CN113578801A - 擦拭装置、擦拭设备及擦拭方法 - Google Patents

Abstract

本申请提出了一种擦拭装置、擦拭设备及擦拭方法，所述擦拭装置包括基座、第一擦拭头、检测器及调整机构，第一擦拭头用于抵压并擦拭所述工件；检测器与所述第一擦拭头连接，用于检测所述第一擦拭头抵压所述工件的力；调整机构设于所述基座，且连接所述检测器，用于驱动所述检测器移动以调整所述第一擦拭头抵压所述工件的力；其中所述力包括压力和摩擦力中的至少一种。上述的擦拭装置通过检测器检测第一擦拭头抵压工件的力，调整机构可驱动检测器移动以调整第一擦拭头抵压工件的力，从而使得第一擦拭头以最优的擦拭力度擦拭工件，操作简单，擦拭力度容易把握，擦拭质量较好。

Description

擦拭装置、擦拭设备及擦拭方法

技术领域

本申请涉及清洁技术领域，特别涉及一种擦拭装置、擦拭设备及擦拭方法。

背景技术

工件的表面在一些场景中需要考虑其是否整洁，比如摄像头的镜头的整洁能够带来较高质量的摄像效果，现有技术中常采用人工擦拭工件的方式来清洁工件，以使得工件的表面整洁，但是此种方式效率低、质量不稳定，也无法根据工件表面具体的脏污对象进行擦拭。

发明内容

鉴于上述状况，实有必要提供一种擦拭装置、擦拭设备及擦拭方法，以解决上述问题。

本申请实施例提供了一种擦拭装置，用于擦拭工件，包括

基座；

第一擦拭头，用于抵压并擦拭所述工件；

检测器，与所述第一擦拭头连接，用于检测所述第一擦拭头抵压所述工件的力；及

调整机构，设于所述基座，且连接所述检测器，用于驱动所述检测器移动以调整所述第一擦拭头抵压所述工件的力，其中，所述力包括压力和摩擦力中的至少一种。

上述的擦拭装置通过检测器检测第一擦拭头抵压工件的力，调整机构可驱动检测器移动以调整第一擦拭头抵压工件的力，从而使得第一擦拭头以最优的擦拭力度擦拭工件，操作简单，擦拭力度容易把握，擦拭质量较好。

在一些实施例中，还包括：

第一导向柱，设于所述基座，与所述第一擦拭头连接；及

弹性件，所述弹性件的一端连接所述第一导向柱，所述弹性件的另一端连接所述检测器；

其中，所述检测器和所述弹性件均套设于所述第一导向柱，且所述弹性件沿所述第一导向柱可伸缩。

在一些实施例中，所述调整机构包括：

滑动件，所述滑动件抵接所述检测器；及

驱动件，设于所述基座，且与所述滑动件连接，所述驱动件通过所述滑动件驱动所述检测器移动以调整所述第一擦拭头抵压所述工件的力。

在一些实施例中，还包括：

第一限位块，设于所述第一导向柱，所述第一限位块包括第一面，且所述第一限位块和所述第一擦拭头位于所述基座的两侧；

第二擦拭头，用于抵压并擦拭所述工件；

第二导向柱，设于所述基座，与所述第二擦拭头连接；

第二限位块，设于所述第二导向柱，所述第二限位块包括第二面，且所述第二限位块和所述第二擦拭头位于所述基座的两侧；

其中，所述第一面与所述第二面相靠，以限制所述第一擦拭头和所述第二擦拭头旋转。

在一些实施例中，其中，

所述检测器为环形力感测器。

本申请还提供了一种擦拭设备，用于擦拭工件，包括：

擦拭装置，包括：

基座；

第一擦拭头，用于抵压并擦拭所述工件；

检测器，与所述第一擦拭头连接，用于检测所述第一擦拭头抵压所述工件的力，其中所述力包括压力和摩擦力中的至少一种；及

调整机构，设于所述基座，且连接所述检测器，用于驱动所述检测器移动以调整所述第一擦拭头抵压所述工件的力；及

控制器，与所述检测器和所述调整机构耦接，用于接收所述检测器检测到的所述力，及根据所述力和第一预设值，控制所述调整机构调整所述第一擦拭头抵压所述工件的所述力。

上述的擦拭设备通过擦拭装置中的调整机构驱动检测器移动以调整第一擦拭头抵压工件的力，然后控制器根据检测器检测到的力和第一预设值，控制调整机构调整第一擦拭头抵压工件的力，从而使得第一擦拭头以最优的擦拭力度擦拭工件，操作简单，擦拭力度容易把握，擦拭质量较好。

