CN113763398B - 一种版图分解处理方法和电子设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种版图分解处理方法和电子设备，方法包括以下步骤：获取版图目标图层，利用划分图形进行分解，得到若干个独立的分割区块；针对每一个分割区块确定判定边界，判定边界包括至少一个大于分割区块的外边界；对外边界内和与外边界相交的若干个版图子图形进行分类，确定与分割区块对应的版图子图形，并进行光学邻近修正，输出修正子图形；将各分割区块独立并行修正得到的修正子图形进行合并，输出修正版图。在将版图目标图层拆分成多个独立的分割区块后，在分割区块区域向外扩展出一个外边界，此外边界包括能辅助分割区块相关版图子图形修正处理的图形数据信息，每个分割区块生成独立的判定边界，提高了每个分割区块光学邻近修正的精度。

Description

一种版图分解处理方法和电子设备

技术领域

本发明属于半导体制造技术领域，尤其涉及一种版图分解处理方法和电子设备。

背景技术

随着集成电路设计的高速发展，设计复杂度不断增加，特征尺寸不断减少，光刻作为集成电路生产的最重要步骤之一，当光刻工艺波长远大于集成电路的特征尺寸时，光刻中存在的衍射、干涉造成版图转移失真，可制造性降低，因此必须对掩模上的图形做邻近效应修正，以避免在光干涉衍射及其他复杂工艺作用下，在硅片成像后图形失真。光学邻近修正就是利用光学计算对掩模版上的图形进行修改，增强分辨率，以弥补光刻机波长和所制造的芯片线宽的差距。

在计算光刻领域，光学模型往往复杂且精确，因此计算量大，校正速度慢，校正结果复杂，单机难以处理深亚微米及纳米级集成电路版图。基于模型的光学邻近修正通常将物理版图根据位置划分成若干区块，并行计算每个区块。但是在进行每个区块的修正时，由于只考虑本区块内部区域的图形，没有考虑图形之间所受到的光学散射半径影响，对于版图中各图形的处理并不完善，准确度不高，且实际版图布局布线错综复杂，具体版图图形相对于版图区块的划分和有效区域修正结果的提取，同样是版图分解处理中需要解决的重要问题。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术存在的不足，提供一种版图分解处理方法和电子设备，主要用于解决现有技术中对于版图分解处理时没有充分克服光学散射半径的影响，进而导致的版图分解不清晰、修正结果不准确、最后修正合并效果差等问题。

为了实现上述目的，第一方面，本发明提供一种版图分解处理方法，包括以下步骤：

获取版图目标图层，利用划分图形进行分解，得到若干个独立的分割区块；

针对每一个分割区块确定判定边界，所述判定边界包括至少一个大于所述分割区块的外边界；

对外边界内和与外边界相交的若干个版图子图形进行分类，确定与分割区块对应的版图子图形，并进行光学邻近修正，输出修正子图形；

将各分割区块独立并行修正得到的修正子图形进行合并，输出修正版图。

在一些实施例中，在利用判定边界对各版图子图形进行分类时，同一版图子图形可绑定在不限于一个分割区块上，所述版图子图形在不同分割区块中分别独立进行光学邻近修正。

在一些实施例中，相邻的各个所述分割区块之间边界抵接，所述分割区块相互拼接所围成的区域大于所述版图目标图层的实体区域。

在一些实施例中，在对版图子图形进行光学邻近修正时，至少包括整体保留和截取保留两个动作：

所述整体保留动作被配置为对于完全包含于特定判定边界内的版图子图形，进行整体保留；

所述截取保留动作被配置为对于同时横跨若干个特定判定边界的版图子图形，实行针对分割区块以内的部分进行截取保留。

在一些实施例中，所述判定边界从内之外依次包括第一判定边界、第二判定边界和第三判定边界，所述第三判定边界包含所述第二判定边界，所述第二判定边界包含所述第一判定边界，所述第二判定边界的大小与所述分割区块相等，相邻分割区块对应的第二判定边界之间边界抵接。

