CN113703377B - 一种校正系统 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例公开了一种校正系统。所述校正系统，包括相对位置传感器、控制器、支撑结构以及连接结构，其中：相对位置传感器与控制器通信连接，用于在校准对象对相对位置传感器执行校准动作时生成待校准信号；控制器与连接结构连接，用于根据待校准信号确定校准对象与校正系统的相对位置数据，并根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号；支撑结构与连接结构连接，用于根据调节信号调节支撑结构的高度；连接结构用于连接支撑结构，并支撑相对位置传感器。本发明实施例的技术方案能够提高校正效果，满足校正需求，提升用户满意度。

Description

一种校正系统
技术领域
本发明实施例涉及自动化应用技术领域，尤其涉及一种校正系统。
背景技术
随着自动化水平的提高，各行各业的生产效率大大提高。由于自动化设备的固定及操作驱动，主要通过简单的机械结构进行人工预安装。当自动化设备频繁工作时，容易产生角度倾斜，而自动化设备角度倾斜又会导致产品质量不过关等一系列问题。为了保证自动化生产的质量对自动化设备进行校正是必不可少的关键环节。
但是，通过现有校正系统对自动化设备校正时，不能准确识别自动化设备的异常作业状态，导致现有的校正系统无法满足对自动化设备的校正需求，使得现有校正系统的用户体验较差。
发明内容
本发明实施例提供一种校正系统，能够提高校正效果，满足校正需求，提升用户满意度。
第一方面，本发明实施例提供了一种校正系统，包括相对位置传感器、控制器、支撑结构以及连接结构，其中：
相对位置传感器与控制器通信连接，用于在校准对象对相对位置传感器执行校准动作时生成待校准信号；
控制器与连接结构连接，用于根据待校准信号确定校准对象与校正系统的相对位置数据，并根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号；
支撑结构与连接结构连接，用于根据调节信号调节支撑结构的高度；
连接结构用于连接支撑结构，并支撑相对位置传感器。
第二方面，本发明实施例还提供了一种校正方法，包括：
根据待校准信号确定校准对象与校正系统的相对位置数据；
根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号，以使支撑结构根据调节信号调节支撑结构的高度。
第三方面，本发明实施例还提供了一种校正装置，包括：
相对位置数据确定模块，用于根据待校准信号确定校准对象与校正系统的相对位置数据；
调节信号生成模块，用于根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号，以使支撑结构根据调节信号调节支撑结构的高度。
第四方面，本发明实施例还提供了一种电子设备，电子设备包括：
一个或多个处理器；
存储装置，用于存储一个或多个程序；
当一个或多个程序被一个或多个处理器执行，使得一个或多个处理器实现本发明任意实施例所提供的校正方法。
第五方面，本发明实施例还提供了一种计算机存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现本发明任意实施例所提供的校正方法。
本实施例的技术方案，通过相对位置传感器、控制器、支撑结构以及连接结构构成校正系统，校正系统中的控制器根据在校准对象对相对位置传感器执行校准动作时由相对位置传感器生成的待校准信号，确定校准对象与校正系统的相对位置数据，并根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号，以使支撑结构根据调节信号调节支撑结构的高度。由于校准对象与校正系统的相对位置数据能够表征校准对象与校正系统的相对位置，因此控制器根据相对位置数据生成的调节信号，能够通过调整支撑结构的高度精准控制校正系统与校准对象的相对位置，以使校正系统与校准对象之间的相对位置处于所需要位置，也即保证校准对象正常工作，解决了现有校正系统无法满足校正需求，以及用户体验较差的问题，能够提高校正效果，满足校正需求，提升用户满意度。
附图说明
图1是本发明实施例一提供的一种校正系统的示意图；
图2是本发明实施例一提供的另一种校正系统的示意图；
图3是本发明实施例二提供的一种相对位置传感器的结构示意图；
图4是本发明实施例三提供的一种相对位置传感器的部分连线示意图；
图5是本发明实施例三提供的一种传感器上极板的示意图；
图6是本发明实施例三提供的一种传感器下极板的示意图；
图7是本发明实施例三提供的一种传感器上极板与待检测区域的相对位置的示意图；
图8是本发明实施例三提供的一种印章正常工作时传感器上极板与待检测区域的相对位置的示意图；
图9是本发明实施例三提供的一种印章非正常工作时传感器上极板与待检测区域的相对位置的示意图；
图10是本发明实施例三提供的另一种印章非正常工作时传感器上极板与待检测区域的相对位置的示意图；
图11是本发明实施例四提供的一种校正方法的流程图；
图12是本发明实施例五提供的一种校正装置的示意图；
图13为本发明实施例六提供的一种电子设备的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。
另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部内容。在更加详细地讨论示例性实施例之前应当提到的是，一些示例性实施例被描述成作为流程图描绘的处理或方法。虽然流程图将各项操作（或步骤）描述成顺序的处理，但是其中的许多操作可以被并行地、并发地或者同时实施。此外，各项操作的顺序可以被重新安排。当其操作完成时所述处理可以被终止，但是还可以具有未包括在附图中的附加步骤。所述处理可以对应于方法、函数、规程、子例程、子程序等等。
实施例一
图1是本发明实施例一提供的一种校正系统的示意图，该校正系统可以包括相对位置传感器100、控制器110、支撑结构120以及连接结构130，其中：相对位置传感器100与控制器110通信连接，用于在校准对象对相对位置传感器100执行校准动作时生成待校准信号；控制器110与连接结构130连接，用于根据待校准信号确定校准对象与校正系统的相对位置数据，并根据相对位置数据生成支撑结构120的调节信号；支撑结构120与连接结构130连接，用于根据调节信号调节支撑结构120的高度；连接结构130用于连接支撑结构120，并支撑相对位置传感器100。
其中，相对位置传感器100可以是一种检测装置，能将采集的信息按一定规律变换成所需形式输出。控制器110可以是能够协调和指挥校正系统的装置、设备或模块等。校准对象可以是出现非正常工作状态的对象，在无法正常工作时，通过与校正系统协作完成正常工作。例如，校正对象可以包括但不限于印控仪以及锻压设备等。校准动作可以是校准对象在非正常工作状态下，与相对位置传感器100接触的动作。待校准信号可以是由校准动作引起的，通过相对位置传感器100采集并按照所需形式输出的信号。相对位置数据可以用于表征校准对象与校正系统的相对位置。支撑结构120可以是能够提供支撑力的结构。例如，支撑结构120可以包括至少两个支撑柱。示例性的，支撑柱可以是充气的柱体，或者填充硬材料的柱体。调节信号可以是由控制器110发出的一种信号，用于调节支撑结构120高度。连接结构130可以是连接支撑结构120，并支撑相对位置传感器100的结构。
