CN113759613A - 显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置 - Google Patents

显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置，所述显示面板包括第一基板和与所述第一基板对盒设置的第二基板，所述第一基板和所述第二基板具有相对设置的像素；所述方法包括：获得预先划分的所述像素的M个曝光区；基于N个曝光区的预设配向力方向，对所述第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L对应的曝光区的预设配向力方向，对所述第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向，使显示面板在两个像素长边上产生不完整的暗线，这样，像素长边方向上的暗线相加后，相当于在像素长边方向上只具有一条暗线，从而降低了暗线的占比，提高了显示器的透过率。

Description

显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置
技术领域
本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置。
背景技术
液晶显示面板的通常是由一彩膜(Color Filter，CF)基板、一薄膜晶体管(ThinFilm Transistor，TFT)基板以及一配置于两基板间的液晶层所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。
通常情况下，可以采用紫外线垂直对齐(Ultra Violet Vertical Alignment，UV2A)配向工艺对CF基板的配向膜和TFT基板的配向膜进行配向。目前，UV2A光配向工艺通常将TFT基板中单个像素分成沿像素短边方向的2个区，，将CF基板中单个像素分成沿像素长边方向的2个区，从而形成4个区，单个像素对应的TFT基板与CF基板呈90°角度分别进行2次曝光，单个像素暗线呈“卍”形，该形状下像素长边方向上具有2条暗线，会使得所有暗线相加后，暗线长度相对较差，降低了显示器的透过率。
因此，如何降低暗线占比，提高显示器的透过率，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明的主要目的是提供一种显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置，以降低暗线占比，提高显示器的透过率。
针对上述问题，本发明提供了一种显示面板的光配向方法，所述显示面板包括第一基板和与所述第一基板对盒设置的第二基板，所述第一基板和所述第二基板具有相对设置的像素；所述方法包括：
获得预先划分的所述像素的M个曝光区；其中，M个曝光区为沿像素长边方向划分得到；
基于N个曝光区的预设配向力方向，对所述第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L个曝光区的预设配向力方向，对所述第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；
其中，所述L和所述N均小于或等于所述M，所述L与所述N的和大于或等于所述M，所述L与所述N的和小于或等于2M，所述像素中相邻两个曝光区的预设配向力方向之间互不平行。
进一步地，上述所述的显示面板的光配向方法中，所述第一基板上设置有第一电极；
基于N个曝光区的预设配向力方向，对所述第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L个曝光区的预设配向力方向，对所述第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向之前，还包括：
在所述M个曝光区对应的第一电极上设置多个第一狭缝；
所述第一狭缝与所述像素中对应的曝光区的预设配向力方向平行。
进一步地，上述所述的显示面板的光配向方法中，至少两个相邻的曝光区对应的第一狭缝之间相互连通。
进一步地，上述所述的显示面板的光配向方法中，所述第二基板上设置有第二电极；
基于N个曝光区的预设配向力方向，对所述第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L个曝光区的预设配向力方向，对所述第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向之前，还包括：
在所述M个曝光区对应的第二电极上设置多个第二狭缝；
所述第二狭缝与所述像素中对应的曝光区的预设配向力方向平行。
进一步地，上述所述的显示面板的光配向方法中，至少两个相邻的曝光区对应的第二狭缝之间相互连通。
进一步地，上述所述的显示面板的光配向方法中，所述第一基板上设置有第一电极；所述第二基板上设置有第二电极；