在一些实施例中，所述第一判定边界的边线与所述第二判定边界对应边线之间的直线距离，等于所述第二判定边界的边线与所述第三判定边界对应边线之间的直线距离。

在一些实施例中，所述判定边界之间的直线距离为50nm～500nm。

在一些实施例中，设定第一图形集合和第二图形集合；

将完全包含于所述第一判定边界内和与所述第一判定边界至少任意一边相交的版图子图形，归入第一图形集合内；

将同时与第一判定边界、第二判定边界至少任意一边相交且不与第三判定边界任一边相交的版图子图形，归入第一图形集合内；

将同时与第一判定边界、第三判定边界至少任意一边相交的版图子图形，归入第二图形集合内；

对于与第二判定边界至少任意一边相交且不与第一判定边界、第三判定边界任一边相交的版图子图形，以第二判定边界相交边的延长线作为分割线对所述版图子图形进行切割，并作以下判断：

所述相交边的延长线将所述版图子图形切割为两部分，定义包含有所述第二判定边界内部区域的部分为右侧图形面积，定义完全位于所述第二判定边界外部区域的部分为左侧图形面积；

1)若右侧图形面积大于左侧图形面积，则将所述版图子图形归入第一图形集合内；

2)若右侧图形面积等于左侧图形面积，对所述版图子图形与所述相交边之间的角度进行判断，并确定所述版图子图形的图形集合。

在一些实施例中，当右侧图形面积等于左侧图形面积时，具体判定如下：

所述第二判定边界包括若干条组成边，所述若干条组成边按顺时针的方向围成一闭环图形，按坐标系正X轴为基准线，确定每根组成边的向量角度，判定所述版图子图形与所述第二判定边界相交边所属组成边的向量角度，若所述向量角度在[0°～180°)之间，则将所述版图子图形归入第一图形集合内。

在一些实施例中，所述版图子图形与第二判定边界存在多于一条相交边，针对每一条相交边延长切割所形成的两部分图形面积分别进行上述判定，若不同相交边同时满足条件1或条件2，则将所述版图子图形归入第一图形集合内。

在一些实施例中，在对各分割区块对应的第一图形集合和第二图形集合进行光学邻近修正时，保留所述第一图形集合内的所有版图子图形，截取所述第二图形集合内的所有版图子图形中位于第二判定边界内的部分，将所述第一图形集合和第二图形集合内版图子图形处理后的结果合并形成对应分割区块的修正子图形。

在一些实施例中，所述划分图形与所述第二判定边界的大小相同。

在一些实施例中，所述第二判定边界为三角形、四边形、五边形或六边形中的一种。

第二方面，本发明提供一种电子设备，包括处理器和存储器，所述存储器中存储有至少一条指令、至少一段程序、代码集或指令集，所述至少一条指令、至少一段程序、代码集或指令集由所述处理器加载并执行以实现如上述版图分解处理方法。

在一些实施例中，所述处理器包括主节点和若干个并行计算节点，所述主节点分别与若干个并行计算节点连接；

所述主节点被配置为获取版图目标图层，并利用划分图形进行分解，形成若干个独立的分割区块，和最后对所述修正子图形进行合并，输出修正版图；

所述并行计算节点被配置为针对每一个分割区块确定判定边界，根据版图子图形与所述判定边界的关系，确定与分割区块对应的版图子图形，并进行光学邻近修正，输出修正子图形。

本发明的有益效果：

因此，根据本公开的实施例，在将版图目标图层拆分成多个独立的分割区块后，在分割区块的区域向外扩展出一个外边界，此外边界包括能辅助分割区块相关版图子图形修正处理的图形数据信息，每个分割区块生成独立的判定边界，提高了每个分割区块光学邻近修正的精度，降低图形修正误差，降低最后拼接的图形错位，提高半导体制造的良率。