在本发明实施例中，校正系统中的相对位置传感器100与控制器110可以通过有线或无线形式通信。当校准对象对相对位置传感器100执行校正动作时，相对位置传感器100可以根据校准对象与相对位置传感器100之间的作用力生成待校准信号，进而将待校准信号传输至与连接结构130连接的控制器110。控制器110可以解析接收到的待校准信号，从而根据待校准信号确定校准对象对相对位置传感器100执行校准操作时，校准对象与校正系统的相对位置数据，进而根据相对位置数据计算支撑结构120的调节信号，进而将调节信号发送至支撑结构120，以使支撑结构120根据调节信号调整高度。当支撑结构120根据调节信号调整时，与支撑结构120连接的用来支撑相对位置传感器100的连接结构130会跟随支撑结构120的变化进行同步调整。
图2是本发明实施例一提供的另一种校正系统的示意图，如图2所示校正系统还可以包括执行伸缩部件140、固定部件150以及校准对象160；其中，执行伸缩部件140与固定部件150连接，用于在校准对象160对相对位置传感器100执行校准动作时与固定部件150联动；固定部件150与校准对象160连接，用于在校准对象160对相对位置传感器100执行校准动作时与校准对象160联动，以使校准对象160对相对位置传感器100执行校准动作。
其中，执行伸缩部件140可以是能够伸缩动作的部件。固定部件150可以是用于固定物体的部件。
相应的，由于执行伸缩部件140与固定部件150连接，固定部件150与校准对象160连接，因此校准对象160需要对相对位置传感器100执行校准动作时，首先通过执行伸缩部件140与固定部件150联动，进而实现固定部件150与校准对象160的联动，以使校准对象160对相对位置传感器100执行校准动作。
在本发明实施例中，当校正系统还包括执行伸缩部件140、固件部件150以及校准对象160的情况下，表征此校正系统可以对校准对象160进行实时校准，也即当校准对象160对相对位置传感器100执行校准动作时，属于一体化的校正系统可以针对校准对象160的每个校准动作进行校准，无需按照检测周期校准。当校正系统不包括执行伸缩部件140、固件部件150以及校准对象160的情况下，校正系统可以灵活应用于不同校准对象160的校准动作的校准，而不局限于对一体化的单一校准对象160的校准动作的校准。
本实施例的技术方案，通过相对位置传感器、控制器、支撑结构以及连接结构构成校正系统，校正系统中的控制器根据在校准对象对相对位置传感器执行校准动作时由相对位置传感器生成的待校准信号，确定校准对象与校正系统的相对位置数据，并根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号，以使支撑结构根据调节信号调节支撑结构的高度。由于校准对象与校正系统的相对位置数据能够表征校准对象与校正系统的相对位置，因此控制器根据相对位置数据生成的调节信号，能够通过调整支撑结构的高度精准控制校正系统与校准对象的相对位置，以使校正系统与校准对象之间的相对位置处于所需要位置，也即保证校准对象正常工作，解决了现有校正系统无法满足校正需求，以及用户体验较差的问题，能够提高校正效果，满足校正需求，提升用户满意度。
实施例二
本实施例以上述实施例为基础进行具体化，在本实施例中，给出了相对位置传感器和控制器具体工作模式的可选的实施方式。相应的，校正系统中相对位置传感器和控制器的具体的可选的工作模式如下：
图3是本发明实施例二提供的一种相对位置传感器的结构示意图，如图3所示，相对位置传感器100可以包括第一软材料填充层101、硬材料填充层102、第一传感器屏蔽层103、传感器上极板104、第二软材料填充层105、传感器下极板106以及第二传感器屏蔽层107；其中，第一软材料填充层101与硬材料填充层102连接，用于包裹硬材料填充层102上表面；硬材料填充层102与第一传感器屏蔽层103连接，用于支撑第一软材料填充层101；第一传感器屏蔽层103与传感器上极板104连接，用于屏蔽传感器上极板104的干扰信号；传感器上极板104与第二软材料填充层105连接，用于在校准对象对相对位置传感器100执行校准动作时与传感器下极板106形成电压差；第二软材料填充层105与传感器下极板106连接，用于填充传感器上极板104与传感器下极板106之间的空间；传感器下极板106与第二传感器屏蔽层107连接，用于在校准对象对相对位置传感器100执行校准动作时根据电压差生成不同待检测区域的待校准信号；第二传感器屏蔽层107用于屏蔽传感器下极板106的干扰信号；其中，待检测区域由通过传感器下极板重心的至少两条直线和预设区域划分。
其中，第一软材料填充层101可以是由处于固体和理想流体之间的材料构成的填充层，位于硬材料填充层102上表面。硬材料填充层102可以是由满足一定硬度需求的材料构成的填充层。第一传感器屏蔽层103可以是与传感器上极板104连接的，由绝缘材料构成的屏蔽层。第二软材料填充层105可以是由处于固体和理想流体之间的材料构成的填充层，承接传感器上极板104与传感器下极板106。第二传感器屏蔽层107可以是与传感器下极板106连接的由绝缘材料构成的屏蔽层。传感器上极板104可以是能够存储电子的，与第一传感器屏蔽层103连接的极板。传感器下极板106可以是是能够存储电子的，与第二传感器屏蔽层107连接的极板。待检测区域可以是传感器下极板106的被划分的区域，用于生成相应区域的待校准信号。传感器下极板重心可以是传感器下极板106的几何中心。预设区域可以是包围传感器下极板重心且以传感器下极板重心为对称点的，位于传感器下极板106内部的区域。示例性的，当传感器下极板106为半径为d1的圆形极板时，预设区域可以是与传感器下极板106圆心重合的半径为d2（d1> d2）的圆形。
在本发明实施例中，校正系统通过第一软材料填充层101包裹硬材料填充层102上表面，可以避免校准对象对相对位置传感器100执行校准动作时，与硬材料填充层102接触引起的校准对象毁坏的情况，在第一软材料填充层101下方的硬材料填充层102与第一传感器屏蔽层103连接，可以支撑第一软材料填充层101，为校准对象提供反作用力。第一传感器屏蔽层103与传感器上极板104连接，可以为传感器上极板104屏蔽干扰信号，保证传感器上极板104正常工作。传感器上极板104与第二软材料填充层105连接，可以在校准对象对相对位置传感器100执行校准动作时与传感器下极板106形成电压差。第二软材料填充层105与传感器下极板106连接，用于填充传感器上极板104与传感器下极板106之间的空间。在校正系统工作前，可以根据穿越传感器下极板重心的至少两条直线，以及包围传感器下极板重心的预设区域对传感器下极板106的区域进行划分得到多个待检测区域。在校准对象对相对位置传感器100执行校准动作时，传感器下极板106可以根据与传感器上极板104的电压差生成相应检测区域的待校准信号，与传感器下极板106相连的第二传感器屏蔽层107可以为传感器下极板106屏蔽干扰信号，保证传感器下极板106能够正常工作。
在本发明的一个可选实施例中，待检测区域可以包括第一待检测区域、第二待检测区域、第三待检测区域以及第四待检测区域；控制器，可以具体用于：确定第一待检测区域、第二待检测区域、第三待检测区域以及第四待检测区域的待校准信号；根据第一待检测区域和第四待检测区域的待校准信号确定校准对象的倾斜状态；根据第一待检测区域、第二待检测区域、第三待检测区域以及第四待检测区域的待校准信号确定校准对象的接触面的平整状态；根据校准对象的倾斜状态和接触面的平整状态生成调节信号。
其中，第一待检测区域可以是传感器下极板的部分区域，位于预设区域外侧与第二待检测区域相邻。第二待检测区域可以是预设区域的部分区域，与第一待检测区域相邻。第三待检测区域可以是预设区域的部分区域，与第四待检测区域和第二待检测区域相邻。第四待检测区域可以是传感器下极板的部分区域，位于预设区域外侧与第三待检测区域相邻。第二待检测区域和第三待检测区域关于传感器下极板重心对称，第一待检测区域和第四待检测区域关于传感器下极板重心对称。第一待检测区域与第四待检测区域的形状和面积相同。第二待检测区域与第三待检测区域的形状和面积相同。
