CN113634095A - 一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，用以对半导体清洗后挥发的废气进行处理；包括外壳体，上方安装有储放箱，且所述储放箱的上侧连接有输料口；排气通道，安装在所述外壳体的左侧，且所述外壳体和所述排气通道的连接处开设有通孔，并且所述通孔位于所述外壳体和所述排气通道连接处的下方；出风口，连通在所述排气通道的左上方，且所述排气通道的左下方连通有排液口。该半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，只需要一个驱动源便可控制内筒围绕主管转动，节能型高，便捷性高，且可同步的驱动转杆控制外侧安装的搅拌叶转动，对内筒内的废气和中和药剂进行翻转混合，使得废气和中和药剂充分接触，加快中和效率。
Description
技术领域
本发明涉及半导体清洗技术领域，具体为一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置。
背景技术
在制造半导体的过程中，由于其制造程序复杂，所使用的化学成分相当多样化，因此产生的工艺尾气也相当复杂，包括酸气(例如氟化氢(HF)、氯化氢(HCl)、硝酸(HNO3)、硫酸(H2SO4)和磷酸(H3PO4)等)，碱气(例如氨气(NH3))，溶剂(例如异丙醇(IPA)、丙酮、正己烷、环戊酮、丙二醇单甲基醚(PGME)和丙二醇单甲基醚酯(PGMEA)等)，以及有毒气体(例如砷化氢(AsH3)、磷化氢(PH3)、硅甲烷(SiH4)、二氯硅烷(SiH2Cl2)、二硼烷(B2H6)、三氟化硼(BF3)和四氟化硅(SiF4)等)，为避免半导体在制造过程中产生的工艺尾气造成环境污染问题，因此在设备末端设有工艺尾气处理设备。
但是，在对废气进行处理时，过多的废气和中和药剂直接接触反应，影响中和效果，且中和药剂的累积使用，会逐渐的降低后续废气的中和效果，不能小批量并应用全新的药剂对废气进行中和处理，整体装置的操作自动化程度低，需要人工进行药剂的添加。
所以，我们提出了一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置以便于解决上述提出的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，以解决上述背景技术提出的目前市场上在对废气进行处理时，过多的废气和中和药剂直接接触反应，影响中和效果，且中和药剂的累积使用，会逐渐的降低后续废气的中和效果，不能小批量并应用全新的药剂对废气进行中和处理，整体装置的操作自动化程度低，需要人工进行药剂的添加的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，用以对半导体清洗后挥发的废气进行处理；
包括外壳体，上方安装有储放箱，且所述储放箱的上侧连接有输料口；
排气通道，安装在所述外壳体的左侧，且所述外壳体和所述排气通道的连接处开设有通孔，并且所述通孔位于所述外壳体和所述排气通道连接处的下方；
出风口，连通在所述排气通道的左上方，且所述排气通道的左下方连通有排液口；
还包括：
下料口，开设在所述储放箱下侧的中部，且所述下料口的内侧贴合设置有挡块，并且所述挡块的前侧连接有安装架，所述安装架通过第一弹簧与所述储放箱弹性连接，且所述安装架的下端连接与第一磁铁；
主管，利用轴承转动连接在所述外壳体的内部，且所述主管的外侧连通有连接管，并且所述连接管远离所述主管的一端连通有内筒；
全齿轮，键连接在所述主管后端的外侧，且所述全齿轮的上方啮合连接有半齿轮，并且所述半齿轮的内侧键连接有转轴，所述转轴的后端与电机的输出端连接，且所述电机螺栓固定在所述外壳体的后上方；
输气管，转动连接在所述主管的后端，且所述输气管与所述输气管的内部相通；