附图说明

利用附图对本发明作进一步说明，但附图中的实施例不构成对本发明的任何限制，对于本领域的普通技术人员，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据以下附图获得其它的附图。

图1是本发明提供的一种版图分解处理方法的逻辑流程原理图。

图2是在本发明提供的一种版图分解处理方法中利用划分图形对版图目标图层进行分解后所得到分割区块的示意图。

图3是本发明提供的一种版图分解处理方法中目标区域与环境区域的示意图。

图4是在实施例1中各版图子图形与各判定边界的示意图。

图5是对图4中的P08的进一步示意。

图6是对实施例1中各版图子图形进行修正后的修正子图形的示意图。

图7是本发明提供的一种电子设备的示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

申请人研究发现：

针对目前的版图分解，在进行每个区块的修正时，由于只考虑本区块内部区域的图形，没有考虑图形之间所受到的光学散射半径影响，对于版图中各图形的处理并不完善，准确度不高，且实际版图布局布线错综复杂，具体版图图形相对于版图区块的划分和有效区域修正结果的提取，同样是版图分解处理中需要解决的重要问题。

有鉴于此，第一方面，参照图1至图3，在本发明中提供一种版图分解处理方法，包括以下步骤：

获取版图目标图层100，利用划分图形101进行分解，得到若干个独立的分割区块102；

针对每一个分割区块102确定判定边界，判定边界包括至少一个大于分割区块102的外边界，当然地，也可包括至少一个小于分割区块102的内边界，判定边界的确定可根据光学散射半径的大小而定；

对外边界内和与外边界相交的若干个版图子图形进行分类，确定与分割区块102对应的版图子图形，并进行光学邻近修正，输出修正子图形；

将各分割区块102独立并行修正得到的修正子图形进行合并，输出修正版图。

需要说明的是，集成电路版图包含多层，例如金属布线层、通孔层、有源层等，每一种上述的图层需要进行映射掩膜，因此都可进行本发明的版图分解处理，以进行对应的光学邻近修正，在处理之初，利用划分图形101进行分解，分割成若干个分割区块102，每个分割区块102相对独立，由于在版图目标图层100中分布着多个版图子图形，在划分图形101的分割下，同一个版图子图形有可能处于一个分割区块102中，也可能横跨多个分割区块102，且由于光学散射半径的影响，为了提高每个分割区块102光学邻近修正的精度，因此每个分割区块102会生成对应的判定边界，这个判定边界可由多个边界组成，其中就包括至少一个大于分割区块102的外边界，相当于分割区块102为目标区域301，这个外边界为环境区域302，对于分割区块102的目标区域301，为修正后需要保留的区域，对于外边界的环境区域302，则作为辅助计算的，因为外边界包括能辅助分割区块102相关版图子图形修正处理的图形数据信息，在综合了目标区域301的图形数据信息和环境区域302的图形数据信息后，对版图子图形进行分类，确定具体版图子图形与分割区块102之间的关系，当归属关系确定好后，即可并行地对每一个分割区块102对应的版图子图形进行光学邻近修正，各分割区块102独立处理，互不干扰，对应地输出修正子图形，修正子图形保留了绝大数分割区块102的完整修正图案，避免切割边界附近的版图子图形修正结果在不同分割区块102合成，可以减少修正结果合并后的掩膜数据错误，最后将各修正子图形进行合并，输出修正版图，有效的图形分解与数据合并方法提高了每个分割区块102光学邻近修正的精度，降低了图形修正误差，降低分割区块102拼接造成图形错位，提高半导体制造的良率。

作为一种实施方式，在利用判定边界对各版图子图形进行分类时，由于一个版图子图形可能同时处于多个分割区块102及其对应的判定边界上，所以同一版图子图形可绑定在不限于一个分割区块102上，版图子图形在不同分割区块102中分别独立进行光学邻近修正，需要注意的是，在分类时，一个版图子图形归到一个分割区块102中，对于计算最有利，但是针对特殊情况，对于跨度大的版图子图形，则可绑定在多个分割区块102中，由于每个分割区块102都是单独处理的，可提高处理效率。

