CN112198976A - 触摸传感器及具有该触摸传感器的显示装置 - Google Patents

Abstract

公开了一种触摸传感器和具有该触摸传感器的显示装置。该触摸传感器包括：基体层，包括感测区域和非感测区域；第一传感器图案和第二传感器图案，设置在感测区域中且分别沿着第一方向和第二方向布置；第一桥接图案，沿着第一方向布置；第二桥接图案，沿着第二方向布置；以及感测线，设置在非感测区域中且连接到第一传感器图案和第二传感器图案中的每个，其中，感测线中的每条包括第一金属层和第二金属层，并且绝缘层插入在第一金属层与第二金属层之间，感测线中的每条具有第一部分和第二部分，第二部分与设置在感测区域的角部处的第一桥接图案中的至少一个对应，并且感测线中的至少一条的第二部分具有仅包括第二金属层的单层结构。

Description

触摸传感器及具有该触摸传感器的显示装置

本申请要求于2019年7月8日提交的第10-2019-0082276号韩国专利申请的优先权和权益，出于所有目的将该韩国专利申请通过引用包含于此，如同在此充分阐述一样。

背景技术

发明的示例性实施例总体上涉及一种触摸传感器和具有该触摸传感器的显示装置。

技术领域

触摸传感器是一种类型的信息输入装置，并且可以在显示装置中设置和使用。例如，触摸传感器可以附着到显示面板的一个表面或者可以与显示面板一体地制造。用户可以在观看显示在显示装置的屏幕上的图像的同时通过按压或触摸触摸传感器来输入信息。

触摸传感器可以包括设置有传感器图案的感测区域和设置有感测线的非感测区域。在这种情况下，在设置有传感器图案的感测区域和设置有感测线的非感测区域中会存在每单位面积的电极图案的密度差。由于感测区域和非感测区域中的每单位面积的电极图案的密度差，因此会减小设置在感测区域的特定区域中的传感器图案的一些组件，例如，桥的宽度(或厚度)。如果桥的宽度减小，那么在感测区域的特定区域中会出现短路缺陷，从而降低触摸传感器的感测灵敏度。

在该背景技术部分中公开的以上信息仅用于理解发明构思的背景，因此，它可能包含不构成现有技术的信息。

发明内容

根据发明的示例性实施例构造的触摸传感器和包括该触摸传感器的显示装置能够通过将与位于感测区域的角部处的桥接图案相邻的至少一条感测线形成为包括与桥接图案不同的金属层的单层来增强角部处的感测灵敏度，使得感测区域中的每单位面积的电极图案的密度与非感测区域中的每单位面积的电极图案的密度相似。

发明构思的附加特征将在下面的描述中阐明，并且部分地将通过描述而明显，或者可以通过发明构思的实践来获知。

根据示例性实施例的触摸传感器包括：基体层，包括感测区域和非感测区域；多个第一传感器图案，设置在感测区域中且沿着第一方向布置；多个第一桥接图案，沿着第一方向布置，第一桥接图案中的至少一个设置在感测区域的角部处；多个第二传感器图案，设置在感测区域中且沿着与第一方向交叉的第二方向布置；多个第二桥接图案，沿着第二方向布置；以及多条感测线，设置在非感测区域中且连接到第一传感器图案和第二传感器图案中的每个，其中，感测线中的每条包括第一金属层和设置在第一金属层上的第二金属层，并且绝缘层插入在第一金属层与第二金属层之间，感测线中的每条具有第一部分和第二部分，第二部分与第一桥接图案中的至少一个对应，并且感测线中的至少一条的第二部分具有仅包括第二金属层的单层结构。

第一桥接图案可以设置在与其上设置有第一传感器图案和第二传感器图案以及第二桥接图案的层不同的层上。

第一金属层可以与第一桥接图案设置在同一层上，并且第二金属层可以与第一传感器图案和第二传感器图案以及第二桥接图案设置在同一层上。

绝缘层可以包括至少一个接触孔，并且第一金属层和第二金属层通过至少一个接触孔电连接。

感测线中的至少一条的第一部分可以具有包括第一金属层和与第一金属层叠置的第二金属层的双层结构。

感测线中的每条的第一部分可以具有包括第一金属层和设置在第一金属层上的第二金属层的双层结构。

感测线中的每条的第一金属层可以具有相同的尺寸。相同的尺寸可以包括相同的宽度、相同的长度和相同的厚度中的一种。

感测线中的每条的第一金属层可以具有彼此不同的尺寸。

感测线中的每条的第一金属层的尺寸可以随着被设置为更远离感测区域而增大。

感测线中的每条的第二部分可以具有仅包括第二金属层的单层结构。

感测线中的每条的第二金属层可以具有相同的尺寸。相同的尺寸可以包括相同的宽度、相同的长度和相同的厚度中的一种。

感测线中的每条的第二金属层可以具有彼此不同的尺寸。

第二部分可以沿着第一方向与第一桥接图案中的至少一个叠置。

感测线中的每条可以包括在第一方向上延伸的第三部分和第四部分，第三部分可以对应于与第一桥接图案中的至少一个设置在同一列中的第一桥接图案，并且第三部分可以具有仅包括第二金属层的单层结构。

感测线中的每条的不对应于与第一桥接图案中的至少一个设置在同一列中的第一桥接图案的第四部分可以具有包括第一金属层和设置在第一金属层上的第二金属层的双层结构。

根据另一示例性实施例的显示装置包括显示面板和触摸传感器，显示面板包括多个像素和设置在多个像素上的封装层，多个像素中的每个包括发光元件，触摸传感器设置在封装层上，触摸传感器包括：基体层，包括感测区域和非感测区域；多个第一传感器图案，设置在感测区域中且沿着第一方向布置；多个第一桥接图案，沿着第一方向布置，第一桥接图案中的至少一个设置在感测区域的角部处；多个第二传感器图案，设置在感测区域中且沿着与第一方向交叉的第二方向布置；多个第二桥接图案，沿着第二方向布置；以及多条感测线，设置在非感测区域中且连接到第一传感器图案和第二传感器图案中的每个，其中，感测线中的每条包括第一金属层和设置在第一金属层上的第二金属层，并且绝缘层插入在第一金属层与第二金属层之间，感测线中的每条具有第一部分和第二部分，第二部分与第一桥接图案中的至少一个对应，并且感测线中的至少一条的第二部分具有仅包括第二金属层的单层结构。

第一金属层可以与第一桥接图案设置在同一层上，并且第二金属层可以与第一传感器图案和第二传感器图案以及第二桥接图案设置在同一层上。

感测线中的每条的第一部分可以具有包括第一金属层和设置在第一金属层上的第二金属层的双层结构。

感测线中的每条的第一金属层可以具有相同的尺寸。相同的尺寸可以包括相同的宽度、相同的长度和相同的厚度中的一种。

显示面板可以包括基底，基底包括设置有多个像素的显示区域和设置在显示区域的至少一侧上的非显示区域。多个像素中的每个包括：像素电路层，设置在基底上且包括至少一个晶体管；以及显示元件层，设置在像素电路层上且包括发射光的发光元件。封装层可以设置在显示元件层上。

将理解的是，前面的一般描述和下面的详细描述都是示例性的和说明性的，并且旨在提供对所要求保护的发明的进一步解释。

附图说明

附图示出了发明的示例性实施例，并与描述一起用于解释发明构思，其中，附图被包括以提供对发明的进一步理解并且并入本说明书中并构成本说明书的一部分。

图1A是根据示例性实施例的显示装置的透视图。

图1B是图1A的显示装置的示意性剖视图。

图2是图1B的显示面板的示意性平面图。

图3A是示出包括在图2中所示的一个像素中的组件之间的电连接关系的等效电路图。

图3B是图2的显示面板的一部分的放大剖视图。

图4是图1B的触摸传感器的示意性剖视图。

图5是图1B的触摸传感器的示意性平面图。

图6是示例性地示出图5的区域EA1的放大示意性平面图。

图7A是沿着图6的线I-I’截取的剖视图。

图7B是示例性地示出图6的区域EA3的放大示意性平面图。

图8是示例性地示出图5的区域EA2的放大示意性平面图。

图9是沿着图8的线II-II’截取的剖视图。

图10是图5的触摸传感器的角部的区域的示意性平面图，仅示出第二感测线和与其相邻的第一桥接图案。

图11是沿着图10的线III-III’截取的剖视图。

图12是图5的触摸传感器的角部的区域的平面图，示出根据另一示例性实施例的第二感测线和与其相邻的第一桥接图案。

图13是图5的触摸传感器的角部的区域的平面图，示出根据另一示例性实施例的第二感测线和与其相邻的第一桥接图案。

图14是沿着图13的线IV-IV’截取的剖视图。

图15是图5的触摸传感器的角部的区域的平面图，示出根据另一示例性实施例的第二感测线和与其相邻的第一桥接图案。

图16是沿着图15的线V-V’截取的剖视图。

图17是图5的触摸传感器的角部的区域的平面图，示出第一感测线和与其相邻的第一桥接图案。

图18是沿着图17的线VI-VI’截取的剖视图。

具体实施方式

在下面的描述中，出于解释的目的，阐述了许多具体细节以提供对发明的各种示例性实施例或实施方式的透彻理解。如在此所使用的，“实施例”和“实施方式”是作为采用在此所公开的一个或更多个发明构思的装置或方法的非限制性示例的可互换的词。然而，明显的是，可以在没有这些具体细节或具有一个或更多个等效布置的情况下实践各种示例性实施例。在其他情况下，以框图形式示出了公知的结构和装置，以避免使各种示例性实施例不必要地模糊。此外，各种示例性实施例可以不同，但是不必排他。例如，在不脱离发明构思的情况下，示例性实施例的特定形状、构造和特性可以在另一示例性实施例中使用或实施。

