集合存储至模型数据库中。

在本实施例中，装置可以预先生成大量满足DRC校验要求的版图元素，并存储至模型数据库中，以在对原始版图数据进行DRC校验并确定异常版图元素集合后，能够从模型数据库中查找到对应的目标版图元素集合。

在S310中，装置可以预先生成多个预备模型版图元素集合，以作为装置在查找到异常目标元素后将其进行替换的版图元素集合。

在一个可选实施例中，为了能够生成多个预备模型版图元素集合，S310，可以包括：

根据预设模型生成算法生成多个不同的预备模型版图元素集合，和/或，响应于用户触发的绘制输入指令生成对应的预备模型版图元素集合。

在本实施例中，装置可以通过预先设置的版图元素生成算法生成大量的预备模型版图元素集合，装置通过算法对各种版图元素及其形状、面积和位置信息的调整组合能够生成大量的预备模型版图元素集合。装置还可以响应用户触发的绘制输入指令，并根据绘制输入指令生成用户手动绘制的预备模型版图元素集合。

在一个可选实施例中，为了能够生成多个预备模型版图元素集合，S310，还可以包括：

响应于用户触发的模型参数设置指令，根据所述模型参数设置指令对应的模型参数生成多个不同的预备模型版图元素集合。

在本实施例中，用户还可以触发模型参数设置指令以设置模型参数，装置在响应模型参数设置指令后，可以根据用户设置的模型参数生成不同的预备模型版图元素集合。该模型参数可以为一组数值，还可以是由一组图形抽取获得的参数信息，例如获取一组图形的元素数量、类型、相对位置关系等。

可以理解的是，无论是装置通过算法或模型参数生成的预备模型版图元素集合，还是装置根据用户的的绘制输入指令生成的预备模型版图元素集合，均有可能存在不符合DRC校验要求的情形，因此需要对这些预备模型版图元素集合进行DRC校验。

在S320中，装置可以对生成的每个预备模型版图元素集合进行DRC校验。预备模型版图元素集合经过DRC校验后的结果可以为校验通过或校验不通过。

在S330中，装置可以将通过DRC校验的预备模型版图元素集合存储至模型数据库中，以保证模型数据库中所存储的预备模型版图元素集合均为已通过DRC校验的版图元素，避免将异常版图元素集合替换为目标版图元素集合后产生新的DRC校验异常。

在一个可选实施例中，请参照图5，为了实现预备模型版图元素集合的存储，S330，可以包括：

S331，将通过DRC校验的预备模型版图元素集合中的每个预备模型版图元素集合转换为对应的文本格式文件；

S332，将文本格式文件存储至模型数据库中；

在本实施例中，装置可以将通过DRC校验的预备模型版图元素集合以文本格式文件的形式存储在模型数据库中。在装置根据异常版图元素集合从模型数据库中查找到对应的预备模型版图元素集合的文本格式文件后，可以读取该文本格式文件并重新转换为对应的目标版图元素集合，以替换原始版图数据中的异常版图元素集合。

在S331中，装置在对生成的多个预备模型版图元素集合进行DRC校验并筛选出通过DRC校验的预备模型版图元素集合后，可以将每个通过DRC校验的预备模型版图元素集合转换为对应的文本格式文件。例如，文本格式文件可以是后缀为.txt的格式文件。

在S332中，装置在将通过DRC校验的预备模型版图元素集合转换为文本格式文件后，可以将该文本格式文件存储至模型数据库中。可以理解的是，装置还可以在文本格式文件中加入包含有该预备模型版图元素集合的元素特征的文本信息。

在一个可选实施例中，参见图6，为了实现预备模型版图元素集合的读取，S20，可以包括：

S126，从模型数据库中查找到与异常版图元素集合对应的文本格式文件；

S127，将文本格式文件转换为对应的目标版图元素集合。

在S126中，装置可以在确定异常版图元素集合后，得到该异常版图元素集合的元素特征。装置可以根据异常版图元素集合的元素特征在模型数据库中进行查找，根据每个模型数据库中存储的预备模型版图元素集合的文本格式文件可以判断该预备模型版图元素集合的元素特征是否与异常版图元素集合相符合。