在一些实施例中，还包括：

第一导向柱，设于所述基座，且与所述第一擦拭头连接；及

弹性件，所述弹性件的一端连接所述第一导向柱，所述弹性件的另一端连接所述检测器；

其中，所述检测器和所述弹性件均套设于所述第一导向柱，且所述弹性件沿所述第一导向柱可伸缩。

在一些实施例中，所述调整机构包括：

滑动件，所述滑动件抵接所述检测器；及

驱动件，设于所述基座，与所述滑动件连接，其中，所述驱动件通过所述滑动件驱动所述检测器移动以调整所述第一擦拭头抵压所述工件的力。

在一些实施例中，还包括：

第一限位块，设有所述第一导向柱，所述第一限位块包括第一面，且所述第一限位块和所述第一擦拭头位于所述基座的两侧；

第二擦拭头，用于擦拭所述工件；

第二导向柱，设于所述基座，且与所述第二擦拭头连接；

第二限位块，设有所述第二导向柱，所述第二限位块包括第二面，且所述第二限位块和所述第二擦拭头位于所述基座的两侧；

其中，所述第一面与所述第二面相靠，以限制所述第一擦拭头和所述第二擦拭头旋转。

在一些实施例中，其中，

所述检测器为环形力感测器；

所述控制器还用于根据所述力小于第一预设值，控制所述调整机构驱动所述环形力感测器向所述第一擦拭头的方向移动以增加所述第一擦拭头抵压所述工件的力。

在一些实施例中，其中，

所述检测器还用于检测所述弹性件的压缩量；

所述控制器还用于根据所述压缩量大于第二预设值，提醒更换所述第一擦拭头。

在一些实施例中，所述控制器还用于获取所述工件表面的脏污信息，并根据所述脏污信息动态控制所述调整机构调整所述第一擦拭头抵压所述工件的力。

在一些实施例中，其中，

所述工件包括第一区域和第二区域，所述脏污信息包括所述第一区域的第一脏污密度和所述第二区域的第二脏污密度；

所述控制器还用于：

获取所述第一脏污密度及所述第二脏污密度；

根据所述第一脏污密度大于所述第二脏污密度，控制所述第一擦拭头在所述第一区域抵压所述工件的力小于所述第一擦拭头在所述第二区域抵压所述工件的力。

在一些实施例中，所述擦拭装置还包括：

第二擦拭头，用于抵压并擦拭所述第二区域；

第二检测器，与所述第二擦拭头连接，用于检测所述第二擦拭头抵压所述工件的力；及

第二调整机构，设于所述基座，且连接所述第二检测器，用于驱动所述第二检测器移动以调整所述第二擦拭头抵压所述工件的压力；

其中，所述工件包括第一区域和第二区域，所述第一擦拭头抵压并擦拭所述第一区域，所述第二擦拭头抵压并擦拭所述第二区域；

所述控制器还用于：

获取所述第一区域的第一脏污密度及所述第二区域的所述第二脏污密度；

根据所述第一脏污密度大于所述第二脏污密度，控制所述第一擦拭头抵压所述第一区域的力小于所述第二擦拭头抵压所述第二区域的力。

本申请还提供了一种擦拭方法，用于擦拭工件，包括：

令第一擦拭头抵压所述工件；

检测所述第一擦拭头抵压所述工件的压力；

根据所述压力和第一预设值，调整所述第一擦拭头抵压所述工件压力；及

令所述第一擦拭头按预设路径运动以擦拭所述工件。

在一些实施例中，还包括：

检测所述第一擦拭头按所述预设路径运动中的摩擦力；及

根据所述摩擦力和第二预设值，调整所述第一擦拭头的抵压所述工件的压力。

在一些实施例中，还包括：

获取所述工件表面的脏污信息；

根据所述脏污信息，动态调整所述第一擦拭头抵压工件的压力。

在一些实施例中，其中，所述工件包括第一区域和第二区域；所述脏污信息包括所述第一区域的第一脏污密度和所述第二区域的第二脏污密度；所述清洁方法还包括：

获取所述第一脏污密度和所述第二赃物密度；

根据所述第一脏污密度大于所述第二脏污密度，控制所述第一擦拭头在所述第一区域抵压所述工件的压力小于所述第一擦拭头在所述第二区域抵压所述工件的压力。

在一些实施例中，其中，所述工件包括第一区域和第二区域，所述清洁方法还包括：

令所述第一擦拭头抵压所述擦拭布至所述第一区域；

令所述第二擦拭头抵压所述擦拭布至所述第二区域；及

获取所述第一区域的第一赃物密度和所述第二区域的第二脏污密度；

根据所述第一脏污密度大于所述第二脏污密度，控制所述第一擦拭头抵压所述工件的压力小于所述第二擦拭头抵压所述工件的压力。

上述的擦拭装置、擦拭设备及擦拭方法可检测所第一擦拭头抵压工件的压力和第一擦拭头在擦拭工件时的摩擦力，并通过该压力或者摩擦力来调整第一擦拭头抵压工件的压力，从而使得第一擦拭头以最优的擦拭力度擦拭工件，而且能够根据工件具体的表面的脏污信息来调整第一擦拭头抵压工件的压力，操作简单，擦拭力度可控，擦拭质量稳定。

附图说明

图1是本申请一实施例提供的擦拭设备与工件的立体结构示意图。

图2是本申请一实施例提供的擦拭装置的立体结构示意图。

图3是图2中所示的擦拭装置的分解结构示意图。

图4是图3中的调整机构的分解结构示意图。

图5是图3中的第一导向柱、管接头及擦拭头的剖面结构示意图。

图6是本申请一实施例提供的擦拭装置的立体结构示意图。

图7是图6所示的擦拭装置擦拭镜头的结构示意图。

图8是本申请一实施例提供的擦拭装置的立体结构示意图。

图9是本申请实施例提供的擦拭方法的流程图。

图10是本申请实施例提供的擦拭方法进一步的方法流程图。

图11是本申请实施例提供的擦拭方法进一步的方法流程图。

图12是本申请实施例提供的擦拭方法进一步的方法流程图。

图13是本申请实施例提供的擦拭方法进一步的方法流程图。

图14是本申请实施例提供的擦拭方法进一步的方法流程图。

图15是本申请实施例提供的计算机设备示意图。

主要元件符号说明

擦拭设备 1

擦拭装置 100

电子产品 101

镜头 102

基座 10

第一导向孔 11

第一擦拭头 20

第二供液通道 21

检测器 30

调整机构 40

滑动件 42

移动部 422

滑动部 424

驱动件 44

支架 46

第一连接板 462

第二连接板 464

第三连接板 466

固定柱 48

弹性件 50

第一导向柱 60

第一供液通道 61

第一限位块 70

第一面 72

第二擦拭头 80

第二导向柱 90

第二限位块 110

第二面 112

管接头 120

第三擦拭头 130

调整机构 140

移载机构 200

擦拭布 300

计算机设备 400

处理器 401

通信总线 402

存储器 403

通信接口 404

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

需要说明的是，当一个元件被认为是“连接”另一个元件，他可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中设置的元件。当一个元件被认为是“设置在”另一个元件，他可以是直接设置在另一个元件上或者可能同时存在居中设置的元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

工件在一些场景下需要考虑其表面的清洁质量，比如通常在生产过程中或者完成生产时需要对表面的杂质进行清洁以获得较高的表面清洁质量。例如，对于电子产品的清洁要求更高，电子产品的一些零组件的清洁度往往对使用有很大影响，作为举例说明，请参见图1，电子产品101的镜头102的表面清洁度往往对于电子产品101的摄像所获得的图像或者录像会造成清晰度的影响，在电子产品101的生产过程中，关于镜头102的清洁十分重要，镜头102是成像装置的关键元件，它的洁净度直接影响成像的质量，因此手工擦拭的方式并不能很好保证擦拭后的镜头102的表面质量。

为此，本申请提供了一种擦拭设备1，用于擦拭电子产品101的镜头102，请参阅图1，包括擦拭装置100、移载机构200及控制器(图未示)，控制器控制移载机构200驱动擦拭装置100抵压电子产品101的镜头102并驱动擦拭装置100对电子产品101的镜头102进行擦拭。