除非另外说明，否则所示出的示例性实施例将被理解为提供可以在实践中实施发明构思的一些方式的不同细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则在不脱离发明构思的情况下，各种实施例的特征、组件、模块、层、膜、面板、区域和/或方面等(在下文中，单独或统一称为“元件”)可以以其他方式组合、分离、互换和/或重新布置。

通常提供附图中的交叉影线和/或阴影的使用来阐明相邻元件之间的边界。这样，除非说明，否则交叉影线或阴影的存在或不存在都不传达或表明对元件的具体材料、材料性质、尺寸、比例、所示元件之间的共性和/或任何其他特性、属性、性质等的任何偏好或要求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述性目的，可以夸大元件的尺寸和相对尺寸。当示例性实施例可以不同地实现时，可以不同于所描述的顺序来执行特定的工艺顺序。例如，可以基本上同时执行或以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。此外，同样的附图标记表示同样的元件。

当元件或层被称为“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“结合到”另一元件或层时，所述元件或层可以直接在所述另一元件或层上、直接连接到或直接结合到所述另一元件或层，或者可以存在中间元件或层。然而，当元件或层被称为“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一元件或层时，不存在中间元件或层。为此，术语“连接”可以指在具有或不具有中间元件的情况下的物理连接、电连接和/或流体连接。此外，D1轴、D2轴和D3轴不限于直角坐标系的诸如x轴、y轴和z轴的三个轴，而是可以在更广泛的意义上解释。例如，D1轴、D2轴和D3轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。为了本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个(种/者)”和“选自于由X、Y和Z组成的组中的至少一个(种/者)”可以解释为仅X、仅Y、仅Z或X、Y和Z中的两个(种/者)或更多个(种/者)的任意组合，诸如以XYZ、XYY、YZ和ZZ为例。如在此所使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项的任何组合和所有组合。

尽管在此可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种类型的元件，但是这些元件不应受到这些术语限制。这些术语用于将一个元件与另一元件区分开。因此，在不脱离公开的教导的情况下，下面讨论的第一元件可以被命名为第二元件。

诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下面”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高的”、“侧”(例如，如在“侧壁”中)等的空间相对术语在此可以用于描述性目的，从而描述如附图中所示的一个元件与另一(另外的)元件的关系。空间相对术语旨在涵盖设备在使用、操作和/或制造中的除图中描绘的方位以外的不同方位。例如，如果附图中的设备被翻转，则被描述为“在”其他元件或特征“下方”或“之下”的元件随后将被定位为“在”所述其他元件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以涵盖上方和下方两个方位。此外，设备可以被另外定位(例如，旋转90度或处于其他方位)，如此，相应地解释在此所使用的空间相对描述语。

在此所使用的术语是出于描述具体实施例的目的，而不意图成为限制。如在此所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式“一”、“一个(种/者)”和“该(所述)”也旨在包括复数形式。此外，术语“包括”、“包含”和/或其变型用在本说明书中时，说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组，但是不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。还要注意的是，如在此所使用的，术语“基本上”、“约”和其他类似术语用作近似术语而不用作程度术语，并且如此，被用来解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供值的固有偏差。

在此，参照作为理想化示例性实施例和/或中间结构的示意图的剖视图和/或分解图来描述各种示例性实施例。如此，将预计例如由于制造技术和/或公差导致的图示形状的变化。因此，在此所公开的示例性实施例不应被一定解释为限于区域的具体示出的形状，而是将包括由例如制造引起的形状上的偏差。以这种方式，附图中示出的区域本质上可以是示意性的，并且这些区域的形状可以不反映装置的区域的实际形状，如此，不必意图成为限制。

除非另外限定，否则在此所使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开作为其一部分的领域的普通技术人员通常所理解的含义相同的含义。术语(诸如在通用词典中定义的术语)应被解释为具有与它们在相关领域的上下文中的含义一致的含义，并且不应以理想化或过于形式化的意义来进行解释，除非在此被明确这样限定。

图1A是根据示例性实施例的显示装置的透视图。图1B是图1A的显示装置的示意性剖视图。

参照图1A和图1B，显示装置DD可以包括显示模块DM和窗WD。

显示装置DD可以设置为各种形状。例如，显示装置DD可以设置为具有彼此基本上平行的两对边的矩形板。然而，发明构思不限于此。例如，当显示装置DD具有矩形板形状时，两对边中的一对边可以比另一对边长。在下文中，显示装置DD将被描述为呈具有一对长边和一对短边的矩形形状。长边的延伸方向由第二方向DR2表示，短边的延伸方向由第一方向DR1表示，与长边和短边的延伸方向垂直的方向由第三方向DR3表示。如上所述，在具有矩形板形状的显示装置DD中，一条长边和一条短边彼此会合的角部可以具有圆形形状。

根据示例性实施例，显示装置DD的至少一部分可以具有柔性，显示装置DD可以在具有柔性的部分处折叠。

显示装置DD可以包括用于显示图像的显示区域DD_DA和设置在显示区域DD_DA的至少一侧上的非显示区域DD_NDA。非显示区域DD_NDA可以是不显示图像的区域。

在一些示例性实施例中，显示装置DD可以包括感测区域SA和非感测区域NSA。显示装置DD可以通过感测区域SA显示图像，并且也可以检测从正面入射的光。非感测区域NSA可以围绕感测区域SA，但是发明构思不限于此。在图1A中，感测区域SA被示出为具有包括圆角的形状且与显示区域DD_DA对应。然而，发明构思不限于此，在一些示例性实施例中，显示区域DD_DA的一部分可以与感测区域SA对应。

上述显示装置DD的感测区域SA的形状、尺寸和布置位置可以根据稍后将描述的传感器电极进行各种修改。

显示模块DM可以包括显示面板DP和触摸传感器TS。触摸传感器TS可以直接设置在显示面板DP上，或者设置在显示面板DP上并且诸如粘合层或基底的单独的层插入在触摸传感器TS与显示面板DP之间。

显示面板DP可以显示图像。可以使用诸如有机发光二极管(OLED)显示面板的能够自发射的显示面板作为显示面板DP。然而，发明构思不限于此，在一些示例性实施例中，诸如液晶显示(LCD)面板、电泳显示(EPD)面板和电润湿显示(EWD)面板的非发光显示面板可以用作显示面板DP。当非发光显示面板用作显示面板DP时，显示装置DD可以包括将光供应到显示面板DP的背光单元。

触摸传感器TS可以设置在其上发射显示面板DP的图像的表面上以接收用户的触摸输入。触摸传感器TS可以识别显示装置DD的通过用户的手或单独的输入手段的触摸事件。触摸传感器TS可以以电容方式识别触摸事件。然而，发明构思不限于此，在一些示例性实施例中，触摸传感器TS可以以互电容方式或以自电容方式检测触摸输入。

窗WD可以设置在显示模块DM上以保护显示模块DM的暴露表面。窗WD可以保护显示模块DM免受外部冲击，并且向用户提供输入表面和/或显示表面。窗WD可以通过光学透明粘合剂(OCA)构件OCA结合到显示模块DM。

窗WD可以具有多层结构，并且可以包括玻璃基底、塑料膜和塑料基底中的至少一个。多层结构可以通过连续工艺或使用粘合层的粘合工艺形成。窗WD的全部或部分可以具有柔性。

图2是图1B的显示面板的示意性平面图。

参照图1A、图1B和图2，显示面板DP可以包括基底SUB、设置在基底SUB上的像素PXL、设置在基底SUB上且驱动像素PXL的驱动器以及连接像素PXL和驱动器的布线部。

基底SUB可以形成为具有基本上矩形形状的一个部分。然而，发明构思不限于此，在一些示例性实施例中，基底SUB可以形成为多个部分，基底SUB可以根据基底SUB的部分的数量具有不同的形状。

基底SUB可以包括诸如玻璃和树脂的绝缘材料。另外，基底SUB可以包括柔性材料以便被弯曲或折叠，并且可以具有单层结构或多层结构。例如，柔性材料可以包括聚苯乙烯、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸甲酯、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、三乙酸纤维素和乙酸丙酸纤维素中的至少一种。形成基底SUB的材料可以进行各种改变。例如，在一些示例性实施例中，基底SUB可以包括玻璃纤维增强塑料(FRP)。

基底SUB可以包括显示区域DA和非显示区域NDA。显示区域DA可以是其中设置有像素PXL以显示图像的区域。非显示区域NDA可以是其中未设置有像素PXL的区域，因此，不会显示图像。尽管在图2中仅示出了一个像素PXL，然而，多个像素PXL可以设置在基底SUB的显示区域DA中。

显示面板DP的显示区域DA可以与显示装置DD的显示区域DD_DA对应，显示面板DP的非显示区域NDA可以与显示装置DD的非显示区域DD_NDA对应。

用于驱动像素PXL的驱动器以及连接像素PXL和驱动器的布线部的一部分可以设置在非显示区域NDA中。非显示区域NDA可以与显示装置DD的边框区域对应。

像素PXL可以设置在基底SUB的显示区域DA中。像素PXL中的每个可以是用于显示图像的最小单元。像素PXL可以包括发射白光和/或彩色光的有机发光二极管。像素PXL中的每个可以发射红色、绿色和蓝色中的一种的光。然而，发明构思不限于此，在一些示例性实施例中，像素PXL可以发射诸如青色、品红色和黄色的彩色光。