作为一种实施方式，为了全面覆盖版图目标图层100的所有领域，相邻的各个分割区块102之间边界抵接，分割区块102相互拼接所围成的区域大于版图目标图层100的实体区域，分割区块102之间没有缝隙，边抵着边，所围成的区域包含了所有的版图目标图层100，保证版图目标图层100上的所有版图子图形都能落在分割区块102中。

在本实施例中，在对版图子图形进行光学邻近修正时，至少包括整体保留和截取保留两个动作：

整体保留动作被配置为对于完全包含于特定判定边界内的版图子图形，进行整体保留；

截取保留动作被配置为对于同时横跨若干个特定判定边界的版图子图形，实行针对分割区块102以内的部分进行截取保留。

需要说明的是，在确定好每个并行处理的分割区块102及其所绑定的版图子图形后，由于此时的版图子图形既有位于目标区域301内的图形数据信息，又有处于环境区域302内的图形数据信息，所以针对于已经完全包含于特定判定边界内的版图子图形，由于其已经与本分割区块102形成强相关的关系，则可以整体保留；但是对于同时横跨若干个特定判定边界的版图子图形，由于其在多个分割区块102中都有较强的关系，将其完全归到任何一个分割区块102中都会产生较大误差，因此将这一版图子图形切割成若干个，以对应不同的分割区块102，每一个分割区块102针对所截取保留的那部分版图子图形进行独立的光学邻近修正。

结合图4，优选地，判定边界从内之外依次包括第一判定边界201、第二判定边界202和第三判定边界203，第三判定边界203包含第二判定边界202，第二判定边界202包含第一判定边界201，一共三层边界，其各个边界的边线互不重叠，第二判定边界202的大小与分割区块102相等，相邻分割区块102对应的第二判定边界202之间边界抵接，需要注意的是，在最开始利用划分图形101进行分解时，所形成的分割区块102用来分类各个版图子图形，在将版图子图形对应到每一个分割区块102后，进入到并行处理的阶段，再进行判定边界的确定，此时将第二判定边界202的大小设定为与分割区块102相等，同样地第二判定边界202与划分图形101的大小相同，而第三判定边界203比第二判定边界202大，为外边界，主要有利于提取环境区域302内的图形数据信息进行辅助计算；第一判定边界201比第二判定边界202小，为内边界，主要包含有目标区域301内的图形数据信息。

作为一种实施方式，第一判定边界201的边线与第二判定边界202对应边线之间的直线距离，等于第二判定边界202的边线与第三判定边界203对应边线之间的直线距离；优选地，判定边界之间的直线距离为50nm～500nm。需要注意的是，将各个判定边界设定为等距，进一步规定了每个判定边界的形状一致，只是大小有差别，例如判定边界可以为三角形、四边形、五边形或六边形中的一种，则每个判定边界的形状都同为一个规则图形，从内而外地相隔50nm～500nm，其中边界之间直线距离的取值是根据版图特征尺寸来决定的，光学邻近修正技术通过预先修正设计版图，补偿光刻过程中图形的转移失真。其中基于模型的光学邻近修正技术，在特征尺寸为130nm及以下的工艺节点，被广泛应用和发展。一个特定工艺的特征尺寸代表该工艺里允许的最小线宽和间距范围。特征尺寸越小，版图越密集，所需要的判定边界之间的直线距离越小，因此在此工艺技术背景下，将边界之间直线距离控制在50nm～500nm之间，能满足大部分版图特征尺寸，尤其在100nm的取值下，能兼顾分析的精准度和计算工作量，达到良好的处理效果。

实施例1：

参考图4至6，在具体进行各分割区块对应版图子图形的光学邻近修正时，先设定第一图形集合和第二图形集合，其中对第一图形集合执行整体保留动作，对第二图形集合执行截取保留动作，其中版图子图形包括P01、P02、P03、P04、P05、P06、P07、P08和P09，更具体地：