可以理解的是，装置在查询模型数据库时，可以将异常版图元素集合的元素特征与每个文本格式文件中包含有其元素特征的文本信息进行匹配查询。从而快速确定该文本格式文件所对应的预备模型版图元素集合是否与异常版图元素集合相符合。

在S127中，装置在查找到与异常版图元素集合的元素特征相符合的预备模型版图元素集合时，可以读取其对应的文本格式文件，并将该文本格式文件转换为相应的目标版图元素集合以替换掉异常版图元素集合。

可以理解的是，用户在确定的目标版图元素集合与异常版图元素集合的元素特征相符合，并利用目标版图元素集合替换掉异常版图元素集合后，当目标版图元素集合默认的大小或方向与异常版图元素集合的大小或方向不同时，直接替换后将导致与其他原始版图数据中的版图元素产生DRC问题。此时用户可以通过手动调整目标版图元素集合的旋转角度、对目标版图元素集合进行扩张或者缩小以与异常版图元素的大小或方向一致，并与原始版图数据中其他版图元素之间不产生DRC报错。

作为一个可选实施例，为了实现异常版图元素集合的批量替换，参见图7，S20，可以包括：

S128，响应于用户触发的参数设置指令，根据参数设置指令确定参数；参数包括DRC校验要求；

S129，从模型数据库中获取满足参数的模型版图元素集合作为与版图元素集合对应的目标版图元素集合。

在本实施例中，版图元素集合可以包括正常版图元素集合或异常版图元素集合，以下以异常版图元素集合为例进行说明。

装置可以自动寻找原始版图数据中DRC校验异常的异常版图元素集合，并根据用户设置的参数从模型数据库中选择合适的模型版图元素集合作为目标版图元素集合进行替换。在异常版图元素集合的数量为多个时，能够实现异常版图元素集合的批量替换。

在S128中，用户可以触发参数设置指令以设置相应的参数，装置可以响应该参数设置指令，并得到参数。该参数可以包括DRC校验检查范围、工艺规则、优化原则、生成预备模型版图元素集合的算法类型、引线孔的特征、坐标调整范围、步进设置以及其他可选的布线特征。

在S129中，装置根据用户指定的参数可以从模型数据库中获取满足该参数的模型版图元素集合作为目标版图元素集合，并将异常版图元素集合进行替换。

可以理解的是，在参数中包括生成预备模型版图元素集合的算法类型时，装置还可以根据该算法类型重新生成大量预备模型版图元素集合，并将通过DRC校验的预备模型版图元素集合存储至模型数据库后，再根据异常版图元素集合的元素特征从模型数据库中选择目标版图元素集合。

在一个可选实施例中，为了从多个模型版图元素集合中自动选择合适的目标版图元素集合，S129，还可以包括：

S1291，从所述模型数据库中获取满足所述参数的多个模型版图元素集合；

S1292，分别判断每个模型版图元素集合替换所述原始版图数据中的所述版图元素集合后是否与周围的版图元素产生DRC校验异常；

S1293，在模型版图元素集合替换所述原始版图数据中的所述版图元素集合后不与周围的版图元素产生DRC校验异常时，将不与周围的版图元素产生DRC校验异常的模型版图元素集合作为所述目标版图元素集合。

在本实施例中，装置在从模型数据库中获取到满足参数的多个模型版图元素集合后，可以将原始版图数据中的版图元素集合依次替换为每个模型版图元素集合。在每一次替换过程中，可以对替换后的原始版图数据进行DRC校验，以判断该模型版图元素集合在替换原始版图数据中的版图元素集合后，是否会与周围的其他版图元素产生DRC校验异常。在对每个模型版图元素均进行判断后，可以将不与周围的版图元素产生DRC校验异常的模型版图元素集合作为所述目标版图元素集合。

