CN113672113A - 触摸传感器和包括触摸传感器的显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及触摸传感器和包括触摸传感器的显示装置。触摸传感器包括感测电极和多条感测线，感测电极接收触摸输入并且设置在衬底的感测区域上，多条感测线设置在衬底的非感测区域上。多条感测线中的每一条包括第一区域和第二区域以及电联接到感测电极的第一金属层和第二金属层。第二金属层设置在第一金属层上，且绝缘层介于第一金属层和第二金属层之间。感测线包括第一感测线和第二感测线。第一感测线和第二感测线包括位于第一区域中的第一金属层和第二金属层。第一感测线在第二区域中包括第一金属层而没有第二金属层，并且第二感测线在第二区域中包括第二金属层而没有第一金属层。

Description

触摸传感器和包括触摸传感器的显示装置
相关申请的交叉引用
本申请要求于2020年5月14日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0057862号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的内容通过引用整体并入本文。
技术领域
本公开的各种实施例涉及一种触摸传感器和包括该触摸传感器的显示装置，并且更具体地，涉及其中用于感测电极的至少一些区域的信号线布置在单层上的触摸传感器以及包括该触摸传感器的显示装置。
背景技术
近来，已经广泛地使用配备有触摸传感器的显示装置，该触摸传感器是能够从用户接收触摸输入的输入装置。当施加触摸输入时，触摸传感器获得电信息。电信息沿着触摸传感器的信号线被提供给显示装置的控制器。
通常，信号线沿着输出可视数据的前显示区域的周边定位。然而，最近市场上销售的显示装置的前显示区域往往很大。然而，所需的信号线数量已经增加，使得触摸传感器信号线所处的区域逐渐变小。
发明内容
本公开的各种实施例在于一种触摸传感器以及包括该触摸传感器的显示装置，该触摸传感器具有有效地布置有信号线且由此能够定位大量信号线的结构。
此外，本公开的各种实施例在于其中信号线的电阻值根据位置成线性的触摸传感器以及包括该触摸传感器的显示装置。
本公开的实施例不限于上述目的，并且本领域技术人员将从以下描述清楚地理解未提及的其它目的。
本公开的实施例可以提供一种触摸传感器，其包括接收触摸输入并且设置在衬底的感测区域上的感测电极以及设置在衬底的非感测区域上的多条感测线，其中多条感测线中的每一条包括第一区域和第二区域，并且其中多条感测线中的每一条包括电联接到感测电极的第一金属层和第二金属层，第二金属层设置在第一金属层上，并且绝缘层插入在第一金属层和第二金属层之间，其中，多条感测线包括第一感测线和第二感测线，其中，第一感测线和第二感测线各自在第一区域中包括第一金属层和第二金属层，并且其中，第一感测线在第二区域中包括第一金属层而没有第二金属层，并且第二感测线在第二区域中包括第二金属层而没有第一金属层。
第一金属层和第二金属层设置在彼此不同的层上，并且当从上方观察时，第一感测线的第一金属层在第二区域中不与第二感测线的第二金属层重叠。
第一金属层和第二金属层设置在彼此不同的层上，并且当从上方观察时，第一感测线的第一金属层在第二区域中与第二感测线的第二金属层重叠。
第二感测线的第二金属层在第二区域中与第一感测线的第一金属层重叠第一宽度，且第一宽度小于第二金属层的宽度。
第一感测线和第二感测线交替设置且彼此相邻。
第一感测线的第一金属层的宽度等于第二感测线的第二金属层的宽度。
第二金属层的厚度大于第一金属层的厚度。
多条感测线还包括第三区域，第一感测线和第二感测线各自在第三区域中包括第一金属层和第二金属层，并且第三区域中的第一感测线的第二金属层的宽度与第二区域中的第一感测线的第一金属层的宽度相对应，并且第一区域位于第二区域和第三区域之间。
第三区域中的第二感测线的第一金属层的宽度对应于第二区域中的第二感测线的第二金属层的宽度。
第三区域中的第一感测线的第二金属层具有第一宽度，第三区域中的第一感测线的第一金属层具有大于第一宽度的第二宽度，第三区域中的第二感测线的第一金属层具有第三宽度，并且第三区域中的第二感测线的第二金属层具有大于第三宽度的第四宽度。
本公开不限于上述实施例，并且本领域技术人员将从本说明书和附图清楚地理解未提及的其它实施例。
附图说明
图1是包括根据本公开的实施例的触摸传感器的显示装置的图。
图2是包括根据本公开的实施例的触摸传感器的显示模块的结构的剖视图。
图3示意性示出包括根据本公开的实施例的触摸传感器的显示面板。
图4示出根据本公开的实施例的包括触摸传感器的显示装置中的每个像素的像素驱动电路。
图5是包括根据本公开的实施例的触摸传感器的显示装置的剖视图。
图6是根据本公开的实施例的触摸传感器的剖视图。
图7是根据本公开的实施例的触摸传感器的平面图。
图8是图7的区域EA1的放大平面图。
图9是沿图8的线I-I'截取的剖视图。
图10示意性示出根据本公开的实施例的触摸传感器的感测线。
图11和图12是沿图10的线II-II'截取的剖视图。
图13是沿图10的线III-III'截取的剖视图。
图14是沿图10的线IV-IV'截取的剖视图。
图15是沿图10的线V-V'截取的剖视图。
图16示意性示出根据本公开的实施例的修改的触摸传感器。
图17是沿图16的线VI-VI'截取的剖视图。
图18是沿图16的线VII-VII'截取的剖视图。
图19示意性示出根据本公开的实施例的触摸传感器，其中感测线的至少一部分具有电阻补偿结构。
图20是沿图19的线VIII-VIII'截取的剖视图。
图21是沿图19的线IX-IX'截取的剖视图。
具体实施方式
由于本文描述的示例性实施例旨在将本公开的精神清楚地传达给本领域技术人员，因此本公开的实施例不限于示例性实施例。在不脱离本公开的精神和范围的情况下，可以在本公开的示例性实施例中进行各种改变和修改。
附图是为了容易地描述特定实施例的目的，并且可以根据需要被夸大以帮助理解本公开。
当确定与本公开相关的已知技术的详细描述可能模糊本公开的要点时，将省略详细描述。
本公开的各种实施例涉及一种触摸传感器和包括该触摸传感器的显示装置，并且更具体地，涉及一种其中用于感测电极的至少一些区域的信号线布置在单层上的触摸传感器以及包括该触摸传感器的显示装置。
在下文中，将参考图1至图21描述根据本公开的实施例的触摸传感器和包括触摸传感器的显示装置。
图1是包括根据本公开的实施例的触摸传感器的显示装置的图。
根据实施例，显示装置DD向用户提供可视数据。显示装置DD可以是包括在接收电信号时发光的发光元件的任何装置。换句话说，根据本公开的实施例的显示装置DD不限于特定的可应用对象，例如平板PC、电视、智能电话或膝上型计算机。
在实施例中，显示装置DD包括显示模块DM、显示区域DA、非显示区域NDA、感测区域SA、非感测区域NSA和像素PXL。在图1中，显示区域DA和感测区域SA由标记DD_DA(SA)指示，而非显示区域NDA和非感测区域NSA由标记DD_NDA(NSA)指示。
显示区域DA和非显示区域NDA在物理上是分开的。
显示模块DM包括显示区域DA、非显示区域NDA、感测区域SA和非感测区域NSA。
在实施例中，显示模块DM不仅通过感测区域SA显示图像，而且感测从用户接收的触摸输入或入射到其上的光。显示装置DD的触摸传感器位于感测区域SA中。
