CN113559809A - 一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜，包括釜体、升降机构和控制系统，釜体上方设有升降机构，升降机构包括第一电机、丝杠和滑轨，丝杠和滑轨通过滑座连接，滑座靠近滑轨一侧设有磁铁，滑轨下端设有磁性开关，滑座上设有第二电机和转轴，转轴穿过釜体上端；转轴上设有第一喷眼和第二喷眼，转轴为中空结构，转轴内设有第一管道和第二管道，第一喷眼和第一管道连通，第二喷眼与第二管道连通；转轴上端设有上料口，上料口与第一管道和第二管道连通，上料口与水管连通，上料口下方设有第一水泵，转轴下端设有通孔，通孔通过第二水泵与第一管道和第二管道连通。本发明提高了对反应液的搅拌的均匀度，提高了釜体内的搅拌效果，方便釜体清洁。

Description

一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜
技术领域
本发明涉及化工生产设备领域，特别涉及一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜。
背景技术
反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能。反应釜广泛应用于石油、化工、橡胶、农药、染料、医药、食品，用来完成硫化、硝化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程的压力容器，例如反应器、反应锅、分解锅、聚合釜等；材质一般有碳锰钢、不锈钢、锆、镍基合金及其它复合材料。
现有技术的反应釜在使用时，由于其内部结构的限制，降低了原料搅拌的均匀度，降低了反应釜的搅拌效果，不仅如此，现有技术的反应釜在使用完成后，反应釜内部清洁较为困难，降低了反应釜清洁的便捷度。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜，包括釜体、升降机构和控制系统，所述釜体上方设有所述升降机构，所述升降机构包括第一电机、丝杠和滑轨，所述丝杠和所述滑轨通过滑座连接，所述滑座靠近滑轨一侧设有磁铁，所述滑轨下端设有磁性开关，所述滑座上设有第二电机和转轴，所述转轴穿过所述釜体上端；所述转轴上设有第一喷眼和第二喷眼，所述转轴为中空结构，所述转轴内设有第一管道和第二管道，所述第一喷眼和所述第一管道连通，所述第二喷眼与所述第二管道连通；所述转轴上端设有上料口，所述上料口与所述第一管道和第二管道连通，所述上料口与水管连通，所述上料口下方设有第一水泵，所述转轴下端设有通孔，所述通孔通过第二水泵与第一管道和第二管道连通；
所述控制系统与所述第一电机、第二电机、第一水泵和第二水泵连接。
进一步地，所述第一管道与第一水泵间设有第一电磁阀，所述第一管道与第二水泵间设有第二电磁阀，所述第二管道与第一水泵间设有第三电磁阀，所述第二管道与第二水泵间设有第四电磁阀。
进一步地，所述釜体外侧均匀设有多个支撑耳，所述支撑耳与支架连接，所述支撑耳与支架之间设有重力传感器。
进一步地，所述第二电机输出轴与所述转轴通过皮带连接。
进一步地，所述转轴外侧设有搅拌叶。
实施本发明实施例，具有如下有益效果：本发明在釜体内形成循环回路，提高了釜体内搅拌均匀度；同时，第一喷眼和第二喷眼对搅拌釜内壁进行冲洗，防止内壁结垢，提高反应效率，降低清洗难度；通过上料口与水管连通，转轴转动，能够自动清洁，提高了釜体内的清洁便捷度；通过第一电机工作，驱动滑座上下移动，磁铁靠近远离磁性开关，控制第一电磁阀和第二电磁阀开关，防止第一喷眼喷出釜体外；第二电机和升降机构带动转轴上下移动，从而带动第一喷眼和第二喷眼上下移动和旋转，进而对釜体内壁进行全方面冲洗和均匀搅拌。
附图说明
为了更清楚地说明本发明所述的一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜，下面将对实施例所需要的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它附图。