固定环，安装在所述外壳体内部的后侧，且所述固定环的内侧连接有齿块；
第四磁铁，安装在所述外壳体内部的前侧。
优选的，所述内筒上设置有转杆、进料口和第三磁铁：
转杆，利用轴承转动连接在所述内筒的内部，且所述转杆的外侧等角度的安装有搅拌叶，并且所述转杆的后端键连接有调节齿轮；
进料口，开设在所述内筒远离所述连接管的一侧，且所述进料口的内部滑动连接有密封板，并且所述密封板通过第二弹簧与所述内筒弹性连接；
所述密封板的前端安装有连接杆，且所述连接杆的前端安装有第二磁铁，并且所述连接杆滑动连接在调节槽的内侧，所述调节槽开设在所述内筒侧壁的内部；
第三磁铁，安装在所述内筒远离所述连接管的一侧。
优选的，侧壁相互平行分布的所述下料口和所述挡块的相对面均为倾斜状结构，且所述挡块的外径从上至下依次减小，此设计可利用挡块对下料口进行围挡，并在挡块上移时，预留挡块和下料口之间的缝隙供应中和药剂下落。
优选的，侧剖面为“7”字形结构的所述安装架与所述储放箱为上下滑动连接，且所述安装架下端安装的所述第一磁铁的位置与所述第三磁铁的位置相互对应，此设计可利用安装架的竖直移动驱动挡块竖直移动，并利用第一磁铁和第三磁铁之间的相互斥力，对安装架的位置进行调节。
优选的，位于同一竖直平面内的所述全齿轮的外径与所述半齿轮的外径相同，且所述全齿轮的齿数是所述半齿轮齿数的四倍，此设计可利用半齿轮驱动全齿轮转动，并可保证半齿轮转动一周驱动全齿轮转动四分之一周。
优选的，所述内筒关于所述主管的横向中心线等角度分布，且上方位置的所述内筒开设的所述进料口的位置与所述下料口的位置相互对应，并且所述下料口的内径小于所述进料口的内径，此设计可利用多个内筒连续性的对废气和中和药剂进行混合并进行中和处理，且保证中和药剂从下料口顺利的进入到进料口内。
优选的，所述齿块等角度的分布在所述固定环和所述调节齿轮的连接处，且所述调节齿轮和所述搅拌叶为同轴连接，此设计可利用齿块驱动调节齿轮转动，从而驱动搅拌叶转动，对废气和中和药剂进行混合。
优选的，所述第四磁铁关于所述主管的横向中心线对称设置，且所述第四磁铁的位置与所述第二磁铁的位置相互对应设置，此设计可利用第四磁铁和第二磁铁之间的相互吸引力，驱动第二磁铁带动连接杆移动，对密封板的位置进行调整。
优选的，所述储放箱内部的底侧面为倾斜状结构，且所述储放箱的最低点与所述下料口的最高点相互重合，此设计可保证中和药剂集中到下料口处，顺利从下料口进行分流排送。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：该半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，
（1）可将批量的废气和中和药剂输送到内筒中，在内筒内对废气的酸碱进行中和处理，且配合半齿轮和齿轮的使用，实现内筒的位置交替，并在内筒位置交替时，利用异极分布的第四磁铁和第二磁铁的吸引力打开进料口，同极分布的第三磁铁和第一磁铁的排斥力打开下料口，实现药剂的自动化并批量的进料，分隔式对废气进行中和处理，保证内筒内废气均与全新的中和药剂进行混合，保证药剂的药性，保证废气的中和效果，且此过程只需要在内筒围绕主管转动时便可自动化完成，操作的便利性高，自动化程度高；
（2）只需要一个驱动源便可控制内筒围绕主管转动，节能型高，便捷性高，且可同步的驱动转杆控制外侧安装的搅拌叶转动，对内筒内的废气和中和药剂进行翻转混合，使得废气和中和药剂充分接触，加快中和效率，且此装置的后续进入的废气可推动中和后的废气排出，有利于废气的批量连续性中和处理。
附图说明
图1为本发明主剖结构示意图；
图2为本发明内筒主剖结构示意图；
图3为本发明调节齿轮主剖结构示意图；
图4为本发明侧剖结构示意图；
图5为本发明半齿轮后剖结构示意图；
图6为本发明图4中的a处放大结构示意图；
图7为本发明密封板侧剖结构示意图；
