CN113544306A - 改进的气相沉积系统、方法和湿度控制装置 - Google Patents

Abstract

一种用于处理基板的系统，包括适于接收和释放一卷基板和一个复卷机，适于从复卷机上复卷基板。这个系统还包括物理气相沉积(PVD)装置、真空室。其中放卷机、PVD设备和复卷机被放置；并且其中PVD装置的转鼓的温度在0℃到10℃之间，并且适用于增加底物的解吸速率。

Description

改进的气相沉积系统、方法和湿度控制装置

技术领域

本发明涉及一种用于改进衬底气相沉积的系统和工艺。更具体地说，本发明涉及一种用于改进的气相沉积的系统和工艺，其可提供与基底的良好沉积结合。

背景技术

物理气相沉积(PVD)、等离子体增强物理气相沉积(PEPVD)、化学气相沉积(CVD)和等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是已知的将材料或化学品沉积到物品上的过程。这些工艺在很多行业都有很多用途，特别是汽车、管道和食品包装行业。其他行业也可以利用这些工艺生产具有化学涂层的货物，在这种涂层中，在沉积化学或其他元素或化合物之前，物品可以或不可以通过等离子体场预处理。然而，在与沉积到纺织品上有关的上述过程中存在许多问题。

PVD工艺通常使用PVD源材料沉积在物品上。在PVD或PEPVD工艺中，PVD源材料通过蒸发工艺蒸发，蒸发的材料随后冷凝在物品上(蒸发PVD)以产生所需的沉积，或者溅射工艺将替换要沉积的源材料并冷凝在物品上(溅射PVD)。与CVD工艺不同，PVD工艺在整个过程中没有发生化学反应。由于没有化学反应，源材料的纯度可能要求很高，这可能限制了PVD发生的条件。

大多数接受沉积的物品通常是用于食品、工业部件或一般汽车部件的聚合物薄膜或金属。PVD的其他用途也很明显。然而，对于含水量高的物品(重量或体积大于1％至2％，有些物品的重量或体积含水量为10％至20％)使用PVD工艺存在许多问题。值得注意的是，具有高水分含量的基材，例如机织或无纺布，可能不适用于PVD、PEPVD、CVD或PECVD工艺，因为水分来自基材或制品的水分含量可能在加工过程中导致放气问题和压力增加，从而破坏所述制品或基材。

用于薄膜基底的PVD和PEPVD处理的已知系统使用真空室和蒸发器设备将固体源材料转化为蒸汽。真空室可能平均需要30分钟到2小时的时间来降低到所需的内部压力，然后才能开始加工。然而，通常情况下，基板的含水量会增加内腔压力，从而导致加工终止和腔室重新增压，因此腔室需要重新增压，并且有可能基板不再适用于端部目的。这不仅与所需的时间和能量有关，而且还与对系统中使用的基板和其他材料的潜在损害有关，可能是昂贵的。

即使工艺足够，含水量高的基板也可能与PVD工艺的沉积层形成劣质结合，这可能是基板放气的结果。其他问题包括可见的“烧伤”(沉积的黑色或棕色区域)或沉积在基底上的金属的意外氧化。PVD源材料的不均匀应用也可能是由于在PVD源材料的应用过程中基质内的水分被气化而导致的。此外，湿气中的杂质可能与正在沉积的PVD源相互作用，这也可能导致沉积层粘结不良或PVD源的应用出现其他问题。

由于这些问题，目前的系统主要用于当放入PVD或CVD处理系统时，含水量相对较低的材料(约0.5％(按重量或体积计)。因此，目前的系统不能支持对含水量相对较高的材料进行PVD或CVD处理。

在整个说明书中对现有技术的任何讨论都不应被视为承认该现有技术是该领域中广为人知的或构成共同常识的一部分。

发明内容

有待解决的问题

与聚合物相比，提供一种能够加工天然含水量高的材料的PVD系统可能是有利的。

为PVD处理提供一个能够降低基材或纺织品的含水量的系统可能是有利的。

提供可容纳纺织品或基材的湿度控制装置可能是有利的。

提供一种可以脱气并进行PVD处理的系统可能是有利的。

与传统方法相比，提供一种可在较短时间内将PVD处理应用于基板的系统可能是有利的。

提供一种可以更有效地脱气多孔基板的系统可能是有利的。

提供一种能够限制纺织品含水量的装置可能是有利的。

本发明的目的是克服或改善现有技术的至少一个缺点，或提供有用的替代方案。

解决问题的方法

本发明的第一方面可涉及用于处理基板的系统。该系统包括一个放卷机，该放卷机适于接收和放卷一卷基板。一种复卷机，适于从复卷机上复卷基板。物理气相沉积(PVD)装置。一种真空室，其中放置放卷机、PVD装置和复卷机；其中PVD装置的涂布滚筒的温度在0℃到10℃之间，并且适于增加基板的解吸速率。