像素PXL可以沿着在第一方向DR1上延伸的行和在与第一方向DR1交叉的第二方向DR2上延伸的列以矩阵形式布置。然而，像素PXL的布置没有特别限制，并且可以以各种形式布置。

驱动器可以通过布线部将信号供应到像素PXL中的每个，并且控制像素PXL的驱动。在图2中，未示出布线部，将参照图3A更详细地描述布线部。

驱动器可以包括用于通过扫描线将扫描信号传输到像素PXL中的每个的扫描驱动器SDV、用于通过发光控制线将发光控制信号提供到像素PXL中的每个的发光驱动器EDV和通过数据线将数据信号提供到像素PXL中的每个的数据驱动器DDV以及时序控制器。时序控制器可以控制扫描驱动器SDV、发光驱动器EDV和数据驱动器DDV。

图3A是示出包括在图2中所示的一个像素中的组件之间的电连接关系的等效电路图。

参照图1A、图1B、图2和图3A，像素PXL中的每个可以包括发光元件OLED和用于驱动发光元件OLED的像素电路PC。根据示例性实施例，发光元件OLED可以包括有机发光二极管(OLED)。

像素电路PC可以连接到相应的像素PXL的第i扫描线Si和第j数据线Dj。例如，当像素PXL设置在显示面板DP的显示区域DA的第i(“i”是自然数)行和第j(“j”是自然数)列中时，像素PXL的像素电路PC可以连接到显示区域DA的第i扫描线Si和第j数据线Dj。在一些示例性实施例中，像素电路PC还可以连接到至少一条其他扫描线。例如，设置在显示面板DP的显示区域DA的第i行中的一个像素PXL还可以连接到第i-1扫描线Si-1和/或第i+1扫描线Si+1。在一些示例性实施例中，像素电路PC还可以连接到除了第一像素电源ELVDD和第二像素电源ELVSS之外的第三电源。例如，像素电路PC可以连接到初始化电源Vint。

像素电路PC可以包括第一晶体管T1至第七晶体管T7和存储电容器Cst。

第一晶体管T1(例如，驱动晶体管)的一个电极(例如，源电极)可以经由第五晶体管T5连接到施加有第一像素电源ELVDD的电源线，另一电极(例如，漏电极)可以经由第六晶体管T6连接到发光元件OLED。第一晶体管T1的栅电极可以连接到第一节点N1。第一晶体管T1可以根据第一节点N1的电压控制经由发光元件OLED在第一像素电源ELVDD与第二像素电源ELVSS之间流动的驱动电流。

第二晶体管T2(例如，开关晶体管)可以连接在连接到像素PXL的第j数据线Dj与第一晶体管T1的源电极之间。第二晶体管T2的栅电极可以连接到与像素PXL连接的第i扫描线Si。第二晶体管T2可以在栅极导通电压(例如，低电压)的扫描信号从第i扫描线Si供应时导通，以将第j数据线Dj电连接到第一晶体管T1的源电极。当第二晶体管T2导通时，从第j数据线Dj供应的数据信号传输到第一晶体管T1。

第三晶体管T3可以连接在第一晶体管T1的漏电极与第一节点N1之间。第三晶体管T3的栅电极可以连接到第i扫描线Si。第三晶体管T3可以在栅极导通电压的扫描信号从第i扫描线Si供应时导通，以将第一晶体管T1的漏电极电连接到第一节点N1。

第四晶体管T4可以连接在第一节点N1与施加有初始化电源Vint的初始化电源线之间。第四晶体管T4的栅电极可以连接到前一扫描线，例如，第i-1扫描线Si-1。第四晶体管T4可以在栅极导通电压的扫描信号供应到第i-1扫描线Si-1时导通，以将初始化电源Vint的电压传输到第一节点N1。在此，初始化电源Vint可以具有小于或等于数据信号的最低电压的电压。

第五晶体管T5可以连接在第一像素电源ELVDD与第一晶体管T1之间。第五晶体管T5的栅电极可以连接到相应的发射控制线，例如，第i发射控制线Ei。第五晶体管T5可以在栅极截止电压的发射控制信号供应到第i发射控制线Ei时截止，并且可以在其他情况下导通。

第六晶体管T6可以连接在第一晶体管T1与发光元件OLED之间。第六晶体管T6的栅电极可以连接到第i发射控制线Ei。第六晶体管T6可以在栅极截止电压的发射控制信号供应到第i发射控制线Ei时截止，并且可以在其他情况下导通。

第七晶体管T7可以连接在发光元件OLED与施加有初始化电源Vint的初始化电源线之间。第七晶体管T7的栅电极可以连接到后面的扫描线中的任意一条，例如，第i+1扫描线Si+1。第七晶体管T7可以在栅极导通电压的扫描信号供应到第i+1扫描线Si+1时导通，以将初始化电源Vint的电压供应到发光元件OLED。

存储电容器Cst可以连接在第一像素电源ELVDD与第一节点N1之间。存储电容器Cst可以存储与在每个帧周期中供应到第一节点N1的数据信号和第一晶体管T1的阈值电压对应的电压。

发光元件OLED的阳极电极可以经由第六晶体管T6连接到第一晶体管T1，发光元件OLED的阴极电极可以连接到第二像素电源ELVSS。发光元件OLED可以响应于从第一晶体管T1供应的电流量产生具有预定亮度的光。第一像素电源ELVDD的电压可以设定为比第二像素电源ELVSS的电压高，使得电流可以流到发光元件OLED。在像素PXL的发射时段期间，第一像素电源ELVDD与第二像素电源ELVSS之间的电势差可以设定为等于或大于发光元件OLED的阈值电压。

图3B是图2的显示面板的一部分的放大剖视图。

在图3B中，仅示例性地示出与图3A中示出的第一晶体管至第七晶体管中的第二晶体管和第六晶体管对应的部分的剖视图。

参照图1A、图1B、图2、图3A和图3B，显示面板DP可以包括基底SUB、像素电路层PCL、显示元件层DPL和薄膜封装层TFE。

基底SUB可以包括诸如玻璃、有机聚合物、石英等的绝缘材料。另外，基底SUB可以包括柔性材料以便被弯曲或折叠，并且可以具有单层结构或多层结构。

像素电路层PCL可以包括缓冲层BFL、第二晶体管T2和第六晶体管T6以及钝化层PSV。

缓冲层BFL可以设置在基底SUB上，并且可以防止杂质扩散到第二晶体管T2和第六晶体管T6中。缓冲层BFL可以设置为单层或至少两层的多层。在一些示例性实施例中，可以根据基底SUB的材料和工艺条件省略缓冲层BFL。

第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个可以包括半导体层SCL、栅电极GE、源电极SE和漏电极DE。

第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个的半导体层SCL可以设置在缓冲层BFL上。半导体层SCL可以包括分别接触源电极SE和漏电极DE的源区和漏区。源区与漏区之间的区域可以是沟道区。

半导体层SCL可以是包括多晶硅、非晶硅、氧化物半导体等的半导体图案。沟道区可以是未掺杂有杂质的本征半导体图案。在这种情况下，可以使用诸如n型杂质、p型杂质和金属杂质的杂质。源区和漏区可以是掺杂有杂质的半导体图案。

第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个的栅电极GE可以设置在相应的半导体层SCL上，并且栅极绝缘层GI插入在栅电极GE与半导体层SCL之间。

第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个的源电极SE可以通过穿过层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI的接触孔与相应的半导体层SCL的源区接触。例如，第二晶体管T2的源电极SE可以通过穿过层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI的第一接触孔CH1与相应的半导体层SCL的源区接触，第六晶体管T6的源电极SE可以通过穿过层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI的第三接触孔CH3与相应的半导体层SCL的源区接触。

第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个的漏电极DE可以通过穿过层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI的接触孔与相应的半导体层SCL的漏区接触。例如，第二晶体管T2的漏电极DE可以通过穿过层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI的第二接触孔CH2与相应的半导体层SCL的漏区接触，第六晶体管T6的漏电极DE可以通过穿过层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI的第四接触孔CH4与相应的半导体层SCL的漏区接触。

根据示例性实施例，层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI中的每个可以由包括无机材料的无机绝缘膜或包括有机材料的有机绝缘膜形成。

钝化层PSV可以设置在第二晶体管T2和第六晶体管T6上以覆盖第二晶体管T2和第六晶体管T6。钝化层PSV可以包括将第六晶体管T6的漏电极DE的一部分暴露到外部的第五接触孔CH5。

显示元件层DPL可以包括设置在钝化层PSV上且发射光的发光元件OLED。

发光元件OLED可以包括第一电极AE和第二电极CE以及设置在第一电极AE与第二电极CE之间的发光层EML。第一电极AE和第二电极CE中的一个可以是阳极电极，另一个可以是阴极电极。例如，第一电极AE可以是阳极电极，第二电极CE可以是阴极电极。当发光元件OLED是顶部发射有机发光器件时，第一电极AE可以是反射电极，第二电极CE可以是透射电极。在下文中，发光元件OLED将示例性地被描述为顶部发射有机发光器件，在这种情况下，第一电极AE可以是阳极电极。

第一电极AE可以通过穿透钝化层PSV的第五接触孔CH5电连接到第六晶体管T6的漏电极DE。第一电极AE可以包括能够反射光的反射膜以及设置在反射膜上方或下方的透明导电膜。透明导电膜和反射膜中的至少一个可以电连接到第六晶体管T6的漏电极DE。