在实施例中，显示装置DD的触摸传感器不位于非感测区域NSA中。非感测区域NSA包围感测区域SA。然而，这仅仅是说明性的，并且本公开的实施例不限于此。
在实施例中，显示区域DA的一部分对应于感测区域SA。非显示区域NDA的一部分对应于非感测区域NSA。
在实施例中，显示模块DM从显示装置DD的前面输出可视数据。显示模块DM包括至少一个像素PXL。像素PXL位于显示区域DA中。
在实施例中，像素PXL包括发光元件。发光元件包括用作在接收电信号时发光的光源的材料。当接收到与要输出的图像数据相对应的电信号时，像素PXL发射通过显示区域DA输出的光。
发光元件可以是包括无机发光材料的无机发光元件，或者可以是在改变发射光的波长的同时发射光的发光元件，例如量子点显示元件。为了便于解释，将根据发光元件是包括有机发光材料的有机发光元件的情况来描述实施例，然而，应当理解，实施例不限于此。
在实施例中，显示区域DA是其中显示可视数据的区域。显示区域DA是像素PXL所在的位置。
非显示区域NDA是其中没有像素PXL的区域。
在实施例中，当从上方观察时，非显示区域NDA和显示区域DA彼此不重叠。例如，非显示区域NDA围绕显示区域DA设置。
在实施例中，非显示区域NDA包括线区域、焊盘区域或虚设区域。
图2是包括根据本公开的实施例的触摸传感器的显示模块的结构的剖视图。
参照图2，根据本公开的实施例的显示装置DD包括显示模块DM、光学透明粘合构件OCA和窗WD，显示模块DM包括显示面板DP和触摸传感器TS。
显示面板DP输出可视数据。根据实施例的显示面板DP可以是自发射显示面板中的任一者，例如使用有机发光二极管(OLED)作为发光元件的有机发光显示面板、使用纳米级发光二极管作为发光元件的纳米级LED显示面板、或者使用量子点的量子点有机发光显示(QDOLED)面板等等。然而，本公开的实施例不限于上述示例，并且在其它实施例中，显示面板DP可以是液晶显示(LCD)面板、电泳显示(EPD)面板和电润湿显示(EWD)面板中的至少一个。
在下文中，为了方便起见，将根据有机发光二极管来描述显示装置DD中的发光元件。
在实施例中，触摸传感器TS设置在显示面板DP上。触摸传感器TS位于感测区域SA中(参见图1)。
在实施例中，当接收到来自用户的触摸输入时，触摸传感器TS获取关于触摸输入的信息。触摸传感器TS使用电容感测方法来识别触摸输入。触摸传感器TS可以以互电容方法感测触摸输入，或者以自电容方法感测触摸输入。
在实施例中，窗WD设置在显示模块DM上。窗WD是透明的透光衬底。窗WD和显示模块DM通过光学透明粘合构件OCA彼此联接。窗WD可以在传输可视数据的同时减轻显示装置DD上的外部冲击。
图3示意性示出包括根据本公开的实施例的触摸传感器的显示面板。
参照图3，在实施例中，显示面板DP包括衬底SUB、像素PXL、驱动器和线组件。驱动器控制扫描驱动器SDV、发射驱动器EDV和数据驱动器DDV。
在实施例中，衬底SUB包括显示区域DA和非显示区域NDA。
在实施例中，像素PXL位于衬底SUB上。像素PXL位于显示区域DA中。像素PXL沿在第一方向DR1延伸的行和在第二方向DR2延伸的列以矩阵形式排列。显示区域DA形成由第一方向DR1和第二方向DR2限定的平面，并且在垂直于第一方向DR1和第二方向DR2的平面的第三方向DR3上投射图像。
在实施例中，扫描驱动器SDV、发射驱动器EDV、数据驱动器DDV和线组件位于非显示区域NDA中。
根据显示装置DD的目的，衬底SUB可以包括刚性材料或柔性材料。然而，并入本公开的实施例中的衬底SUB的材料不限于特定材料。
在实施例中，当从上方观察时，驱动器位于非显示区域NDA中。驱动器向像素PXL输出电信息。当像素PXL接收到电信息时，像素PXL中的发光元件发光。
扫描驱动器SDV沿着扫描线向像素PXL发送扫描信号。
发射驱动器EDV沿着发射控制线向像素PXL发送发射控制信号。
数据驱动器DDV沿着数据线向像素PXL发送数据信号。
当从上方观察时，线组件位于非显示区域NDA中。线组件将驱动器与像素PXL电联接。
图4示出根据本公开的实施例的在包括触摸传感器的显示装置中提供的每个像素的像素驱动电路。
在包括根据本公开的实施例的触摸传感器的显示装置中，每个像素PXL包括像素驱动电路PC。
在实施例中，像素驱动电路PC包括第一晶体管T1至第七晶体管T7以及存储电容器Cst。像素驱动电路PC电联接至有机发光二极管OLED。
在实施例中，第一晶体管T1的第一电极经由第五晶体管T5联接到第一电源ELVDD，并且第一晶体管T1的第二电极可以经由第六晶体管T6联接到有机发光二极管OLED的阳极电极。第一晶体管T1基于第一节点N1的电压信息控制从第一电源ELVDD经由有机发光二极管OLED流到第二电源ELVSS的电流的数据。第一晶体管T1是驱动晶体管。
在实施例中，第二晶体管T2联接在第j数据线Dj和第一晶体管T1的第一电极之间。第二晶体管T2的栅电极联接到第i扫描线Si。当从第i扫描线Si接收到扫描信号时，第二晶体管T2导通，使得第一晶体管T1的第一电极与第j数据线Dj电联接。第二晶体管T2是开关晶体管。
在实施例中，第三晶体管T3联接在第一晶体管T1的第二电极和第一节点N1之间。当从第i扫描线Si接收到栅极导通电压的扫描信号时，第三晶体管T3导通，使得第一晶体管T1的第二电极与第一节点N1电联接。因此，当第三晶体管T3导通时，第一晶体管T1以二极管的形式连接。
在实施例中，第四晶体管T4联接在第一节点N1和初始化电源线IPL之间，其中初始化电源Vint应用于初始化电源线IPL。第四晶体管T4的栅电极可以联接到第i-1扫描线Si-1。当从第i-1扫描线Si-1接收到扫描信号时，第四晶体管T4导通，从而将初始化电源Vint的电压提供给第一节点N1。第四晶体管T4是初始化晶体管。
在实施例中，第五晶体管T5联接在电源线PL和第一晶体管T1之间，其中，从电源线PL接收第一电源ELVDD。第五晶体管T5的栅电极联接到第i发射控制线Ei。第五晶体管T5在从第i发射控制线Ei接收到栅极截止电压的发射控制信号(例如高电平电压)时被截止，并且在其它情况下被导通。
在实施例中，第六晶体管T6联接在第一晶体管T1和有机发光二极管OLED之间。第六晶体管T6的栅电极联接到第i发射控制线Ei。第六晶体管T6在从第i发射控制线Ei接收到栅极截止电压的发射控制信号时被截止，并且在其它情况下被导通。
在实施例中，第七晶体管T7联接在初始化电源线IPL和有机发光二极管OLED的第一电极之间。例如，第一电极可以是阳极电极。第七晶体管T7的栅电极联接到第i+1扫描线Si+1。当从第i+1扫描线Si+1接收到栅极导通电压(例如低电平电压)的扫描信号时，第七晶体管T7导通，从而将初始化电源Vint的电压提供给有机发光二极管OLED的阳极电极。施加到第七晶体管T7的栅电极的信号具有与从第i扫描线Si施加的栅极导通电压的扫描信号相同的定时。
在实施例中，初始化电源Vint的电压被设置为低于数据信号的电压。例如，初始化电源Vint的电压被设置为等于或小于数据信号的最小电压。
在实施例中，存储电容器Cst联接在第一节点N1和通过其接收第一电源ELVDD的电源线PL之间。存储电容器Cst存储对应于数据信号和第一晶体管T1的阈值电压二者的电压。
在实施例中，有机发光二极管OLED的阳极电极经由第六晶体管T6联接到第一晶体管T1。有机发光二极管OLED的阴极电极联接到第二电源ELVSS。