在一些实施例中，请参见图1，擦拭装置100可以直接接触电子产品101的镜头102以对镜头102进行擦拭。

在一些实施例中，请参见图2，擦拭装置100也可以通过抵压擦拭布300至电子产品101的镜头102上以对镜头102进行擦拭。

请参见图2，擦拭装置100包括基座10、第一擦拭头20、检测器30及调整机构40，其中，调整机构40设置在基座10上，且连接检测器30，检测器30连接第一擦拭头20，第一擦拭头20用于抵压并擦拭镜头102。当移载机构200驱动擦拭装置100下压以使第一擦拭头20抵压镜头102时，检测器30可以检测第一擦拭头20抵压镜头102的压力或者第一擦拭头20擦拭镜头102时的摩擦力，调整机构40则可以驱动检测器30移动以调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力，从而也可以通过调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力来调整第一擦拭头20擦拭镜头102时的摩擦力。

在一些实施例中，请参见图3，擦拭装置100还包括弹性件50和第一导向柱60，擦拭装置100中的基座10大致为长方体状的结构，基座10上设置有贯穿基座10的第一导向孔11，第一导向柱60可上下滑动地设置在基座10的第一导向孔11中，第一导向柱60的下端连接第一擦拭头20，检测器30和弹性件50均套设在第一导向柱60上，弹性件50沿第一导向柱60可伸缩。弹性件50的上端连接检测器30，弹性件50的下端连接第一导向柱60，在一实施例中，弹性件50的下端可通过焊接等固定连接方式连接在第一导向柱60的外侧壁上；可以理解的，在另一实施方式中，第一导向柱60的外侧壁上设有一圈凸缘，弹性件60的下端抵接于凸缘。当擦拭装置100被移载机构200驱动下压以使第一擦拭头20抵压镜头102时，调整机构40可以驱动检测器30移动以使检测器30抵压弹性件50，从而使得弹性件50压缩，弹性件50压缩进而可以抵压第一导向柱60从而使得第一擦拭头20向下移动以调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力。

在一些实施例中，弹性件50为具有弹性的可恢复原状的零件，比如是弹簧、橡胶棒等；检测器30可以是环形力感测器，但不限于此。

在一些实施例中，当擦拭装置100被移载机构200驱动下压以使第一擦拭头20抵压镜头102时，调整机构40可以驱动检测器30下降或者上升，以使得检测器30抵压弹性件50的位置不同，使得弹性件50的压缩量也不同，从而实现调整弹性件50抵压第一导向柱60和第一擦拭头20的压力，也即调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力。

在一些实施例中，请参见图4，调整机构40包括滑动件42和驱动件44，滑动件42连接检测器30；驱动件44设置在基座10上，且驱动件44与滑动件42相连接，驱动件44可以通过滑动件42驱动检测器30移动以使检测器30抵压弹性件50，从而使得弹性件50压缩，弹性件50压缩进而可以抵压第一导向柱60和第一擦拭头20以进一步增加第一擦拭头20抵压镜头102的压力或者增加第一擦拭头20擦拭镜头102时的摩擦力。

在一些实施例中，驱动件44为气缸、液压缸或者电机等，但不限于此。

在一些实施例中，请参见图4，调整机构40还包括支架46和固定柱48，支架46包括第一连接板462、第二连接板464和第三连接板466，第一连接板462固定设置在基座10的一侧，第二连接板464和第三连接板466垂直设置在第一连接板462的同一侧，且第二连接板464和第三连接板466分别位于第一连接板462的上下端，固定柱48的上端固定在第二连接板464，固定柱48的下端固定在第三连接板466，滑动件42可以在驱动件44的驱动下沿着固定柱48上下滑动，且第二连接板464和第三连接板466可以限制滑动件42向上滑动的行程和向下滑动的行程。

在一些实施例中，请参见图4，滑动件42包括滑动部422和抵压部424，滑动部422大致为块状结构，滑动部422设于第二连接板464和第三连接板466之间，且固定柱48穿过滑动部422；抵压部424为L形的板状结构，抵压部424的上端固定在滑动部422上，抵压部424的下端套设在第一导向柱60上，且抵压部424抵压检测器30。驱动件44设置在第二连接板464上，驱动件44的驱动端穿过第二连接板464且与滑动部422连接，从而驱动件44可以通过驱动端驱动滑动部422沿着固定柱48上下滑动以带动抵压部424上下移动，抵压部424抵压检测器300至弹性件50，因此抵压部424的上下移动可以调整检测器300的上下位置，从而可以调整弹性件50的压缩量，进而调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力，可见，检测器300除了可实现检测第一擦拭头20抵压镜头102的压力外，同时还可通过调整机构40驱动检测器300的移动，实现调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力。

在一些实施例中，请参见图5，擦拭装置100还包括管接头120，第一导向柱60内部设有第一供液通道61，第一擦拭头20内部设置有第二供液通道21，第一供液通道61和第二供液通道21连通，且第一供液通道61连通管接头120，可通过外部液源(图未示)向管接头120提供清洁液(图未示)，清洁液经管接头120流向第一供液通道61，并经第一供液通道61流向第二供液通道21，并最后经第二供液通道21流向使第一擦拭头20的擦拭表面。

在一些实施例中，请参见图6，擦拭装置100还包括第一限位块70、第二擦拭头80、第二导向柱90及第二限位块110，其中，第二擦拭头80抵压镜头102并对镜头102进行擦拭，第二擦拭头80可以由如第一擦拭头20的调整机构40进行调整其抵压镜头102的压力，这里第二擦拭头80的调整方式和第一擦拭头20的调整方式是一样的。请参考图7，第一次擦拭头20和第二擦拭头80可以同时或者单独对镜头102的两个区域进行擦拭，也可以同时或者单独对两个镜头102进行擦拭。

在一些实施例中，请继续参见图6，第一限位块70套设在第一导向柱60的上端，第一限位块70包括第一面72，且第一限位块70位于基座10的上侧；第二擦拭头80连接第二导向柱90，第二导向柱90设置在基座10上，第二导向柱90设置在基座10上的方式可以和第一导向柱设置在基座10上的方式一样，第二限位块110套设在第二导向柱90的上端，第二限位块110包括第二面112，且第二限位块110位于基座10的上侧；其中，第一面72与第二面112相靠在一起，当第一面72和第二面112相靠在一起时，第一面72和第二面112可以相互制约，使得第一限位块70和第二限位块110无法自由旋转，从而限制了第一导向柱60和第二导向柱90的旋转，使得第一擦拭头20和第二擦拭头80避免自转，以有利于第一擦拭头20和第二擦拭头80对镜头102进行擦拭。