基于N个曝光区的预设配向力方向，对所述第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L个曝光区的预设配向力方向，对所述第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向之前，还包括：
在N个曝光区对应的第一电极上设置多个第一狭缝；
在L个曝光区对应的第二电极上设置多个第二狭缝；
所述第一狭缝与所述像素中对应的曝光区的预设配向力方向平行；
所述第二狭缝与所述像素中对应的曝光区的预设配向力方向平行。
进一步地，上述所述的显示面板的光配向方法中，所述N大于等于2，且所述N个曝光区依次相邻，至少两个相邻的曝光区对应的第一狭缝之间相互连通；
所述L大于等于2；且所述L个曝光区依次相邻，至少两个相邻的曝光区对应的第二狭缝之间相互连通。
进一步地，上述所述的显示面板的光配向方法中，相邻两个曝光区的预设配向力方向相互垂直。
本发明还提供了一种显示面板，包括第一基板和与所述第一基板对盒设置的第二基板；
所述显示面板中的第一基板的配向膜和第二基板的配向膜采用如上任一项所述的显示面板的光配向方法进行配向。
本发明还提供了一种显示装置，包括如上所述的的显示面板。
与现有技术相比，上述方案中的一个或多个实施例可以具有如下优点或有益效果：
本发明的显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置，通过获得预先划分的沿像素长边方向排列的M个曝光区，以使单个像素形成“目”字型曝光区域，并基于N个曝光区的预设配向力方向，对所述第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L个曝光区的预设配向力方向，对所述第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向，使显示面板在两个像素长边上产生不完整的暗线，这样，像素长边方向上的暗线相加后，相当于在像素长边方向上只具有一条暗线，从而降低了暗线的占比，提高了显示器的透过率。
本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且部分地调节说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例共同用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1为相关技术中UV2A配向曝光方式对TFT基板和CF基板进行曝光配向的一种状态示意图；
图2为本发明的显示面板的光配向方法实施例的流程图；
图3为紫外光经过WGP后照射得到不同方向的光照的示意图；
图4为TFT基板像素曝光示意图；
图5为CF基板像素曝光示意图；
图6为TFT基板和CF基板曝光贴合形成显示面板的示意图；
图7为图6的暗线示意图；
图8为图7所示暗线形状的多种组合曝光方案的示意图；
图9为TFT基板和CF基板曝光贴合形成显示面板的另一种暗线形状的示意图；
图10为图9所示暗线形状的多种组合曝光方案的示意图；
图11为TFT基板和CF基板曝光贴合形成显示面板的再一种暗线形状的示意图；
图12为图11所示暗线形状的多种组合曝光方案的示意图；
图13为TFT基板和CF基板曝光贴合形成显示面板的又一种暗线形状的示意图；
图14为图13所示暗线形状的多种组合曝光方案的示意图；
图15为在第一电极设置第一狭缝和/或第二电极设置第二狭缝的多种方案示意图。
具体实施方式
以下将结合附图及实施例来详细说明本发明的实施方式，借此对本发明如何应用技术手段来解决技术问题，并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是，只要不构成冲突，本发明中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合，所形成的技术方案均在本发明的保护范围之内。
图1为相关技术中UV2A配向曝光方式对TFT基板和CF基板进行曝光配向的一种状态示意图，如图1所示TFT基板10被分为沿像素短边排列的两个曝光区，CF基板20被分为沿像素长边排列的两个曝光区，分别对TFT基板10和CF基板20进行两次曝光，并贴合后，得到贴合后的显示面板30，其产生的暗线如粗实线，暗线的形状呈“卍”形，该形状相当于像素长边方向上具有2条暗线，会使得所有暗线相加后，暗线长度相对较差，降低了显示器的透过率。在该方案中，该像素尺寸为Size＝a*1/3a，无遮挡状态下，UV2A配向曝光方式中暗线长度计算为：1/6*a+1/6*a+1/3*a+2*a＝8/3*a。
因此，为了解决上述技术问题，本发明提供了以下实施例。
实施例一
图2为本发明的显示面板的光配向方法实施例的流程图，其中，该显示面板包括第一基板和与第一基板对盒设置的第二基板，第一基板和第二基板具有相对设置的像素。如图2所示，本实施例的显示面板的光配向方法具体可以包括如下步骤：
步骤200、获得预先划分的像素的M个曝光区；
在一个具体实现过程中，可以沿像素长边方向对该单个像素进行划分，得到单个像素的M个曝光区，这样，单个像素中间不再存在与像素长边方向的中间线，相对于UV2A的划分方式，只存在两条像素长边，整个曝光区整体可以看作一个“目”字型。