在本发明实施例中，控制器可以接收传感器下极板不同待检测区域的待校准信号，进而从不同待检测区域的待校准信号中确定第一待检测区域、第二待检测区域、第三待检测区域以及第四待检测区域的待校准信号，进而根据第一待检测区域和第四待检测区域的待校准信号确定校准对象对相对位置传感器执行校正动作时校准对象的倾斜状态。控制器还可以根据第一待检测区域、第二待检测区域、第三待检测区域以及第四待检测区域的待校准信号确定校准对象对相对位置传感器执行校正动作时校准对象的接触面的平整状态。控制器在确定了校准对象的倾斜状态和校准对象的接触面的平整状态之后，可以进一步根据校准对象的倾斜状态和校准对象的接触面的平整状态生成调节支撑结构的调节信号。
在本发明的一个可选实施例中，控制器，可以具体用于：根据第一待检测区域与第四待检测区域的待校准信号的差值确定校准对象的倾斜状态；确定第一待检测区域与第二待检测区域的待校准信号的第一比值，以及第四待检测区域与第三待检测区域的待校准信号的第二比值；根据第一比值以及第二比值确定校准对象的接触面的平整状态。
其中，第一比值可以是第一待检测区域与第二待检测区域的待校准信号的比值。第二比值可以是第四待检测区域与第三待检测区域的待校准信号的比值。接触面可以是校准对象对相对位置传感器执行校准动作时，校准对象与相对位置传感器的接触区域。
在本发明实施例中，控制器可以首先确定第一待检测区域、第二待检测区域、第三待检测区域以及第四待检测区域的待校准信号，进而计算第一待检测区域与第四待检测区域的待校准信号的差值，以根据计算的差值确定校准对象的倾斜状态。具体的，如果第一待检测区域与第四待检测区域的待校准信号的差值为零，则表明校准对象处于未倾斜状态，如果第一待检测区域与第四待检测区域的待校准信号的差值不为零，则表明校准对象出现倾斜状态。控制器还可以进一步计算第一待检测区域与第二待检测区域的待校准信号的第一比值，以及第四待检测区域与第三待检测区域的待校准信号的第二比值，进一步比较第一比值和第二比值，如果第一比值和第二比值相同，则表明校准对象的接触面是平整状态，如果第一比值和第二比值不同，则表明校准对象的接触面处于非平整状态。
在本发明的一个可选实施例中，控制器，可以具体用于：确定待校准信号的目标校准信号；根据第一待检测区域和第四待检测区域的目标校准信号确定校准对象的倾斜状态；根据第一待检测区域、第二待检测区域、第三待检测区域以及第四待检测区域的目标校准信号确定校准对象的接触面的平整状态。
其中，目标校准信号可以是将待校准信号进行信号形式转换的结果。可选的，目标校准信号与待校准信号可以是不同类型的信号。例如，待校准信号可以是电容信号，目标校准信号可以是电压信号或电流信号等。本发明实施例对目标校准信号与待校准信号的具体信号类型不作限定。
在本发明实施例中，控制器可以先对待校准信号进行信号类型转换，得到目标校准信号，进而确定第一待检测区域、第二待检测区域、第三待检测区域以及第四待检测区域的目标校准信号，从而根据第一待检测区域和第四待检测区域的目标校准信号的差值确定校准对象的倾斜状态。控制器还可以根据第一待检测区域、第二待检测区域、第三待检测区域以及第四待检测区域的目标校准信号确定校准对象的接触面的平整状态。
可选的，控制器可以首先确定第一待检测区域与第二待检测区域的目标校准信号的比值，以及第四待检测区域与第三待检测区域的目标校准信号的比值，进而根据上述两个比值确定校准对象的接触面的平整状态。需要说明的是，通过目标校准信号计算校准对象的倾斜状态，与通过待校准信号计算校准对象的倾斜状态的原理相同；通过目标校准信号计算校准对象的接触面的平整状态，与通过待校准信号计算校准对象的接触面的平整状态的原理相同。将待校准信号转换成目标校准信号是为了使控制器适应在不同信号类型下判断校准对象倾斜程度和接触面的平整状态，以满足不同的客户需求，达到灵活应用的效果。
在本发明的一个可选实施例中，控制器，可以具体用于：在校准对象的倾斜状态为第一倾斜状态的情况下，根据第一调节信号调节支撑结构，以使连接结构根据第一结构状态校准校正系统与校准对象的相对位置；在校准对象的倾斜状态为第二倾斜状态的情况下，根据第二调节信号调节支撑结构，以使连接结构根据第二结构状态校准校正系统与校准对象的相对位置。
其中，第一倾斜状态和第二倾斜状态可以是校准对象不同的倾斜状态。在校准对象为第一倾斜状态或第二倾斜状态对相对位置传感器执行校正操作时时，第一待检测区域与第四待检测区域存在高低差异。可选的，第一种倾斜状态可以是与第二种倾斜状态相反的状态。示例性的，在校准对象对相对位置传感器执行校准动作时，如果校准对象为第一倾斜状态，则第一待检测区域与传感器上极板间距高于第四待检测区域与传感器上极板的间距。如果校准对象为第二倾斜状态，则第一待检测区域与传感器上极板间距低于第四待检测区域与传感器上极板的间距。本发明实施例对第一倾斜状态或第二倾斜状态的校准对象执行校准操作时，第一待检测区域和第四待检测区域与传感器上极板的具体间距不作限定。第一调节信号可以是第一倾斜状态的校准对象对相对位置传感器执行校正操作时，控制器发出的用于调节支撑结构的信号。第一结构状态可以是支撑结构的一种状态，能够在第一倾斜状态的校准对象对相对位置传感器执行校准动作时，使相对位置传感器与校准动作的作用力方向垂直。第二调节信号可以是第二倾斜状态的校准对象对相对位置传感器执行校准动作时，控制器发出的用于调节支撑结构的信号。第二结构状态可以是支撑结构的一种状态，能够在第二倾斜状态的校准对象对相对位置传感器执行校准动作时，使相对位置传感器与校准动作的作用力方向垂直。
在本发明实施例中，控制器可以根据第一待检测区域和第四待检测区域的待校准信号确定校准对象处于第一倾斜状态，还是处于第二倾斜状态。当控制器根据第一待检测区域和第四待检测区域的待校准信号确定校准对象处于第一倾斜状态的情况下，可以根据校准对象的第一倾斜状态确定第一调节信号，进而将第一调节信号发送至支撑结构，支撑结构根据第一调整信号调整高度。在支撑结构根据第一调整信号调整之后，连接支撑结构的连接结构可以根据支撑结构的第一结构状态同步校准校正系统与校准对象的相对位置。当控制器根据第一待检测区域和第四待检测区域的待校准信号确定校准对象处于第二倾斜状态的情况下，可以根据校准对象的第二倾斜状态确定第二调节信号，进而将第二调节信号发送至支撑结构，支撑结构根据第二调整信号调整高度。在支撑结构根据第二调整信号调整之后，连接支撑结构的连接结构可以根据支撑结构的第二结构状态同步校准校正系统与校准对象的相对位置。
在本发明的一个可选实施例中，第一倾斜状态为校准对象的接触面的第一目标位置高于第二目标位置状态；第二倾斜状态为校准对象的接触面的第一目标位置低于第二目标位置状态。
其中，第一目标位置可以是传感器下极板的第一待检测区域的位置向上投影到校准对象的接触面的位置。第二目标位置可以是传感器下极板的第四待检测区域的位置向上投影到校准对象的接触面的位置。
在本发明实施例中，当控制器根据第一待检测区域和第四待检测区域的待校准信号确定校准对象处于第一倾斜状态的情况下，可以根据校准对象的第一倾斜状态确定校准对象的接触面的第一目标位置高于第二目标位置，也即第一倾斜状态的校准对象对相对位置传感器执行校准动作时，校准对象的接触面的第二目标位置先于第一目标位置与相对位置传感器接触。当控制器根据第一待检测区域和第四待检测区域的待校准信号确定校准对象处于第二倾斜状态的情况下，可以根据校准对象的第二倾斜状态确定校准对象的接触面的第一目标位置低于第二目标位置，也即第二倾斜状态的校准对象对相对位置传感器执行校准动作时，校准对象的接触面的第一目标位置先于第二目标位置与相对位置传感器接触。