在实施例中，有机发光二极管OLED发射具有对应于从第一晶体管T1接收的电流的亮度的光。第一电源ELVDD的电压设定为高于第二电源ELVSS的电压的值，以允许电流流向有机发光二极管OLED。
在实施例中，有机发光二极管OLED是上述有机发光二极管。有机发光二极管OLED发射红色、绿色、蓝色和白色中的至少一种的光。
尽管图4示出使用第i扫描线Si、第i-1扫描线Si-1和第i+1扫描线Si+1的信号来驱动像素PXL，但本公开的实施例不限于此。例如，第i扫描线Si、第i-1扫描线Si-1和第i+1扫描线Si+1可以是分别从不同的扫描驱动器SDV接收扫描信号的不同的信号线。
在下文中，将参考图5详细描述包括根据本公开的实施例的触摸传感器的显示装置的结构。
图5是包括根据本公开的实施例的触摸传感器的显示装置的剖视图。图5示出当在第一方向DR1上观看图1的显示装置时的显示装置的结构。
为了便于解释，图5示出与图4中所示的第一晶体管T1至第七晶体管T7中的第二晶体管T2和第六晶体管T6相对应的部分的截面。
根据本公开的实施例的显示装置DD包括衬底SUB、组件像素电路单元PCL、发光元件单元DPL和薄膜封装层TFE。
根据显示装置DD的目的，衬底SUB可以包括刚性材料或柔性材料。柔性材料可包括聚苯乙烯、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸甲酯、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、三乙酸纤维素和乙酸丙酸纤维素中的至少一种。然而，衬底SUB的材料不限于具体公开的材料。
在实施例中，像素PXL位于衬底SUB上。像素电路单元PCL包括缓冲层BFL、栅极绝缘层GI、第二晶体管T2、第六晶体管T6、第一层间绝缘层ILD1、第二层间绝缘层ILD2、第一导线CL1、第二导线CL2、第一接触孔CH1和钝化层PSV。
在实施例中，缓冲层BFL设置在衬底SUB上。缓冲层BFL防止杂质扩散到第六晶体管T6或第二晶体管T2中。
缓冲层BFL可包括至少一种金属氧化物，例如硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOx)、硅氮氧化物(SiON)和铝氧化物(AlOx)。然而，在一些实施例中，省略了缓冲层BFL。
在实施例中，第二晶体管T2位于非发光区域NEMA中，而第六晶体管T6位于发光区域EMA中。然而，本公开的实施例不限于此。根据另一个实施例，第二晶体管T2位于发光区域EMA中。
在实施例中，第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个包括半导体图案SCL、源电极SE、漏电极DE和栅电极GE。
在实施例中，半导体图案SCL设置在缓冲层BFL上。
半导体图案SCL是半导体层。根据实施例，半导体图案SCL包括多晶硅、非晶硅和氧化物半导体中的至少一种。
在实施例中，半导体图案SCL包括与源电极SE接触的第一接触区域和与漏电极DE接触的第二接触区域。
在实施例中，第一接触区域和第二接触区域中的每个都是掺杂有杂质的半导体图案。第一接触区域和第二接触区域之间的区域是沟道区域。沟道区域是未掺杂杂质的本征半导体图案。
在实施例中，栅极绝缘层GI设置在半导体图案SCL和缓冲层BFL上。栅极绝缘层GI包括无机材料。例如，栅极绝缘层GI包括硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOx)、硅氮氧化物(SiON)和铝氧化物(AlOx)中的至少一种。在另一个实施例中，栅极绝缘层GI包括有机材料。
在实施例中，栅电极GE可以位于栅极绝缘层GI上。
栅电极GE的位置对应于半导体图案SCL的沟道区域的位置。例如，栅电极GE设置在半导体图案SCL的沟道区域上并且以栅极绝缘层GI插入栅电极GE和半导体图案SCL的沟道区域之间。
在实施例中，第一层间绝缘层ILD1设置在栅电极GE和栅极绝缘层GI上。类似于栅极绝缘层GI，第一层间绝缘层ILD1包括硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOx)、硅氮氧化物(SiON)和铝氧化物(AlOx)中的至少一种。
在实施例中，源电极SE和漏电极DE设置在第一层间绝缘层ILD1上。源电极SE穿过栅极绝缘层GI和第一层间绝缘层ILD1以与半导体图案SCL的第一接触区域接触，而漏电极DE穿过栅极绝缘层GI和第一层间绝缘层ILD1以与半导体图案SCL的第二接触区域接触。
在上述实施例中，第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个的源电极SE和漏电极DE被描述为穿透栅极绝缘层GI和第一层间绝缘层ILD1以电联接到相应晶体管的半导体图案SCL的单独电极。然而，本公开的实施例不限于此。在另一个实施例中，第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个的源电极SE是与相应晶体管的半导体图案SCL的沟道区域相邻的第一接触区域和第二接触区域中的一个，并且第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个的漏电极DE是与半导体图案SCL的沟道区域相邻的剩余接触区域。在这种情况下，第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个的漏电极DE通过包括接触电极等的单独的联接组件电联接到发光元件单元DPL的一些组件。
在实施例中，在源电极SE和漏电极DE以及第一层间绝缘层ILD1上设置第二层间绝缘层ILD2。类似于第一层间绝缘层ILD1和栅极绝缘层GI，第二层间绝缘层ILD2包括无机材料。无机材料包括形成第一层间绝缘层ILD1和栅极绝缘层GI的任何材料，例如硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOx)、硅氮氧化物(SiON)和铝氧化物(AlOx)中的至少一种。在另一个实施例中，第二层间绝缘层ILD2包括有机材料。
在实施例中，第一导线CL1设置在第二层间绝缘层ILD2上，并通过穿过第二层间绝缘层ILD2的接触孔电联接到源电极SE。
在实施例中，第二导线CL2设置在第二层间绝缘层ILD2上，并通过穿过第二层间绝缘层ILD2的接触孔电联接到漏电极DE。
在实施例中，第一导线CL1和第二导线CL2是电信号可以流过的路径。特别地，第二导线CL2是桥电极，其将第六晶体管T6的漏电极DE与发光元件单元DPL的其它组件电联接。根据实施例，第一导线CL1和第二导线CL2中的每个包括钼(Mo)、钨(W)、铝钕(AlNd)、钛(Ti)、铝(Al)和银(Ag)中的至少一种。
在实施例中，钝化层PSV设置在第一导线CL1和第二导线CL2以及第二层间绝缘层ILD2上。钝化层PSV包括有机绝缘层或无机绝缘层，或包括无机绝缘层以及设置在无机绝缘层上的有机绝缘层。
在实施例中，钝化层PSV包括暴露第二导线CL2的区域的第一接触孔CH1。
第一接触孔CH1提供了从第六晶体管T6接收的电信号可以通过其传输的路径。
在实施例中，发光元件单元DPL包括像素限定层PDL和有机发光二极管OLED。
像素限定层PDL限定设置有机发光二极管OLED的位置。
在实施例中，像素限定层PDL包括有机材料。例如，像素限定层PDL包括丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂和聚酰亚胺树脂中的至少一种。