可以理解的是，由于模型数据库中的预备模型版图元素集合均已通过DRC校验，在上述模型数据库中获取到的多个模型版图元素集合中，每个模型版图元素集合的内部均是满足DRC校验要求的。然而，可能存在某个模型版图元素，在替换原始版图数据中的版图元素集合后，会与周围的版图元素产生新的DRC校验异常。因此，在用户手动选择目标模型版图元素时，在将原始版图数据中的版图元素集合进行替换后，还需要显示是否与周围的版图元素产生新的DRC校验异常。在装置自动选择目标版图元素集合时，则选择多个模型版图元素集合中，不与周围的版图元素产生DRC校验异常的模型版图元素集合作为目标版图元素集合。

可以理解的是，若多个模型版图元素集合中，每个模型版图元素集合在替换原始版图数据后，均会与周围的版图元素产生DRC校验异常，则可以选择与周围的版图元素产生DRC异常的数量最少的模型版图元素集合作为目标版图元素集合。

在一个可选实施例中，上述版图元素集合可以为复合孔或者复合图形等元素。其中，异常版图元素集合为未通过DRC校验的复合孔或复合图形，正常版图元素集合和目标版图元素集合为通过DRC校验的复合孔或复合图形。复合孔可以是两个距离为预设阈值以内的引线孔，也可以是多个引线孔的组合。复合图形可以是一层引线孔+两层金属线、两层引线孔+两层金属线或多层穿透孔等。以下以两个距离为预设阈值以内的引线孔作为双孔模型进行说明。

在版图元素为上述双孔时，则异常版图元素集合为原始版图数据经过DRC校验后未能通过DRC校验的双孔。模型数据库中存储有多个双孔模型，在根据异常版图元素集合确定其双孔的引线孔数量以及布线类型后，可以从模型数据库中筛选出符合DRC校验要求的双孔模型作为目标版图元素集合。例如，异常版图元素集合为两个引线孔及布线呈L型的集合，则装置可以从模型数据库中筛选出同样为两个引线孔及布线呈L型的集合的预备模型版图元素集合，并将其他引线孔数量或者布线类型不同的预备模型版图元素集合进行筛除。

以双孔模型的版图元素替换为例，装置可以根据预先设置的算法或者用户手动触发的绘制指令生成多个双孔模型。装置可以生成多个双孔模型，VIA2为第一类引线孔，VIA3为第二类引线孔，M3为版图金属层。图9为原始版图数据中异常版图元素集合对应的双孔模型区域，其VIA2和VIA3的距离满足双孔阈值，组成了包含1个VIA2、1个VIA3及一段L型M3线的双孔。在对原始版图数据进行DRC校验后，如图10所示，ERROR层的三个多边形标记表示该异常版图元素集合经过DRC校验所得到的三个不满足DRC要求的报错信息对应的多边形标记区域。

参见图11至图13，图11至图13分别为图10中对应的三个多边形标记区域。图11表示双孔模型中M3层多边形的面积不满足DRC rule1要求，图12表示双孔模型中VIA3矩形边沿到M3层多边形边沿的间距分别为a和b，二者之和c的长度不满足DRC rule2要求，图13则表示双孔模型中M3层多边形的凹角一边的延长线到VIA2矩形边沿之间的间距d不满足DRCrule3要求。

装置可以根据上述双孔模型从模型数据库中选择相对应的双孔模型并显示给用户。如图14所示，装置在选择一个双孔模型展示给用户后，用户可以确定该双孔模型中VIA2的数量为两个，与原始版图数据中的双孔模型不相符。同样地，如图15所示，装置在切换至另一个双孔模型时，用户可以确定该双孔模型的布线呈一字型，与原始版图数据中的双孔模型布线呈L型不相符。用户通过触发切换操作可以从模型数据库中的多个双孔模型中筛除不符合的双孔模型，选择合适的双孔模型，以将DRC校验发生异常的双孔模型进行替换。如图16所示，装置在切换至该双孔模型后，用户可以确定该双孔模型与原始版图数据中的DRC校验发生异常的双孔模型相符合，该双孔模型即可作为目标版图元素集合，将DRC校验发生异常的双孔模型进行替换。由于模型数据库中的双孔模型均已通过DRC校验。因此，在将双孔模型进行替换后可以解决原有的双孔模型中存在的多处异常。