最好将织物从退卷机上解卷并在复卷机上卷绕，然后在复卷机上解卷并在退卷机上卷绕。优选地，真空室包括具有第一压力的缠绕室和具有第二压力的PVD室。优选地，退卷机还可以是进一步的退卷机。优选地，复卷机可以是进一步的退卷机。优选地，所述系统包括至少一个等离子体处理模块，所述等离子体处理模块位于适于产生等离子体的位置。优选地，滚筒的温度可以动态地调节。优选地，该系统可适于通过将基板暴露于PVD装置的加热舟中至少部分地脱气基板。优选地，该系统还包括测量辊。优选地，该系统还包括厚度测量单元。优选地，该系统可以在真空室中保持真空的同时，将基板在退卷机和绕线机之间传递多次。优选地，第一进料器设置在退卷机处，第二进料器可以设置在退卷机处，每个进料器适于保持基板的一部分以反转基板的处理方向。优选地，包括用于捕获脱气污染物的冷却系统。优选地，该系统可以连接到真空存储器，该真空存储器可以存储来自真空室的真空的至少一部分。

在本发明的另一方面中，可以提供一种使用系统对基底进行脱气和施加PVD处理的方法，该方法包括脱气阶段和物理气相沉积(PVD)阶段。脱气阶段包括以下步骤：在真空室中的退卷机上安装一卷基板；密封真空室并将真空室中的空气排出至预定压力；将物理气相沉积(PVD)设备的涂层滚筒加热至10℃并激活加热船；将基板辊穿过系统，使基板可被涂布滚筒和加热船加热，以使基板脱气；加热后重新卷绕基板。PVD级，包括以下步骤：展开基板并将基板传回系统，蒸发PVD源材料以使PVD源材料沉积在基板上；将基板重新卷绕成卷。

优选地，在PVD阶段沉积PVD源之前，基板可以通过预处理模块。优选地，对于PVD级，可以降低系统中的压力。优选地，该方法还包括测量沉积层的厚度。优选地，所述方法还包括使所述基板通过后处理模块以提供对所述基板上的沉积的光洁度的步骤。优选地，该系统可适于执行两个脱气阶段。

在本发明的上下文中，“包括”、“包含”等词语应以其包含性而不是其排他性的含义来解释，即在“包括但不限于”的意义上。

本发明将参照所描述的或附属于本领域的技术问题中的至少一个来解释。本发明旨在解决或改进技术问题中的至少一个，并且这可能导致本说明书定义的并且参照本发明的优选实施例详细描述的一个或多个有利效果。

附图说明

图1示出了PVD处理系统实施例的剖视图；

图2示出了纺织品处理系统实施例的透视图；

图3示出了在系统中处理纺织品的两阶段工艺流程图；

图4示出了系统在另一个腔室中的另一个实施例，该腔室设置在绕组腔室和PVD腔室之间；

图5示出了一种小车的实施例，其中装有一个软袋，用于包裹纺织品；

图6示出了一种纺织手推车的实施例，该手推车具有适于减少水分进入的可关闭盖；

图7示出了一个安装有辊的托架的实施例的透视图；

图8示出了直臂摇篮实施例的透视图；

图9示出了适于叉车移动的摇篮的实施例；

图10A-10D示出了在可密封袋系统中安装卷的方法的实施例；

图11示出了一个纵向袋子的实施例，在该纵向袋子中可以保留卷；以及

图12示出了安装在要密封的卷上的袋子系统的前视图的一个实施例。

具体实施方式

现在将参考附图和非限制性示例来描述本发明的优选实施例。

本发明可针对用于物理气相沉积(PVD)和/或化学气相沉积(CVD)处理和改进所述PVD或CVD工艺的应用的控制或降低纺织品含水量的系统10和工艺。值得注意的是，沉积层与处理过的基底之间的结合强度或涂层的稠度和质量也可以得到提高，并产生优异的产品。

本文所述的系统可以具有作为滚动到滚动系统的主要实用性，尽管本文还描述了连续系统。卷对卷系统也可称为批处理系统，每卷可形成一个单独的“批处理”。

系统10可适用于处理纺织品或其他多孔或非多孔基材。虽然系统10可用于任何所需的PVD和/或CVD处理，但本文所述的系统10将具体参考铝(铝)PVD处理，尽管可以使用任何所需的过程，并且任何沉积源材料可用于涂覆或处理基板。例如，银、金、铜或钛或其合金也可以是合适的PVD源材料。

基材可包括任何可经PVD和/或CVD处理的片材、纺织品或柔性平面材料。在此，将在本规范中具体提及由系统10处理的纺织品，但是应当理解，术语“纺织品”可以替换为术语“基质”，因为任何期望的基质可以利用本发明的系统10的优点。“基材”一词可包括纺织品、薄膜或任何其他平面物品。