显示元件层DPL还可以包括具有暴露第一电极AE的一部分(例如，第一电极AE的上表面的一部分)的开口OP的像素限定层PDL。

设置在显示面板DP中的每个像素PXL可以设置在包括在显示区域DA中的像素区域中。根据示例性实施例，像素区域可以包括发光区域EMA和与发光区域EMA相邻的非发光区域NEMA。非发光区域NEMA可以围绕发光区域EMA。在示出的示例性实施例中，发光区域EMA可以限定为与第一电极AE的被开口OP暴露的部分对应。

显示元件层DPL可以包括空穴控制层HCL和电子控制层ECL。

空穴控制层HCL可以公共地设置在发光区域EMA和非发光区域NEMA中。在一些示例性实施例中，诸如空穴控制层HCL的公共层可以公共地形成在多个像素PXL中。

发光层EML可以设置在空穴控制层HCL上。发光层EML可以设置在与开口OP对应的区域中。更具体地，发光层EML可以设置在多个像素PXL中的每个中。发光层EML可以包括有机材料和/或无机材料。在本发明的示出的示例性实施例中，发光层EML被示出为在每个像素PXL中被图案化，然而，在一些示例性实施例中，发光层EML可以公共地设置在像素PXL中。发光层EML中产生的光的颜色可以是红色、绿色、蓝色和白色中的一种，但是发明构思不限于此。例如，发光层EML中产生的光的颜色可以是品红色、青色和黄色中的一种。

电子控制层ECL可以设置在发光层EML上。电子控制层ECL可以公共地形成在像素PXL中，并且可以将电子注入和/或传输到发光层EML。

第二电极CE可以设置在电子控制层ECL上。第二电极CE可以公共地设置在像素PXL中。

薄膜封装层TFE可以设置在第二电极CE上以覆盖第二电极CE。

薄膜封装层TFE可以由单层或多层形成。薄膜封装层TFE可以包括覆盖发光元件OLED的多个绝缘层。具体地，薄膜封装层TFE可以包括至少一个无机层和至少一个有机层。例如，薄膜封装层TFE可以具有其中无机层和有机层交替地堆叠的结构。在另一示例性实施例中，薄膜封装层TFE可以是设置在发光元件OLED上且通过密封剂接合到基底SUB的封装基底。

图4是图1B的触摸传感器的示意性剖视图。

参照图1A、图1B、图2、图3A、图3B和图4，触摸传感器TS可以包括基体层BSL、第一导电图案CP1、第一绝缘层INS1、第二导电图案CP2和第二绝缘层INS2。

第一导电图案CP1可以直接设置在基体层BSL上，基体层BSL可以是设置在第一导电图案CP1与显示面板DP的薄膜封装层TFE之间的绝缘层，但是发明构思不限于此。在一些示例性实施例中，第一导电图案CP1可以直接设置在显示面板DP的薄膜封装层TFE上。在一些示例性实施例中，基体层BSL可以是薄膜封装层TFE的最上层。

第一导电图案CP1和第二导电图案CP2中的每个可以具有单层结构或在厚度方向上堆叠的多层结构。单层结构的导电图案可以包括金属层或透明导电层。金属层可以包括钼、银、钛、铜、铝或它们的合金。透明导电层可以包括诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锡锌(ITZO)等的透明导电氧化物。另外，透明导电层可以包括PEDOT、金属纳米线和石墨烯。

多层结构的导电图案可以包括多层金属层。多层金属层可以具有例如钛/铝/钛的三层结构。多层结构的导电图案可以包括单个金属层和单个透明导电层。多层结构的导电图案可以包括多层金属层和多层透明导电层。

根据示例性实施例，第一导电图案CP1和第二导电图案CP2中的每个可以包括传感器图案和感测线。

第一绝缘层INS1和第二绝缘层INS2中的每个可以包括包含无机材料的无机绝缘膜或包含有机材料的有机绝缘膜。无机绝缘膜可以包括氧化铝、氧化钛、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化锆和氧化铪中的至少一种。有机绝缘膜可以包括丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、聚异戊二烯、乙烯基树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、纤维素树脂、硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂和苝树脂中的至少一种。

图5是图1B的触摸传感器的示意性平面图。图6是示例性地示出图5的区域EA1的放大示意性平面图。图7A是沿着图6的线I-I’截取的剖视图。图7B是示例性地示出图6的区域EA3的放大示意性平面图。

参照图1A至图7B，触摸传感器TS可以包括基体层BSL，基体层BSL包括能够感测触摸输入的感测区域SA以及围绕感测区域SA的至少一部分的非感测区域NSA。

基体层BSL可以由钢化玻璃、透明塑料、透明膜等制成。

感测区域SA可以设置在基体层BSL的中心区域中，并且与显示面板DP的显示区域DA叠置。感测区域SA可以具有与显示区域DA的形状基本上相同的形状，但是发明构思不限于此。用于感测触摸输入的传感器电极设置和/或形成在感测区域SA中。

非感测区域NSA可以设置在基体层BSL的边缘处，并且与显示面板DP的非显示区域NDA叠置。电连接到传感器电极以接收和发送触摸感测信号的感测线SL可以设置和/或形成在非感测区域NSA中。另外，连接到感测线SL且电连接到感测区域SA的传感器电极的垫(pad，或称为“焊盘”)部PDA可以设置在非感测区域NSA中。垫部PDA可以包括多个垫PD。

传感器电极可以包括多个传感器图案SP以及第一桥接图案BRP1和第二桥接图案BRP2。

传感器图案SP可以包括多个第一传感器图案SP1和与第一传感器图案SP1电绝缘的多个第二传感器图案SP2。

第一传感器图案SP1可以在第一方向DR1上布置，并且通过第一桥接图案BRP1电连接到相邻的第一传感器图案SP1以形成至少一个传感器行。第二传感器图案SP2可以在与第一方向DR1交叉的第二方向DR2上布置，并且通过第二桥接图案BRP2电连接到相邻的第二传感器图案SP2以形成至少一个传感器列。

第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2中的每个可以通过相应的感测线SL电连接到每个垫PD。

根据示例性实施例，触摸传感器TS可以通过感测形成在第一传感器图案SP1与第二传感器图案SP2之间的电容的变化量来识别用户的触摸。

根据示例性实施例，如图7B中所示，第二传感器图案SP2中的每个可以包括多条导电细线CFL1和CFL2。例如，第二传感器图案SP2可以包括多条第一导电细线CFL1和多条第二导电细线CFL2，多条第一导电细线CFL1彼此平行且在相对于第一方向DR1的倾斜方向上延伸，多条第二导电细线CFL2彼此平行且在相对于第二方向DR2的倾斜方向上延伸。由于第一导电细线CFL1和第二导电细线CFL2，第二传感器图案SP2中的每个可以具有网状结构。网状结构可以包括多个开口，例如，第一导电细线CFL1和第二导电细线CFL2彼此交叉的区域。

在附图中，第二传感器图案SP2中的每个被示出为具有网状结构，但是发明构思不限于此。例如，在一些示例性实施例中，第一传感器图案SP1以及第一桥接图案BRP1和第二桥接图案BRP2也可以具有包括第一导电细线CFL1和第二导电细线CFL2的网状结构。

当第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2具有网状结构时，可以通过开口减小第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2与显示面板DP叠置的面积。以这种方式，可以防止或至少抑制第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2与显示面板DP之间的电磁干扰。

第一桥接图案BRP1中的每个电连接沿着第一方向DR1并排布置的第一传感器图案SP1。第一桥接图案BRP1中的每个也可以设置为在第一方向DR1上延伸。第一桥接图案BRP1中的每个可以包括第1-1桥接图案BRP1_1和第1-2桥接图案BRP1_2。

第二桥接图案BRP2中的每个电连接沿着第二方向DR2并排布置的第二传感器图案SP2。第二桥接图案BRP2中的每个也可以设置为在第二方向DR2上延伸。根据示例性实施例，第二桥接图案BRP2可以与第二传感器图案SP2一体地设置。当第二桥接图案BRP2与第二传感器图案SP2一体地设置时，第二桥接图案BRP2可以是第二传感器图案SP2的一个区域。

如图4中所示，触摸传感器TS可以包括设置在基体层BSL上的第一导电图案CP1、设置在第一导电图案CP1上的第一绝缘层INS1、设置在第一绝缘层INS1上的第二导电图案CP2以及设置在第二导电图案CP2上的第二绝缘层INS2。

基体层BSL可以设置在显示面板DP的薄膜封装层TFE上。基体层BSL可以包括包含有机材料的有机绝缘膜或包含无机材料的无机绝缘膜。在示例性实施例中，基体层BSL可以包括柔性材料以便被弯曲或折叠，并且可以具有单层结构或多层结构。为了实现触摸屏功能，触摸传感器TS可以与显示图像的显示面板DP组合。因此，触摸传感器TS可以具有可以透射光的透明度。

在一些示例性实施例中，基体层BSL可以是显示面板DP的薄膜封装层TFE的最上层。例如，基体层BSL可以是作为薄膜封装层TFE的最上层的无机绝缘层(或无机层)。在一些示例性实施例中，基体层BSL可以是另外设置在薄膜封装层TFE上的无机绝缘层(例如，无机缓冲层)。例如，基体层BSL可以包括氮化硅层、氮氧化硅层、氧化硅层、氧化钛层、氧化铝层等。