有机发光二极管OLED包括第一电极AE、发光层EML和第二电极CE。有机发光二极管OLED位于显示区域DA中的钝化层PSV上。
这里，有机发光二极管OLED的发光层EML位于发光区域EMA中。有机发光二极管OLED的发光层EML不位于非发光区域NEMA中。
这里，第一电极AE和第二电极CE中的一个是阳极电极，而另一个是阴极电极。当有机发光二极管OLED是顶部发射型OLED时，第一电极AE是反射电极，且第二电极CE是透射电极。在下文中，根据顶部发射型OLED来描述有机发光二极管OLED，并且第一电极AE是阳极电极。然而，本公开的实施例不限于此，并且在其它实施例中，有机发光二极管OLED可以是底部发射型OLED。
在实施例中，第一电极AE设置在显示区域DA中的钝化层PSV上。第一电极AE通过第一接触孔CH1电联接到第二导线CL2。第一电极AE包括反射光的反射层，或设置在反射层上或之下的透明导电层。例如，第一电极AE可以具有多层结构，其包括由铟锡氧化物(ITO)制成的下部透明导电层、设置在下部透明导电层上并由银制成的反射层、以及设置在反射层上并由铟锡氧化物(ITO)制成的上部透明导电层。透明导电层和反射层中的至少一个通过钝化层PSV的第一接触孔CH1电联接到第六晶体管T6的漏电极DE。
在实施例中，发光层EML设置在由像素限定层PDL中的开口暴露的区域中。发光层EML限定了发光区域EMA，光从该发光区域EMA发射。发光层EML包括有机材料。
更具体地，在实施例中，发光层EML具有至少包括光生成层的多层薄膜结构。发光层EML包括空穴注入层、空穴传输层、光生成层、空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层，其中，空穴注入到空穴注入层中；空穴传输层具有优异的空穴传输性能，并且抑制与光生成层中的空穴不联接的电子的移动，且由此增加空穴和电子之间的复合的机会；光生成层通过所注入的电子和空穴的复合而发光；空穴阻挡层抑制与光生成层中的电子不联接的空穴的移动；电子通过电子传输层传输到光生成层；电子被注入到电子注入层中。如上所述，当电信号被施加到发光层EML时，光被发射。从发光层EML产生的光的颜色是红色、绿色、蓝色和白色中的一种，但是本公开的实施例不限于此。在另一个实施例中，从发光层EML产生的光的颜色是品红色、青色和黄色中的一种。
在实施例中，第二电极CE设置在发光层EML和像素限定层PDL上。尽管第二电极CE可以以板的形式设置在显示区域DA上，但是本公开的实施例不限于此。第二电极CE包括透明导电材料，例如透明导电氧化物，其可以是铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、铝锌氧化物(AZO)、镓掺杂锌氧化物(GZO)、锌锡氧化物(ZTO)、镓锡氧化物(GTO)和氟掺杂锡氧化物(FTO)中的一种。在实施例中，当有机发光二极管OLED是底部发射型OLED时，第二电极CE包括半透明导电材料，例如镁(Mg)或银(Ag)、或者镁(Mg)和银(Ag)的合金。
在实施例中，薄膜封装层TFE设置在第二电极CE上。薄膜封装层TFE包括覆盖有机发光二极管OLED的多个绝缘层。具体而言，薄膜封装层TFE包括至少一个无机层或至少一个有机层。例如，薄膜封装层TFE具有通过交替堆叠无机层和有机层形成的结构。
图6是根据本公开的实施例的触摸传感器的剖视图。
参照图6，在实施例中，触摸传感器TS包括基础层BSL、第一导电图案CP1、第一绝缘层INS1、第二导电图案CP2和第二绝缘层INS2。
在实施例中，基础层BSL是绝缘层，并且位于薄膜封装层TFE上。
第一导电图案CP1设置在基础层BSL上。
第一绝缘层INS1设置在第一导电图案CP1上。
第二导电图案CP2设置在第一绝缘层INS1上。
第二绝缘层INS2设置在第二导电图案CP2上。
然而，在另一个实施例中，省略了基础层BSL。在这种情况下，第一导电图案CP1设置在薄膜封装层TFE上。
在实施例中，第一导电图案CP1和第二导电图案CP2中的一个或两个形成为单层。在这种情况下，第一导电图案CP1和第二导电图案CP2中的一个或两个包括金属层或透明导电层。例如，金属层包括钼、银、钛、铜和铝中的一种或多种或它们的合金。透明导电层包括透明导电氧化物，例如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、锌氧化物(ZnO)和铟锡锌氧化物(ITZO)中的一种或多种。此外，透明导电层可包括PEDOT、金属纳米线和石墨烯中的一种或多种。
在实施例中，第一导电图案CP1和第二导电图案CP2中的一个或两个形成为多层。在这种情况下，第一导电图案CP1和第二导电图案CP2中的一个或两个包括多个金属层。例如，多个金属层可以是钛/铝/钛的三层结构。
在实施例中，第一绝缘层INS1和第二绝缘层INS2中的每个都包括无机材料或有机材料。无机材料包括例如铝氧化物、钛氧化物、硅氧化物、硅氮化物、硅氮氧化物、锆氧化物和铪氧化物中的至少一种。有机材料包括丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、聚异戊二烯、乙烯基树脂、环氧基树脂、氨基甲酸酯基树脂、纤维素基树脂、硅氧烷基树脂、聚酰亚胺基树脂、聚酰胺基树脂和二萘嵌苯基树脂中的至少一种。
在下文中，将参考图7至图9描述根据本公开的实施例的触摸传感器。
图7是根据本公开的实施例的触摸传感器的平面图。
在实施例中，触摸传感器TS包括基础层BSL、第一感测线SL1和第二感测线SL2。
在实施例中，基础层BSL包括感测区域SA、非感测区域NSA和焊盘区域PDA。
基础层BSL可以包括增强玻璃、透明塑料或透明膜。根据实施例，基础层BSL包括与显示面板DP的衬底SUB相同的材料，显示面板DP已经在上面参考图3至图5进行了描述。
在实施例中，感测区域SA位于基础层BSL的中央区域，并且至少部分地与显示面板DP的显示区域DA重叠。触摸输入可以施加到其上的传感器电极设置在感测区域SA中。
在实施例中，非感测区域NSA位于基础层BSL的周边区域中，并且至少部分地与显示面板DP的非显示区域NDA重叠。感测线SL设置在非感测区域NSA中，该感测线SL电联接到传感器电极并且可以发送关于触摸输入的电信息。感测线SL的数量至少为两条或更多。感测线SL包括第一感测线SL1和第二感测线SL2。
在实施例中，焊盘区域PDA位于非感测区域NSA的至少一部分中，并且包括电联接到感测线SL的焊盘PD。可以提供多个焊盘PD。
在实施例中，传感器电极包括多个传感器图案SP、第一桥接图案BRP1和第二桥接图案BRP2。
在实施例中，多个传感器图案SP包括多个第一传感器图案SP1和多个第二传感器图案SP2。第一传感器图案SP1电联接到第一感测线SL1和焊盘PD。第二传感器图案SP2电联接到第二感测线SL2和焊盘PD。第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2位于同一层上。多个第一传感器图案SP1布置在第一方向DR1上，并且多个第二传感器图案SP2布置在第二方向DR2上。
在实施例中，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2包括导电材料。导电材料包括金属、其合金、导电聚合物、导电金属氧化物和纳米导电材料中的至少一种，但实施例不限于上述材料。