通过该系统处理的合适纺织品可以包括：尼龙、聚酰胺、人造丝、聚酯、PP、PET、PE、芳纶、丙烯酸、丙烯酸酯、纸张、羊毛、丝绸、棉花、亚麻、机织物、无纺布、编织物、绝缘材料、合成材料、天然材料中的至少一种，有机材料或任何其他适合在服装中使用的材料。应理解，纺织品是由纱线、长丝、股线或纤维形成的基材，这些纱线、长丝、股线或纤维以规则或有序的方式相互连接(机织纺织品)，或在非机织纺织品的情况下粘合在一起。这些纺织品在纤维、纱线、长丝或股线之间有孔或间隙，这使得这些纺织品具有透气性，这是服装非常需要的性能。然而，空隙和毛孔也允许纺织结构中的水分，因此相对于薄膜来说，水分含量相对较高。这些间隙还增加了织物一侧的总表面积，因此使典型的脱气过程更加困难和耗时。因此，本文所讨论的系统和方法可用于提高基底的脱气速度和改进PVD键合。可以理解，虽然PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)和PP(聚丙烯)薄膜可以通过已知的技术通过PVD处理容易地处理，但是由PET和PP制成的纺织品不容易处理，因为材料的整体结构不同。值得注意的是，纱线、长丝、编织物或无纺布结构具有比传统PP或PET膜大得多的总表面积，因为所述膜是不渗透膜或不多孔膜。因此，水分可能更容易进入纱线和/或长丝之间的织物间隙，并且由于织物的相对高比表面积，很难通过传统干燥工艺去除。将认识到，从表面除去液体(水分)所需的能量(例如水)相对较高，因此具有较高表面积且已暴露于液体(水分)中的基板或纺织品将需要更大的能量输入来除去所述液体。由于与机织和无纺布相比，无孔薄膜通常具有较小的表面积(特别是当机织物和无纺布包含纤维时)，传统的从薄膜中去除水分的方法通常不足以从纺织品中去除水分。

已知的铝PVD系统通常仅用于处理纸张和聚合物薄膜。这些材料通常适用于食品和食品，环境湿度通常较低，约为0.5％，这取决于基质的湿度和储存位置。这些产品可以通过已知的PVD方法进行处理，以获得至少一个基底表面与PVD源材料(例如铝)包合的产品。然而，在某些情况下，这些类型的材料可以在PVD处理之前干燥，以去除基底中的多余水分。

PP、PET或纸张薄膜的结构性质通常是无孔的，因此基质上或基质内的水分很容易去除(脱气)。然而，与纺织服装等基材相比，情况并非如此，这些基材的表面积更高，这使得典型的干燥过程无效、成本过高或耗时，无法达到较低的含水量。

本领域技术人员将纺织品脱气理解为故意去除纺织品中的水分，直到观察到一般均匀的重量或所需的水分含量为止。放气是气体从固体或液体中自发的演化，是气体扩散到物体表面并在物体表面解吸的过程。多孔材料通过表面或体积迁移出气体，通过孔隙并沿着孔隙表面迁移到表面，在那里解吸。排气通常是真空系统中气体污染的主要来源。解吸是从固体或液体表面释放被吸附的化学物质。

纺织品脱气主要用于去除纺织品上的水分，从而使沉积过程更有效。虽然这通常不涉及薄膜基材，例如一般含水量约为0.5％(wt)的PET薄膜或PP薄膜，但用于服装或服装的纺织品的含水量通常在15％到5％(wt)之间，例如含水量约为6％的尼龙。此外，即使对于PP或PET纺织品等材料，基板结构中的孔或间隙也会导致液体附着的总表面积更大，这可能导致PVD处理过程中出现重大沉积问题。此类沉积问题可能包括：不均匀的沉积外观、“烧痕”、过度或不理想的氧化、沉积的均匀应用、系统关闭、压力峰值、粘合问题或其他缺陷。

缺陷也可能源于基底的一般清洁度，在PVD或CVD工艺完成之前的一段时间内，在加工后可能出现。因此，进一步清洁或消毒基板可能是昂贵和耗时的，以使基板达到适当的PVD或CVD工艺可以完成的状态。

除气还可以从纺织品中去除油和其他染色和/或挤压污染物，从而提高沉积源材料的附着力。

本发明的系统、装置和工艺可至少改善与多孔基板或含水量相对较高的基板的PVD处理相关的一些已知问题。该装置和/或系统还可在基板储存或运输期间为基板提供吸湿屏障，其也可改进已知工艺，并可保持相对清洁的基板以进行PVD或CVD处理。

气体和蒸汽决定在给定时间内可达到的最低压力或“基本压力”，以及系统10中的气体和蒸汽种类，以及停止泵送后腔室压力上升的速度。此外，当织物表面被加热或与等离子体接触时，吸附在织物表面上的水被迅速解吸，而等离子体又会导致128、110室中的压力增加。因此，当PVD源材料与织物1(基材)接触或接近基材时，正在处理的织物1(基材)内的水分将迅速解吸。此外，由于从蒸发器装置116向纺织品1辐射的热量，船的热量还可导致纺织品1内的水分解吸或快速解吸。