图1为本发明所述的一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜主视图；
图2为本发明所述的一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜主视图截面示意图。
附图中标记如下:
1-釜体；2-升降机构；3-第一电机；4-丝杠；5-滑轨；6-滑座；7-磁铁；8-磁性开关；9-第二电机；10-转轴；11-第一管道；12-第二管道；13-第一喷眼；14-第二喷眼；15-上料口；18-第一水泵；19-第二水泵；20-通孔；21-第一电磁阀；22-第二电磁阀；23-第三电磁阀；24-第四电磁阀；25-支撑耳；26-重力传感器；27-支架；28-上料口。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1：
如图1至图2所示，一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜，包括釜体1、升降机构2和控制系统，所述釜体1上方设有所述升降机构2，所述升降机构2包括第一电机3、丝杠4和滑轨5，所述丝杠4和所述滑轨5通过滑座6连接，所述滑座6靠近滑轨5一侧设有磁铁7，所述滑轨5下端设有磁性开关8，所述滑座6上设有第二电机9和转轴10，所述转轴10穿过所述釜体1上端；所述转轴10上设有第一喷眼13和第二喷眼14，所述转轴10为中空结构，所述转轴10内设有第一管道11和第二管道12，所述第一喷眼13和所述第一管道11连通，所述第二喷眼14与所述第二管道12连通。
具体地，所述第一电机3转动，带动滑座6在丝杠4和滑轨5上上下移动，带动转轴10上下移动，使罐体内反应液搅拌更加充分；在滑座6上磁铁7靠近磁性开关8时，触发磁性开关8，使第一电磁阀21或第二电磁阀22打开。
所述第一喷眼13将第一管道11内液体喷出至釜体1内，所述第二喷眼14将第二管道12内液体喷出至釜体1内，所述第一喷眼13设置在转轴10上半部分，所述第二喷眼14设置在转轴10下半部分。
具体地，所述转轴10上端设有上料口15，所述上料口15与所述第一管道11和第二管道12连通，所述上料口15与水管连通，所述上料口15下方设有第一水泵18，所述转轴10下端设有通孔20，所述通孔20通过第二水泵19与第一管道11和第二管道12连通，所述第一喷眼13和第二喷眼14将上料口15的液体或通孔20内液体喷出，使加料更加均匀，或釜体1内反应液反应充分，时釜体1内反应液循环，搅拌效果更加均匀。
具体地，所述控制系统与所述第一电机3、第二电机9、第一水泵18和第二水泵19连接，所述控制系统控制第一电机3工作，转轴10上下移动；控制第二电机9工作，转轴10旋转，放映液更加均匀；控制第一水泵18工作，增加压力方便上料口15的上料液或清洗液进入釜体1；控制第二水泵19工作，方便釜体1内液体循环，使反应液分布均匀，防止结垢。
具体地，所述第一管道11与第一水泵18间设有第一电磁阀21，所述第一管道11与第二水泵19间设有第二电磁阀22，所述第二管道12与第一水泵18间设有第三电磁阀23，所述第二管道12与第二水泵19间设有第四电磁阀24。所述控制系统第一电磁阀21、第二电磁阀22、第三电磁阀23和第四电磁阀24连接，所述磁性开关8与第一电磁阀21和第二电磁阀22连接连接，控制第一电磁阀21或第三电磁阀23打开或关闭。
进一步地，所述釜体1外侧均匀设有多个支撑耳25，所述支撑耳25与支架27连接，所述支撑耳25与支架27之间设有重力传感器26，方便测量釜体1内加入物料量，防止物料量多加少加，影响反应结果，提高反应效率。
进一步地，所述第二电机9输出轴与所述转轴10通过皮带连接，结构简单，使用方便。
进一步地，所述转轴10外侧设有搅拌叶，提高反应液均匀度，加快反应效率。