在本发明的一个可选实施例中，控制器，可以具体用于：在确定校准对象的接触面存在第一异常结构的情况下，根据第一异常结构在校准对象的接触面中的相对位置生成第三调节信号，根据第三调节信号调节支撑结构，以使连接结构根据第三结构状态校准连接结构与校准对象的接触面的相对位置，使得连接结构中对应于第一异常结构的第一目标位置区域低于对应于非第一异常结构的第二目标位置区域；在确定校准对象的接触面存在第二异常结构的情况下，根据第二异常结构在校准对象的接触面中的相对位置生成第四调节信号，根据第四调节信号调节支撑结构，以使连接结构根据第四结构状态校准连接结构与校准对象的接触面的相对位置，使得连接结构中对应于第二异常结构的第三目标位置区域高于对应于非第二异常结构的第四目标位置区域。
其中，第一异常结构和第二异常结构可以是两种不同的异常结构，导致校准对象的接触面受力不均匀。第三调节信号可以是校准对象的接触面存在第一异常结构，且校准对象对相对位置传感器执行校准动作时，控制器发出的用于调节支撑结构的信号。第三结构状态可以是支撑结构的一种状态，能够在校准对象的接触面存在第一异常结构，且校准对象对相对位置传感器执行校准动作时，通过相对位置传感器为校准对象的全部接触面提供均匀的作用力。第四调节信号可以是校准对象的接触面存在第二异常结构，且校准对象对相对位置传感器执行校正操作时，控制器发出的用于调节支撑结构的信号。第四结构状态可以是支撑结构的一种状态，能够在校准对象的接触面存在第二异常结构，且校准对象对相对位置传感器执行校正操作时，通过相对位置传感器为校准对象的全部接触面提供均匀的作用力。第一目标位置区域可以是校准对象的接触面的第一异常结构在连接结构的投影区域。第二目标位置区域可以是以校准对象几何中心为对称点，与校准对象的接触面的第一异常结构对称的正常结构在连接结构的投影区域。第三目标位置区域可以是校准对象的接触面的第二异常结构在连接结构的投影区域。第四目标位置区域可以是以校准对象几何中心为对称点，与校准对象的接触面的第二异常结构对称的正常结构在连接结构的投影区域。
在本发明实施例中，如果控制器根据第一待检测区域、第二待检测区域、第三待检测区域以及第四待检测区域的待校准信号，确定校准对象的接触面存在第一异常结构，则可以进一步确定第一异常结构在校准对象的接触面的相对位置，从而根据第一异常结构在校准对象的接触面的相对位置生成调节支撑结构的第三调节信号，进一步将第三调节信号传输至支撑结构。支撑结构可以根据第三调节信号进行调整，达到第三结构状态，以使连接支撑结构的连接结构根据第三结构状态校准连接结构与校准对象的相对位置，从而达到通过相对位置传感器为校准对象的全部接触面提供均匀的作用力的效果，也即校准对象的接触面的第一异常结构与非第一异常结构受力均匀。当校准对象的接触面存在第一异常结构时，连接结构与支撑结构同步调整后，连接结构中对应于第一异常结构的第一目标位置区域低于对应于非第一异常结构的第二目标位置区域。
如果控制器根据第一待检测区域、第二待检测区域、第三待检测区域以及第四待检测区域的待校准信号，确定校准对象的接触面存在第二异常结构，则可以进一步确定第二异常结构在校准对象的接触面的相对位置，从而根据第二异常结构在校准对象的接触面的相对位置生成调节支撑结构的第四调节信号，进一步将第四调节信号传输至支撑结构。支撑结构可以根据第四调节信号进行调整，达到第四结构状态，以使连接支撑结构的连接结构根据第四结构状态校准连接结构与校准对象的相对位置，从而达到通过相对位置传感器为校准对象的全部接触面提供均匀的作用力的效果，也即校准对象的接触面的第二异常结构与非第二异常结构受力均匀。当校准对象的接触面存在第二异常结构时，连接结构与支撑结构同步调整后，连接结构中对应于第二异常结构的第三目标位置区域高于对应于非第二异常结构的第四目标位置区域。
在本发明的一个可选实施例中，第一异常结构可以为凸起结构；第二异常结构可以为凹陷结构。
其中，凸起结构可以是高于校准对象的正常接触面的结构。凹陷结构可以是低于校准对象的正常接触面的结构。正常接触面可以是校准对象不需要通过校正系统协作，也可以正常动作时的接触面。
本实施例的技术方案，通过相对位置传感器、控制器、支撑结构以及连接结构构成校正系统，校正系统中的控制器根据在校准对象对相对位置传感器执行校准动作时由相对位置传感器生成的待校准信号，确定校准对象与校正系统的相对位置数据，并根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号，以使支撑结构根据调节信号调节支撑结构的高度。由于校准对象与校正系统的相对位置数据能够表征校准对象与校正系统的相对位置，因此控制器根据相对位置数据生成的调节信号，能够通过调整支撑结构的高度精准控制校正系统与校准对象的相对位置，以使校正系统与校准对象之间的相对位置处于所需要位置，也即保证校准对象正常工作，解决了现有校正系统无法满足校正需求，以及用户体验较差的问题，能够提高校正效果，满足校正需求，提升用户满意度。
需要说明的是，以上各实施例中各技术特征之间的任意排列组合也属于本发明的保护范围。
实施例三
随着时代的发展，各单位处理公文的数量越来越多，公文用印也越来越频繁，为了提高印章用印的安全性，行业内普遍使用印控仪来管控印章的用印。印控仪是一种自动盖章的仪器，与传统手工盖章相比具有科学化以及正规化的特点，可以实现人与印章分离，保证印章使用的科学性、安全性和高效性。现有的印控仪是将印章封闭于印控仪的腔体内，具有接收指令进行自动化用印的功能，用印的各个过程均在印控仪内完成。具体的，当印控仪接收到用印申请时，可以通过扫描仪对申请用印件进行扫描上传，用印时每份用印件全部由印控仪强制上传，通过对比系统中申请用印件和用印完成件，可以防止申请件和最后用印件不一致的风险隐患。
但是，现有技术中的印控仪对印章相对于盖章平面是否垂直，以及印章平面是否水平并没有进行检测和控制，导致现有印控仪无法确保用印效果。由于上述实施例中的校正系统具备根据校准对象校正系统的相对位置数据调整支撑结构的功能，因此通过上述实施例的技术方案能够解决现有印控仪无法确保用印效果的问题。本实施例以上述实施例为基础，以校正系统对印控仪进行校正为例继续说明：
图4是本发明实施例三提供的一种相对位置传感器的部分连线示意图，如图4所示，传感器上极板连接的同轴电缆芯线通过走线槽与控制器连接。传感器下极板的不同待检测区域具有与自己区域连接的同轴电缆芯线，每个待检测区域连接的同轴电缆芯线通过走线槽与控制器连接，控制器通过同轴电缆芯线获取传感器上极板和传感器下极板产生的电容信号。在印章与相对位置传感器的水平面垂直时，印章盖到相对位置传感器时，相对位置传感器根据传感器上极板和传感器的下极板的电容阵列可以采集到电容信号，并将采集的电容信号发送给控制器，控制器根据相对位置传感器发送的电容信号确定印章处于正常工作状态（印章不存在倾斜状态也不存在异常结构），不对支撑结构发送调节信号。当印章与相对位置传感器的水平面不垂直，或印章的接触面存在异常结构时，控制器可以根据印章的倾斜状态以及接触面的异常结构生成调节信号，多个空气支撑柱根据调节信号对高度自动调节，空气支撑柱调整时带动连接结构同步调整，使位于连接结构上方的相对位置传感器形成与倾斜的印章相对垂直的平面，或者印章接触面存在异常结构时，使位于连接结构上方的相对位置传感器形成使印章受力均的平面，从而保证印章的盖章效果变的清晰，通过率大幅度提高，还不容易磨损印章。
图5是本发明实施例三提供的一种传感器上极板的示意图，如图5所示，传感器上极板可以包括上极板和屏蔽圈，传感器上极板中的屏蔽圈通过同轴电缆信号引线与第一传感器屏蔽层连接，起到对信号进行屏蔽防止干扰的作用，传感器上极板的上极板通过同轴电缆芯线与控制器连接。