在一些实施例中，请参见图8，擦拭装置100还包括第三擦拭头130，第三擦拭头130也具有第一擦拭头20和第二擦拭头80的调整机构140以调整第三擦拭头抵压镜头102的压力；在一些实施例中，擦拭装置100还可以包括更多的擦拭头，在此不赘述。

在一些实施例中，控制器(图未示)分别与检测器30、调整机构40和移载机构200耦接，当检测器30检测到第一擦拭头20抵压镜头102的压力或者第一擦拭头20擦拭镜头102时的摩擦力时，控制器可以接收检测器30所检测到的该压力或者该摩擦力，然后将该压力或者该摩擦力与第一预设值作比较，当该压力或者该摩擦力小于第一预设值时，控制调整机构40增加第一擦拭头20抵压镜头的压力，当该压力或者该摩擦力大于第一预设值时，控制控制调整机构40减小第一擦拭头20抵压镜头的压力。当第一擦拭头20抵压镜头的压力增加时，相应地第一擦拭头20擦拭镜头102时的摩擦力也会增加，反之则第一擦拭头20擦拭镜头102时的摩擦力也会减小。

请参见图1，移载机构200可以驱动擦拭装置100在第一方向、第二方向及第三方向运动，且第一方向、第二方向及第三方向可以两两垂直或者可以不两两垂直，在一些实施例中，移载机构600可以为三轴移动平台。

在一些实施例中，移载机构200可以为机械臂，实现擦拭装置100的任意位置的驱动和第一擦拭头20任意擦拭路径的运动。

在一些实施例中，检测器30检测所述第一擦拭头20抵压所述工件的力，并将检测到的结果传送至控制器。其中检测器30检测的力包括压力和摩擦力中的至少一种。

控制器接收到来自检测器30的检测结果，即检测器30检测到的第一擦拭头20抵压镜头102的压力或者第一擦拭头20擦拭镜头102时的摩擦力，控制器根据该压力或者该摩擦力与第一预设值进行比较，当该压力或者该摩擦力与第一预设值不相等时，控制调整机构40驱动环形力感测器移动以调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力。

在一些实施例中，检测器30还可以用于检测弹性件50的压缩量并发送至控制器，控制器接收到该压缩量，并将该压缩量和第二预设值作比较，该第二预设值为弹性件50的允许最大压缩量，该允许最大压缩量为根据第一擦拭头20的使用场景要求而定，由于第一擦拭头20在使用过程中会出现磨损，所以当出现第一擦拭头20的磨损时，第一擦拭头20抵压镜头102的压力会下降，或者第一擦拭头20擦拭镜头102时的摩擦力会下降，这时控制器需要控制调整机构40抵压检测器30下压，检测器30下压抵压弹性件50使得弹性件50被压缩，弹性件50被压缩后可以提高第一擦拭头20抵压镜头102的压力，或者第一擦拭头20擦拭镜头102时的摩擦力；而当第一擦拭头20的擦拭面磨损达到一定的程度时，可能表示该第一擦拭头20已无法满足使用的要求，这时弹性件50的压缩量则可以表示第一擦拭头20的磨损情况，弹性件50的压缩量达到允许最大压缩量，即第二预设值时则表示第一擦拭头20已磨损至无法满足使用的状态，因此控制器可以根据压缩量大于第二预设值，提醒用户更换第一擦拭头20。

在一些实施例中，可以通过检测装置(图未示)来检测镜头102的表面的脏污信息，该检测装置可以集成到擦拭设备1中作为内部的机构，也可以作为外接设备设置，并提供检测到的镜头102的表面的脏污信息至擦拭设备1的控制器。

在一些实施例中，控制器可以获取检测装置所检测到的镜头102的表面的脏污信息，并且根据该脏污信息控制调整机构40动态调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力或者第一擦拭头20擦拭工件的摩擦力，如此，可以使得擦拭的目标更准确，擦拭质量更高，节省擦拭时间，提高擦拭效率较高。

具体地，在一些实施例中，镜头102可以包括第一区域和第二区域，检测装置检测到的脏污信息脏污信息可以包括第一区域的第一脏污密度和第二区域的第二脏污密度。

在一些实施例中，第一擦拭头20可以分别对第一区域和第二区域进行擦拭，例如第一擦拭头20先对第一区域进行擦拭，然后再对第二区域进行擦拭，在第一擦拭头20对第一区域和第二区域擦拭前，检测装置对第一区域和第二区域分别进行检测并将第一脏污密度及第二脏污密度传输到控制器，控制器获取第一脏污密度及第二脏污密度，然后进行比较第一脏污密度和第二脏污密度，当第一脏污密度大于第二脏污密度时，表示第一区域的脏污程度比第二区域的脏污程度严重，可能在第一区域中存在的杂质较多，这时控制器控制调整机构40调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力，使得第一擦拭头20在第一区域抵压镜头102的压力或者摩擦力小于第一擦拭头20在第二区域抵压镜头102的压力或者摩擦力，从而使得第一擦拭头20在杂质较多的第一区域的压力或者擦拭时的摩擦力较小，从而不会造成在擦拭的过程中杂质对镜头102表面造成划伤，而第一擦拭头20在杂质较少的第二区域的压力或者擦拭时的摩擦力较大，则可以提高擦拭效率。在一些实施例中，控制器还可以控制第一擦拭头20在杂质较多的第一区域的擦拭时间长于第一擦拭头20在杂质较少的第二区域的擦拭时间，从而使得第一区域和第二区域的擦拭效果基本相同；在一些实施例中，控制器还可以控制第一擦拭头20在杂质较多的第一区域的擦拭速度高于第一擦拭头20在杂质较少的第二区域的擦拭速度，从而使得第一区域和第二区域的擦拭效率基本相同。