可以理解的是，在原有的异常双孔模型切换为模型数据库中的双孔模型后，若该双孔模型的元素特征与原有的异常双孔模型相同，但该双孔模型的大小或者方向与原有的异常双孔模型不同，则用户还可以通过手动调整双孔模型的旋转角度、对双孔模型进行扩张或者缩小以使该双孔模型与原有的异常双孔模型一致，从而与原始版图数据中的其他版图元素进行匹配。例如，请参照图17，在装置切换为该双孔模型后，用户可以确定该双孔模型中VIA2、VIA3的数量以及布线呈L型均与原有的异常双孔模型相匹配，区别在于该双孔模型的VIA3在右侧、VIA2在左侧，而原有的异常双孔模型VIA3位于左侧、VIA2位于右侧。为了使得该双孔模型能够对原有的异常双孔模型进行替换，需要对该双孔模型进行旋转，以使得旋转后的双孔模型与原有的异常双孔模型的方向一致，再对原有的异常双孔模型进行替换。

上文中结合图1至图17，详细描述了根据本申请实施例的集成电路版图设计的方法，下面将结合图18和图19，详细描述根据本申请实施例的装置和设备。

基于上述实施例提供的集成电路版图设计方法，相应地，本申请还提供了集成电路版图设计装置的具体实现方式。请参见以下实施例。

首先参见图18，本申请实施例提供的集成电路版图设计装置1800包括以下模块：

获取模块1801，用于获取集成电路的原始版图数据中的异常版图元素集合，异常版图元素集合包括未通过设计规则检查DRC校验的版图元素；

查询模块1802，用于从模型数据库中查找到与异常版图元素集合对应的目标版图元素集合；目标版图元素集合满足DRC校验要求；

替换模块1803，用于将原始版图数据中的异常版图元素集合替换为目标版图元素集合。

通过获取集成电路的原始版图数据中的异常版图元素集合，可以根据该异常版图元素集合的元素特征从模型数据库中预先存储的大量版图元素集合中查找到与该异常版图元素集合对应的目标版图元素集合。其中，该异常版图元素集合是在对原始版图数据进行DRC校验后得到的未通过DRC校验的版图元素的集合。由于模型数据库中存储的版图元素均已满足DRC校验要求，在确定目标版图元素集合后，将原始版图数据中的异常版图元素集合替换为目标版图元素集合即可实现DRC校验后的版图元素调整，并且调整后不会产生新的DRC异常，从而提升DRC校验过程中的调整修改效率。

作为本申请的一种实现方式，为了生成符合DRC校验要求的版图元素并存储至模型数据库中，上述装置还可以包括：

生成单元，用于生成预备模型版图元素集合；

第一校验单元，用于对预备模型版图元素集合进行DRC校验；

存储单元，用于将通过DRC校验的预备模型版图元素集合存储至模型数据库中。

作为本申请的一种实现方式，为了能够生成多个预备模型版图元素集合，上述生成单元可以具体包括：

第一生成子单元，根据预设模型生成算法生成多个不同的预备模型版图元素集合，和/或，响应于用户触发的绘制输入指令生成对应的预备模型版图元素集合。

作为本申请的一种实现方式，为了实现预备模型版图元素集合的存储和读取，上述存储单元，可以具体包括：

第一转换单元，用于将通过DRC校验的预备模型版图元素集合中的每个预备模型版图元素集合转换为对应的文本格式文件；

第一存储子单元，用于将文本格式文件存储至模型数据库中；

查询模块1802，可以具体包括：

第一查询子单元，用于从模型数据库中查找到与异常版图元素集合对应的文本格式文件；

第二转换单元，用于将文本格式文件转换为对应的目标版图元素集合。

作为本申请的一种实现方式，在模型数据库中查找到有多个符合元素特征的版图元素时，为了从筛选出的多个版图元素中确定目标版图元素集合，上述查询模块1802，可以具体包括：