图6是本发明实施例三提供的一种传感器下极板的示意图，如图6所示的传感器下极板可以包括下极板和屏蔽圈，传感器下极板的屏蔽圈通过同轴电缆信号引线与第二传感器屏蔽层连接，起到对信号进行屏蔽防止干扰的作用，也即下极板每个待检测区域可以通过屏蔽圈对信号进行屏蔽。其中，不同待检测区域通过同轴电缆芯线通过走线槽与控制器连接。其中，待检测区域A1与待检测区域A2是一对极板，待检测区域的极板B1与待检测区域B2是一对极板，且这两对极板对称。
在未盖章时，印章与相对位置传感器之间不会出现压力，此时四个待检测区域与 传感器上极板之间的间距最大，如图7所示，四个待检测区域与传感器上极板的间距均为
Figure 906935DEST_PATH_IMAGE001
。
当印章盖章时与相对位置传感器水平面不垂直或者印章接触面有异常结构（凸起 或凹陷）时，印章边缘围绕着印章中心轴发生偏移，越靠近印章中心轴偏移距离越小。因此 传感器下极板采用扇形阵列排布，并结合电容形成与面积成正比原理可以确定印章的倾斜 状态以及印章接触面的异常结构的大体形态。相应的，根据电容公式
Figure 433732DEST_PATH_IMAGE002
可以分别计算出 待检测区域A1的电容
Figure 571452DEST_PATH_IMAGE003
、待检测区域A2的电容
Figure 925335DEST_PATH_IMAGE004
、待检测区域B1的电容
Figure 414085DEST_PATH_IMAGE005
以及待检 测区域B2的电容
Figure 885518DEST_PATH_IMAGE006
。由于
Figure 2378DEST_PATH_IMAGE007
不变，当待检测区域A1、待检测区域A2、待检测区域B1以及待 检测区域B2的面积不变时，待检测区域的电容与传感器上极板和待检测区域的距离成反 比。如果印章盖章时与相对位置传感器水平面垂直，则四个待检测区域与传感器上极板的 间距相同，此时四个待检测区域与传感器上极板的相对位置如图8所示，四个待检测区域与 传感器上极板的间距均为
Figure 901064DEST_PATH_IMAGE008
。可以理解的是，印章盖章时，印章会对相对位置传感器产生压 力，导致上极板向下位移，缩短待检测区域与传感器上极板的间距，从而使
Figure 736165DEST_PATH_IMAGE009
。
当待检测区域A1与待检测区域B2面积相同时，如果印章盖章时与相对位置传感器 水平面垂直，则根据电容公式可以得到
Figure 11289DEST_PATH_IMAGE010
，
Figure 123601DEST_PATH_IMAGE011
。其中，
Figure 317822DEST_PATH_IMAGE012
为待检测区 域A1的面积，
Figure 781164DEST_PATH_IMAGE013
为待检测区域A2的面积，
Figure 328820DEST_PATH_IMAGE014
为待检测区域B1的面积，
Figure 184388DEST_PATH_IMAGE015
为待检测区域B2 的面积。
当印章呈倾斜状态与相对位置传感器接触时，四个待检测区域与传感器上极板的 间距会不同，也即
Figure 159297DEST_PATH_IMAGE016
。如果
Figure 109935DEST_PATH_IMAGE017
，则可以确定待检测区域A1与传感器上极板的间 距小于待检测区域B2与上极板的间距，此时印章以靠近待检测区域A1，远离待检测区域B2 的状态倾斜。假设待检测区域A1与传感器上极板的间距为
Figure 585916DEST_PATH_IMAGE018
，待检测区域A2与传感器上极 板的间距为
Figure 672821DEST_PATH_IMAGE019
，待检测区域B2与传感器上极板的间距为
Figure 208844DEST_PATH_IMAGE020
，待检测区域B1与传感器上极板 的间距为
Figure 381200DEST_PATH_IMAGE021
。当印章以靠近待检测区域A1，远离待检测区域B2的状态倾斜时，印章对相对位 置传感器的压力自待检测区域A1向待检测区域B1逐渐减小，从而使传感器上极板向下位移 的距离逐渐减小，最终导致四个待检测区域与传感器上极板的相对位置如图9所示。如果
Figure 270658DEST_PATH_IMAGE022
，则可以确定待检测区域A1与传感器上极板的间距大于待检测区域B2与传感器上 极板的间距，此时印章以远离待检测区域A1，靠近待检测区域B2的状态倾斜。
当印章的接触面有凸起或凹陷，且与相对位置传感器接触时，凸起或凹陷位置会 影响相应待检测区域与传感器上极板的间距，也即凸起或凹陷位置向下极板投影范围所属 的待检测区域与传感器上极板的间距会受到影响。假设凸起位置向下极板投影范围属于待 检测区域A2，则待检测区域B1、待检测区域B2以及待检测区域A1与传感器上极板的间距相 同，且均不同于待检测区域A2与传感器上极板的间距，此时
Figure 602282DEST_PATH_IMAGE023
，因此可以根据
Figure 918994DEST_PATH_IMAGE024
与
Figure 578646DEST_PATH_IMAGE025
是否相等确定接触面是否有异常结构。具体的，由于
Figure 897894DEST_PATH_IMAGE026
且
Figure 959391DEST_PATH_IMAGE027
，当
Figure 978162DEST_PATH_IMAGE028
时，表明
Figure 984165DEST_PATH_IMAGE029
，待检测区域A2与传感器上极板的间距大于待检测区域B2与传感器上极 板的间距，因此印章的接触面存在凹陷，凹陷的位置与待检测区域A2相对应。当
Figure 481005DEST_PATH_IMAGE030
时，表明
Figure 256063DEST_PATH_IMAGE031
，待检测区域A2与传感器上极板的间距小于待检测区域B2与传感器上极 板的间距，因此印章的接触面存在凸起，凸起的位置与待检测区域A2相对应。由于印章的接 触面的凸起部分对相对位置传感器的压力大于印章的接触面的正常部分对相对位置传感 器的压力，因此印章的接触面的凸起部分会使相应受力的传感器上极板位移更大，当凸起 位置与待检测区域A2相对应时，传感器上极板与四个待检测区域的相对位置如图10所示， 此时待检测区域A1与传感器上极板的间距
Figure 445736DEST_PATH_IMAGE032
，待检测区域A2与传感器上极板的间距为
Figure 814400DEST_PATH_IMAGE033
， 待检测区域B2与传感器上极板的间距为
Figure 239565DEST_PATH_IMAGE034
，待检测区域B1与传感器上极板的间距为
Figure 10075DEST_PATH_IMAGE034
，也 即
Figure 105070DEST_PATH_IMAGE035
。
可以理解的是，控制器还可以通过检测电路以及阻抗匹配等电路，接收相对位置传感器发送的待校准信号（如电容信号），进而将待校准信号转换为所需的目标校准信号（如电压信号）。由于在电容增大时，其形成的阻抗会变小，导致电容信号与电压信号成反比，因此可以在通过电容信号对支撑结构调整时，还可以通过电压信号对支撑结构调整。