在一些实施例中，第一擦拭头20可以对第一区域进行擦拭，第二擦拭头80可以对第二区域进行擦拭，或者第一擦拭头20可以对第二区域进行擦拭，第二擦拭头80可以对第一区域进行擦拭，或者在第一擦拭头20对第一区域进行擦拭的同时或者不同时第二擦拭头20对第二区域进行擦拭。在第一擦拭头20对第一区域进行擦拭前和第二擦拭头20对第二区域进行擦拭前，检测装置对第一区域和第二区域分别进行检测并将第一脏污密度及第二脏污密度传输到控制器，控制器获取第一脏污密度及第二脏污密度，然后进行比较第一脏污密度和第二脏污密度，当第一脏污密度大于第二脏污密度时，表示第一区域的脏污程度比第二区域的脏污程度严重，可能在第一区域中存在的杂质较多，这时控制器控制调整第一擦拭头20抵压镜头102上第一区域的压力和第二擦拭头抵压镜头102上第二区域的压力，使得第一擦拭头20在第一区域抵压镜头102的压力或者摩擦力小于第二擦拭头20在第二区域抵压镜头102的压力或者摩擦力，从而使得第一擦拭头20在杂质较多的第一区域的压力或者擦拭时的摩擦力较小，从而不会造成在擦拭的过程中杂质对镜头102表面上第一区域造成划伤，而第二擦拭头20在杂质较少的第二区域的压力或者擦拭时的摩擦力较大，则可以提高擦拭效率。在一些实施例中，控制器还可以控制第一擦拭头20在杂质较多的第一区域的擦拭时间长于第二擦拭头20在杂质较少的第二区域的擦拭时间，从而使得第一区域和第二区域的擦拭效果基本相同；在一些实施例中，控制器还可以控制第一擦拭头20在杂质较多的第一区域的擦拭速度高于第二擦拭头20在杂质较少的第二区域的擦拭速度，从而使得第一区域和第二区域的擦拭效率基本相同。

在一些实施例中，第一擦拭头20和第二擦拭头可以分别擦拭不同的镜头102，检测装置则可以检测不同的镜头102的表面的脏污信息，检测装置将检测到的不同的镜头102的表面的脏污信息传输至控制器，控制器则可以根据不同的镜头的表面的脏污信息来分别控制第一擦拭头20和第二擦拭头抵压镜头102的压力，或者分别控制第一擦拭头20和第二擦拭头的擦拭时间，或者分别控制第一擦拭头20和第二擦拭头的擦拭速度，或者分别控制第一擦拭头20和第二擦拭头的擦拭路径等等。

擦拭设备具有擦拭装置100、移载机构200及控制器，擦拭装置则包括第一擦拭头20、检测器30及调整机构40，通过检测器和调整机构40可以实现对第一擦拭头20抵压镜头102的压力或者第一擦拭头20擦拭镜头102的摩擦力进行调整，从而实现以较优的压力或者摩擦力进行镜头102的擦拭，自动化程度高，擦拭力度自主控制，擦拭质量和擦拭效率高。

请参见图9，本申请的实施例还提出了一种擦拭方法，可用于上面所描述的擦拭设备，用于对镜头102实施擦拭处理，包括：

S10，令第一擦拭头20抵压镜头102；

控制器控制移载机构200驱动擦拭装置100移动至镜头102的上方，然后移载机构200驱动擦拭装置100下降以使得擦拭装置100的第一擦拭头20抵压在镜头102上，第一擦拭头20和检测器30之间的弹性件50可以使得第一擦拭头20抵压至镜头102时实现弹性接触，避免了第一擦拭头20的损坏，这时，第一擦拭头20和检测器30之间的弹性件50受到第一擦拭头20和检测器30的挤压呈现压缩的状态。

在一些实施例中，擦拭装置100的第一擦拭头20还可以抵压擦拭布在镜头102上，并通过第一擦拭头20带动擦拭布对镜头102进行擦拭。

S20，检测第一擦拭头20抵压镜头102的压力；

在第一擦拭头20抵压镜头102后，检测器30检测第一擦拭头20抵压镜头102的压力，并将该压力传输至控制器。

S30，根据压力和第一预设值，调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力；

控制器获取检测器30检测到的压力，并将检测器30检测到的压力与第一预设值作比较，当该压力小于第一预设值时，控制调整机构40增加第一擦拭头20抵压镜头的压力，当该压力大于第一预设值时，控制器控制调整机构40减小第一擦拭头20抵压镜头的压力，从而使得第一擦拭头20抵压镜头102的压力等于第一预设值，保证每次擦拭镜头102的压力都一致且符合要求。

S40，令第一擦拭头20按预设路径运动以擦拭镜头102。

当调整好第一擦拭头20抵压镜头102的压力后，移载机构则驱动第一擦拭头20按照预设路径进行运动以擦拭镜头102的表面，以获得较较高的擦拭质量和擦拭效率。

在一些实施例中，请参见图10，清洁方法还包括，在步骤S40后进行：

S50，检测第一擦拭头20擦拭镜头102的摩擦力；

在第一擦拭头20按预设路径运动以擦拭镜头102的过程中，检测器检测第一擦拭头20擦拭镜头102时的摩擦力，并将该摩擦力传输至控制器。

S60，根据摩擦力和第二预设值，调整第一擦拭头20的抵压擦拭布200的压力。

控制器获取检测器30检测到的摩擦力，并将检测器30检测到的摩擦力与第二预设值作比较，当该摩擦力小于第二预设值时，控制调整机构40增加第一擦拭头20抵压镜头102的压力，当该摩擦力大于第二预设值时，控制器控制调整机构40减小第一擦拭头20抵压镜头的压力，由于第一擦拭头20擦拭镜头102时的摩擦力与第一擦拭头20抵压镜头102的压力成正比，所以通过调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力，即可使得第一擦拭头20擦拭镜头102时的摩擦力等于第二预设值，从而保证第一擦拭头20擦拭镜头102的摩擦力保持一致且符合要求。通过调整磨擦力，可以使得第一擦拭头20面对不同类型的杂质时可以通过不同的磨擦力进行擦拭，从而获得镜头102表面较优的擦拭效果。

在一些实施例中，在第一擦拭头20按预设路径运动以擦拭镜头102的过程中，检测器30可以持续检测第一擦拭头20抵压镜头102的压力，并进行第一擦拭头20抵压镜头的压力的调整，从而使得在整个擦拭过程中第一擦拭头20抵压镜头102的压力恒定，保证了擦拭质量。