出气和解吸产生的水蒸气通常是典型沉积真空中最重要的污染物种类。因此，在PVD处理前尽可能多地去除水分(脱气)是有益的。然而，由于大多数基板将具有自然含水量，该自然含水量可能不会通过已知的脱气方法或系统降低到理想水平，因此通常不适合于PVD处理，而可能需要溅射处理。然而，由于PVD提供了相对较薄的源材料涂层，溅射工艺通常不适合某些应用。值得注意的是，由于溅射过程通常比蒸发PVD过程慢，并且溅射也沉积原子，相对于蒸发过程，原子具有更高的能量，蒸发过程加热基板更多，并可能导致进一步放气。例如，溅射工艺通常允许处理速度在0.1m/s到0.5m/s之间，而PVD蒸发工艺可能允许处理速度在1m/s到10m/s之间，这取决于所需的沉积厚度，因此提高了生产速度和效率。虽然有些溅射方法也可能具有较高的沉积速率，但接近于蒸发方法，通常只有当基底是金属时才能达到较高的溅射速率，因此处理纺织品不能达到这种高的溅射速率。此外，与本发明的PVD工艺相比，用于加工辊的能量和溅射源材料的消耗率更高。

观察到，织物在PVD涂层前和PVD涂层后的抗蒸发转移能力(RET)基本相同(如果不相同)。这是一个显著的优势，比金属膜，可粘附在纺织品，而不是纺织品1接受沉积。进一步的PVD蒸发过程对织物的水汽传递的影响可以忽略不计，这比已知的方法具有显著的优势。

降低基质含水量的一种方法可以是提高基质的表面温度以增加解吸速率。解吸速率通常对表面条件、覆盖范围和表面积敏感。等离子体解吸可用于加速水蒸气在真空表面上的解吸，并且等离子体预处理模块104也可有助于降低基板的含水量。

可选地，为了降低水分含量，在将基板放入系统10之前，可以对其进行真空烘烤，以尽可能降低水分含量，然而，即使在高能耗的烘烤过程中，从退出烘烤过程到加载到系统中的时间可以将水分含量增加到不期望的水平，这会再次导致PVD室中的压力增加，以及PVD源材料的劣质结合。

PVD处理可能导致明显的放气。例如，铝在含有水蒸气的系统中的蒸发可以产生氢“放气”，因为铝与吸附的水蒸气反应释放氢。

外扩散是指物质从基质扩散，不蒸发，但仍留在表面。然后这些表面物种有一个蒸汽压力，有助于气体物种。在运行中，向外扩散会导致系统10内的压力增加。

参考图1，示出了适于PVD处理纺织品的沉积系统10的实施例。如图所示的系统10是辊对辊系统10，其包括：退卷机102、预处理模块104、冷却系统106、泵108、PVD室110、真空阀112的驱动器、线卷114、蒸发器装置116、涂层窗口118、涂层鼓120、测量辊122、层厚测量单元124测量辊126、卷绕室128、旋转臂130、复卷机132和进一步的冷却系统134。

虽然如图所示的系统10包括冷却系统106和进一步的冷却系统134，但是应当理解，这些特征可以是可选的，或者可以放置在所示的不同位置。此外，还可以在整个系统10中布置进一步的冷却系统或吸湿器。类似地，系统可以或不可以安装预处理模块104，或者可以在系统10的其它部分中提供类似于预处理模块104的进一步处理模块。

通常，为了使用系统10，将向系统提供纺织物1作为卷2，该卷2可以安装在卷绕室128中的退卷机102的臂103上。退卷机102的臂103用于在处理时支撑基板1。当系统10处理织物时，臂103可以自由旋转，或者可以固定，使得织物辊2的管状芯可以围绕退卷机102的臂旋转。任选地，退卷机102配备有一个电机，该电机可以以期望的速度旋转辊2，以允许提高处理速度和/或在处理之前向纺织品1施加期望的张力。

一旦纺织物1被加载到系统10中，系统即被密封，并且在环境气氛和缠绕室128和PVD室110之间形成流体气密性密封。真空阀的驱动装置可以被激活，腔室可以被泵108减压。系统10内的总期望真空压力将取决于正在处理的纺织品1和PVD或CVD源材料。优选地，在PVD处理期间，缠绕室128的压力约为1x10-2至1x10-3mbar，PVD室的压力约为1x10-4至1x10-5mbar。当系统用于对基板除气时，绕组室128的压力可能在1x10-1到1x10-3 mbar之间，而PVD室的压力可能在4x10-3到1x10-5mbar之间。一般来说，这需要一个^TM1650 PVD系统约50分钟至90分钟，以达到所需的PVD处理真空压力。其他PVD系统也将采取类似的抽真空时间。一旦达到所需的内部压力，就可以开始处理纺织品1。