步骤201、基于N个曝光区的预设配向力方向，对第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L个曝光区的预设配向力方向，对第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向。
在一个具体实现过程中，可以分别对第一基板上的配向膜和第二基板上的配向膜进行曝光配向。具体地，可以基于N个曝光区的预设配向力方向，对第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L个曝光区的预设配向力方向，对第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向。其中，L和N均小于或等于M，L与N的和大于或等于M，L与N的和小于或等于2M。相邻两个曝光区的预设配向力方向相互垂直。每个曝光区的预设配向力方向与水平方向呈45°或135°。
在一个具体实现过程中，单个像素中相邻两个曝光区的预设配向力方向之间互不平行，这样，单个像素中相邻两个曝光区对应的液晶分子再转向时，产生的暗线，分别分布在两个像素长边上，这样，像素长边方向上的暗线相加后，相当于在像素长边方向上只具有一条暗线，而在像素短边的长度为像素长边的长度的1、3，即使“目”字型的曝光区在短边产生暗线可能会增加，但是相对于一个像素长边对应的暗线长度仍比较短，因此，本实施例得到的暗线，相对于UV2A得到的暗线而言，整体长度较短，暗线的占比较低。
本发明的显示面板的光配向方法，通过获得预先划分的沿像素长边方向排列的M个曝光区，以使单个像素形成"目"字型曝光区域，并基于N个曝光区的预设配向力方向，对所述第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L个曝光区的预设配向力方向，对所述第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向，使显示面板在两个像素长边上产生不完整的暗线，这样，像素长边方向上的暗线相加后，相当于在像素长边方向上只具有一条暗线，从而降低了暗线的占比，提高了显示器的透过率。
下面以具体示例对本发明的技术方案进行说明，其中，M＝4，第一基板为TFT基板10，第二基板为CF基板20。
示例一：
第一步：45°偏光的取得：紫外光配向装置采用线栅型偏光片(Wire GridPolaroid，WGP)，紫外光经过WGP后可以取得45°偏光照射。WGP设置如图3示意。图3为紫外光经过WGP后照射得到不同方向的光照的示意图，其中，WGP-1、WGP-2示意中箭头为紫外光经过WGP后照射对应的方向。
第二步：TFT基板10曝光：图4为TFT基板像素曝光示意图，如图4所示，图4上方的图为下方图在Y-Y方向的视图，A列曝光对应WGP-1偏光片，B列曝光对应WGP-2偏光片。TFT基板10从左往右进入曝光装置，RGB子像素内黑色箭头示意为曝光方向。①②示意为曝光用掩膜版。经过A列及B列曝光后，TFT基板10上所有像素的第一曝光区和第二曝光区对应的配向膜均完成曝光，形成如箭头示意的曝光方向。
第三步：CF基板20曝光：图5为CF基板像素曝光示意图，如图5所示，图5上方的图为下方图在Y-Y方向的视图，A列曝光对应WGP-1偏光片，B列曝光对应WGP-2偏光片，CF基板20从左往右进入曝光装置，RGB子像素内箭头示意为曝光方向。①②示意为曝光用掩膜版。经过A列及B列曝光后，CF基板20上所有像素的第三曝光区和第四曝光区对应的配向膜均完成曝光，形成如箭头示意的曝光方向。
第四步：TFT基板和CF基板曝光贴合：图6为TFT基板和CF基板曝光贴合形成显示面板的示意图。如图6所示，由于CF基板位于TFT基板10下面，CF基板20需要翻面后与TFT基板10贴合，因此，贴合后形成显示面板30中CF基板20对应的箭头方向发生改变，由CF基板20实线箭头翻转为贴合后形成显示面板30中的虚线箭头。图7为图6的暗线示意图。其中，圆锥表示液晶分子，圆锥的圆圈部分表示液晶分子头，圆锥的三角部分表示液晶分子尾。如图7所示，图6所示的显示面板30被点亮后，其形成的暗线如图7中的粗线所示。图7所示的暗线长度为1/3*a+1/3*a+1/3*a+a＝2a。其相对于UV2A配向曝光方式得到的暗线长度减少2/3a，从而降低了暗线的占比，提高了显示器的透过率。
需要说明的是，上述示例仅为形成图7所示暗线形状的一种示例，在实际应用中可以根据实际需求进行曝光。具体可以参考图8所示出的部分技术方案。图8为图7所示暗线形状的多种组合曝光方案的示意图。
如图8所示，方案1～4为TFT基板10曝光1次，CF基板20曝光3次。方案5～10为TFT基板10、CF基板20各曝光2次。方案11～14为TFT基板10曝光3次，CF基板20曝光1次。
因紫外光配向装置单次投入可实现2个曝光方向，这样，每个基板只需进行一次调度，即可实现所有曝光区对应的配向膜均进行了曝光配向，相对于只在其中一个基板上完成所有曝光区的曝光配向需要进行2次调度才能实现而言，方案5～8生产效率较高，因此，综合考虑调度最优化及产能收益最大化，方案5～8为较佳的方案。