在一些实施例中，请参见图11，清洁方法还包括在S10之前实施步骤S05，获取镜头102表面的脏污信息；

检测装置对镜头102的表面进行检测以获得镜头102表面的脏污信息，该脏污信息可以包括镜头102表面的脏污类型、杂质的密度、划痕情况、水迹情况或者脏污的分布等等，检测装置将该脏污信息传输至控制器。

在S40之后实施：

S70，根据脏污信息动态调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力。

其中，控制器在获取镜头102表面的脏污信息后，根据该脏污信息所表现出来的镜头102的脏污情况来动态调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力，从而可以根据具体的脏污情况来实施具体不同的擦拭压力，使得擦拭质量和擦拭效率较高。

在一些实施例中，镜头102的表面包括第一区域和第二区域，请参见图12，其中步骤S05，获取镜头102表面的脏污信息包括：

S051，检测装置检测第一区域并获得第一区域的第一脏污密度；

作为擦拭设备1内部机构或者外界设备的检测装置对镜头102的第一区域进行检测，以获得第一区域的第一脏污密度。

S053，检测装置将第一脏污密度传输至控制器；

S055，控制器获取第一脏污密度；

S057，检测装置检测第二区域并获得第二区域的第二脏污密度；

作为擦拭设备内部机构或者外界设备的检测装置对镜头102的第二区域进行检测，以获得第二区域的第二脏污密度。

S059，检测装置将第二脏污密度传输至控制器；

S0511，控制器获取第二脏污密度；

在另外的实施例中，步骤S051及步骤S057可同时进行，步骤S0531及步骤S059也可同时进行，具体地，由检测装置同时检测镜头102的第一区域和第二区域的脏污密度，分别得到第一脏污密度和第二脏污密度，再由检测装置将第一脏污密度和第二脏污密度传送控制器。

在一些实施例中，当第一擦拭头20分别对第一区域和第二区域进行擦拭时，例如第一擦拭头20先对第一区域进行擦拭，然后再对第二区域进行擦拭时，请参见图13，其中步骤S70根据脏污信息动态调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力包括：

S701，令第一擦拭头20擦拭第一区域；

在调整机构40调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力至第一预设值后，移载机构驱动第一擦拭头20擦拭镜头102的第一区域，以去除第一区域的脏污。

S703，第一脏污密度是否大于第二脏污密度？

控制器在获得第一脏污密度和第二脏污密度后，比对第一脏污密度和第二脏污密度的大小，当第一脏污密度大于第二脏污密度时，实施步骤S705；当第一脏污密度小于第二脏污密度时，实施步骤S707。

S705，调整机构40增加第一擦拭头20抵压镜头102的压力；

当第一脏污密度大于第二脏污密度时，表示第一区域的脏污程度比第二区域的脏污程度严重，可能在第一区域中存在的杂质较多，那么在对第二区域进行擦拭前，调整机构40通过驱动件44驱动滑动件42抵压检测器以使弹性件抵压第一擦拭头20，从而增加第一擦拭头20抵压镜头102的压力，使得第一擦拭头20在第二区域抵压镜头102的压力或者摩擦力大于第一擦拭头20在第一区域抵压镜头102的压力或者摩擦力，从而可以提高擦拭效率。

S707，调整机构40降低第一擦拭头20抵压镜头102的压力

当第一脏污密度小于第二脏污密度时，表示第二区域的脏污程度比第一区域的脏污程度严重，可能在第二区域中存在的杂质较多，那么在对第二区域进行擦拭前，调整机构40通过驱动件44驱动滑动件42上升以降低第一擦拭头20抵压镜头102的压力，使得第一擦拭头20在第二区域抵压镜头102的压力或者摩擦力小于第一擦拭头20在第一区域抵压镜头102的压力或者摩擦力，即第一擦拭头20在杂质较多的第二区域的压力或者擦拭时的摩擦力较小，从而不会造成在擦拭的过程中杂质对镜头102表面造成划伤。

S709，令第一擦拭头20擦拭第二区域；

在调整机构40增加或者降低第一擦拭头20的抵压镜头102的压力后，移载机构驱动第一擦拭头20擦拭镜头102的第二区域，以去除第二区域的脏污。

在一些实施例中，控制器还可以控制第一擦拭头20在杂质较多的第一区域的擦拭时间长于第一擦拭头20在杂质较少的第二区域的擦拭时间，从而使得第一区域和第二区域的擦拭效果基本相同；在一些实施例中，控制器还可以控制第一擦拭头20在杂质较多的第一区域的擦拭速度高于第一擦拭头20在杂质较少的第二区域的擦拭速度，从而使得第一区域和第二区域的擦拭效率基本相同。

在一些实施例中，当第一擦拭头20对第一区域进行擦拭，第二擦拭头80对第二区域进行擦拭时，请参见图14，步骤S70，根据脏污信息动态调整第一擦拭头20抵压镜头102的压力包括：

S700＇，令第一擦拭头20抵压第一区域，第二擦拭头80抵压第二区域。

S701＇，第一脏污密度是否大于第二脏污密度？

控制器在获得第一脏污密度和第二脏污密度后，比对第一脏污密度和第二脏污密度的大小，当第一脏污密度大于第二脏污密度时，实施步骤S703＇；当第一脏污密度小于第二脏污密度时，实施步骤S705＇。

S703＇,调整第一擦拭头20抵压第一区域的压力小于第二擦拭头20抵压第二区域的压力；

当第一脏污密度大于第二脏污密度时，表示第一区域的脏污程度比第二区域的脏污程度严重，可能在第一区域中存在的杂质较多，这时控制器控制调整第一擦拭头20抵压镜头102上第一区域的压力和第二擦拭头抵压镜头102上第二区域的压力，使得第一擦拭头20在第一区域抵压镜头102的压力或者摩擦力小于第二擦拭头20在第二区域抵压镜头102的压力或者摩擦力，从而使得第一擦拭头20在杂质较多的第一区域的压力或者擦拭时的压力或者摩擦力较小，从而不会造成在擦拭的过程中杂质对镜头102表面上第一区域造成划伤，而第二擦拭头80在杂质较少的第二区域的压力或者擦拭时的摩擦力较大，则可以提高擦拭效率。