图8为本发明输气管主剖结构示意图；
图9为本发明内筒侧剖结构示意图。
图中：1、外壳体；2、储放箱；3、输料口；4、排气通道；5、通孔；6、下料口；7、挡块；8、安装架；9、第一弹簧；10、第一磁铁；11、主管；12、输气管；13、全齿轮；14、半齿轮；15、转轴；16、电机；17、连接管；18、内筒；19、转杆；20、搅拌叶；21、调节齿轮；22、固定环；23、齿块；24、进料口；25、调节槽；26、密封板；27、连接杆；28、第二弹簧；29、第二磁铁；30、第三磁铁；31、第四磁铁；32、出风口；33、排液口。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-9，本发明提供一种技术方案：一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，用以对半导体清洗后挥发的废气进行处理；
包括外壳体1，上方安装有储放箱2，且储放箱2的上侧连接有输料口3；
排气通道4，安装在外壳体1的左侧，且外壳体1和排气通道4的连接处开设有通孔5，并且通孔5位于外壳体1和排气通道4连接处的下方；
出风口32，连通在排气通道4的左上方，且排气通道4的左下方连通有排液口33；
还包括：
下料口6，开设在储放箱2下侧的中部，且下料口6的内侧贴合设置有挡块7，并且挡块7的前侧连接有安装架8，安装架8通过第一弹簧9与储放箱2弹性连接，且安装架8的下端连接与第一磁铁10；
主管11，利用轴承转动连接在外壳体1的内部，且主管11的外侧连通有连接管17，并且连接管17远离主管11的一端连通有内筒18；
全齿轮13，键连接在主管11后端的外侧，且全齿轮13的上方啮合连接有半齿轮14，并且半齿轮14的内侧键连接有转轴15，转轴15的后端与电机16的输出端连接，且电机16螺栓固定在外壳体1的后上方；
输气管12，转动连接在主管11的后端，且输气管12与输气管12的内部相通；
固定环22，安装在外壳体1内部的后侧，且固定环22的内侧连接有齿块23；
第四磁铁31，安装在外壳体1内部的前侧。
位于同一竖直平面内的全齿轮13的外径与半齿轮14的外径相同，且全齿轮13的齿数是半齿轮14齿数的四倍。
将中和药剂从输料口3处输送到储放箱2内，实现中和药剂的储放，接着将图4所示的电机16接通电源，控制电机16带动输出轴连接的转轴15转动，转轴15控制外侧键连接的半齿轮14转动，结合图5所示，在半齿轮14转动至与全齿轮13啮合连接时，便可控制全齿轮13转动，因为全齿轮13的齿数是半齿轮14齿数的四倍，并全齿轮13的外径和半齿轮14的外径相同，故半齿轮14转动一周可驱动全齿轮13转动四分之一，而全齿轮13控制内部键连接的主管11转动。
侧壁相互平行分布的下料口6和挡块7的相对面均为倾斜状结构，且挡块7的外径从上至下依次减小。侧剖面为“7”字形结构的安装架8与储放箱2为上下滑动连接，且安装架8下端安装的第一磁铁10的位置与第三磁铁30的位置相互对应。储放箱2内部的底侧面为倾斜状结构，且储放箱2的最低点与下料口6的最高点相互重合。内筒18上设置有转杆19、进料口24和第三磁铁30：转杆19，利用轴承转动连接在内筒18的内部，且转杆19的外侧等角度的安装有搅拌叶20，并且转杆19的后端键连接有调节齿轮21；进料口24，开设在内筒18远离连接管17的一侧，且进料口24的内部滑动连接有密封板26，并且密封板26通过第二弹簧28与内筒18弹性连接；密封板26的前端安装有连接杆27，且连接杆27的前端安装有第二磁铁29，并且连接杆27滑动连接在调节槽25的内侧，调节槽25开设在内筒18侧壁的内部；第三磁铁30，安装在内筒18远离连接管17的一侧。内筒18关于主管11的横向中心线等角度分布，且上方位置的内筒18开设的进料口24的位置与下料口6的位置相互对应，并且下料口6的内径小于进料口24的内径。齿块23等角度的分布在固定环22和调节齿轮21的连接处，且调节齿轮21和搅拌叶20为同轴连接。第四磁铁31关于主管11的横向中心线对称设置，且第四磁铁31的位置与第二磁铁29的位置相互对应设置。