第二查询子单元，用于从模型数据库中查找与异常版图元素集合对应的多个模型版图元素集合；

遍历单元，用于从多个模型版图元素集合中选择未被标记的模型版图元素集合作为第一模型版图元素集合；

匹配单元，用于将原始版图数据中的异常版图元素集合替换为第一模型版图元素集合；

确认单元，用于在接收到用户触发的确认指令时，确定第一模型版图元素集合为目标版图元素集合。

作为本申请的一种实现方式，在模型数据库中查找到有多个符合元素特征的版图元素时，为了使得用户能够选择满意的版图元素作为目标版图元素集合，上述查询模块1802，还可以包括：

标记单元，用于在接收到用户触发的切换指令时，将未被标记的模型版图元素集合进行标记；

切换单元，用于返回执行从多个模型版图元素集合中选择未被标记的模型版图元素集合作为第一模型版图元素集合，直至接收到用户触发的确认指令或不存在未被标记的模型版图元素集合。

作为本申请的一种实现方式，为了实现异常版图元素集合的批量替换，上述查询模块1802，还可以包括：

参数获取单元，用于响应于用户触发的参数设置指令，根据参数设置指令确定参数；参数包括DRC校验要求；

批量替换单元，用于从模型数据库中获取满足参数的模型版图元素集合作为与异常版图元素集合对应的目标版图元素集合。

本发明实施例提供的集成电路版图设计装置能够实现图1至图7的方法实施例中移动终端实现的各个过程，为避免重复，这里不再赘述。

图19示出了本申请实施例提供的集成电路版图设计设备的硬件结构示意图。

在集成电路版图设计设备可以包括处理器1901以及存储有计算机程序指令的存储器1902。

具体地，上述处理器1901可以包括中央处理器（CPU），或者特定集成电路（Application Specific Integrated Circuit ，ASIC），或者可以被配置成实施本申请实施例的一个或多个集成电路。

存储器1902可以包括用于数据或指令的大容量存储器。举例来说而非限制，存储器1902可包括硬盘驱动器（Hard Disk Drive，HDD）、软盘驱动器、闪存、光盘、磁光盘、磁带或通用串行总线（Universal Serial Bus，USB）驱动器或者两个或更多个以上这些的组合。在合适的情况下，存储器1902可包括可移除或不可移除(或固定)的介质。在合适的情况下，存储器1902可在综合网关容灾设备的内部或外部。在特定实施例中，存储器1902是非易失性固态存储器。

存储器可包括只读存储器（ROM），随机存取存储器（RAM），磁盘存储介质设备，光存储介质设备，闪存设备，电气、光学或其他物理/有形的存储器存储设备。因此，通常，存储器包括一个或多个编码有包括计算机可执行指令的软件的有形（非暂态）计算机可读存储介质（例如，存储器设备），并且当该软件被执行（例如，由一个或多个处理器）时，其可操作来执行参考根据本公开的一方面的方法所描述的操作。

处理器1901通过读取并执行存储器1902中存储的计算机程序指令，以实现上述实施例中的任意一种集成电路版图设计方法。

在一个示例中，集成电路版图设计设备还可包括通信接口1903和总线1910。其中，如图3所示，处理器1901、存储器1902、通信接口1903通过总线1910连接并完成相互间的通信。

通信接口1903，主要用于实现本申请实施例中各模块、装置、单元和/或设备之间的通信。

总线1910包括硬件、软件或两者，将集成电路版图设计设备的部件彼此耦接在一起。举例来说而非限制，总线可包括加速图形端口（AGP）或其他图形总线、增强工业标准架构（EISA）总线、前端总线（FSB）、超传输（HT）互连、工业标准架构（ISA）总线、无限带宽互连、低引脚数（LPC）总线、存储器总线、微信道架构（MCA）总线、外围组件互连（PCI）总线、PCI-Express（PCI-X）总线、串行高级技术附件（SATA）总线、视频电子标准协会局部（VLB）总线或其他合适的总线或者两个或更多个以上这些的组合。在合适的情况下，总线1910可包括一个或多个总线。尽管本申请实施例描述和示出了特定的总线，但本申请考虑任何合适的总线或互连。