S705＇,调整第一擦拭头20抵压第一区域的压力大于第二擦拭头20抵压第二区域的压力；

当第一脏污密度小于第二脏污密度时，表示第一区域的脏污程度比第二区域的脏污程度较轻，可能在第一区域中存在的杂质较少，这时控制器控制调整第一擦拭头20抵压镜头102上第一区域的压力和第二擦拭头抵压镜头102上第二区域的压力，使得第一擦拭头20在第一区域抵压镜头102的压力或者摩擦力大于第二擦拭头20在第二区域抵压镜头102的压力或者摩擦力，从而使得第一擦拭头20在杂质较少的第一区域的压力或者擦拭时的压力或者摩擦力较大，从而可以提高擦拭效率，而第二擦拭头20在杂质较大的第二区域的压力或者擦拭时的摩擦力较小，则不会造成在擦拭的过程中杂质对镜头102表面上第二区域造成划伤。

S707＇，令第一擦拭头20擦拭第一区域，令第二擦拭头擦拭第二区域；

在调整机构40调整好第一擦拭头20抵压第一区域的压力、第二擦拭头80抵压第二区域的压力后，移载机构200驱动第一擦拭头20和第二擦拭头80分别擦拭镜头102的第一区域和第二区域，以去除镜头102表面的脏污。

在一些实施例中，控制器还可以控制第一擦拭头20在杂质较多的第一区域的擦拭时间长于第二擦拭头20在杂质较少的第二区域的擦拭时间，从而使得第一区域和第二区域的擦拭效果基本相同；在一些实施例中，控制器还可以控制第一擦拭头20在杂质较多的第一区域的擦拭速度高于第二擦拭头20在杂质较少的第二区域的擦拭速度，从而使得第一区域和第二区域的擦拭效率基本相同。

在一些实施例中，第一擦拭头20和第二擦拭头可以分别擦拭不同的镜头102，检测装置则可以检测不同的镜头102的表面的脏污信息，检测装置将检测到的不同的镜头102的表面的脏污信息传输至控制器，控制器则可以根据不同的镜头的表面的脏污信息来分别控制第一擦拭头20和第二擦拭头80抵压镜头102的压力，或者分别控制第一擦拭头20和第二擦拭头80的擦拭时间，或者分别控制第一擦拭头20和第二擦拭头80的擦拭速度，或者分别控制第一擦拭头20和第二擦拭头80的擦拭路径等等。

在一些实施例中，也可以不少于两个擦拭头配合使用以擦拭镜头102的多个区域，或者分别擦拭不少于两个镜头102，不少于两个擦拭头可以根据不同区域或者不同镜头102的脏污密度，分别使用不同的压力或者摩擦力擦拭不同的区域或者不同的镜头102，从而提高擦拭质量和擦拭效率。

在一些实施例中，本申请实施例的控制器可以通过图15中的计算机设备来实现。图15所示为本发明实施例提供的计算机设备示意图。该计算机设备400包括至少一个处理器401、通信总线402、存储器403以及至少一个通信接口404，处理器401、存储器403和通信接口404均与通信总线402电连接。

存储器403可以是只读存储器(read-only memory，ROM)或可存储静态信息和指令的其他类型的静态存储设备，随机存取存储器(random access memory，RAM)或者可存储信息和指令的其他类型的动态存储设备，也可以是电可擦可编程只读存储器(electricallyerasable programmable read-only memory，EEPROM)、只读光盘(compact disc readonlymemory，CD-ROM)或其他光盘存储、光盘存储(包括压缩光盘、激光盘、光盘、数字通用光盘、蓝光光盘等)、磁盘存储介质或者其他磁存储设备、或者能够用于携带或存储具有指令或数据结构形式的期望的程序代码并能够由计算机存取的任何其他介质，但不限于此。存储器可以是独立存在，通过总线与处理器相连接。存储器也可以和处理器集成在一起。

处理器401用于调用存储器403中的程序指令执行，处理数据并产生控制指令。处理器401可以是一个通用中央处理器(central processing unit，CPU)，微处理器，特定应用集成电路(application-specific integrated circuit，ASIC)，或一个或多个用于控制本发明方案程序执行的集成电路。

通信接口404可以为任何收发器一类的装置，用于与其他设备或通信网络通信，如以太网，无线接入网(radio access network，RAN)，无线局域网(wireless localareanetworks，WLAN)等，与检测器30和调整机构40连接，用于接受检测器30的数据和传输控制指令至调整机构40。

通信总线402可包括一通路，在上述组件之间传送信息。

上述的擦拭方法通过检测器30和调整机构40可以实现对第一擦拭头20抵压镜头102的压力或者第一擦拭头20擦拭镜头102的摩擦力进行调整，从而实现以较优的压力或者摩擦力进行镜头102的擦拭，自动化程度高，擦拭力度自主控制，擦拭质量和擦拭效率高。

对于本领域技术人员而言，显然本申请不限于上述示范性实施方式的细节，而且在不背离本申请的精神或基本特征的情况下，能够以其它的具体形式实现本申请。因此，无论从哪一点来看，均应将实施方式看作是示范性的，而且是非限制性的，本申请的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化涵括在本申请内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。此外，显然“包括”一词不排除其它单元或步骤，单数不排除复数。

最后应说明的是，以上实施方式仅用以说明本申请的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施方式对本申请进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本申请的技术方案进行修改或等同替换，而不脱离本申请技术方案的精神和范围。

Claims (19)