纺织品1的引线部分可以安装在进料器中，该进料器可用于将纺织品1送入预处理模块104。预处理模块104优选为等离子处理模块104，其可用于激活和/或消毒纺织品1的表面。虽然所示的实施例是单侧预处理模块104，但是所述模块104可以是双面处理模块104，其可以激活和/或处理纺织品1的两个表面。这可能是有利的，因为预处理模块104可用于对纺织品脱气以降低纺织品1的总含水量。还可以提供用于预处理模块104的冷却剂系统(未示出)，使得用于产生等离子体的电极不会在绕组室128内过热。预处理模块104可以是能够产生等离子体或提供可用于处理纺织品1的至少一个表面的灭菌效果的任何期望装置。在使用系统10进行PVD处理之前，也可以对基底进行其他预处理。其他预处理可主要用于PVD处理前的清洁、消毒和/或粘合增强。

由于织物1正由预处理模块104预处理，织物1通常将从织物1结构释放残余气体(例如水蒸气)，这些残余气体可由冷却系统(例如冷凝存水弯或其他装置)捕获。冷却系统优选地保持在温度低于-20℃，或更优选地低于-40℃，或甚至更优选地低于-100℃，或低于-150℃。温度低于-100℃可以冻结从纺织品1中脱气的污染液体，例如水，同时保持低蒸汽压在房间里。此外，冷却系统106还可用于冻结纺织品1内的污染物，以便在PVD处理期间减少污染物液体的放气。冷却系统106可用于通过冷凝和冻结纺织品1在预处理或其他脱气方法期间释放的任何湿气蒸汽来捕获腔室128中的湿气。在使用系统的优选方法中，如下文所述，系统10用于对基板执行两级处理，其中第一级是脱气级，第二级是PVD处理级。

在接近冷却系统106以捕获所述脱气污染物之后，系统10将织物1送入涂层滚筒120，然后进入PVD室110。涂层鼓120可以位于PVD室110和绕组室128之间的接口处。每个腔室128、110可以具有各自的压力，腔室之间的接口允许足够的间隙将纺织品穿过PVD腔室110，而不会在接口处显著地损失压力(PVD腔室到缠绕腔室128的压力释放或泄漏)。压差泵滚柱阀或压差泵狭缝阀可布置在接口处，以减少腔室110、128内不期望的压力变化。PVD室110优选地具有比绕组室128更低的压力(更高的真空)。PVD室110内的压力对于为PVD的发生提供正确的条件至关重要，因此，如果超过最大压力阈值，则建立最大压力阈值以终止处理。压力阈值特别适用于要求在正确压力条件下纯度约为99.80％的铝PVD处理，PVD处理将失败或产生有缺陷的沉积。也可以使用其他纯度，但最好铝的纯度至少为95％，以便与系统10一起使用。其他合适的PVD源材料可以包括至少一种；金、银、铜和钛。

合适的PVD源材料列表可包括以下至少一种：铝、铝铜、铝铜钨、氮化铝、氧化铝、铝硅、锑、钡、钡铁氧体、氟化钡、钛酸锶钡、钛酸钡、氧化钡、铍、铋，钛铋镧、钙铋锶、钛酸铋锶、氧化铋钛、三氧化铋、硼、碳化硼、氮化硼、氟化镉、氧化镉、硒化镉、硫化镉、碲化镉、氟化钙、氧化钙、硅酸钙、钛酸钙、碳(石墨)，碳钢、铈、氧化铈、铬、硼化物铬、氧化铬、硅化铬、钴、钴铬、氧化钴、硅化钴、钴锆、铜、硫化铜、氧化铜、镝、铒、铕、镓、砷化镓、氧化镓、钆、锗、氮化锗、氧化锗、金，金锗、金钯、金锡、金锌、铪、碳化铪、氮化铪、氧化铪、钬、铬镍铁合金、铟、氧化铟、氧化铟锡、铱、铁、氧化铁、铅、镧、铝酸镧、硼化镧、氧化镧、氧化镧、氧化镧锶钴、氧化镧锰、氧化铅，钛酸铅、钛酸铅锆氧化物、锂、碳酸锂、锂钴氧化物、铌酸锂、磷酸锂、钽酸锂、镁、氟化镁、一氧化镁、氧化镁、锰、钼、二硫化钼、氧化钼、硒化钼、硅化钼、硫化钼，钕、钕镓氧化物、钕铁硼化物、镍、镍铬、镍钴、氧化镍、硅化镍、镍钒、铌、氧化铌、钯、铂、镨、普里解氮化硼、铼、铑、钌、钐、钐钴、钪、氧化钪、硒、硅、碳化硅，二氧化硅、一氧化矽、氮化矽、银、氧化银、氧化锶铋铌、氧化锶铋钽铌、掺锶镧、氧化锶、钛酸锶、钽、碳化钽、氮化钽、氧化钽、硅化钽、硫化钽、碲、铽、铽铁、铊，氧化铊、氟化钍、氧化钍、锡、氧化锡、钛、硼化钛、碳化钛、氮化钛、氧化钛、硅化钛、硫化钛、钨、硅化钨、硫化钨、钛、钒、五氧化二钒、钇、钡铜氧化物、氧化钇、锌、氧化锌，硒化锌，硫化锌，锆，氮化锆，氧化锆，硅酸锆，氧化锆氧化钇。