第一导电图案CP1可以直接设置在基体层BSL上。在一些示例性实施例中，第一导电图案CP1可以设置为与像素限定层PDL叠置。

如图6和图7A中所示，第一导电图案CP1可以包括第一桥接图案BRP1。

第一导电图案CP1可以包括导电材料。导电材料可以包括透明导电氧化物或金属材料。另外，第一导电图案CP1可以包括多个堆叠的金属层。透明导电氧化物的示例包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锑锌(AZO)、氧化铟锡锌(ITZO)、氧化锌(ZnO)和氧化锡(SnO₂)。金属材料的示例包括铜、银、金、铂、钯、镍、锡、铝、钴、铑、铱、铁、钌、锇、锰、钼、钨、铌、钽、钛、铋、锑和铅。第一导电图案CP1可以具有单层结构或多层结构。

第一绝缘层INS1可以设置在第一导电图案CP1上。第一绝缘层INS1可以包括与基体层BSL基本上相同的材料，但不限于此。在示例性实施例中，第一绝缘层INS1可以包括包含有机材料的有机绝缘膜或包含无机材料的无机绝缘膜。

第二导电图案CP2可以包括与第一导电图案CP1类似的单个导电材料层或多个堆叠的导电材料层。如图4、图6和图7A中所示，第二导电图案CP2可以包括设置在第一绝缘层INS1上的第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2。在第一方向DR1上相邻的第一传感器图案SP1可以通过形成在穿过第一绝缘层INS1的接触孔CNT中的第一桥接图案BRP1彼此电连接和/或物理连接。

第二绝缘层INS2可以设置在其上设置有第二导电图案CP2的第一绝缘层INS1上。第二绝缘层INS2可以防止第二导电图案CP2暴露于外部，从而防止第二导电图案CP2的腐蚀。第二绝缘层INS2可以由包括有机材料的有机绝缘膜形成。有机材料可以包括丙烯酸树脂、聚酰亚胺(PI)、聚酰胺(PA)和苯并环丁烯(BCB)中的一种。由有机绝缘膜制成的第二绝缘层INS2可以是透明的且具有流动性，使得下部结构的曲率可以变缓且变平。在一些示例性实施例中，第二绝缘层INS2可以由包括无机材料的无机绝缘膜形成。

根据示出的示例性实施例，第一桥接图案BRP1被描述为包括在第一导电图案CP1中，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2被描述为包括在第二导电图案CP2中，然而，发明构思不限于此。在一些示例性实施例中，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2可以包括在第一导电图案CP1中，第一桥接图案BRP1可以包括在第二导电图案CP2中。更具体地，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2可以形成和/或设置在基体层BSL上，第一桥接图案BRP1可以形成和/或设置在第一绝缘层INS1上。即使在这种情况下，第一传感器图案SP1中的每个也可以通过穿过第一绝缘层INS1的接触孔CNT连接到相应的第一桥接图案BRP1，并且可以电连接和/或物理连接到在第一方向DR1上彼此相邻设置的第一传感器图案SP1。

在示例性实施例中，第一导电图案CP1可以设置在基体层BSL上，第二导电图案CP2可以设置在第一绝缘层INS1上。然而，发明构思不限于此。例如，在一些示例性实施例中，第一导电图案CP1可以设置在第一绝缘层INS1上，第二导电图案CP2可以设置在基体层BSL上。

另外，根据示出的示例性实施例的第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2被描述为设置在同一层上，但是发明构思不限于此。在一些示例性实施例中，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2可以设置在彼此不同的层上。

如上所述的第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第一桥接图案BRP1和第二桥接图案BPR2可以由透光导电层(诸如ITO、IZO或ZnO)形成。

设置和/或形成在感测区域SA中的传感器电极可以包括设置为在第一传感器图案SP1与第二传感器图案SP2之间分隔开的虚设电极。作为浮置电极，虚设电极不电连接到第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2。由于虚设电极设置在感测区域SA中，因此第一传感器图案SP1与第二传感器图案SP2之间的边界区域不会被用户看到。另外，可以通过调节虚设电极的宽度和厚度来控制第一传感器图案SP1与第二传感器图案SP2之间的边缘效应，以这种方式，可以优化第一传感器图案SP1与第二传感器图案SP2之间的电容。

如图6中所示，触摸传感器TS可以以单元传感器块USB的重复布置来构造。单元传感器块USB可以是具有包括相邻的第一传感器图案SP1的至少一部分和相邻的第二传感器图案SP2的至少一部分的预定区域的虚拟单元块。单元传感器块USB可以与第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2的布置图案的最小重复单元对应。单元传感器块USB可以是用于检查触摸传感器TS中的缺陷的图像捕捉的最小单元。可以通过针对每个区域拍摄与单元传感器块USB对应的图像且比较拍摄的图像来检测触摸传感器TS的缺陷。在这种情况下，用于缺陷检查的图像捕捉的最小单元可以与单元传感器块USB对应。

根据示例性实施例，感测线SL可以包括连接到第一传感器图案SP1的多条第一感测线SL1以及连接到第二传感器图案SP2的多条第二感测线SL2。

第一感测线SL1可以连接到第一传感器图案SP1。第一感测线SL1中的每条可以连接到由沿着第一方向DR1设置的多个第一传感器图案SP1形成的一个传感器行。在平面图中，第一感测线SL1可以在非感测区域NSA中弯曲至少一次。第一感测线SL1可以包括沿着第一方向DR1延伸的部分和沿着第二方向DR2延伸的部分。

第二感测线SL2可以连接到第二传感器图案SP2。第二感测线SL2中的每条可以连接到由沿着第二方向DR2设置的多个第二传感器图案SP2形成的一个传感器列。在平面图中，第二感测线SL2可以在非感测区域NSA中弯曲至少一次。第二感测线SL2可以包括沿着第一方向DR1延伸的部分和沿着第二方向DR2延伸的部分。

第一感测线SL1和第二感测线SL2可以由导电材料制成。可以使用金属、金属的合金、导电聚合物、导电金属氧化物、纳米导电材料等作为导电材料。在示例性实施例中，金属可以包括铜、银、金、铂、钯、镍、锡、铝、钴、铑、铱、铁、钌、锇、锰、钼、钨、铌、钽、钛、铋、锑、铅等。导电聚合物的示例可以包括聚噻吩类化合物、聚吡咯类化合物、聚苯胺类化合物、聚乙炔类化合物、聚苯撑类化合物和它们的混合物。具体地，在聚噻吩类化合物中，可以使用PEDOT/PSS化合物。导电金属氧化物的示例可以包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锑锌(AZO)、氧化铟锡锌(ITZO)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO₂)等。另外，纳米导电材料可以包括银纳米线(AgNW)、碳纳米管、石墨烯等。

在示例性实施例中，第一感测线SL1和第二感测线SL2可以包括由双层形成的第一部分和由单层形成的第二部分，双层包括包含在第一导电图案CP1中的一个金属层和包含在第二导电图案CP2中的另一金属层，单层仅包括所述另一金属层。稍后将更详细地描述第一感测线SL1和第二感测线SL2中的每个的第一部分和第二部分。

第一传感器图案SP1中的每个可以通过相应的第一感测线SL1接收用于触摸感测的驱动信号，第二传感器图案SP2中的每个可以通过相应的第二感测线SL2发送触摸感测信号。然而，发明构思不限于此。例如，在一些示例性实施例中，第二传感器图案SP2中的每个可以通过相应的第二感测线SL2接收用于触摸感测的驱动信号，第一传感器图案SP1中的每个可以通过相应的第一感测线SL1发送触摸感测信号。

图8是示例性地示出图5的区域EA2的放大示意性平面图。图9是沿着图8的线II-II’截取的剖视图。

在图8中，区域EA2被示出为具有与图6的区域EA1的尺寸相同的尺寸。具体地，图5的区域EA1和区域EA2被示出为具有相同的尺寸。

参照图1A至图9，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第一桥接图案BRP1和第二桥接图案BRP2可以设置在包括在触摸传感器TS的角部中的感测区域SA中，第二感测线SL2可以设置在包括在角部中的非感测区域NSA中。

在下文中，包括在触摸传感器TS的角部中的感测区域SA被称为“角部感测区域SA”，包括在触摸传感器TS的角部中的非感测区域NSA被称为“角部非感测区域NSA”。

一个第一桥接图案BRP1、通过第一桥接图案BRP1连接的两个第一传感器图案SP1、一个第二桥接图案BRP2以及通过第二桥接图案BRP2连接的两个第二传感器图案SP2可以设置在角部感测区域SA中。

根据示例性实施例，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2可以与第一桥接图案BRP1设置在不同的层上。例如，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2可以设置在第一桥接图案BRP1上，并且第一绝缘层INS1插入在第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2与第一桥接图案BRP1之间。更具体地，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2可以由第二导电图案CP2形成，第一桥接图案BRP1可以由第一导电图案CP1形成。

多条第二感测线SL2可以设置在角部非感测区域NSA中。例如，第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e可以设置在角部非感测区域NSA中。

根据示例性实施例，设置在角部非感测区域NSA中的第二感测线SL2可以与设置在角部感测区域SA中的第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2设置在同一层上，并且可以包括基本上相同的材料。例如，第二感测线SL2可以由第二导电图案CP2形成。更具体地，设置在角部非感测区域NSA中的第二感测线SL2可以由仅包括第二导电图案CP2的单层形成。

设置在角部非感测区域NSA中的第二感测线SL2以及设置在角部感测区域SA中的第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第一桥接图案BRP1和第二桥接图案BRP2可以使用光致抗蚀剂图案通过掩模工艺形成。