需要说明的是，图8所列出的方案也并不是所有的方案，例如，TFT基板10还可以曝光1次，CF基板20曝光4次，TFT基板10还可以曝光4次，CF基板20曝光4次等，在此不再一一举例说明。
示例二
图9为TFT基板和CF基板曝光贴合形成显示面板的另一种暗线形状的示意图。图10为图9所示暗线形状的多种组合曝光方案的示意图。
如图10所示，方案1～4为TFT基板10曝光1次，CF基板20曝光3次。方案5～10为TFT、CF基板20各曝光2次。方案11～14为TFT基板10曝光3次，CF基板20曝光1次。图10与图8的区别在于，曝光方向不同，具体曝光方向请参考图10和图8的箭头所示方向，在此不再一一说明。
因紫外光配向装置单次投入可实现2个曝光方向，这样，每个基板只需进行一次调度，即可实现所有曝光区对应的配向膜均进行了曝光配向，相对于只在其中一个基板上完成所有曝光区的曝光配向需要进行2次调度才能实现而言，方案5～8生产效率较高，因此，综合考虑调度最优化及产能收益最大化，方案5～8为较佳的方案。
示例三
图11为TFT基板和CF基板曝光贴合形成显示面板的再一种暗线形状的示意图。图12为图11所示暗线形状的多种组合曝光方案的示意图。
如图12所示，方案1～4为TFT基板10曝光1次，CF基板20曝光3次。方案5～10为TFT、CF基板20各曝光2次。方案11～14为TFT基板10曝光3次，CF基板20曝光1次。图12与图8的区别在于，曝光方向不同，具体曝光方向请参考图12和图8的箭头所示方向，在此不再一一说明。
因紫外光配向装置单次投入可实现2个曝光方向，这样，每个基板只需进行一次调度，即可实现所有曝光区对应的配向膜均进行了曝光配向，相对于只在其中一个基板上完成所有曝光区的曝光配向需要进行2次调度才能实现而言，方案5～8生产效率较高，因此，综合考虑调度最优化及产能收益最大化，方案5～8为较佳的方案。
示例四
图13为TFT基板和CF基板曝光贴合形成显示面板的又一种暗线形状的示意图。图14为图13所示暗线形状的多种组合曝光方案的示意图。
如图14所示，方案1～4为TFT基板10曝光1次，CF基板20曝光3次。方案5～10为TFT、CF基板20各曝光2次。方案11～14为TFT基板10曝光3次，CF基板20曝光1次。图14与图8的区别在于，曝光方向不同，具体曝光方向请参考图14和图8的箭头所示方向，在此不再一一说明。
因紫外光配向装置单次投入可实现2个曝光方向，这样，每个基板只需进行一次调度，即可实现所有曝光区对应的配向膜均进行了曝光配向，相对于只在其中一个基板上完成所有曝光区的曝光配向需要进行2次调度才能实现而言，方案5～8生产效率较高，因此，综合考虑调度最优化及产能收益最大化，方案5～8为较佳的方案。
实施例二
在一个具体实现过程中，为了对施例一种“目”字型暗线所在区域的透光性进行改善，本发明还提供了以下技术方案。
具体地，第一基板上设置有第一电极，第二基板上设置有第二电极。在步骤201“基于N个曝光区的预设配向力方向，对第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L个曝光区的预设配向力方向，对第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向”之前，还可以在M个曝光区对应的第一电极上设置多个第一狭缝；其中，第一狭缝与像素中对应的曝光区的预设配向力方向平行。或者，在M个曝光区对应的第二电极上设置多个第二狭缝，其中，第二狭缝与所述像素中对应的曝光区的预设配向力方向平行。或者，在N个曝光区对应的第一电极上设置多个第一狭缝；在L个曝光区对应的第二电极上设置多个第二狭缝；第一狭缝与像素中对应的曝光区的预设配向力方向平行；其中，第二狭缝与像素中对应的曝光区的预设配向力方向平行。
图15为在第一电极设置第一狭缝和/或第二电极设置第二狭缝的多种方案示意图，其中，M＝4。如图15所示，方案一为在4个曝光区对应的第一电极上设置的多个第一狭，在4个曝光区对应的第二电极上未设置第二狭缝。图15中各第一狭缝之间均不连通，经试验验证可以获知，该方案中液晶面板的透过率为1.1。在实际应用中，还可以将至少两个相邻的曝光区对应的第一狭缝之间相互连通。具体的可以包括两种情况，第一种情况：第一个曝光区和第二曝光区对应的第一狭缝之间相互连通，第二个曝光区和第三曝光区对应的第一狭缝之间未连通，第三个曝光区和第四曝光区对应的第一狭缝之间相互连通。第二种情况：第一个曝光区和第二曝光区对应的第一狭缝之间相互连通，第二个曝光区和第三曝光区对应的第一狭缝之间相互连通，第三个曝光区和第四曝光区对应的第一狭缝之间相互连通。经试验验证，第一种情况下整个液晶面板的光线的透过率为1.12，第二种情况下整个液晶面板的光线的透过率为1.11。因此，本实施例中，第一种情况为最佳方案。
同理，针对图15中的方案八而言，也可以将至少两个相邻的曝光区对应的第二狭缝之间相互连通。
对于方案二、方案三、方案五和方案七而言，由于两个第一狭缝对应的两个曝光区相邻，也可以将两个相邻的曝光区对应的第一狭缝之间相互连通，两个第二狭缝对应的两个曝光区相邻，也可以将两个相邻的曝光区对应的第二狭缝之间相互连通。