根据本公开的实施例的触摸传感器TS基于在第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2之间形成的电容的变化来获取关于用户的触摸输入的信息。
在实施例中，第一感测线SL1电联接到第一传感器图案SP1。第一感测线SL1中的每个分别电联接到多个第一传感器图案SP1中的一个传感器行。当从上方观察时，第一感测线SL1在非感测区域NSA中弯曲至少一次。第一感测线SL1包括在第二方向DR2上延伸的部分。
在实施例中，第二感测线SL2电联接到第二传感器图案SP2。第二感测线SL2中的每个分别电联接到多个第二传感器图案SP2中的一个传感器列。当从上方观察时，第二感测线SL2在非感测区域NSA中弯曲至少一次。第二感测线SL2包括在第一方向DR1上延伸的部分。
由于下面将描述第一感测线SL1和第二感测线SL2，因此这里将省略对它们的重复描述。
图8是图7的区域EA1的放大平面图。
参照图8，在实施例中，第一桥接图案BRP1电联接相邻的第一传感器图案SP1。第二桥接图案BRP2电联接相邻的第二传感器图案SP2。在实施例中，第一桥接图案BRP1和第一传感器图案SP1设置在不同的层中，并且，第二桥接图案BRP2与第二传感器图案SP2一体地形成。在图8中未示出，在其它实施例中，第一桥接图案BRP1与第一传感器图案SP1一体地形成。
在实施例中，通过重复布置单元传感器块USB来形成触摸传感器TS。单元传感器块USB是具有预定面积并且包括相邻第一传感器图案SP1的至少一部分和相邻第二传感器图案SP2的至少一部分的虚拟单元块。单元传感器块USB对应于第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2的排列图案的最小重复单元。
图9是沿图8的线I-I'截取的剖视图。
参照图9，在实施例中，基础层BSL设置在薄膜封装层TFE上。基础层BSL可以包括包含有机材料的有机绝缘层或包含无机材料的无机绝缘层。在另一个实施例中，省略了基础层BSL。
在实施例中，第一桥接图案BRP1设置在基础层BSL上。第一绝缘层INS1设置在第一桥接图案BRP1上。第一绝缘层INS1包括与基础层BSL基本相同的材料，但不限于此。第一桥接图案BRP1包括在上面已经参考图6描述的第一导电图案CP1中。
在实施例中，第一传感器图案SP1设置在第一绝缘层INS1上。第一传感器图案SP1通过接触孔CNT电联接到第一桥接图案BRP1。第一传感器图案SP1包括导电材料。尽管导电材料可以包括透明导电氧化物或金属，但是本公开的实施例不限于上述示例。
在实施例中，第二传感器图案SP2设置在第一绝缘层INS1上。尽管第二传感器图案SP2包括与第一传感器图案SP1的导电材料类似的导电材料，但是本公开的实施例不限于此。第二传感器图案SP2通过与第二传感器图案SP2成一体的第二桥接图案BRP2联接到相邻的第二传感器图案SP2。
在实施例中，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2被包括在上面已经参考图6描述的第二导电图案CP2中。
在实施例中，第二绝缘层INS2设置在第一绝缘层INS1上并覆盖第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2。第二绝缘层INS2保护第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2免受外部影响。第二绝缘层INS2是柔性的，并且可以使下面的结构的任何曲率平滑和平坦化。
在上述实施例中，第一桥接图案BRP1包括在第一导电图案CP1中，并且第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2包括在第二导电图案CP2中。然而，本公开的实施例不限于此。在另一个实施例中，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2被包括在第一导电图案CP1中，并且第一桥接图案BRP1包括在第二导电图案CP2中。
在下文中，将参考图10至图21详细描述根据本公开的实施例的触摸传感器的感测线。
图10示意性示出根据本公开的实施例的触摸传感器的感测线。更具体地，图10示出图7的区域EA2。在图10中，省略了设置在感测区域SA中的第一传感器图案SP1、第二传感器图案SP2和第二桥接图案BRP2。
在下文中，为了方便起见，将参考第二感测线SL2来描述触摸传感器TS的“感测线”。然而，本公开的实施例不限于此，并且应当考虑以下描述来解释第一感测线SL1或与其对应的电联接配置。
在实施例中，第二感测线SL2位于非感测区域NSA中。第二感测线SL2设置在基础层BSL上。感测电极不设置在非感测区域NSA中。非感测区域NSA中的组件将不感测从用户接收的触摸输入。
在实施例中，第二感测线SL2包括第2a感测线SL2_a、第2b感测线SL2_b、第2c感测线SL2_c、第2d感测线SL2_d和第2e感测线SL2_e。如上所述，第二感测线SL2电联接到第二传感器图案SP2。尽管第二感测线SL2被描述为包括五条感测线，但是本公开的实施例不限于此。换句话说，在其它实施例中，第二感测线SL2的数量可以变化。
在实施例中，第2a感测线SL2_a、第2b感测线SL2_b、第2c感测线SL2_c、第2d感测线SL2_d和第2e感测线SL2_e中的每个包括第一金属层MTL1和第二金属层MTL2。
在实施例中，用双层结构实现第二感测线SL2的至少一部分。第一金属层MTL1和第二金属层MTL2设置在彼此不同的层上。第一金属层MTL1形成第二感测线SL2的第一层320(如图11中所示)，并且第二金属层MTL2形成第二感测线SL2的第二层340(如图11中所示)。这里，绝缘层位于第一层320和第二层340之间。第一层320和第二层340被绝缘层分开。例如，第一绝缘层INS1(如图11中所示)可以位于第二感测线SL2的第一层320和第二层340之间。第一层320是位于第一绝缘层INS1下方的第一金属层MTL1，且第二层340是位于第一绝缘层INS1上的第二金属层MTL2。
在下文中，对应于第一金属层MTL1的层被称为第一层320，而对应于第二金属层MTL2的层被称为第二层340。
在实施例中，第一金属层MTL1和第二金属层MTL2具有不同的导电图案。
在实施例中，第一金属层MTL1和第二金属层MTL2通过接触孔CH彼此电或物理联接。
在实施例中，第二感测线SL2的至少一部分具有第一金属层MTL1和第二金属层MTL2中的一个。更具体地，第二感测线SL2包括第一线区域100和第二线区域200。第二感测线SL2在第一线区域100中包括第一金属层MTL1和第二金属层MTL2。相反，第二感测线SL2在第二线区域200中包括第一金属层MTL1和第二金属层MTL2中的一个。
在实施例中，在第二线区域200中，第2a感测线SL2_a具有包括第一金属层MTL1而没有第二金属层MTL2的单层结构，第2b感测线SL2_b具有包括第二金属层MTL2而没有第一金属层MTL1的单层结构，第2c感测线SL2_c具有包括第一金属层MTL1而没有第二金属层MTL2的单层结构，第2d感测线SL2_d具有包括第二金属层MTL2而没有第一金属层MTL1的单层结构，并且第2e感测线SL2_e具有包括第一金属层MTL1而没有第二金属层MTL2的单层结构。