本实施例的技术方案，通过相对位置传感器、控制器、支撑结构以及连接结构构成校正系统，校正系统中的控制器根据在校准对象（印章）对相对位置传感器执行校准动作时由相对位置传感器生成的待校准信号，确定校准对象与校正系统的相对位置数据，并根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号，以使支撑结构根据调节信号调节支撑结构的高度。由于校准对象与校正系统的相对位置数据能够表征校准对象与校正系统的相对位置，因此控制器根据相对位置数据生成的调节信号，能够通过调整支撑结构的高度精准控制校正系统与校准对象的相对位置，以使校正系统与校准对象之间的相对位置处于所需要位置，也即保证校准对象正常工作，解决了现有校正系统无法满足校正需求，以及用户体验较差的问题，能够提高校正效果，满足校正需求，提升用户满意度。
实施例四
图11是本发明实施例四提供的一种校正方法的流程图，本实施例可适用于根据校正系统根据与校准对象的相对位置对自身校正的情况，该方法可以由校正装置来执行，该装置可以由软件和/或硬件的方式来实现，并一般可集成在电子设备中。相应的，如图11所示，该方法包括如下操作：
S410、根据待校准信号确定校准对象与校正系统的相对位置数据。
在本发明实施例中，校正系统的控制器可以根据待校准信号确定所述校准对象与校正系统的相对位置数据。
S420、根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号，以使支撑结构根据调节信号调节支撑结构的高度。
在本发明实施例中，校正系统的控制器在得到相对位置数据之后，可以进一步根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号。控制器在得到调节信号之后，还可以将调节信号发送至支撑结构，以使支撑结构根据调节信号调节支撑结构的高度。
本实施例的技术方案，通过根据待校准信号确定所述校准对象与校正系统的相对位置数据，进而根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号。由于校准对象与校正系统的相对位置数据能够表征校准对象与校正系统的相对位置，因此控制器根据相对位置数据生成的调节信号，能够通过调整支撑结构的高度精准控制校正系统与校准对象的相对位置，以使校正系统与校准对象之间的相对位置处于所需要位置，也即保证校准对象正常工作，解决了现有校正系统无法满足校正需求，以及用户体验较差的问题，能够提高校正系统的校正效果，满足校正需求，提升用户满意度。
可选的，所述根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号，包括：确定所述第一待检测区域、所述第二待检测区域、所述第三待检测区域以及所述第四待检测区域的待校准信号；根据所述第一待检测区域和所述第四待检测区域的待校准信号确定所述校准对象的倾斜状态；根据所述第一待检测区域、所述第二待检测区域、所述第三待检测区域以及所述第四待检测区域的待校准信号确定所述校准对象的接触面的平整状态；根据所述校准对象的倾斜状态和接触面的平整状态生成所述调节信号。
可选的，所述根据所述第一待检测区域和所述第四待检测区域的待校准信号确定所述校准对象的倾斜状态，包括：根据所述第一待检测区域与所述第四待检测区域的待校准信号的差值确定所述校准对象的倾斜状态。
可选的，所述根据所述第一待检测区域、所述第二待检测区域、所述第三待检测区域以及所述第四待检测区域的待校准信号确定所述校准对象的接触面的平整状态，包括：确定所述第一待检测区域与所述第二待检测区域的待校准信号的第一比值，以及所述第四待检测区域与所述第三待检测区域的待校准信号的第二比值；根据所述第一比值以及所述第二比值确定所述校准对象的接触面的平整状态。
可选的，所述根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号，还包括：确定所述待校准信号的目标校准信号；根据所述第一待检测区域和所述第四待检测区域的目标校准信号确定所述校准对象的倾斜状态；根据所述第一待检测区域、所述第二待检测区域、所述第三待检测区域以及所述第四待检测区域的目标校准信号确定所述校准对象的接触面的平整状态。
可选的，所述根据所述校准对象的倾斜状态和接触面的平整状态生成所述调节信号，包括：在所述校准对象的倾斜状态为第一倾斜状态的情况下，根据第一调节信号调节所述支撑结构，以使所述连接结构根据第一结构状态校准所述校正系统与所述校准对象的相对位置；在所述校准对象的倾斜状态为第二倾斜状态的情况下，根据第二调节信号调节所述支撑结构，以使所述连接结构根据第二结构状态校准所述校正系统与所述校准对象的相对位置。
可选的，所述第一倾斜状态为所述校准对象的接触面的第一目标位置高于第二目标位置状态；所述第二倾斜状态为所述校准对象的接触面的第一目标位置低于第二目标位置状态。
可选的，所述根据所述校准对象的倾斜状态和接触面的平整状态生成所述调节信号，还包括：在确定所述校准对象的接触面存在第一异常结构的情况下，根据所述第一异常结构在所述校准对象的接触面中的相对位置生成第三调节信号，根据所述第三调节信号调节所述支撑结构，以使所述连接结构根据第三结构状态校准所述连接结构与所述校准对象的接触面的相对位置，使得所述连接结构中对应于所述第一异常结构的第一目标位置区域低于对应于非第一异常结构的第二目标位置区域；在确定所述校准对象的接触面存在第二异常结构的情况下，根据所述第二异常结构在所述校准对象的接触面中的相对位置生成第四调节信号，根据所述第四调节信号调节所述支撑结构，以使所述连接结构根据第四结构状态校准所述连接结构与所述校准对象的接触面的相对位置，使得所述连接结构中对应于所述第二异常结构的第三目标位置区域高于对应于非第二异常结构的第四目标位置区域。
可选的，所述第一异常结构为凸起结构；所述第二异常结构为凹陷结构。
实施例五
图12是本发明实施例五提供的一种校正装置的示意图，如图12所示，所述装置包括：相对位置数据确定模块510以及调节信号生成模块520，其中：
相对位置数据确定模块510，用于根据待校准信号确定校准对象与校正系统的相对位置数据；
调节信号生成模块520，用于根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号，以使支撑结构根据调节信号调节支撑结构的高度。
本实施例的技术方案，通过根据待校准信号确定所述校准对象与校正系统的相对位置数据，进而根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号。由于校准对象与校正系统的相对位置数据能够表征校准对象与校正系统的相对位置，因此控制器根据相对位置数据生成的调节信号，能够通过调整支撑结构的高度精准控制校正系统与校准对象的相对位置，以使校正系统与校准对象之间的相对位置处于所需要位置，也即保证校准对象正常工作，解决了现有校正系统无法满足校正需求，以及用户体验较差的问题，能够提高校正效果，满足校正需求，提升用户满意度。
可选的，调节信号生成模块520，具体用于：确定所述第一待检测区域、所述第二待检测区域、所述第三待检测区域以及所述第四待检测区域的待校准信号；根据所述第一待检测区域和所述第四待检测区域的待校准信号确定所述校准对象的倾斜状态；根据所述第一待检测区域、所述第二待检测区域、所述第三待检测区域以及所述第四待检测区域的待校准信号确定所述校准对象的接触面的平整状态；根据所述校准对象的倾斜状态和接触面的平整状态生成所述调节信号。
可选的，调节信号生成模块520，具体用于：根据所述第一待检测区域与所述第四待检测区域的待校准信号的差值确定所述校准对象的倾斜状态。
可选的，调节信号生成模块520，具体用于：确定所述第一待检测区域与所述第二待检测区域的待校准信号的第一比值，以及所述第四待检测区域与所述第三待检测区域的待校准信号的第二比值；根据所述第一比值以及所述第二比值确定所述校准对象的接触面的平整状态。