该集成电路版图设计设备可以基于上述集成电路版图设计方法，从而实现结合图1至图7以及图18描述的集成电路版图设计方法和装置。

另外，结合上述实施例中的集成电路版图设计方法，本申请实施例可提供一种计算机存储介质来实现。该计算机存储介质上存储有计算机程序指令；该计算机程序指令被处理器执行时实现上述实施例中的任意一种集成电路版图设计方法。

需要明确的是，本申请并不局限于上文所描述并在图中示出的特定配置和处理。为了简明起见，这里省略了对已知方法的详细描述。在上述实施例中，描述和示出了若干具体的步骤作为示例。但是，本申请的方法过程并不限于所描述和示出的具体步骤，本领域的技术人员可以在领会本申请的精神后，作出各种改变、修改和添加，或者改变步骤之间的顺序。

以上的结构框图中所示的功能块可以实现为硬件、软件、固件或者它们的组合。当以硬件方式实现时，其可以例如是电子电路、专用集成电路（ASIC）、适当的固件、插件、功能卡等等。当以软件方式实现时，本申请的元素是被用于执行所需任务的程序或者代码段。程序或者代码段可以存储在机器可读介质中，或者通过载波中携带的数据信号在传输介质或者通信链路上传送。“机器可读介质”可以包括能够存储或传输信息的任何介质。机器可读介质的例子包括电子电路、半导体存储器设备、ROM、闪存、可擦除ROM（EROM）、软盘、CD-ROM、光盘、硬盘、光纤介质、射频（RF）链路，等等。代码段可以经由诸如因特网、内联网等的计算机网络被下载。

还需要说明的是，本申请中提及的示例性实施例，基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或系统。但是，本申请不局限于上述步骤的顺序，也就是说，可以按照实施例中提及的顺序执行步骤，也可以不同于实施例中的顺序，或者若干步骤同时执行。

上面参考根据本公开的实施例的方法、装置和计算机程序产品的流程图和/或框图描述了本公开的各方面。应当理解，流程图和/或框图中的每个方框以及流程图和/或框图中各方框的组合可以由计算机程序指令实现。这些计算机程序指令可被提供给通用计算机、专用计算机、或其它可编程数据处理装置的处理器，以产生一种机器，使得经由计算机或其它可编程数据处理装置的处理器执行的这些指令使能对流程图和/或框图的一个或多个方框中指定的功能/动作的实现。这种处理器可以是但不限于是通用处理器、专用处理器、特殊应用处理器或者现场可编程逻辑电路。还可理解，框图和/或流程图中的每个方框以及框图和/或流程图中的方框的组合，也可以由执行指定的功能或动作的专用硬件来实现，或可由专用硬件和计算机指令的组合来实现。

以上，仅为本申请的具体实施方式，所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，上述描述的系统、模块和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。应理解，本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本申请的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种集成电路版图设计方法，其特征在于，所述方法包括：

获取集成电路的原始版图数据中的版图元素集合；所述版图元素集合包括正常版图元素集合或异常版图元素集合，所述异常版图元素集合包括未通过DRC校验的版图元素；

从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合；所述目标版图元素集合满足设计规则检查DRC校验要求；

将所述原始版图数据中的所述异常版图元素集合替换为所述目标版图元素集合；所述异常版图元素集合与所述目标版图元素集合具备相同的元素特征；其中，所述相同的元素特征至少包括图形的数量一致以及图形的形状一致；

所述从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合，包括：

响应于用户触发的参数设置指令，根据所述参数设置指令确定参数；所述参数包括DRC校验要求；

从所述模型数据库中获取满足所述参数的多个模型版图元素集合；

分别判断每个模型版图元素集合替换所述原始版图数据中的所述版图元素集合后是否与周围的版图元素产生DRC校验异常；

在模型版图元素集合替换所述原始版图数据中的所述版图元素集合后不与周围的版图元素产生DRC校验异常时，将不与周围的版图元素产生DRC校验异常的模型版图元素集合作为所述目标版图元素集合。