在实施例中，考虑第2a感测线SL2_a、第2c感测线SL2_c和第2e感测线SL2_e作为第一感测线，以及第2b感测线SL2_b和第2d感测线SL2_d作为第二感测线，从图10中可以看出，第一感测线和第二感测线交替地设置并彼此相邻地设置在衬底SUB上。
图11和图12是沿图10的线II-II'截取的剖视图。换句话说，图11和图12示出第二感测线SL2的第二线区域200。
参照图11，在实施例中，将第2a感测线SL2_a、第2c感测线SL2_c和第2e感测线SL2_e中的每个的第一金属层MTL1设置在基础层BSL上。第一绝缘层INS1设置在第2a感测线SL2_a、第2c感测线SL2_c和第2e感测线SL2_e中的每个的第一金属层MTL1上。
在实施例中，第二线区域200中的第二感测线SL2的第一层320的尺寸(例如表面或长度)彼此相等。更具体地，第二线区域200中的第2a感测线SL2_a的第一金属层MTL1的宽度、第二线区域200中的第2c感测线SL2_c的第一金属层MTL1的宽度、以及第二线区域200中的第2e感测线SL2_e的第一金属层MTL1的宽度彼此相等。也就是说，对于第二线区域200中的第2a感测线SL2_a、第2c感测线SL2_c和第2e感测线SL2_e中的每个，每单位长度的电阻值基本上相同。
在实施例中，第二线区域200中的第2b感测线SL2_b的第二金属层MTL2和第二线区域200中的第2d感测线SL2_d的第二金属层MTL2设置在第一绝缘层INS1上。第二绝缘层INS2设置在第2b感测线SL2_b的第二金属层MTL2和第2d感测线SL2_d的第二金属层MTL2上。
在实施例中，第二线区域200中的第二感测线SL2的第二层340的尺寸(例如表面或长度)彼此相等。详细地，第二线区域200中的第2b感测线SL2_b的第二金属层MTL2的宽度和第二线区域200中的第2d感测线SL2_d的第二金属层MTL2的宽度彼此相等。也就是说，第二线区域200的第2b感测线SL2_b和第2d感测线SL2_d中的每个的每单位长度的电阻值基本上相同。
在实施例中，第二感测线SL2的第二层340的厚度大于第二感测线SL2的第一层320的厚度。第二感测线SL2的第二金属层MTL2的厚度大于第二感测线SL2的第一金属层MTL1的厚度。
在实施例中，当在垂直于基础层BSL的表面的方向上观察时，第二感测线SL2的第二层340不与第二感测线SL2的第一层320重叠。例如，当从上方观察时，第2b感测线SL2_b的第二金属层MTL2不与第2a感测线SL2_a或第2c感测线SL2_c的第一层320重叠。当从上方观察时，第2d感测线SL2_d的第二金属层MTL2不与第2c感测线SL2_c或第2e感测线SL2_e的第一层320重叠。如本文所用的表述“当从上方观察时”是指在垂直于基础层BSL的表面的方向(即参照图1中所示的第三方向DR3)上观察时的情况。
也就是说，在实施例中，当从上方观察时，第二层340的第二金属层MTL2和第一层320的第一金属层MTL1具有其中至少一些区域未对准的层结构。换句话说，当从上方观察时，在第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每个的第二线区域200中的层结构的金属层不与位于相邻的第二感测线SL2的第二线区域200中的层结构的金属层重叠。
图12的剖视图说明了上面已经参考图11描述的第二感测线SL2的修改结构。
参照图12，在实施例中，第2b感测线SL2_b的第二层340的至少一部分与第2a感测线SL2_a的第一金属层MTL1或第2c感测线SL2_c的第一金属层MTL1重叠。当从上方观察时，第2a感测线SL2_a具有与第2b感测线SL2_b重叠的第一重叠区域122。当从上方观察时，第2c感测线SL2_c具有与第2b感测线SL2_b重叠的第二重叠区域124。第一重叠区域122的宽度和第二重叠区域124的宽度小于第2b感测线SL2_b的宽度。
在实施例中，第2d感测线SL2_d的第二层340的至少一部分与第2c感测线SL2_c的第一金属层MTL1或第2e感测线SL2_e的第一金属层MTL1重叠。当从上方观察时，第2c感测线SL2_c具有与第2d感测线SL2_d重叠的第三重叠区域126。当从上方观察时，第2e感测线SL2_e具有与第2d感测线SL2_d重叠的第四重叠区域128。第三重叠区域126的宽度和第四重叠区域128的宽度小于第2d感测线SL2_d的宽度。
图13是沿图10的线III-III'截取的剖视图。换句话说，图13示出第二感测线SL2的第一线区域100。
在实施例中，第二感测线SL2的每个的第一金属层MTL1和第二金属层MTL2位于第一线区域100中。换句话说，第二感测线SL2中的每一者在第一线区域100中以双层实施。第2a感测线SL2_a、第2b感测线SL2_b、第2c感测线SL2_c、第2d感测线SL2_d和第2e感测线SL2_e中的每个的第一金属层MTL1位于第一线区域100中的第一层320中。第2a感测线SL2_a、第2b感测线SL2_b、第2c感测线SL2_c、第2d感测线SL2_d和第2e感测线SL2_e中的每个的第二金属层MTL2位于第一线区域100的第二层340中。
在实施例中，在第一线区域100中，第2a感测线SL2_a的第一金属层MTL1的宽度等于第2a感测线SL2_a的第二金属层MTL2的宽度，第2b感测线SL2_b的第一金属层MTL1的宽度等于第2b感测线SL2_b的第二金属层MTL2的宽度，第2c感测线SL2_c的第一金属层MTL1的宽度等于第2c感测线SL2_c的第二金属层MTL2的宽度，第2d感测线SL2_d的第一金属层MTL1的宽度等于第2d感测线SL2_d的第二金属层MTL2的宽度，以及第2e感测线SL2_e的第一金属层MTL1的宽度等于第2e感测线SL2_e的第二金属层MTL2的宽度。
图14是沿图10的线IV-IV'截取的剖视图。图14示出在第二线区域200中，第二感测线SL2包括第一金属层MTL1但不包括第二金属层MTL2的实施例。
尽管图14示出第2a感测线SL2_a，但是第2c感测线SL2_c和第2e感测线SL2_e具有基本上相似的结构，并且应该考虑图14中的第2a感测线SL2_a的结构来解释。
参照图14，在实施例中，第一金属层MTL1设置在基础层BSL上。第一绝缘层INS1设置在第一金属层MTL1上。
在实施例中，第二金属层MTL2设置在第一线区域100中的第一绝缘层INS1上。在第一线区域100中，第一金属层MTL1通过接触孔CH电联接到第二金属层MTL2。在第一线区域100中，第二绝缘层INS2设置在第二金属层MTL2上。
在实施例中，第二金属层MTL2不设置在第二线区域200中的第一绝缘层INS1上。在第二线区域200中，第二绝缘层INS2设置在第一绝缘层INS1上。
在实施例中，在第一线区域100中，第2a感测线SL2_a包括第一金属层MTL1和第二金属层MTL2，第一金属层MTL1位于基础层BSL上。第二金属层MTL2通过接触孔CH电联接到第一金属层MTL1，并且设置在第一金属层MTL1上且以第一绝缘层INS1插入在第一金属层MTL1和第二金属层MTL2之间。在第二线区域200中，第2a感测线SL2_a具有单层结构，其包括位于基础层BSL上的第一金属层MTL1，但不包括第二金属层MTL2。第一线区域100中的第一金属层MTL1和第二线区域200中的第一金属层MTL1一体地形成并彼此联接。