主管11的外侧利用连接管17与内筒18相互连通，故可驱动内筒18转动，内筒18如图1所示的方向顺时针转动，在半齿轮14转动至与全齿轮13脱离啮合时，其中一个内筒18的进料口24的位置正对下料口6的位置，结合图7所示，此时第二磁铁29的位置与上方位置的第四磁铁31的位置对应，第四磁铁31和第二磁铁29的相对面为异极，故第四磁铁31和第二磁铁29之间产生相互吸引力，驱动连接杆27向前移动，连接杆27拉动端部安装的密封板26前移，密封板26同步对第二弹簧28进行挤压，将密封板26收纳到调节槽25内，同时第三磁铁30和第一磁铁10的位置相对，第三磁铁30和第一磁铁10的相对面为同极，第三磁铁30和第一磁铁10之间产生排斥力，故可推动安装架8挤压第一弹簧9进行上移，安装架8控制端部安装的挡块7上移，解除挡块7对下料口6的围挡，储放箱2内的中和药剂便可下料口6输送到进料口24内，并进入到内筒18内，而输气管12将废气输送到转动连接的主管11内，主管11分流到连接管17内，连接管17将废气输送到内筒18内，废气直接与中和药剂接触，对废气进行中和处理，在半齿轮14再次与全齿轮13啮合连接时，便可再次驱动内筒18围绕主管11转动，第四磁铁31和第二磁铁29位置错开，第二弹簧28便可驱动密封板26复位移动，利用密封板26对进料口24进行围挡，第三磁铁30和第一磁铁10位置错开，第一弹簧9控制安装架8下移复位，从而控制挡块7下移复位，对下料口6进行围挡，避免中和药剂下料，并在内筒18围绕主管11转动时，齿块23驱动啮合连接的调节齿轮21转动，调节齿轮21控制内侧键连接的转杆19转动，转杆19控制外侧安装的搅拌叶20转动，对内筒18内的废气和中和药剂进行翻转混合，使得废气和中和药剂充分接触，在内筒18转动到下方位置时，第二磁铁29便可与下方位置的第四磁铁31位置对应，将密封板26打开，将内筒18内的中和药剂和废气排出，根据上述步骤，实现中和药剂的自动进料和废气的小批次处理，而中和后的残余废气也可在内筒18转动到上方位置打开密封板26时排出，后续进入的废气可推动中和后的废气排出，有利于废气的批量连续性中和处理，而排出的废气可顺着通孔5进入到排气通道4，接着从出风口32排出，后续可将排液口33上的螺纹密封盖卸下，将药剂排出。
工作原理：在使用该半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置时，首先，使用者先将图1所示的整个装置平稳的放置到工作区域内，电机16接通电源，驱动内筒18转动，异极分布的第四磁铁31和第二磁铁29之间产生相互吸引力，密封板26收纳到调节槽25内，同极分布的第三磁铁30和第一磁铁10之间产生排斥力，解除挡块7对下料口6的围挡，中和药剂输送到内筒18内，再次驱动内筒18围绕主管11转动，密封板26复位对进料口24进行围挡，挡块7下移复位对下料口6进行围挡，且转杆19控制外侧安装的搅拌叶20对内筒18内的废气和中和药剂进行翻转混合，内筒18转动到下方位置时密封板26打开，将内筒18内的中和药剂和废气排出，排出的废气从出风口32排出，后续可将排液口33上的螺纹密封盖卸下，将药剂排出，本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。
在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，用以对半导体清洗后挥发的废气进行处理，
包括外壳体，上方安装有储放箱，且所述储放箱的上侧连接有输料口；