可选地，泵108可用于从绕组室128和PVD室110去除空气。或者，可以提供单独的泵以从每个腔室128、110中移除压力。泵108还可用于逐渐地将大气恢复到PVD室110和绕组室128中的至少一个。真空可以定义为当两者包含相同的气体种类并且处于相同的温度时，比周围环境包含更少的气体分子的体积。

涂层滚筒120根据所需沉积厚度，以30m/min至200m/min的速度将纺织品1运输通过PVD室110，但最好在120m/min左右。可以理解，该系统能够以高达300m/min的速度处理纺织品1。本发明的系统的涂布滚筒120可以温度控制在-1℃到-20℃之间，以减少正在进行PVD处理的基材(纺织品1)的放气，并且还可以协助将蒸汽冷凝到基板(纺织品1)上，从而减小PVD室110内的压力变化。在PVD涂层过程中通过降低涂层鼓120的温度来减少放气在本领域中是未知的，并且提供了显著的优点。在一个实施例中，涂布滚筒120的温度被冷却到-5℃到-10℃之间。

在用于蒸发PVD源材料的PVD室110中提供蒸发器装置116，该PVD源材料通常由电线114提供。蒸发器装置116包括在所需时间蒸发PVD源材料114的容器或“舟”。在源材料与船接触后，可将船加热至足以蒸发PVD源材料的预定温度。此外，在不提供蒸发源材料的情况下，可以激活船以产生热量。优选地，该系统适于当基板进入PVD室时蒸发PVD源材料。

当PVD源蒸发时，蒸汽以预定方向移动，该预定方向通常向上，并且基板1可被蒸汽覆盖。这允许在正在处理的纺织品1上沉积一层相对较薄的铝涂层。凝聚并沉积在织物1上的铝涂层优选在10nm至200nm、30nm至100nm、50nm至100nm范围内，或在该范围内的任何期望厚度。优选地，铝涂层厚度为100nm或更小，或70nm或更小，或50nm或更小，或30nm或更小。PVD处理可能导致纺织品1中所含的水分脱气，从而增加PVD室110中的内部压力。出气可能是由蒸发源材料的热源引起的，和/或可能是当蒸汽靠近基材或蒸汽沉积和/或冷凝到纺织品1上时引起的。如果压力过高，系统10将关闭，PVD处理将停止。

如上所述，当蒸发的PVD源材料接近或接触到基板(纺织品1)时，导致基板内的水分转变为气态，或当基板(纺织品1)暴露于热源辐射的热量下以蒸发源材料时，会发生放气。随着液体或固体污染物(通常为水)迅速转变为气态并从基板1的结构内的孔移动到纺织品1的表面，放气导致PVD室110内的压力迅速变化。排气污染物也可以释放到PVD室110中，并且通常是在压力超过阈值时触发系统关闭的来源。当气体释放到腔室中时，内部压力增加。由于放气如此迅速地将附加气体引入PVD室，因此在超过压力阈值之前，泵108不能除去系统内的附加气体。鉴于上述情况，系统10优选地适于最小化系统10内的压力波动并减少正在处理的纺织品1的放气。此外，由于脱气污染物存在于纺织品1的表面，这可能形成物理屏障，防止铝或其他源材料与纺织品1形成所需的粘合。

如果PVD室110中的压力不超过关闭阈值，则在观察到脱气污染物的初始压力增加后，观察到的压力将开始降低至所需压力。随着压力降低，可以观察到压力将趋于稳定，因为进入系统的脱气污染物通常保持恒定，并且泵将以能够达到所需压力的速率激活以去除PVD室110中的附加污染物。在另一个实施例中，该系统适于缓慢地处理辊，以便当在PVD室中观察到压力增加时，泵可以去除这些附加污染物，以尝试降低压力，当泵能够有效地去除PVD室中的污染物，直至达到所需的最大速度时，将基板送入PVD室的速度可能会增加。当达到所需速度时，PVD室中的压力可能保持恒定。

压力升高超过预定阈值可能导致系统10关闭和/或系统10再增压。因此，需要重新设置系统10并随后减压以继续处理纺织品1，这可能是昂贵和耗时的。此外，由于该系统可能只允许一次处理大约5000码1号纺织物，因此与关闭有关的延迟是不合理的。

此外，虽然增加PVD室110内的压力阈值似乎是显而易见的，但增加的阈值通常不足以允许理想的PVD处理(当然是铝)，因为压力的增加可能会导致涂层错误，PVD源材料的不希望的分布，以及例如PVD源材料的无意溅射。

涂层窗口限制或限制织物1上的沉积区域，因为涂层滚筒120将织物1通过PVD室110。这样可以控制织物的沉积面积和沉积角度。可以理解的是，涂层窗口118也可以减小，以最小化一次放气量并降低PVD室压力。然而，具有相对较小尺寸的PVD窗口也可以降低纺织品1的PVD处理速度。