2.根据权利要求1所述的集成电路版图设计方法，其特征在于，所述集成电路版图设计方法，还包括：

生成预备模型版图元素集合；

对所述预备模型版图元素集合进行DRC校验；

将通过DRC校验的预备模型版图元素集合存储至所述模型数据库中。

3.根据权利要求2所述的集成电路版图设计方法，其特征在于，所述生成预备模型版图元素集合，包括：

根据预设模型生成算法生成多个不同的预备模型版图元素集合，和/或，响应于用户触发的绘制输入指令生成对应的预备模型版图元素集合。

4.根据权利要求2所述的集成电路版图设计方法，其特征在于，所述生成预备模型版图元素集合，包括：

响应于用户触发的模型参数设置指令，根据所述模型参数设置指令对应的模型参数生成多个不同的预备模型版图元素集合。

5.根据权利要求2所述的集成电路版图设计方法，其特征在于，所述将通过DRC校验的预备模型版图元素集合存储至所述模型数据库中，包括：

将通过DRC校验的预备模型版图元素集合中的每个预备模型版图元素集合转换为对应的文本格式文件；

将所述文本格式文件存储至所述模型数据库中；

所述从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合，包括：

从所述模型数据库中查找到与所述异常版图元素集合对应的目标版图元素集合对应的文本格式文件；

将所述文本格式文件转换为对应的目标版图元素集合。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的集成电路版图设计方法，其特征在于，所述从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合，包括：

从模型数据库中查找与所述版图元素集合对应的多个模型版图元素集合；

从多个模型版图元素集合中选择第一模型版图元素集合；

将所述原始版图数据中的版图元素集合替换为所述第一模型版图元素集合。

7.根据权利要求6所述的集成电路版图设计方法，其特征在于，所述将所述原始版图数据中的版图元素集合替换为所述第一模型版图元素集合之后，还包括：

在接收到用户触发的切换指令时，将所述原始版图数据中的所述第一模型版图元素集合替换为第二模型版图元素集合；所述第二模型版图元素集合为所述多个模型版图元素集合中未替换至所述原始版图数据中的版图元素集合。

8.根据权利要求7所述的集成电路版图设计方法，其特征在于，所述在接收到用户触发的切换指令时，将所述原始版图数据中的所述第一模型版图元素集合替换为第二模型版图元素集合之后，还包括：

在所述多个模型版图元素集合中不包括第二模型版图元素集合时，返回步骤：从多个模型版图元素集合中选择第一模型版图元素集合。

9.根据权利要求1～5中任一项所述的集成电路版图设计方法，其特征在于，所述异常版图元素集合为未通过DRC校验的复合孔或复合图形，所述正常版图元素集合为通过DRC校验的复合孔或复合图形，所述目标版图元素集合为通过DRC校验的复合孔或复合图形。

10.一种集成电路版图设计装置，其特征在于，所述集成电路版图设计装置包括：

获取模块，用于获取集成电路的原始版图数据中的版图元素集合；所述版图元素集合包括正常版图元素集合或异常版图元素集合，所述异常版图元素集合包括未通过DRC校验的版图元素；

查询模块，用于从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合；所述目标版图元素集合满足DRC校验要求；

所述查询模块，具体用于响应于用户触发的参数设置指令，根据所述参数设置指令确定参数；所述参数包括DRC校验要求；从所述模型数据库中获取满足所述参数的多个模型版图元素集合；分别判断每个模型版图元素集合替换所述原始版图数据中的所述版图元素集合后是否与周围的版图元素产生DRC校验异常；在模型版图元素集合替换所述原始版图数据中的所述版图元素集合后不与周围的版图元素产生DRC校验异常时，将不与周围的版图元素产生DRC校验异常的模型版图元素集合作为所述目标版图元素集合；

替换模块，用于将所述原始版图数据中的所述异常版图元素集合替换为所述目标版图元素集合；所述异常版图元素集合与所述目标版图元素集合具备相同的元素特征；其中，所述相同的元素特征至少包括图形的数量一致以及图形的形状一致。

11.一种集成电路版图设计设备，其特征在于，所述集成电路版图设计设备包括：处理器以及存储有计算机程序指令的存储器；

所述处理器执行所述计算机程序指令时实现如权利要求1～9中任一项所述的集成电路版图设计方法。

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