在本实施例中，在反应过程中，控制系统控制第一电机3和第二电机9工作，第一电机3工作，带动滑座6上下移动，第二电机9工作，转轴10旋转，搅拌效果好，控制系统控制第四电磁阀24和第二水泵19打开，第二水泵19将通孔20内反应液经第二管道12从第二喷眼14喷出，在滑座6下移过程中，磁铁7碰到磁性开关8，第二电磁阀22打开，第二水泵19将通孔20内反应液经第一管道11从第一喷眼13内喷出，磁铁7远离磁性开关8，第二电磁阀22关闭，在釜体1内形成循环，第一喷眼13和第二喷眼14喷出反应液将釜体1内壁上的粘附的反应液冲下来，保持釜体1内壁清洁，提高反应效率，使物料分布均匀；在加料过程中，控制系统控制第一电机3和第二电机9工作，第一电机3工作，带动滑座6上下移动，第二电机9工作，转轴10旋转，搅拌效果好，控制第三电磁阀23和第一水泵18工作，将上料口15的液体抽入釜体1内从第二喷眼14喷出，在滑座6靠近磁性开关8时，第一电磁阀21打开，上料口15液体从第一喷眼13喷出，使加料更加均匀，重力传感器26称量加入液体量，在到达指定量时，控制系统控制第一水泵18和第三电磁阀23关闭，随转轴10旋转，加入液体分布更加均匀；在清洗过程中，往上料口15通入水管内液体，进行冲洗，控制系统控制第一水泵18、第三电磁阀23和第四电磁阀24打开，控制第一电机3和第二电机9工作，在磁铁7靠近磁性开关8时，第一电磁阀21打开，边加入清洗液边搅拌，伴随第一喷眼13和第二喷眼14对釜体1内壁冲洗，清洗更干净，重力传感器26采集加入清洗液的重量，控制器接收重力传感器26采集釜体1内清洗液的重量数据，待重量数据到达指定数据时，停止加入清洗液，水管关闭，控制系统控制第一电磁阀21、第三电磁阀23和第一水泵18停止工作，同时第二水泵19和第四电磁阀24开始工作，控制磁性开关8控制第二电磁阀22工作，是请洗更加充分，干净。
上述说明已经充分揭露了本发明的具体实施方式。需要指出的是，熟悉该领域的技术人员对本发明的具体实施方式所做的任何改动均不脱离本发明的权利要求书的范围。相应地，本发明的权利要求的范围也并不仅仅局限于前述具体实施方式。

Claims (5)

1.一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜，包括釜体、升降机构和控制系统，其特征在于，所述釜体上方设有所述升降机构，所述升降机构包括第一电机、丝杠和滑轨，所述丝杠和所述滑轨通过滑座连接，所述滑座靠近滑轨一侧设有磁铁，所述滑轨下端设有磁性开关，所述滑座上设有第二电机和转轴，所述转轴穿过所述釜体上端；所述转轴上设有第一喷眼和第二喷眼，所述转轴为中空结构，所述转轴内设有第一管道和第二管道，所述第一喷眼和所述第一管道连通，所述第二喷眼与所述第二管道连通；所述转轴上端设有上料口，所述上料口与所述第一管道和第二管道连通，所述上料口与水管连通，所述上料口下方设有第一水泵，所述转轴下端设有通孔，所述通孔通过第二水泵与第一管道和第二管道连通；
所述控制系统与所述第一电机、第二电机、第一水泵和第二水泵连接。
2.根据权利要求1所述的一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜，其特征在于，所述第一管道与第一水泵间设有第一电磁阀，所述第一管道与第二水泵间设有第二电磁阀，所述第二管道与第一水泵间设有第三电磁阀，所述第二管道与第二水泵间设有第四电磁阀。
3.根据权利要求1所述的一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜，其特征在于，所述釜体外侧均匀设有多个支撑耳，所述支撑耳与支架连接，所述支撑耳与支架之间设有重力传感器。
4.根据权利要求1所述的一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜，其特征在于，所述第二电机输出轴与所述转轴通过皮带连接。
5.根据权利要求1所述的一种搅拌均匀的便于清洁的反应釜，其特征在于，所述转轴外侧设有搅拌叶。
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