可选的，调节信号生成模块520，具体用于：确定所述待校准信号的目标校准信号；根据所述第一待检测区域和所述第四待检测区域的目标校准信号确定所述校准对象的倾斜状态；根据所述第一待检测区域、所述第二待检测区域、所述第三待检测区域以及所述第四待检测区域的目标校准信号确定所述校准对象的接触面的平整状态。
可选的，调节信号生成模块520，具体用于：在所述校准对象的倾斜状态为第一倾斜状态的情况下，根据第一调节信号调节所述支撑结构，以使所述连接结构根据第一结构状态校准所述校正系统与所述校准对象的相对位置；在所述校准对象的倾斜状态为第二倾斜状态的情况下，根据第二调节信号调节所述支撑结构，以使所述连接结构根据第二结构状态校准所述校正系统与所述校准对象的相对位置。
可选的，所述第一倾斜状态为所述校准对象的接触面的第一目标位置高于第二目标位置状态；所述第二倾斜状态为所述校准对象的接触面的第一目标位置低于第二目标位置状态。
可选的，调节信号生成模块520，具体用于：在确定所述校准对象的接触面存在第一异常结构的情况下，根据所述第一异常结构在所述校准对象的接触面中的相对位置生成第三调节信号，根据所述第三调节信号调节所述支撑结构，以使所述连接结构根据第三结构状态校准所述连接结构与所述校准对象的接触面的相对位置，使得所述连接结构中对应于所述第一异常结构的第一目标位置区域低于对应于非第一异常结构的第二目标位置区域；在确定所述校准对象的接触面存在第二异常结构的情况下，根据所述第二异常结构在所述校准对象的接触面中的相对位置生成第四调节信号，根据所述第四调节信号调节所述支撑结构，以使所述连接结构根据第四结构状态校准所述连接结构与所述校准对象的接触面的相对位置，使得所述连接结构中对应于所述第二异常结构的第三目标位置区域高于对应于非第二异常结构的第四目标位置区域。
可选的，所述第一异常结构为凸起结构；所述第二异常结构为凹陷结构。
上述校正装置可执行本发明任意实施例所提供的校正方法，具备执行方法相应的功能模块和有益效果。未在本实施例中详尽描述的技术细节，可参见本发明任意实施例提供的校正方法。
由于上述所介绍的校正装置为可以执行本发明实施例中的校正方法的装置，故而基于本发明实施例中所介绍的校正方法，本领域所属技术人员能够了解本实施例的校正装置的具体实施方式以及其各种变化形式，所以在此对于该校正装置如何实现本发明实施例中的校正方法不再详细介绍。只要本领域所属技术人员实施本发明实施例中校正方法所采用的装置，都属于本申请所欲保护的范围。
实施例六
图13为本发明实施例六提供的一种电子设备的结构示意图。图13示出了适于用来实现本发明实施方式的电子设备612的框图。图13显示的电子设备612仅仅是一个示例，不应对本发明实施例的功能和使用范围带来任何限制。
如图13所示，电子设备612以通用计算设备的形式表现。电子设备612的组件可以包括但不限于：一个或者多个处理器616，存储装置628，连接不同系统组件（包括存储装置628和处理器616）的总线618。
总线618表示几类总线结构中的一种或多种，包括存储器总线或者存储器控制器，外围总线，图形加速端口，处理器或者使用多种总线结构中的任意总线结构的局域总线。举例来说，这些体系结构包括但不限于工业标准体系结构（Industry StandardArchitecture，ISA）总线，微通道体系结构（Micro Channel Architecture，MCA）总线，增强型ISA总线、视频电子标准协会（Video Electronics Standards Association，VESA）局域总线以及外围组件互连（Peripheral Component Interconnect，PCI）总线。
电子设备612典型地包括多种计算机系统可读介质。这些介质可以是任何能够被电子设备612访问的可用介质，包括易失性和非易失性介质，可移动的和不可移动的介质。
存储装置628可以包括易失性存储器形式的计算机系统可读介质，例如随机存取存储器（Random Access Memory，RAM）630和/或高速缓存存储器632。电子设备612可以进一步包括其它可移动/不可移动的、易失性/非易失性计算机系统存储介质。仅作为举例，存储系统634可以用于读写不可移动的、非易失性磁介质（图13未显示，通常称为“硬盘驱动器”）。尽管图13中未示出，可以提供用于对可移动非易失性磁盘（例如“软盘”）读写的磁盘驱动器，以及对可移动非易失性光盘（例如只读光盘（Compact Disc-Read Only Memory，CD-ROM）、数字视盘（Digital Video Disc-Read Only Memory，DVD-ROM）或者其它光介质）读写的光盘驱动器。在这些情况下，每个驱动器可以通过一个或者多个数据介质接口与总线618相连。存储装置628可以包括至少一个程序产品，该程序产品具有一组（例如至少一个）程序模块，这些程序模块被配置以执行本发明各实施例的功能。
具有一组（至少一个）程序模块626的程序636，可以存储在例如存储装置628中，这样的程序模块626包括但不限于操作系统、一个或者多个应用程序、其它程序模块以及程序数据，这些示例中的每一个或某种组合中可能包括网络环境的实现。程序模块626通常执行本发明所描述的实施例中的功能和/或方法。
电子设备612也可以与一个或多个外部设备614（例如键盘、指向设备、摄像头、显示器624等）通信，还可与一个或者多个使得用户能与该电子设备612交互的设备通信，和/或与使得该电子设备612能与一个或多个其它计算设备进行通信的任何设备（例如网卡，调制解调器等等）通信。这种通信可以通过输入/输出（Input/Output，I/O）接口622进行。并且，电子设备612还可以通过网络适配器620与一个或者多个网络（例如局域网（Local AreaNetwork，LAN），广域网Wide Area Network，WAN）和/或公共网络，例如因特网）通信。如图所示，网络适配器620通过总线618与电子设备612的其它模块通信。应当明白，尽管图中未示出，可以结合电子设备612使用其它硬件和/或软件模块，包括但不限于：微代码、设备驱动器、冗余处理单元、外部磁盘驱动阵列、磁盘阵列（Redundant Arrays of IndependentDisks，RAID）系统、磁带驱动器以及数据备份存储系统等。
处理器616通过运行存储在存储装置628中的程序，从而执行各种功能应用以及数据处理，例如实现本发明上述实施例所提供的校正方法：根据待校准信号确定所述校准对象与校正系统的相对位置数据；根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号。
本实施例的技术方案，通过根据待校准信号确定所述校准对象与校正系统的相对位置数据，进而根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号。由于校准对象与校正系统的相对位置数据能够表征校准对象与校正系统的相对位置，因此控制器根据相对位置数据生成的调节信号，能够通过调整支撑结构的高度精准控制校正系统与校准对象的相对位置，以使校正系统与校准对象之间的相对位置处于所需要位置，也即保证校准对象正常工作，解决了现有校正系统无法满足校正需求，以及用户体验较差的问题，能够提高校正系统的校正效果，满足校正需求，提升用户满意度。
实施例七
本发明实施例七还提供一种存储计算机程序的计算机存储介质，所述计算机程序在由计算机处理器执行时用于执行本发明上述实施例任一所述的校正方法：根据待校准信号确定所述校准对象与校正系统的相对位置数据；根据相对位置数据生成支撑结构的调节信号。