图15是沿图10的线V-V'截取的剖视图。图15示出了其中在第二线区域200中，第二感测线SL2包括第二金属层MTL2而没有第一金属层MTL1的实施例。
尽管图15示出第2b感测线SL2_b，但是第2d感测线SL2_d具有基本相似的结构，并且应该考虑到图15中的第2b感测线SL2_b的结构来解释。
参照图15，在实施例中，在第一线区域100中，第一金属层MTL1设置在基础层BSL上，并且第一绝缘层INS1设置在第一金属层MTL1上。此外，在第一线区域100中，第二金属层MTL2设置在第一绝缘层INS1上。在第一线区域100中，第一金属层MTL1可以通过接触孔CH电联接到第二金属层MTL2。在第一线区域100中，第二绝缘层INS2设置在第二金属层MTL2上。
在实施例中，在第二线区域200中，第一绝缘层INS1设置在基础层BSL上，并且第一金属层MTL1不设置在基础层BSL上。在第二线区域200中，第二金属层MTL2设置在第一绝缘层INS1上。在第二线区域200中，第二绝缘层INS2设置在第二金属层MTL2上。
在实施例中，在第一线区域100中，第2b感测线SL2_b包括第二金属层MTL2和位于基础层BSL上的第一金属层MTL1。第二金属层MTL2通过接触孔CH电联接到第一金属层MTL1，并且设置在第一金属层MTL1上且以第一绝缘层INS1插入在第一金属层MTL1和第二金属层MTL2之间。在第二线区域200中，第2b感测线SL2_b具有单层结构，该单层结构包括位于第一绝缘层INS1上的第二金属层MTL2，但不包括第一金属层MTL1。第一线区域100中的第二金属层MTL2和第二线区域200中的第二金属层MTL2一体地形成并彼此联接。
在如以上参考图14和图15所描述的实施例中，第二感测线SL2中的每个在第一线区域100中形成有双金属层，并且在第二线区域200中形成有单金属层。
根据本公开的实施例，触摸传感器TS包括设置在衬底SUB上的多条感测线SL。多条感测线SL中的每个包括第一线区域100和第二线区域200，并且多条感测线SL的每条包括电联接到感测电极SP的第一金属层MTL1和第二金属层MTL2。第二金属层MTL2设置在第一金属层MTL1上。多条感测线SL包括第一感测线和第二感测线。第一感测线和第二感测线分别在第一线区域100中包括第一金属层MTL1和第二金属层MTL2，第一感测线在第二线区域200中包括第一金属层MTL1而没有第二金属层MTL2，第二感测线在第二线区域200中包括第二金属层MTL2而没有第一金属层MTL1。第一感测线和第二感测线交替地设置在衬底SUB上并且彼此相邻。
图16示意性示出根据本公开的修改实施例的触摸传感器。
参照图16，第二线区域200可以位于多个第一线区域102和104之间。
在实施例中，第二线区域200中的金属层具有这样的层结构，与其中通过一条金属线实现多个层的结构相比，该层结构允许在第二感测线SL2中设置更多的线。也就是说，在实施例中，第二线区域200选择性地位于其中布置有线的区域相对较小的位置。根据实施例，并参考结合图11和图12描述的层结构，第二线区域200位于显示装置DD的下端。或者，第二线区域200可以位于显示装置DD的边缘区域或拐角区域中。
图17是沿图16的线VI-VI'截取的剖视图。尽管图17示出第2a感测线SL2_a，但是第2c感测线SL2_c和第2e感测线SL2_e具有基本上相似的结构，并且应该考虑到图17的第2a感测线SL2_a的结构来解释。
参照图17，在实施例中，第一线区域100包括第1-1线区域102和第1-2线区域104。第二线区域200位于第1-1线区域102和第1-2线区域104之间。
在实施例中，第一金属层MTL1设置在基础层BSL上。第一绝缘层INS1设置在第一金属层MTL1上。
在实施例中，在第1-1线区域102和第1-2线区域104中，第二金属层MTL2设置在第一绝缘层INS1上。在第1-1线区域102和第1-2线区域104中的每个中的第二金属层MTL2和第一金属层MTL1通过接触孔CH彼此电联接。第二绝缘层INS2设置在第1-1线区域102和第1-2线区域104中的第二金属层MTL2上。
在实施例中，在第二线区域200中，第二金属层MTL2不设置在第一绝缘层INS1上。第二绝缘层INS2设置在第二线区域200中的第一绝缘层INS1上。
图18是沿图16的线VII-VII'截取的剖视图。尽管图18示出第2b感测线SL2_b，但是第2d感测线SL2_d在结构上基本上是类似的，并且应当考虑到图18中的第2b感测线SL2_b的结构来解释。
参照图18，在实施例中，第一线区域100包括与图17类似的第1-1线区域102和第1-2线区域104。
在实施例中，在第1-1线区域102和第1-2线区域104中，第一金属层MTL1设置在基础层BSL上，并且第一绝缘层INS1设置在第一金属层MTL1上。第二金属层MTL2设置在第1-1线区域102和第1-2线区域104中的第一绝缘层INS1上。
在实施例中，在第二线区域200中，第一金属层MTL1不设置在基础层BSL上。第二金属层MTL2设置在第二线区域200中的第一绝缘层INS1上。第二绝缘层INS2设置在第二金属层MTL2上。
在下文中，将参考图19至图21描述根据本公开的实施例的触摸传感器的电阻补偿结构。
图19示意性示出根据本公开的实施例的触摸传感器，其中感测线的至少一部分具有电阻补偿结构。
参照图19，在实施例中，第二感测线SL2中的每个还包括第三线区域300。
在实施例中，第二感测线SL2中的每个的第一线区域100是第一金属层MTL1的宽度等于第二金属层MTL2的宽度的区域。第二感测线SL2中的每个的第二线区域200是其中第二感测线SL2具有包括第一金属层MTL1的单层结构或包括第二金属层MTL2的单层结构的区域。与第一线区域100相比，第二感测线SL2中的每个的第三线区域300是第二感测线SL2的、其中第一金属层MTL1的宽度与第二金属层MTL2的宽度不同的区域。
在实施例中，在第三线区域300中，第一金属层MTL1的宽度不同于第二金属层MTL2的宽度。例如，第2a感测线SL2_a的第一金属层MTL1的宽度不同于第2a感测线SL2_a的第二金属层MTL2的宽度。第2b感测线SL2_b的第一金属层MTL1的宽度不同于第2b感测线SL2_b的第二金属层MTL2的宽度。第2c感测线SL2_c的第一金属层MTL1的宽度不同于第2c感测线SL2_c的第二金属层MTL2的宽度。第2d感测线SL2_d的第一金属层MTL1的宽度不同于第2d感测线SL2_d的第二金属层MTL2的宽度。第2e感测线SL2_e的第一金属层MTL1的宽度不同于第2e感测线SL2_e的第二金属层MTL2的宽度。
在实施例中，如上所述，第二感测线SL2的至少一部分位于第二线区域200中，并且可以根据第二线区域200的尺寸来确定第三线区域300的尺寸。
图20是沿图19的线VIII-VIII'截取的剖视图。参照图20，第三线区域300位于一对第一线区域100之间。第一线区域100中的至少一些位于第二线区域200和第三线区域300之间。
在第三线区域300中，在实施例中，第一金属层MTL1设置在基础层BSL上，并且第一绝缘层INS1设置在第一金属层MTL1上。在第三线区域300中，第二金属层MTL2设置在第一绝缘层INS1上，而第二绝缘层INS2设置在第二金属层MTL2上。