通常，第二感测线SL2可以由双层形成以使由信号延迟导致的失真最小化。例如，第二感测线SL2可以由双层形成，双层包括由第一导电图案CP1形成的第一金属层和由第二导电图案CP2形成且连接到第一金属层的第二金属层。然而，当设置在角部非感测区域NSA中的第二感测线SL2由双层形成时，在角部非感测区域NSA与角部感测区域SA之间会存在光致抗蚀剂图案的密度差。例如，在掩模工艺期间用于形成第一导电图案CP1的光致抗蚀剂图案的量在角部非感测区域NSA中会比在角部感测区域SA中大。

在这种情况下，与光致抗蚀剂图案以较高密度设置的角部非感测区域NSA中相比，在显影工艺期间在光致抗蚀剂图案以较低密度设置的角部感测区域SA中会溶解较大量的光致抗蚀剂。如此，施加到角部感测区域SA的显影剂的浓度会减小，在施加到角部感测区域SA的显影剂与角部非感测区域NSA的显影剂之间会出现浓度差。当在角部感测区域SA与角部非感测区域NSA之间存在显影剂的浓度差时，高浓度显影剂会通过扩散原理朝向低浓度显影剂移动。如此，角部感测区域SA的光致抗蚀剂图案被过度显影且角部感测区域SA的光致抗蚀剂图案的厚度变得不均匀，这会导致缺陷，例如，包括第一导电图案CP1的第一桥接图案BRP1的短路缺陷会出现在角部感测区域SA中。

具体地，由于设置在角部感测区域SA中的第一桥接图案BRP1比设置在除了触摸传感器TS的角部之外的其他区域中的第一桥接图案BRP1靠近第二感测线SL2，因此设置在角部感测区域SA中的第一桥接图案BRP1会进一步受到光致抗蚀剂图案的针对每个区域的密度差影响。因此，在形成触摸传感器TS的角部处的第一导电图案CP1的掩模工艺期间，会发生设置在角部感测区域SA中的第一桥接图案BRP1的短路缺陷。

为了补偿角部感测区域SA与角部非感测区域NSA之间的光致抗蚀剂图案的密度差，根据示例性实施例的设置在角部非感测区域NSA中的第二感测线SL2由仅包括第二导电图案CP2的单层而不是双层形成。以这种方式，光致抗蚀剂图案的密度针对触摸传感器TS的每个区域可以形成为均匀的。

如上所述，由于设置在角部非感测区域NSA中的第二感测线SL2由仅包括第二导电图案CP2的单层形成，因此在设置在触摸传感器TS的角部处的组件中，仅第一桥接图案BRP1可以由第一导电图案CP1形成，剩余的组件可以由第二导电图案CP2形成。以这种方式，触摸传感器TS的角部可以具有与定位在触摸传感器TS的感测区域SA的一个区域中的单元传感器块USB的导电图案(或金属图案)的密度基本上相同或相似的导电图案(或金属图案)的密度。

图10是图5的触摸传感器的角部的区域的示意性平面图，仅示出第二感测线和与其相邻的第一桥接图案。图11是沿着图10的线III-III’截取的剖视图。

在图10中，为了便于描述，未示出设置在触摸传感器TS的角部的感测区域SA中的第一传感器图案和第二传感器图案以及第二桥接图案。

在图10中，示出设置在触摸传感器TS的角部的感测区域SA中的一个角部第一桥接图案BRP1’和与角部第一桥接图案BRP1’设置在同一列中的两个第一桥接图案BRP1。

参照图1A至图11，触摸传感器TS的角部可以包括设置有角部第一桥接图案BRP1’的角部感测区域SA和设置有第二感测线SL2的角部非感测区域NSA。角部非感测区域NSA可以围绕角部感测区域SA。

角部第一桥接图案BRP1’可以由设置和/或形成在基体层BSL上的第一导电图案CP1形成。在设置在触摸传感器TS的感测区域SA中的第一桥接图案BRP1中，角部第一桥接图案BRP1’可以是最靠近第二感测线SL2的第一桥接图案BRP1。

第二感测线SL2可以包括第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e。第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条可以包括由包括第一金属层MTL1和第二金属层MTL2的双层形成的第一部分FA以及由仅包括第二金属层MTL2的单层形成的第二部分MA。

第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第一部分FA可以由双层形成，双层包括第一金属层MTL1和设置在第一金属层MTL1上的第二金属层MTL2，并且第一绝缘层INS1插入在第一金属层MTL1与第二金属层MTL2之间。第一金属层MTL1和第二金属层MTL2可以通过穿过第一绝缘层INS1的至少一个接触孔CH电连接和/或物理连接。根据示例性实施例，第一金属层MTL1可以包括在第一导电图案CP1中，第二金属层MTL2可以包括在第二导电图案CP2中。

在第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第一部分FA中，第一金属层MTL1可以具有与相邻的第一金属层MTL1基本上相同的尺寸(或者面积或长度)。例如，包括在第2a感测线SL2_a的第一部分FA中的第一金属层MTL1可以具有与第2b感测线SL2_b的第一金属层MTL1的尺寸(或者面积或长度)基本上相同的尺寸(或者面积或长度)。包括在第2b感测线SL2_b的第一部分FA中的第一金属层MTL1可以具有与第2c感测线SL2_c的第一金属层MTL1的尺寸(或者面积或长度)基本上相同的尺寸(或者面积或长度)。包括在第2c感测线SL2_c的第一部分FA中的第一金属层MTL1可以具有与第2d感测线SL2_d的第一金属层MTL1的尺寸(或者面积或长度)基本上相同的尺寸(或者面积或长度)。包括在第2d感测线SL2_d的第一部分FA中的第一金属层MTL1可以具有与第2e感测线SL2_e的第一金属层MTL1的尺寸(或者面积或长度)基本上相同的尺寸(或者面积或长度)。根据示例性实施例，相同的尺寸可以包括相同的宽度、相同的长度和相同的厚度中的一种。

第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第二部分MA可以由包括第二金属层MTL2的单层形成。在示例性实施例中，第二金属层MTL2可以包括在设置和/或形成在第一绝缘层INS1上的第二导电图案CP2中。

根据示例性实施例，第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第一部分FA可以不与角部第一桥接图案BRP1’对应，第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第二部分MA可以与角部第一桥接图案BRP1’对应。更具体地，第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e可以在与角部第一桥接图案BRP1’对应的部分处由仅包括第二金属层MTL2的单层形成，并且可以在不与角部第一桥接图案BRP1’对应的部分处由包括第一金属层MTL1和第二金属层MTL2的双层形成。根据示例性实施例，感测线SL2的第二部分MA与角部第一桥接图案BRP1’“对应”可以指第二部分MA沿着第一方向DR1和/或第二方向DR2与角部第一桥接图案BRP1’的至少一部分叠置。

根据示例性实施例，包括在第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第二部分MA中的第二金属层MTL2可以具有与包括在相邻的第二感测线SL2的第二部分MA中的第二金属层MTL2的尺寸(或者面积或长度)不同的尺寸(或者面积或长度)。例如，包括在最靠近角部第一桥接图案BRP1’的第2a感测线SL2_a的第二部分MA中的第二金属层MTL2的尺寸(或者面积或长度)可以是最小的，包括在最远离角部第一桥接图案BRP1’的第2e感测线SL2_e的第二部分MA中的第二金属层MTL2的尺寸(或者面积或长度)可以是最大的。不同的尺寸可以包括不同的宽度、不同的长度和不同的厚度中的一种。

如上所述，在触摸传感器TS的角部处，仅角部第一桥接图案BRP1’可以由第一导电图案CP1形成，其它组件(诸如第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2、第二桥接图案BRP2以及第二感测线SL2的第二部分MA)可以由第二导电图案CP2形成。

在这种情况下，当第一导电图案CP1形成在触摸传感器TS的角部处时，角部感测区域SA的光致抗蚀剂图案与角部非感测区域NSA的光致抗蚀剂图案之间的急剧的密度差可以缓和，使得角部感测区域SA和角部非感测区域NSA中的密度差可以最小化。因此，可以防止或至少抑制由于角部感测区域SA和角部非感测区域NSA中的光致抗蚀剂图案的密度差而会发生的缺陷。例如，可以防止由于设置在角部感测区域SA中的角部第一桥接图案BRP1’的厚度不均匀导致的短路缺陷。

另外，由于仅触摸传感器TS的角部处的角部第一桥接图案BRP1’由第一导电图案CP1形成，因此触摸传感器TS的角部与设置在除了角部之外的感测区域SA中的单元传感器块USB之间的每单位面积的导电图案的密度可以彼此类似。如此，可以增大触摸传感器TS的感测灵敏度且可以改善可靠性。

图12是图5的触摸传感器的角部的区域的平面图，示出根据另一示例性实施例的第二感测线和与其相邻的第一桥接图案。

图12的触摸传感器与上述触摸传感器基本上类似，因此，将省略对其基本上相同的元件的重复描述以避免冗余。相同的附图标记指示相同的组件，相似的附图标记表示相似的组件。

在图12中，为了便于描述，未示出设置在触摸传感器TS的角部的感测区域SA中的第一传感器图案和第二传感器图案以及第二桥接图案。

参照图1A至图7A和图12，触摸传感器TS的角部可以包括其中设置有至少一个角部第一桥接图案BRP1’的角部感测区域SA以及其中设置有第二感测线SL2的角部非感测区域NSA。

角部第一桥接图案BRP1’可以由设置和/或形成在基体层BSL上的第一导电图案CP1形成。

第二感测线SL2可以包括第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e。第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条可以被划分为第一部分FA和第二部分MA。在示例性实施例中，第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第一部分FA可以不与角部第一桥接图案BRP1’对应或与角部第一桥接图案BRP1’部分对应，第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第二部分MA可以与角部第一桥接图案BRP1’对应。