将完全包含于第一判定边界201内的版图子图形和与第一判定边界201至少任意一边相交，归入第一图形集合内，即这一部分的版图子图形要么完全在第一判定边界201内，例如P07，要么与第一判定边界201至少任意一边相交，也就是完全在第二判定边界202内，例如P09，属于完全在目标区域内的图形，因此整体保留；

将同时与第一判定边界201、第二判定边界202至少任意一边相交且不与第三判定边界203任一边相交的版图子图形，归入第一图形集合内，即这一部分的版图子图形完全在第三判定边界203内，同时与第一判定边界201、第二判定边界202相交，可以相交一条边，也可以相交多条边，既包含了位于第一判定边界201内的目标图形数据信息，也包含了位于第三判定边界203与第二判定边界202之间的环境图形数据信息，对于这部分版图子图形归入第一图形集合内，也整体保留，例如P03；

将同时与第一判定边界201、第三判定边界203至少任意一边相交的版图子图形，归入第二图形集合内，这类版图子图形同时横跨了第一判定边界201、第二判定边界202和第三判定边界203，既处于本分割区块的目标区域，也处于相邻分割区块的目标区域，因此需要将其放于第二图形集合内，执行截取保留动作，例如P01；

对于与第二判定边界202至少任意一边相交且不与第一判定边界201、第三判定边界203任一边相交的版图子图形，这部分版图子图形同时处于两个或者多个分割区块的第二判定边界202中，例如P04、P05、P08，需对其归属进行判断，因此，以第二判定边界202相交边204的延长线作为分割线对版图子图形进行切割，并作以下判断：

首先作以下设定，相交边204的延长线将版图子图形切割为两部分，定义包含有第二判定边界202内部区域的部分为右侧图形面积，定义完全位于第二判定边界202外部区域的部分为左侧图形面积，由于版图子图形可以为不规则图形，也可以为规则图形，但是无论哪种图形，只要经过一条直线的切割，都只会形成两大部分，分别位于此直线的两侧，需要注意的是，同处于直线一侧的图形，可以是一个整体图形，也可以是多个零散图形的集合，由于本直线是相交边204，也就是第二判定边界202的一条组成边，所以必定有一侧图形是包含有第二判定边界202的内部区域，而另一侧图形则完全位于第二判定边界202的外部区域，分别定义为右侧图形和左侧图形；

1)若右侧图形面积大于左侧图形面积，例如P05，即相对于其他的分割区块，此版图子图形更多面积是处于本分割区块中的，则将版图子图形归入第一图形集合内，予以整体保留；

2)若右侧图形面积等于左侧图形面积，例如P04、P08，对版图子图形与相交边204之间的角度进行判断，并确定版图子图形的图形集合。

需要说明的是，对于当前分割区块而言划分为左侧图形的部分，在相邻分割区块上则为右侧图形，所以针对条件1，作为其相对的情况，如果左侧图形面积大于右侧图形面积，则版图子图形不能归为本分割区块的第一图形集合内，而要归为包含了共同相交边204的相邻分割区块的第一图形集合内。

作为一种实施方式，当右侧图形面积等于左侧图形面积时，具体判定如下：

第二判定边界202包括若干条组成边，若干条组成边按顺时针的方向围成一闭环图形，每一条组成边按照顺时针的方向可理解为一个向量，按坐标系正X轴为基准线，确定每根组成边的向量角度，判定版图子图形与第二判定边界202相交边204所属组成边的向量角度，若向量角度在[0°～180°)之间，则将版图子图形归入第一图形集合内，对于P04的情况，由于其相交边204向量角度为180度，则不能归入到当前分割区块的第一图形集合内。