排气通道，安装在所述外壳体的左侧，且所述外壳体和所述排气通道的连接处开设有通孔，并且所述通孔位于所述外壳体和所述排气通道连接处的下方；
出风口，连通在所述排气通道的左上方，且所述排气通道的左下方连通有排液口；
其特征在于：还包括：
下料口，开设在所述储放箱下侧的中部，且所述下料口的内侧贴合设置有挡块，并且所述挡块的前侧连接有安装架，所述安装架通过第一弹簧与所述储放箱弹性连接，且所述安装架的下端连接与第一磁铁；
主管，利用轴承转动连接在所述外壳体的内部，且所述主管的外侧连通有连接管，并且所述连接管远离所述主管的一端连通有内筒；
全齿轮，键连接在所述主管后端的外侧，且所述全齿轮的上方啮合连接有半齿轮，并且所述半齿轮的内侧键连接有转轴，所述转轴的后端与电机的输出端连接，且所述电机螺栓固定在所述外壳体的后上方；
输气管，转动连接在所述主管的后端，且所述输气管与所述输气管的内部相通；
固定环，安装在所述外壳体内部的后侧，且所述固定环的内侧连接有齿块；
第四磁铁，安装在所述外壳体内部的前侧。
2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，其特征在于：所述内筒上设置有转杆、进料口和第三磁铁：
转杆，利用轴承转动连接在所述内筒的内部，且所述转杆的外侧等角度的安装有搅拌叶，并且所述转杆的后端键连接有调节齿轮；
进料口，开设在所述内筒远离所述连接管的一侧，且所述进料口的内部滑动连接有密封板，并且所述密封板通过第二弹簧与所述内筒弹性连接；
所述密封板的前端安装有连接杆，且所述连接杆的前端安装有第二磁铁，并且所述连接杆滑动连接在调节槽的内侧，所述调节槽开设在所述内筒侧壁的内部；
第三磁铁，安装在所述内筒远离所述连接管的一侧。
3.根据权利要求1所述的一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，其特征在于：侧壁相互平行分布的所述下料口和所述挡块的相对面均为倾斜状结构，且所述挡块的外径从上至下依次减小。
4.根据权利要求2所述的一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，其特征在于：侧剖面为“7”字形结构的所述安装架与所述储放箱为上下滑动连接，且所述安装架下端安装的所述第一磁铁的位置与所述第三磁铁的位置相互对应。
5.根据权利要求1所述的一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，其特征在于：位于同一竖直平面内的所述全齿轮的外径与所述半齿轮的外径相同，且所述全齿轮的齿数是所述半齿轮齿数的四倍。
6.根据权利要求2所述的一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，其特征在于：所述内筒关于所述主管的横向中心线等角度分布，且上方位置的所述内筒开设的所述进料口的位置与所述下料口的位置相互对应，并且所述下料口的内径小于所述进料口的内径。
7.根据权利要求2所述的一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，其特征在于：所述齿块等角度的分布在所述固定环和所述调节齿轮的连接处，且所述调节齿轮和所述搅拌叶为同轴连接。
8.根据权利要求2所述的一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，其特征在于：所述第四磁铁关于所述主管的横向中心线对称设置，且所述第四磁铁的位置与所述第二磁铁的位置相互对应设置。
9.根据权利要求1所述的一种半导体清洗后的废气酸碱中和处理装置，其特征在于：所述储放箱内部的底侧面为倾斜状结构，且所述储放箱的最低点与所述下料口的最高点相互重合。
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