第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第一部分FA可以由双层形成，双层包括第一金属层MTL1和设置在第一金属层MTL1上的第二金属层MTL2，第一绝缘层INS1插入在第一金属层MTL1与第二金属层MTL2之间，第二金属层MTL2通过接触孔CH连接到第一金属层MTL1。在示例性实施例中，第一金属层MTL1可以由第一导电图案CP1形成，第二金属层MTL2可以由第二导电图案CP2形成。

第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第二部分MA可以由仅包括第二金属层MTL2的单层形成。

在第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第一部分FA中，第一金属层MTL1可以具有与相邻的第一金属层MTL1的尺寸(或者面积或长度)不同的尺寸(或者面积或长度)。例如，包括在最靠近角部第一桥接图案BRP1’的第2a感测线SL2_a的第一部分FA中的第一金属层MTL1的尺寸(或者面积或长度)可以是最小的，包括在最远离角部第一桥接图案BRP1’(BRP1)的第2e感测线SL2_e的第一部分FA中的第一金属层MTL1的尺寸(或者面积或长度)可以是最大的。更具体地，包括在第二感测线SL2的第一部分FA中的第一金属层MTL1的尺寸(或者面积或长度)可以随着与角部第一桥接图案BRP1’的距离增大而增大。然而，发明构思不限于此。例如，在一些示例性实施例中，包括在第二感测线SL2的第一部分FA中的第一金属层MTL1的尺寸(或者面积或长度)可以随着与角部第一桥接图案BRP1’的距离增大而减小。

根据示例性实施例，在与触摸传感器TS的角部的角部第一桥接图案BRP1’对应的部分处，仅角部第一桥接图案BRP1’可以由第一导电图案CP1形成，剩余的组件可以由第二导电图案CP2形成。

在这种情况下，当第一导电图案CP1形成在触摸传感器TS的角部处时，角部感测区域SA的光致抗蚀剂图案与角部非感测区域NSA的光致抗蚀剂图案之间的急剧的密度差可以缓和，使得角部感测区域SA和角部非感测区域NSA中的密度差可以最小化。因此，可以防止由于设置在角部感测区域SA中的角部第一桥接图案BRP1’的厚度不均匀导致的短路缺陷。

图13是图5的触摸传感器的角部的区域的平面图，示出根据另一示例性实施例的第二感测线和与其相邻的第一桥接图案。图14是沿着图13的线IV-IV’截取的剖视图。

图13和图14的触摸传感器与上述触摸传感器基本上相同，因此，将省略对其基本上相同的元件的重复描述以避免冗余。相同的附图标记指示相同的组件，相似的附图标记表示相似的组件。

在图13中，为了便于描述，未示出设置在触摸传感器TS的角部的感测区域SA中的第一传感器图案和第二传感器图案以及第二桥接图案。

参照图1A至图7B、图13和图14，触摸传感器TS的角部可以包括其中设置有至少一个角部第一桥接图案BRP1’的角部感测区域SA以及其中设置有第二感测线SL2的角部非感测区域NSA。

角部第一桥接图案BRP1’可以由设置和/或形成在基体层BSL上的第一导电图案CP1形成。

第二感测线SL2可以包括第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e。第二感测线SL2中的一些可以被划分为由双层形成的第一部分FA和由单层形成的第二部分MA。剩余的第二感测线SL2可以由双层形成。

第一部分FA可以具有双层，双层包括第一金属层MTL1和设置在第一金属层MTL1上的第二金属层MTL2，第一绝缘层INS1插入在第一金属层MTL1与第二金属层MTL2之间，第二金属层MTL2通过接触孔CH连接到第一金属层MTL1。第二部分MA可以具有仅包括第二金属层MTL2的单层。在示例性实施例中，第一金属层MTL1可以由第一导电图案CP1形成，第二金属层MTL2可以由第二导电图案CP2形成。

根据示出的示例性实施例，第二感测线SL2中的与角部第一桥接图案BRP1’相邻的一些第二感测线SL2可以包括第一部分FA和第二部分MA，远离角部第一桥接图案BRP1’设置的其他第二感测线SL2可以仅包括第一部分FA。例如，在第二感测线SL2中，与角部第一桥接图案BRP1’相邻的第2a感测线SL2_a、第2b感测线SL2_b和第2c感测线SL2_c可以包括由包括第一金属层MTL1和第二金属层MTL2的双层形成的第一部分FA以及由仅包括第二金属层MTL2的单层形成的第二部分MA。另外，在第二感测线SL2中，远离角部第一桥接图案BRP1’设置的第2d感测线SL2_d和第2e感测线SL2_e可以仅包括由包括第一金属层MTL1和第二金属层MTL2的双层形成的第一部分FA。

当形成由第一导电图案CP1形成的角部第一桥接图案BRP1’时，角部第一桥接图案BRP1’会进一步受到光致抗蚀剂图案的针对每个区域的因最靠近角部第一桥接图案BRP1’的第二感测线SL2的密度差的影响。如此，根据示出的示例性实施例，第二感测线SL2中的最靠近角部第一桥接图案BRP1’的一些第二感测线SL2可以形成为在与角部第一桥接图案BRP1’对应的部分处仅包括第二金属层MTL2的单层。

图15是图5的触摸传感器的角部的区域的平面图，示出根据另一示例性实施例的第二感测线和与其相邻的第一桥接图案。图16是沿着图15的线V-V’截取的剖视图。

图15和图16的触摸传感器与上述触摸传感器基本上相同，因此，将省略对其基本上相同的元件的重复描述。相同的附图标记指示相同的组件，相似的附图标记表示相似的组件。

在图15中，为了便于描述，未示出设置在触摸传感器TS的角部的感测区域SA中的第一传感器图案和第二传感器图案以及第二桥接图案。

参照图1A至图9、图15和图16，触摸传感器TS的角部可以包括其中设置有至少一个角部第一桥接图案BRP1’的角部感测区域SA以及其中设置有第二感测线SL2的角部非感测区域NSA。

角部第一桥接图案BRP1’可以由设置和/或形成在基体层BSL上的第一导电图案CP1形成。

第二感测线SL2可以包括第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e。第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条可以被划分为第一部分FA和第二部分MA。

根据示例性实施例，第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第一部分FA可以不与角部第一桥接图案BRP1’和与角部第一桥接图案BRP1’定位在同一列中的第一桥接图案BRP1中的每个对应。另外，第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第二部分MA可以与角部第一桥接图案BRP1’和与角部第一桥接图案BRP1’定位在同一列中的第一桥接图案BRP1中的每个对应。

第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第一部分FA可以由双层形成，双层包括第一金属层MTL1和设置在第一金属层MTL1上且通过接触孔CH连接到第一金属层MTL1的第二金属层MTL2，并且第一绝缘层INS1插入在第一金属层MTL1与第二金属层MTL2之间。根据示例性实施例，第一金属层MTL1可以由第一导电图案CP1形成，第二金属层MTL2可以由第二导电图案CP2形成。

第2a感测线SL2_a至第2e感测线SL2_e中的每条的第二部分MA可以由仅包括第二金属层MTL2的单层形成。

根据示例性实施例，在触摸传感器TS的角部处，仅角部第一桥接图案BRP1’和与角部第一桥接图案BRP1’定位在同一列中的第一桥接图案BRP1由第一导电图案CP1形成，剩余的组件可以由第二导电图案CP2形成。

在上述示例性实施例中，设置在触摸传感器TS的非感测区域NSA中的感测线SL的第二感测线SL2被描述为包括第一部分FA和第二部分MA。然而，发明构思不限于此。例如，在一些示例性实施例中，第一感测线SL1也可以包括第一部分FA和第二部分MA，这将在下面更详细地描述。

图17是图5的触摸传感器的角部的区域的平面图，示出第一感测线和与其相邻的第一桥接图案。图18是沿着图17的线VI-VI’截取的剖视图。

图17和图18的触摸传感器与上述触摸传感器基本上相同。因此，将省略对其基本上相同的元件的重复描述。相同的附图标记指示相同的组件，相似的附图标记表示相似的组件。

在图17中，为了便于描述，未示出设置在触摸传感器TS的角部的感测区域SA中的第一传感器图案和第二传感器图案以及第二桥接图案。

参照图1A至图7B、图17和图18，触摸传感器TS的角部可以包括其中设置有至少一个角部第一桥接图案BRP1’的角部感测区域SA以及其中设置有第一感测线SL1的角部非感测区域NSA。角部非感测区域NSA可以围绕角部感测区域SA。

角部第一桥接图案BRP1’可以由设置和/或形成在基体层BSL上的第一导电图案CP1形成。在设置在触摸传感器TS的感测区域SA中的第一桥接图案BRP1中，角部第一桥接图案BRP1’可以是最靠近第一感测线SL1的第一桥接图案BRP1。

第一感测线SL1可以包括第1a感测线SL1_a至第1f感测线SL1_f。第1a感测线SL1_a至第1f感测线SL1_f中的每条可以包括由包括第三金属层MTL3和第四金属层MTL4的双层形成的第一部分FA以及由仅包括第四金属层MTL4的单层形成的第二部分MA。

根据示例性实施例，第1a感测线SL1_a至第1f感测线SL1_f中的每条可以被划分为第一部分FA和第二部分MA。

第1a感测线SL1_a至第1f感测线SL1_f中的每条的第一部分FA可以由双层形成，双层包括第三金属层MTL3和设置在第三金属层MTL3上的第四金属层MTL4，并且第一绝缘层INS1插入在第三金属层MTL3与第四金属层MTL4之间。第三金属层MTL3和第四金属层MTL4可以通过穿过第一绝缘层INS1的至少一个接触孔CH电连接和/或物理连接。第三金属层MTL3可以包括在第一导电图案CP1中，第四金属层MTL4可以包括在第二导电图案CP2中。