本发明实施例的计算机存储介质，可以采用一个或多个计算机可读的介质的任意组合。计算机可读介质可以是计算机可读信号介质或者计算机可读存储介质。计算机可读存储介质例如可以是但不限于电、磁、光、电磁、红外线、或半导体的系统、装置或器件，或者任意以上的组合。计算机可读存储介质的更具体的例子（非穷举的列表）包括：具有一个或多个导线的电连接、便携式计算机磁盘、硬盘、随机存取存储器（RAM）、只读存储器（ReadOnly Memory，ROM）、可擦式可编程只读存储器（（Erasable Programmable Read OnlyMemory，EPROM）或闪存）、光纤、便携式紧凑磁盘只读存储器（CD-ROM）、光存储器件、磁存储器件、或者上述的任意合适的组合。在本文件中，计算机可读存储介质可以是任何包含或存储程序的有形介质，该程序可以被指令执行系统、装置或者器件使用或者与其结合使用。
计算机可读的信号介质可以包括在基带中或者作为载波一部分传播的数据信号，其中承载了计算机可读的程序代码。这种传播的数据信号可以采用多种形式，包括但不限于电磁信号、光信号或上述的任意合适的组合。计算机可读的信号介质还可以是计算机可读存储介质以外的任何计算机可读介质，该计算机可读介质可以发送、传播或者传输用于由指令执行系统、装置或者器件使用或者与其结合使用的程序。
计算机可读介质上包含的程序代码可以用任何适当的介质传输，包括但不限于无线、电线、光缆、射频（Radio Frequency，RF）等等，或者上述的任意合适的组合。
可以以一种或多种程序设计语言或其组合来编写用于执行本发明操作的计算机程序代码，所述程序设计语言包括面向对象的程序设计语言—诸如Java、Smalltalk、C++，还包括常规的过程式程序设计语言，诸如“C”语言或类似的程序设计语言。程序代码可以完全地在用户计算机上执行、部分地在用户计算机上执行、作为一个独立的软件包执行、部分在用户计算机上部分在远程计算机上执行、或者完全在远程计算机或服务器上执行。在涉及远程计算机的情形中，远程计算机可以通过任意种类的网络，包括局域网（LAN）或广域网（WAN）连接到用户计算机，或者，可以连接到外部计算机（例如利用因特网服务提供商来通过因特网连接）。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (6)

1.一种校正系统，其特征在于，包括相对位置传感器、控制器、支撑结构以及连接结构，其中：
所述相对位置传感器与所述控制器通信连接，用于在校准对象对所述相对位置传感器执行校准动作时生成待校准信号；
所述控制器与所述连接结构连接，用于根据所述待校准信号确定所述校准对象与所述校正系统的相对位置数据，并根据所述相对位置数据生成所述支撑结构的调节信号；所述相对位置数据用于表征所述校准对象与所述校正系统的相对位置；
所述支撑结构与所述连接结构连接，用于根据所述调节信号调节所述支撑结构的高度；
所述连接结构用于连接所述支撑结构，并支撑所述相对位置传感器；
所述相对位置传感器包括第一软材料填充层、硬材料填充层、第一传感器屏蔽层、传感器上极板、第二软材料填充层、传感器下极板以及第二传感器屏蔽层；其中，
所述第一软材料填充层与所述硬材料填充层连接，用于包裹所述硬材料填充层上表面；
所述硬材料填充层与所述第一传感器屏蔽层连接，用于支撑所述第一软材料填充层；
所述第一传感器屏蔽层与所述传感器上极板连接，用于屏蔽所述传感器上极板的干扰信号；
所述传感器上极板与所述第二软材料填充层，用于在所述校准对象对所述相对位置传感器执行校准动作时与所述传感器下极板形成电压差；
所述第二软材料填充层与所述传感器下极板连接，用于填充所述传感器上极板与所述传感器下极板之间的空间；
所述传感器下极板与所述第二传感器屏蔽层连接，用于在所述校准对象对所述相对位置传感器执行校准动作时根据所述电压差生成不同待检测区域的所述待校准信号；
所述第二传感器屏蔽层用于屏蔽所述传感器下极板的干扰信号；
其中，所述待检测区域由通过传感器下极板重心的至少两条直线和预设区域划分；
所述待检测区域包括第一待检测区域、第二待检测区域、第三待检测区域以及第四待检测区域；
所述控制器，具体用于：
确定所述第一待检测区域、所述第二待检测区域、所述第三待检测区域以及所述第四待检测区域的待校准信号；
根据所述第一待检测区域和所述第四待检测区域的待校准信号确定所述校准对象的倾斜状态；
根据所述第一待检测区域、所述第二待检测区域、所述第三待检测区域以及所述第四待检测区域的待校准信号确定所述校准对象的接触面的平整状态；
根据所述校准对象的倾斜状态和接触面的平整状态生成所述调节信号；
在所述校准对象的倾斜状态为第一倾斜状态的情况下，根据第一调节信号调节所述支撑结构，以使所述连接结构根据第一结构状态校准所述校正系统与所述校准对象的相对位置；
在所述校准对象的倾斜状态为第二倾斜状态的情况下，根据第二调节信号调节所述支撑结构，以使所述连接结构根据第二结构状态校准所述校正系统与所述校准对象的相对位置；
所述第一倾斜状态为所述校准对象的接触面的第一目标位置高于第二目标位置状态；所述第二倾斜状态为所述校准对象的接触面的第一目标位置低于第二目标位置状态。
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述校正系统还包括执行伸缩部件、固定部件以及所述校准对象；其中，
所述执行伸缩部件与所述固定部件连接，用于在所述校准对象对所述相对位置传感器执行校准动作时与所述固定部件联动；
所述固定部件与所述校准对象连接，用于在所述校准对象对所述相对位置传感器执行校准动作时与所述校准对象联动，以使所述校准对象对所述相对位置传感器执行校准动作。
3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述控制器，具体用于：
根据所述第一待检测区域与所述第四待检测区域的待校准信号的差值确定所述校准对象的倾斜状态；
确定所述第一待检测区域与所述第二待检测区域的待校准信号的第一比值，以及所述第四待检测区域与所述第三待检测区域的待校准信号的第二比值；
根据所述第一比值以及所述第二比值确定所述校准对象的接触面的平整状态。
4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述控制器，具体用于：
确定所述待校准信号的目标校准信号；
根据所述第一待检测区域和所述第四待检测区域的目标校准信号确定所述校准对象的倾斜状态；
根据所述第一待检测区域、所述第二待检测区域、所述第三待检测区域以及所述第四待检测区域的目标校准信号确定所述校准对象的接触面的平整状态。
5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述控制器，具体用于：
在确定所述校准对象的接触面存在第一异常结构的情况下，根据所述第一异常结构在所述校准对象的接触面中的相对位置生成第三调节信号，根据所述第三调节信号调节所述支撑结构，以使所述连接结构根据第三结构状态校准所述连接结构与所述校准对象的接触面的相对位置，使得所述连接结构中对应于所述第一异常结构的第一目标位置区域低于对应于非第一异常结构的第二目标位置区域；
在确定所述校准对象的接触面存在第二异常结构的情况下，根据所述第二异常结构在所述校准对象的接触面中的相对位置生成第四调节信号，根据所述第四调节信号调节所述支撑结构，以使所述连接结构根据第四结构状态校准所述连接结构与所述校准对象的接触面的相对位置，使得所述连接结构中对应于所述第二异常结构的第三目标位置区域高于对应于非第二异常结构的第四目标位置区域。
6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述第一异常结构为凸起结构；所述第二异常结构为凹陷结构。
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