需要说明的是，以第二判定边界202为正四边形为例，顶部的水平直线向量角度为0°，左侧的垂直直线向量角度为90°，底部的水平直线向量角度为180°，右侧的垂直直线向量角度为270°，当一个版图子图形被相交边204平分面积后，需要对其与第二判定边界202相交边204所属组成边的向量角度进行判定，由于此版图子图形同时处于同样包含此组成边的两个相邻第二判定边界202上，但是不同第二判定边界202的这一组成边方向相反，即其向量角度相加永远等于360°，因此可以将180°作为一个分界点，若向量角度在[0°～180°)之间，则将版图子图形归入第一图形集合内，与此同时，这一版图子图形在相邻的第二判定边界202上，其向量角度则为[180°～360°)之间，不符合相邻分割区块的第一图形集合判定条件，因此同一版图子图形不会重复统计到不同分割区块对应的第一图形集合中。

另外地，版图子图形与第二判定边界202存在多于一条相交边204，即不止有一条相交边204的情况下，针对每一条相交边204延长切割所形成的两部分图形面积分别进行上述判定，每一条相交边204的判断结果都会有两个，即条件1是否满足和条件2是否满足，若不同相交边同时满足条件1或条件2，即第一条相交边满足条件1或2可归入第一图形集合的情况，同时第二条相交边204满足条件1或2可归入第一图形集合的情况，则可将版图子图形归入第一图形集合内，如果第一条相交边满足条件1，第二条相交边不满足条件1和2，则不能归入第一图形集合内。

结合图5，图5中的四个第二判定边界202均为正四边形，且相邻边界之间无缝隙，图中的间隙只为了方便区分直线方向，不代表真实间隙；举个实施例，如一个版图子图形为正方形，例如P08，同时交四个第二判定边界202各两条相交边204，处于每一个第二判定边界202中的部分面积相等，此时则落入到条件2的判断中，只有在同一第二判定边界202中的两条相交边204所属组成边的向量角度在[0°～180°)之间，才能归到其对应的第一图形集合中，对于左下角的第二判定边界202，其两条相交边204的向量角度为0°和270°；对于左上角的第二判定边界202，其两条相交边204的向量角度为270°和180°；对于右上角的第二判定边界202，其两条相交边204的向量角度为180°和90°；对于右下角的第二判定边界202，其两条相交边204的向量角度为90°和0°，因此这一版图子图形将归入到右下角的第二判定边界202对应的第一图形集合中。

在本实施例中，在对各分割区块对应的第一图形集合和第二图形集合进行光学邻近修正时，保留第一图形集合内的所有版图子图形，截取第二图形集合内的所有版图子图形中位于第二判定边界202内的部分，将第一图形集合和第二图形集合内版图子图形处理后的结果合并形成对应分割区块的修正子图形；第一图形集合S0＝{P03，P05，P07，P08，P09}，第二图形集合S1＝{P01}，其中对于P03、P05、P07、P08、P09全部予以保留，P01则截取了在第二判定边界202内的部分，在修正后相对应地变成C01、C03、C05、C07、C08、C09，如版图子图形P08，由于其横跨多个分割区块的第二判定边界，每一个分割区块的归属判定其都参与，但最后只分类到右下角的分割区块中；进一步说明的是，在充分考虑环境区域因素的情况下，对于分割区块的目标区域内的版图子图形尽可能的保留，对于包含有环境区域的部分版图子图形则根据上述条件进行划分，使得每一个版图子图形都能精准归类到对应的分割区块，有利于后续的修正处理，减小修正合并误差。

第二方面，参照图7，在本发明中还提供一种电子设备，包括处理器和存储器402，存储器402中存储有至少一条指令、至少一段程序、代码集或指令集，至少一条指令、至少一段程序、代码集或指令集由处理器加载并执行以实现如上述实施例中的版图分解处理方法。