实施例三
为解决现有技术中存在的上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示面板，显示面板中的第一基板的配向膜和第二基板的配向膜采用上述实施例的显示面板的光配向方法进行配向。
本发明实施例还一种显示装置，包括上述实施例的显示面板。
可以理解的是，上述各实施例中相同或相似部分可以相互参考，在一些实施例中未详细说明的内容可以参见其他实施例中相同或相似的内容。
需要说明的是，在本发明的描述中，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是指至少两个。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
虽然本发明所公开的实施方式如上，但所述的内容只是为了便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属技术领域内的技术人员，在不脱离本发明所公开的精神和范围的前提下，可以在实施的形式上及细节上作任何的修改与变化，但本发明的保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种显示面板的光配向方法，其特征在于，所述显示面板包括第一基板和与所述第一基板对盒设置的第二基板，所述第一基板和所述第二基板具有相对设置的像素；所述方法包括：
获得预先划分的所述像素的M个曝光区；其中，M个曝光区为沿像素长边方向划分得到；
基于N个曝光区的预设配向力方向，对所述第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L个曝光区的预设配向力方向，对所述第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；
其中，所述L和所述N均小于或等于所述M，所述L与所述N的和大于或等于所述M，所述L与所述N的和小于或等于2M，所述像素中相邻两个曝光区的预设配向力方向之间互不平行。
2.根据权利要求1所述的显示面板的光配向方法，其特征在于，所述第一基板上设置有第一电极；
基于N个曝光区的预设配向力方向，对所述第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L个曝光区的预设配向力方向，对所述第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向之前，还包括：
在所述M个曝光区对应的第一电极上设置多个第一狭缝；
所述第一狭缝与所述像素中对应的曝光区的预设配向力方向平行。
3.根据权利要求2所述的显示面板的光配向方法，其特征在于，至少两个相邻的曝光区对应的第一狭缝之间相互连通。
4.根据权利要求1所述的显示面板的光配向方法，其特征在于，所述第二基板上设置有第二电极；
基于N个曝光区的预设配向力方向，对所述第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L个曝光区的预设配向力方向，对所述第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向之前，还包括：
在所述M个曝光区对应的第二电极上设置多个第二狭缝；
所述第二狭缝与所述像素中对应的曝光区的预设配向力方向平行。
5.根据权利要求4所述的显示面板的光配向方法，其特征在于，至少两个相邻的曝光区对应的第二狭缝之间相互连通。
6.根据权利要求1所述的显示面板的光配向方法，其特征在于，所述第一基板上设置有第一电极；所述第二基板上设置有第二电极；
基于N个曝光区的预设配向力方向，对所述第一基板上与N个曝光区对应的配向膜进行曝光配向；以及，基于L个曝光区的预设配向力方向，对所述第二基板上与L个曝光区对应的配向膜进行曝光配向之前，还包括：
在N个曝光区对应的第一电极上设置多个第一狭缝；
在L个曝光区对应的第二电极上设置多个第二狭缝；
所述第一狭缝与所述像素中对应的曝光区的预设配向力方向平行；
所述第二狭缝与所述像素中对应的曝光区的预设配向力方向平行。
7.根据权利要求6所述的显示面板的光配向方法，其特征在于，所述N大于等于2，且所述N个曝光区依次相邻，至少两个相邻的曝光区对应的第一狭缝之间相互连通；
所述L大于等于2；且所述L个曝光区依次相邻，至少两个相邻的曝光区对应的第二狭缝之间相互连通。
8.根据权利要求1所述的显示面板的光配向方法，其特征在于，相邻两个曝光区的预设配向力方向相互垂直。
9.一种显示面板，其特征在于，包括第一基板和与所述第一基板对盒设置的第二基板；
所述显示面板中的第一基板的配向膜和第二基板的配向膜采用权利要求1-8中任一项所述的显示面板的光配向方法进行配向。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的的显示面板。
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