1.一种擦拭装置，用于擦拭工件，包括：

基座；

第一擦拭头，用于抵压并擦拭所述工件；

检测器，与所述第一擦拭头连接，用于检测所述第一擦拭头抵压所述工件的力；及

调整机构，设于所述基座，且连接所述检测器，用于驱动所述检测器移动以调整所述第一擦拭头抵压所述工件的力，其中，所述力包括压力和摩擦力中的至少一种。

2.如权利要求1所述的擦拭装置，还包括：

第一导向柱，设于所述基座，与所述第一擦拭头连接；及

弹性件，所述弹性件的一端连接所述第一导向柱，所述弹性件的另一端连接所述检测器；

其中，所述检测器和所述弹性件均套设于所述第一导向柱，且所述弹性件沿所述第一导向柱可伸缩。

3.如权利要求1所述的擦拭装置，所述调整机构包括：

滑动件，所述滑动件抵接所述检测器；及

驱动件，设于所述基座，且与所述滑动件连接，所述驱动件通过所述滑动件驱动所述检测器移动以调整所述第一擦拭头抵压所述工件的力。

4.如权利要求1所述的擦拭装置，还包括：

第一限位块，设于所述第一导向柱，所述第一限位块包括第一面，且所述第一限位块和所述第一擦拭头位于所述基座的两侧；

第二擦拭头，用于抵压并擦拭所述工件；

第二导向柱，设于所述基座，与所述第二擦拭头连接；

第二限位块，设于所述第二导向柱，所述第二限位块包括第二面，且所述第二限位块和所述第二擦拭头位于所述基座的两侧；

其中，所述第一面与所述第二面相靠，以限制所述第一擦拭头和所述第二擦拭头旋转。

5.如权利要求1-4任一项所述的擦拭装置，其中，

所述检测器为环形力感测器。

6.一种擦拭设备，用于擦拭工件，包括：

擦拭装置，包括：

基座；

第一擦拭头，用于抵压并擦拭所述工件；

检测器，与所述第一擦拭头连接，用于检测所述第一擦拭头抵压所述工件的力，其中所述力包括压力和摩擦力中的至少一种；及

调整机构，设于所述基座，且连接所述检测器，用于驱动所述检测器移动以调整所述第一擦拭头抵压所述工件的力；及

控制器，与所述检测器和所述调整机构耦接，用于接收所述检测器检测到的所述力，及根据所述力和第一预设值，控制所述调整机构调整所述第一擦拭头抵压所述工件的力。

7.如权利要求6所述的擦拭设备，还包括：

第一导向柱，设于所述基座，且与所述第一擦拭头连接；及

弹性件，所述弹性件的一端连接所述第一导向柱，所述弹性件的另一端连接所述检测器；

其中，所述检测器和所述弹性件均套设于所述第一导向柱，且所述弹性件沿所述第一导向柱可伸缩。

8.如权利要求6所述的擦拭设备，所述调整机构包括：

滑动件，所述滑动件抵接所述检测器；及

驱动件，设于所述基座，与所述滑动件连接，其中，所述驱动件通过所述滑动件驱动所述检测器移动以调整所述第一擦拭头抵压所述工件的力。

9.如权利要求7所述的擦拭设备，还包括：

第一限位块，设有所述第一导向柱，所述第一限位块包括第一面，且所述第一限位块和所述第一擦拭头位于所述基座的两侧；

第二擦拭头，用于擦拭所述工件；

第二导向柱，设于所述基座，且与所述第二擦拭头连接；

第二限位块，设有所述第二导向柱，所述第二限位块包括第二面，且所述第二限位块和所述第二擦拭头位于所述基座的两侧；

其中，所述第一面与所述第二面相靠，以限制所述第一擦拭头和所述第二擦拭头旋转。

10.如权利要求6-9任一项所述的擦拭设备，其中，

所述检测器为环形力感测器；

所述控制器还用于根据所述力小于第一预设值，控制所述调整机构驱动所述环形力感测器向所述第一擦拭头的方向移动以增加所述第一擦拭头抵压所述工件的力。

11.如权利要求6-9任一项所述的擦拭设备，其中，

所述检测器还用于检测所述弹性件的压缩量；

所述控制器还用于根据所述压缩量大于第二预设值，提醒更换所述第一擦拭头。

12.如权利要求6-9任一项所述的擦拭设备，所述控制器还用于获取所述工件表面的脏污信息，并根据所述脏污信息动态控制所述调整机构调整所述第一擦拭头抵压所述工件的力。

13.如权利要求12所述的擦拭设备，其中，

所述工件包括第一区域和第二区域，所述脏污信息包括所述第一区域的第一脏污密度和所述第二区域的第二脏污密度；

所述控制器还用于：

获取所述第一脏污密度及所述第二脏污密度；

根据所述第一脏污密度大于所述第二脏污密度，控制所述第一擦拭头在所述第一区域抵压所述工件的力小于所述第一擦拭头在所述第二区域抵压所述工件的力。

14.如权利要求6-9所述的擦拭设备，所述擦拭装置还包括：

第二擦拭头，用于抵压并擦拭所述第二区域；

第二检测器，与所述第二擦拭头连接，用于检测所述第二擦拭头抵压所述工件的力；及

第二调整机构，设于所述基座，且连接所述第二检测器，用于驱动所述第二检测器移动以调整所述第二擦拭头抵压所述工件的压力；

其中，所述工件包括第一区域和第二区域，所述第一擦拭头抵压并擦拭所述第一区域，所述第二擦拭头抵压并擦拭所述第二区域；

所述控制器还用于：

获取所述第一区域的第一脏污密度及所述第二区域的所述第二脏污密度；

根据所述第一脏污密度大于所述第二脏污密度，控制所述第一擦拭头抵压所述第一区域的力小于所述第二擦拭头抵压所述第二区域的力。

15.一种擦拭方法，用于擦拭工件，包括：

令第一擦拭头抵压所述工件；

检测所述第一擦拭头抵压所述工件的压力；

根据所述压力和第一预设值，调整所述第一擦拭头抵压所述工件压力；及

令所述第一擦拭头按预设路径运动以擦拭所述工件。

16.如权利要求15所述的擦拭方法，还包括：

检测所述第一擦拭头按所述预设路径运动中的摩擦力；及

根据所述摩擦力和第二预设值，调整所述第一擦拭头的抵压所述工件的压力。

17.如权利要求16所述的擦拭方法，还包括：

获取所述工件表面的脏污信息；

根据所述脏污信息，动态调整所述第一擦拭头抵压工件的压力。

18.如权利要求17所述的擦拭方法，其中，所述工件包括第一区域和第二区域；所述脏污信息包括所述第一区域的第一脏污密度和所述第二区域的第二脏污密度；所述清洁方法还包括：

获取所述第一脏污密度和所述第二赃物密度；

根据所述第一脏污密度大于所述第二脏污密度，控制所述第一擦拭头在所述第一区域抵压所述工件的压力小于所述第一擦拭头在所述第二区域抵压所述工件的压力。

19.如权利要求15所述的擦拭方法，其中，所述工件包括第一区域和第二区域，所述清洁方法还包括：

令所述第一擦拭头抵压所述擦拭布至所述第一区域；

令所述第二擦拭头抵压所述擦拭布至所述第二区域；及

获取所述第一区域的第一赃物密度和所述第二区域的第二脏污密度；

根据所述第一脏污密度大于所述第二脏污密度，控制所述第一擦拭头抵压所述工件的压力小于所述第二擦拭头抵压所述工件的压力。

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