在PVD处理期间，在纺织品1存在PVD室110之后，纺织品1将沉积有PVD源材料。然后，纺织品1可以通过测量辊122通过，该测量辊122测量加工的纺织品的长度，并且可以确定残留在辊上的纺织品1的数量。还可以提供层厚辊以确定在织物1上沉积的厚度。

还可以提供另一个测量辊，该测量辊可以确认通过该系统的织物的长度，从而使系统10不会过早地完成对织物1的处理。该系统的旋转臂130用于将织物1引导到辊上并产生所需的张力，从而使织物以所需的紧度轧制。此外，旋转臂130可用于控制卷绕方向，使得涂层在卷上向外或向内。如果系统10适于允许织物1从卷绕机132传送到退卷机102并再次返回，而无需重新加压和随后卸下和重新装载卷，则还可以在退卷机102附近布置另一个旋转臂(未示出)，以允许退卷机102以所需方式退卷织物。优选地，湿度传感器也布置在真空室22内，其适于在PVD处理之前确定纺织品1的湿度。如果含水量不在所需含水量或低于所需含水量，则系统可以使用进一步的脱气过程来进一步除去纺织品1中的水分。在一个实施例中，可以使用红外水分计来确定水分含量。

在用于将织物倒卷成卷2的处理线的末端设置有复卷机132。处理线从退卷机102开始，到退卷机132结束，并且包括应用于基板/纺织品1的处理和处理。可选地，可提供进一步的冷却系统134，其可用于捕获系统10内的脱气污染物并有助于保持绕组室128内的所需压力。优选地，包含至少三个冷却系统可用于捕获脱气污染物，特别是关于捕获来自纸张基板的脱气/出气污染物。

可选地，进一步处理模块(未示出)可布置在可用于处理基板的绕组室128中。例如，可提供另一等离子体处理模块以激活基板的表面，或处理沉积以协助接合，或任何其它期望功能。处理模块，例如等离子处理模块，也可用于协助纺织品1脱气。

纺织品1的尾端可以保留在靠近系统10末端的复卷机132的进料机中，使得尾端成为后续PVD处理阶段的前端。或者，基板1连接到退卷机102和复卷机132上的辊芯3，使得当基板1从退卷机102上的辊2中排出时，可以反转该过程，并且系统10可以将基板传回处理线，以通过进一步的处理(例如脱气，PVD或CVD工艺)，或通过系统返回，在退卷机102上重新缠绕，并且仅在从退卷机102到退卷机132的方向上进行处理。优选地，该系统允许在两个方向上执行处理，即从退卷机102到复卷机132，以及从复卷机132到退卷机102。

在常规系统中，处理含水量较高的基底可能是不可能的，因为沉积很容易失败，系统会因放气和压力增加而关闭。此外，沉积质量也会受到影响，可能会产生严重的美学缺陷，并可能观察到沉积层的不良结合。值得注意的是，这是由于在PVD过程中基质中的水分被释放。相比之下，本发明的系统10适于将沉积应用于具有相对较高的环境含水量(大于0.5％(wt％)和/或体积百分比)的基底，或更一般地具有比薄膜或其他典型的PVD涂层基底更高的总表面积的基底。

要用PVD处理纺织品，可能需要降低纺织品1的放气速率。一种方法可包括将涂布滚筒温度降低至低于-1℃的温度，优选约-5℃至-10℃，或更广泛地在-1℃至-30℃的范围内。还可使用较低的涂布滚筒120温度，虽然降低转鼓温度也会增加系统10的功耗，但相对而言效益不大。然而，如果存在较高的含水量，例如在处理羊毛或其他类似纺织品时，可能需要较低的温度1。涂层滚筒达到并保持该温度允许恒定的PVD处理速度约为1米/秒至2米/秒或更高，并将纺织品1的放气降低到低于最大压力阈值的压力，同时也有助于将蒸发的源材料冷凝到纺织品1上。在一个实施例中，最大压力阈值为2x10-2 mbar。随着加工过程中排气量的减少，PVD和纺织品1之间可能形成良好的结合。

相反，在脱气过程中，涂布滚筒120的温度优选在0℃到20℃之间。更优选地，涂布滚筒120的温度在3℃到7℃的范围内，甚至更优选地，温度在4℃到6℃之间。

可以理解，通过在脱气过程中提高鼓120的温度，可以实现更高的脱气速度。鼓120的温度可由系统响应于检测到沉积厚度、纺织品温度、放气压力或测量辊测量值中的至少一个的传感器而动态地调整。应当理解，当系统10被用于脱气时，系统10还可以适于增加压力阈值或忽略压力阈值。这样，可以达到期望的速度和脱气速率，这对纺织品1或具有高水分含量的衬底有利，例如羊毛、尼龙或其他类似的服装材料。动态调节转鼓温度有助于控制织物的出气，改善原料的冷凝和沉积。

系统10的实施例的透视图如图2所示。如图所示，有真空泵站20、真空室22、介质供应24、开关柜26、冷却和加热设备28、冰箱30、移动部件32、缠绕系统和预处理站34、蒸发器站36、操作面板38以及与监视器40的图形用户界面。