在本实施例中，处理器包括主节点401和若干个并行计算节点403，主节点401分别与若干个并行计算节点403连接；

主节点401被配置为获取版图目标图层，并利用划分图形进行分解，形成若干个独立的分割区块，和最后对修正子图形进行合并，输出修正版图；

并行计算节点403被配置为针对每一个分割区块确定判定边界，根据版图子图形与判定边界的关系，确定与分割区块对应的版图子图形，并进行光学邻近修正，输出修正子图形。

需要说明的是，一个主节点401对应连接多个并行计算节点403，同时也与存储器402连接，节点之间通过高速总线或网络互连，主节点401负责版图目标图层层面的计算，当拆分成若干个独立的分割区块后，则由并行计算节点403对每一个分割区块进行并向计算，各个计算节点403同时处理，得到对应的修正子图形，然后主节点401再对修正子图形进行合并，输出修正版图；同时地，存储器402用于存储集成电路版图数据，修正结果以及指令程序等必要信息数据。

上述实施例阐明的系统、装置、模块或单元，具体可以由计算机芯片或实体实现，或者由具有某种功能的产品来实现。一种典型的实现设备为计算机，计算机的具体形式可以是个人计算机、膝上型计算机、蜂窝电话、相机电话、智能电话、个人数字助理、媒体播放器、导航设备、电子邮件收发设备、游戏控制台、平板计算机、可穿戴设备或者这些设备中的任意几种设备的组合。

在一个典型的配置中，计算机包括一个或多个处理器(CPU)、输入/输出接口、网络接口和内存。

内存可能包括计算机可读介质中的非永久性存储器，随机存取存储器(RAM)和/或非易失性内存等形式，如只读存储器(ROM)或闪存(flash RAM)。内存是计算机可读介质的示例。

计算机可读介质包括永久性和非永久性、可移动和非可移动媒体可以由任何方法或技术来实现信息存储。信息可以是计算机可读指令、数据结构、程序的模块或其他数据。计算机的存储介质的例子包括，但不限于相变内存(PRAM)、静态随机存取存储器(SRAM)、动态随机存取存储器(DRAM)、其他类型的随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、电可擦除可编程只读存储器(EEPROM)、快闪记忆体或其他内存技术、只读光盘只读存储器(CD-ROM)、数字多功能光盘(DVD)或其他光学存储、磁盒式磁带、磁盘存储、量子存储器、基于石墨烯的存储介质或其他磁性存储设备或任何其他非传输介质，可用于存储可以被计算设备访问的信息。按照本文中的界定，计算机可读介质不包括暂存电脑可读媒体(transitory media)，如调制的数据信号和载波。

相对于现有技术，本发明提供的一种版图分解处理方法和电子设备，在将版图目标图层100拆分成多个独立的分割区块102后，在分割区块102的区域向外扩展出一个外边界，此外边界包括能辅助分割区块相关版图子图形修正处理的图形数据信息，每个分割区块生成独立的判定边界，提高了每个分割区块光学邻近修正的精度，降低图形修正误差，降低最后拼接的图形错位，提高半导体制造的良率。

最后需要强调的是，本发明不限于上述实施方式，以上仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (14)

1.一种版图分解处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

获取版图目标图层，利用划分图形进行分解，得到若干个独立的分割区块；

针对每一个分割区块确定判定边界，所述判定边界包括至少一个大于所述分割区块的外边界；

对外边界内和与外边界相交的若干个版图子图形进行分类，确定与分割区块对应的版图子图形，并进行光学邻近修正，输出修正子图形；

将各分割区块独立并行修正得到的修正子图形进行合并，输出修正版图；

其中，所述判定边界从内至外依次包括第一判定边界、第二判定边界和第三判定边界；

设定第一图形集合和第二图形集合；

将完全包含于所述第一判定边界内和只与所述第一判定边界至少任意一边相交的版图子图形，归入第一图形集合内；

将同时与第一判定边界、第二判定边界至少任意一边相交且不与第三判定边界任一边相交的版图子图形，归入第一图形集合内；

将同时与第一判定边界、第三判定边界至少任意一边相交的版图子图形，归入第二图形集合内；

对于与第二判定边界至少任意一边相交且不与第一判定边界、第三判定边界任一边相交的版图子图形，以第二判定边界相交边的延长线作为分割线对所述版图子图形进行切割，并作以下判断：