图21是沿图19的线IX-IX'截取的剖视图。
参照图21，在实施例中，在感测线SL2的第三线区域300中，第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e的第一金属层MTL1设置在基础层BSL上，并且第一绝缘层INS1设置在第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e的第一金属层MTL1上。第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e的第二金属层MTL2设置在第一绝缘层INS1上。第二绝缘层INS2设置在第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e的第二金属层MTL2上。
在实施例中，第2a感测线SL2_a的第一金属层MTL1具有第1-1宽度322。第2a感测线SL2_a的第二金属层MTL2具有第1-2宽度332。第1-1宽度322和第1-2宽度332彼此不同。第1-1宽度322至少大于第1-2宽度332。这里，第1-1宽度322等于第二线区域200中的第2a感测线SL2_a的第一金属层MTL1的宽度。
在实施例中，第2b感测线SL2_b的第一金属层MTL1具有第2-1宽度324。第2b感测线SL2_b的第二金属层MTL2具有第2-2宽度334。第2-1宽度324和第2-2宽度334彼此不同。第2-2宽度334至少大于第2-1宽度324。这里，第2-1宽度324等于第二线区域200中的第2b感测线SL2_b的第二金属层MTL2的宽度。
在实施例中，第2c感测线SL2_c的第一金属层MTL1具有第3-1宽度326。第2c感测线SL2_c的第二金属层MTL2具有第3-2宽度336。第3-1宽度326和第3-2宽度336彼此不同。第3-1宽度326至少大于第3-2宽度336。这里，第3-1宽度326等于第二线区域200中的第2c感测线SL2_c的第一金属层MTL1的宽度。
在实施例中，第2d感测线SL2_d的第一金属层MTL1具有第4-1宽度328。第2d感测线SL2_d的第二金属层MTL2具有第4-2宽度338。第4-1宽度328和第4-2宽度338彼此不同。第4-2宽度338至少大于第4-1宽度328。这里，第4-1宽度328等于第二线区域200中的第2b感测线SL2_b的第二金属层MTL2的宽度。
在实施例中，第2e感测线SL2_e的第一金属层MTL1具有第5-1宽度329。第2e感测线SL2_e的第二金属层MTL2具有第5-2宽度339。第5-1宽度329和第5-2宽度339彼此不同。第5-1宽度329至少大于第5-2宽度339。这里，第5-1宽度329等于第二线区域200中的第2e感测线SL2_e的第一金属层MTL1的宽度。
换句话说，根据实施例，第二感测线SL2的一些区域位于第三线区域300中。因为第一金属层MTL1和第二金属层MTL2中的至少一个具有减小的宽度，所以第三线区域300中的第二感测线SL2具有改变的电阻值，并且通过形成单层结构(即，第二线区域200)引起的电阻值的改变可以被施加到双层结构(即，第一线区域100)。
以上描述仅仅是对本公开的实施例的技术思想的说明，并且对于本领域的普通技术人员显而易见的是，在不脱离本公开的实施例的范围的情况下，可以以各种方式改变和修改本公开的实施例。因此，示例性实施例可以单独地或组合地实现。
因此，由于本实施例的示例性实施例是说明性的而不是限制性的，因此应当理解，本公开的实施例的技术精神不限于示例性实施例。因此，本公开的实施例的范围仅由所附权利要求书来确定。具有等同范围的所有技术思想应当被解释为包括在本公开的实施例的范围中。
本公开的实施例提供了一种触摸传感器以及包括触摸传感器的显示装置，在该触摸传感器中，在至少一些区域中的单层上提供多条信号线，从而确保足以容纳信号线的空间。
本公开的另一个实施例提供了一种触摸传感器以及包括该触摸传感器的显示装置，在该触摸传感器中，一些区域中的信号线的宽度被改变，使得电阻数据根据位置线性地改变。
本公开的实施例不限于上述效果，并且本领域技术人员将从本说明书和附图清楚地理解未提及的其它效果。

Claims (10)

1.触摸传感器，包括：
感测电极，接收触摸输入并且设置在衬底的感测区域上；以及
多条感测线，设置在所述衬底的非感测区域上，其中，所述多条感测线中的每条包括第一区域和第二区域，并且所述多条感测线中的每条包括电联接到所述感测电极的第一金属层和第二金属层，其中，所述第二金属层设置在所述第一金属层上，并且绝缘层设置在所述第一金属层和所述第二金属层之间，
其中，所述多条感测线包括第一感测线和第二感测线，
其中，所述第一感测线和所述第二感测线各自在所述第一区域中包括所述第一金属层和所述第二金属层，以及
其中，所述第一感测线在所述第二区域中包括所述第一金属层而不具有所述第二金属层，且所述第二感测线在所述第二区域中包括所述第二金属层而不具有所述第一金属层。
2.根据权利要求1所述的触摸传感器，
其中，所述第一金属层和所述第二金属层设置在彼此不同的层上，以及
其中，当从上方观察时，所述第一感测线的所述第一金属层在所述第二区域中不与所述第二感测线的所述第二金属层重叠。
3.根据权利要求1所述的触摸传感器，
其中，所述第一金属层和所述第二金属层设置在彼此不同的层上，以及
其中，当从上方观察时，所述第一感测线的所述第一金属层在所述第二区域中与所述第二感测线的所述第二金属层重叠。
4.根据权利要求3所述的触摸传感器，
其中，所述第二感测线的所述第二金属层在所述第二区域中与所述第一感测线的所述第一金属层重叠第一宽度，以及
其中，所述第一宽度小于所述第二金属层的宽度。
5.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述第一感测线和所述第二感测线交替地设置并且彼此相邻。
6.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述第一感测线的所述第一金属层的宽度等于所述第二感测线的所述第二金属层的宽度。
7.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述第二金属层的厚度大于所述第一金属层的厚度。
8.根据权利要求1所述的触摸传感器，
其中，所述多条感测线还包括第三区域，
其中，所述第一感测线和所述第二感测线各自在所述第三区域中包括所述第一金属层和所述第二金属层，并且所述第三区域中的所述第一感测线的所述第二金属层的宽度对应于所述第二区域中的所述第一感测线的所述第一金属层的宽度，以及
其中，所述第一区域位于所述第二区域与所述第三区域之间。
9.根据权利要求8所述的触摸传感器，其中，所述第三区域中的所述第二感测线的所述第一金属层的宽度对应于所述第二区域中的所述第二感测线的所述第二金属层的宽度。
10.根据权利要求8所述的触摸传感器，
其中，所述第三区域中的所述第一感测线的所述第二金属层具有第一宽度，
其中，所述第三区域中的所述第一感测线的所述第一金属层具有大于所述第一宽度的第二宽度，
其中，所述第三区域中的所述第二感测线的所述第一金属层具有第三宽度，以及
其中，所述第三区域中的所述第二感测线的所述第二金属层具有大于所述第三宽度的第四宽度。
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