根据示例性实施例，第一感测线SL1中的每条的第三金属层MTL3可以与第二感测线SL2的第一金属层MTL1(见图10)设置在同一层上。第一感测线SL1中的每条的第三金属层MTL3可以包括与第二感测线SL2的第一金属层MTL1(见图10)基本上相同的材料且可以通过同一工艺形成。另外，第一感测线SL1中的每条的第三金属层MTL3可以与角部第一桥接图案BRP1’设置在同一层上。第一感测线SL1中的每条的第三金属层MTL3可以包括与角部第一桥接图案BRP1’基本上相同的材料且可以通过同一工艺形成。

第一感测线SL1中的每条的第四金属层MTL4可以与第二感测线SL2的第二金属层MTL2(见图10)设置在同一层上。第一感测线SL1中的每条的第四金属层MTL4可以包括与第二感测线SL2的第二金属层MTL2(见图10)基本上相同的材料且可以通过同一工艺形成。另外，第一感测线SL1中的每条的第四金属层MTL4可以与设置在触摸传感器TS的感测区域SA中的第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2设置在同一层上。第一感测线SL1中的每条的第四金属层MTL4可以包括与设置在触摸传感器TS的感测区域SA中的第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2基本上相同的材料且可以通过同一工艺形成。

在第1a感测线SL1_a至第1f感测线SL1_f中的每条的第一部分FA中，第三金属层MTL3可以具有与相邻的第三金属层MTL3基本上相同的尺寸(或者面积或长度)。

第1a感测线SL1_a至第1f感测线SL1_f中的每条的第二部分MA可以由仅包括第四金属层MTL4的单层形成。

根据示例性实施例，第1a感测线SL1_a至第1f感测线SL1_f中的每条的第一部分FA可以不与角部第一桥接图案BRP1’对应，第1a感测线SL1_a至第1f感测线SL1_f中的每条的第二部分MA可以与角部第一桥接图案BRP1’对应。更具体地，第1a感测线SL1_a至第1f感测线SL1_f可以在与角部第一桥接图案BRP1’对应的部分处由仅包括第四金属层MTL4的单层形成，并且可以在不与角部第一桥接图案BRP1’对应的部分处由包括第三金属层MTL3和第四金属层MTL4的双层形成。

根据示例性实施例，包括在第1a感测线SL1_a至第1f感测线SL1_f中的每条的第二部分MA中的第四金属层MTL4可以具有与包括在相邻的第一感测线SL1的第二部分MA中的第四金属层MTL4的尺寸(或者面积或长度)不同的尺寸(或者面积或长度)。例如，包括在最靠近角部第一桥接图案BRP1’的第1a感测线SL1_a的第二部分MA中的第四金属层MTL4的尺寸(或者面积或长度)可以是最小的，包括在设置为最远离角部第一桥接图案BRP1’的第1f感测线SL1_f的第二部分MA中的第四金属层MTL4的尺寸(或者面积或长度)可以是最大的。更具体地，包括在第一感测线SL1的第二部分MA中的第四金属层MTL4的尺寸(或者面积或长度)可以随着与角部第一桥接图案BRP1’的距离增大而增大。

如上所述，在触摸传感器TS的角部处，仅角部第一桥接图案BRP1’可以由第一导电图案CP1形成，剩余的组件(诸如第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2、第二桥接图案BRP2以及第一感测线SL1的第二部分MA)可以由第二导电图案CP2形成。

在这种情况下，当第一导电图案CP1形成在触摸传感器TS的角部处时，角部感测区域SA的光致抗蚀剂图案与角部非感测区域NSA的光致抗蚀剂图案之间的急剧的密度差可以缓和，使得角部感测区域SA和角部非感测区域NSA中的密度差可以最小化。因此，可以防止由于角部感测区域SA和角部非感测区域NSA中的光致抗蚀剂图案的密度差而会发生的缺陷。例如，可以防止由于设置在角部感测区域SA中的角部第一桥接图案BRP1’的厚度不均匀导致的短路缺陷。

在根据示例性实施例的触摸传感器和具有该触摸传感器的显示装置中，与定位在感测区域的角部处的桥接图案相邻的至少一条感测线可以由单层形成。以这种方式，可以防止桥接图案的短路缺陷以改善角部处的感测灵敏度。

尽管在此已经描述了某些示例性实施例和实施方式，但是其他实施例和修改通过该描述将是明显的。因此，发明构思不限于这样的实施例，而是限于所附权利要求以及对本领域普通技术人员而言将是明显的各种明显的修改和等同布置的更宽范围。

Claims (15)

1.一种触摸传感器，所述触摸传感器包括：

基体层，包括感测区域和非感测区域；

多个第一传感器图案，设置在所述感测区域中且沿着第一方向布置；

多个第一桥接图案，沿着所述第一方向布置，所述第一桥接图案中的至少一个设置在所述感测区域的角部处；

多个第二传感器图案，设置在所述感测区域中且沿着与所述第一方向交叉的第二方向布置；

多个第二桥接图案，沿着所述第二方向布置；以及

多条感测线，设置在所述非感测区域中且连接到所述第一传感器图案和所述第二传感器图案中的每个，

其中，所述感测线中的每条包括第一金属层和设置在所述第一金属层上的第二金属层，并且绝缘层插入在所述第一金属层与所述第二金属层之间，

其中，所述感测线中的每条具有第一部分和第二部分，所述第二部分与所述第一桥接图案中的所述至少一个对应，并且

其中，所述感测线中的至少一条的所述第二部分具有仅包括所述第二金属层的单层结构。

2.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述第一桥接图案设置在与其上设置有所述第一传感器图案和所述第二传感器图案以及所述第二桥接图案的层不同的层上。

3.根据权利要求2所述的触摸传感器，其中：

所述第一金属层与所述第一桥接图案设置在同一层上，并且所述第二金属层与所述第一传感器图案和所述第二传感器图案以及所述第二桥接图案设置在同一层上，并且

所述绝缘层包括至少一个接触孔，并且所述第一金属层和所述第二金属层通过所述至少一个接触孔电连接。

4.根据权利要求3所述的触摸传感器，其中，所述感测线中的所述至少一条的所述第一部分具有包括所述第一金属层和与所述第一金属层叠置的所述第二金属层的双层结构。

5.根据权利要求3所述的触摸传感器，其中，所述感测线中的每条的所述第一部分具有包括所述第一金属层和设置在所述第一金属层上的所述第二金属层的双层结构。

6.根据权利要求5所述的触摸传感器，其中：

所述感测线中的每条的所述第一金属层具有相同的尺寸，并且

所述相同的尺寸包括相同的宽度、相同的长度和相同的厚度中的一种。

7.根据权利要求5所述的触摸传感器，其中，所述感测线中的每条的所述第一金属层具有彼此不同的尺寸。

8.根据权利要求7所述的触摸传感器，其中，所述感测线中的每条的所述第一金属层的尺寸随着被设置为更远离所述感测区域而增大。

9.根据权利要求3所述的触摸传感器，其中，所述感测线中的每条的所述第二部分具有仅包括所述第二金属层的单层结构。

10.根据权利要求9所述的触摸传感器，其中：

所述感测线中的每条的所述第二金属层具有相同的尺寸，并且

所述相同的尺寸包括相同的宽度、相同的长度和相同的厚度中的一种。

11.根据权利要求9所述的触摸传感器，其中，所述感测线中的每条的所述第二金属层具有彼此不同的尺寸。

12.根据权利要求3所述的触摸传感器，其中，所述第二部分沿着所述第一方向与所述第一桥接图案中的所述至少一个叠置。

13.根据权利要求3所述的触摸传感器，其中：

所述感测线中的每条包括在所述第一方向上延伸的第三部分和第四部分；

所述第三部分对应于与所述第一桥接图案中的所述至少一个设置在同一列中的所述第一桥接图案；并且

所述第三部分具有仅包括所述第二金属层的单层结构。

14.根据权利要求13所述的触摸传感器，其中，所述感测线中的每条的不对应于与所述第一桥接图案中的所述至少一个设置在所述同一列中的所述第一桥接图案的所述第四部分具有包括所述第一金属层和设置在所述第一金属层上的所述第二金属层的双层结构。

15.一种显示装置，所述显示装置包括：

显示面板，包括多个像素和设置在所述多个像素上的封装层，所述多个像素中的每个包括发光元件；以及

触摸传感器，设置在所述封装层上，所述触摸传感器包括：基体层，包括感测区域和非感测区域；多个第一传感器图案，设置在所述感测区域中且沿着第一方向布置；多个第一桥接图案，沿着所述第一方向布置，所述第一桥接图案中的至少一个设置在所述感测区域的角部处；多个第二传感器图案，设置在所述感测区域中且沿着与所述第一方向交叉的第二方向布置；多个第二桥接图案，沿着所述第二方向布置；以及多条感测线，设置在所述非感测区域中且连接到所述第一传感器图案和所述第二传感器图案中的每个，

其中，所述感测线中的每条包括第一金属层和设置在所述第一金属层上的第二金属层，并且绝缘层插入在所述第一金属层与所述第二金属层之间，

其中，所述感测线中的每条具有第一部分和第二部分，所述第二部分与所述第一桥接图案中的所述至少一个对应，并且

其中，所述感测线中的至少一条的所述第二部分具有仅包括所述第二金属层的单层结构。

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