所述相交边的延长线将所述版图子图形切割为两部分，定义包含有所述第二判定边界内部区域的部分为右侧图形面积，定义完全位于所述第二判定边界外部区域的部分为左侧图形面积；

1)若右侧图形面积大于左侧图形面积，则将所述版图子图形归入第一图形集合内；

2)若右侧图形面积等于左侧图形面积，对所述版图子图形与所述相交边之间的角度进行判断，并确定所述版图子图形的图形集合。

2.如权利要求1所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，

在利用判定边界对各版图子图形进行分类时，同一版图子图形可绑定在不限于一个分割区块上，所述版图子图形在不同分割区块中分别独立进行光学邻近修正。

3.如权利要求2所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，

相邻的各个所述分割区块之间边界抵接，所述分割区块相互拼接所围成的区域大于所述版图目标图层的实体区域。

4.如权利要求3所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，

在对版图子图形进行光学邻近修正时，至少包括整体保留和截取保留两个动作：

所述整体保留动作被配置为对于完全包含于特定判定边界内的版图子图形，进行整体保留；

所述截取保留动作被配置为对于同时横跨若干个特定判定边界的版图子图形，实行针对分割区块以内的部分进行截取保留。

5.如权利要求4所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，

所述第三判定边界包含所述第二判定边界，所述第二判定边界包含所述第一判定边界，所述第二判定边界的大小与所述分割区块相等，相邻分割区块对应的第二判定边界之间边界抵接。

6.如权利要求5所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，

所述第一判定边界的边线与所述第二判定边界对应边线之间的直线距离，等于所述第二判定边界的边线与所述第三判定边界对应边线之间的直线距离。

7.如权利要求6所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，所述判定边界之间的直线距离为50nm～500nm。

8.如权利要求7所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，当右侧图形面积等于左侧图形面积时，具体判定如下：

所述第二判定边界包括若干条组成边，所述若干条组成边按顺时针的方向围成一闭环图形，按坐标系正X轴为基准线，确定每根组成边的向量角度，判定所述版图子图形与所述第二判定边界相交边所属组成边的向量角度，若所述向量角度在[0°～180°)之间，则将所述版图子图形归入第一图形集合内。

9.如权利要求8所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，所述版图子图形与第二判定边界存在多于一条相交边，针对每一条相交边延长切割所形成的两部分图形面积分别进行上述判定，若针对不同相交边的判定结果均满足归入第一图形集合的情况时，则将所述版图子图形归入第一图形集合内。

10.如权利要求8所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，在对各分割区块对应的第一图形集合和第二图形集合进行光学邻近修正时，保留所述第一图形集合内的所有版图子图形，截取所述第二图形集合内的所有版图子图形中位于第二判定边界内的部分，将所述第一图形集合和第二图形集合内版图子图形处理后的结果合并形成对应分割区块的修正子图形。

11.如权利要求7所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，

所述划分图形与所述第二判定边界的大小相同。

12.如权利要求8所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，所述第二判定边界为三角形、四边形、五边形或六边形中的一种。

13.一种电子设备，其特征在于，包括处理器和存储器，所述存储器中存储有至少一条指令、至少一段程序、代码集或指令集，所述至少一条指令、至少一段程序、代码集或指令集由所述处理器加载并执行以实现如权利要求1至12任一项所述的版图分解处理方法。

14.如权利要求13所述的一种电子设备，其特征在于，所述处理器包括主节点和若干个并行计算节点，所述主节点分别与若干个并行计算节点连接；

所述主节点被配置为获取版图目标图层，并利用划分图形进行分解，形成若干个独立的分割区块，和最后对所述修正子图形进行合并，输出修正版图；

所述并行计算节点被配置为针对每一个分割区块确定判定边界，根据版图子图形与所述判定边界的关系，确定与分割区块对应的版图子图形，并进行光学邻近修正，输出修正子图形。

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