真空泵站20容纳泵108，该泵108可用于从腔室110、128排出空气。绕组室128和PVD室可以统称为真空室22。在未上光的实施例中，PVD室和绕组室128可以是同一个室，并且所有处理动作发生在同一个室中。

介质供应装置24提供用于PVD处理的必要材料，例如用于CVD处理的化学品，或用于PVD处理的源材料，或向预处理模块104或处理模块提供等离子气体。开关柜26家电子和计算机系统监测和控制系统10。用于调节系统10内的部件的温度的冷却和加热设备28，例如预处理装置104、冷却系统106和涂布滚筒120。冰箱30可用于存储系统10的部件的冷却剂。

由于系统需要密封，真空室22和绕组和预处理站34可以相对地移动，以允许在系统10内放置基板，并且还将真空室22保持在固定位置。蒸发器站位于真空室22内。操作面板38和监视器40可用于向系统提供输入，并且可适于用户监视处理过程。

系统10可适于运行可控制系统10的功能的任何预定软件。例如，系统10可以适于使用本公开的两阶段处理方法。

可以通过不同处理过程的监视器修改压力阈值，也可以修改系统10组件的温度以进行所需的处理。在一个实施例中，可以在脱气期间关闭(或提高)压力阈值，并且可以允许涂层滚筒和/或船的更高温度加热纺织品以增加解吸速率。在又一实施例中，脱气过程可以在系统被抽真空的同时运行，这可以节省总体处理时间。其他修改可以包括改变等离子体气体到预处理模块的流速、冷却系统的温度、涂层滚筒温度、引入要蒸发的PVD材料源以及处理速度。

应当理解，如图2所示的系统10仅是示例性的，并且还可以使用系统10的其他配置。此外，还可提供泵、控制器、计算机系统、腔室和处理站。

在一个实施例中，系统10可适于动态地改变涂布滚筒120的温度，使得系统10内的内部压力保持在预定压力以下，而无需系统关闭。为了实现这一点，系统10可以配备低于关断压力阈值的中压阈值。如果超过了中间压力阈值，则可以将其用作降低涂布滚筒120的温度的触发器，从而降低内部压力以确保不超过关闭压力阈值。待涂覆的织物1的速度也可以随着织物排气压力的增加而降低。由于系统不太可能关闭或停止PVD处理过程，因此可以改进处理。

如图4所示，在另一个实施例中，在PVD室110之前设置有加热室140，允许在PVD室110的温度和压力保持相对恒定的情况下对纺织品1进行加热。加热室140可鼓励在PVD应用之前进一步脱气，这可能导致纺织品1脱气和相关压力增加。加热室140可以具有第三压力，该第三压力可以与其他两个室110、128相比单独控制，并且可以允许其中的更高压力。由于压力在所有腔室之间变化，每个腔室接口最好安装阀门或密封装置，以防止或减少腔室之间的压力泄放。这可允许纺织品1在加热室中脱气，其可降低沉积室110内压力的潜在增加(峰值)。任选地，卷绕室内可包括至少一个热源，以允许纺织品1脱气。

使用上述系统10可以提供更高效、更可靠的PVD处理工艺，并且还提供与其他方法相比相对更耐磨的沉积。沉积时的含水量降低可提高耐磨性，此外，活化表面可改善沉积结合并提供优异的耐磨性。

在未增亮的实施例中，该系统可以是空对空处理系统，其中所述基板处于大气条件下，并通过所需的PVD处理进入PVD室30。PVD室可以有差动泵辊阀或差动泵狭缝阀，允许基板进入PVD室进行处理，然后出口缠绕在卷绕机上。如上所述，不希望暴露在大气中，因为这可能会增加材料的含水量。因此，可直接从PVD室上游的烘烤处理系统将基板提供给PVD室，以使基板的含水量保持在最小值。这样的系统可以允许处理更大体积的基板，因为可以实现连续处理。

与分室滚轧系统类似，至少一个等离子体模块也可用于在对基板进行PVD处理之前处理基板的至少一个表面。等离子体处理模块可以放置在允许基板进入PVD室的阀门附近，从而可以在处理之前清洁、消毒和/或激活要沉积在其上的纺织品的表面。

激活待处理基板的表面可改善PVD源材料与所述基板的粘附性。此外，由于表面可以通过等离子清洗，因此表面通常没有可能影响PVD处理的大多数或所有潜在污染物。如果使用等离子体模块，则等离子体模块可以是开放大气等离子体模块，例如at大气等离子体辉光模块。在PVD处理之前，用于处理基板的任何等离子体装置可包含在一个腔室中，或控制当地大气条件，以减少或消除大气中的电离或单体在大气中的聚合。

采用离子束辅助沉积(IBAD)技术可以提高系统的PVD蒸发过程。这些技术可以使用同时离子轰击和蒸发PVD方法来辅助沉积在衬底1上。IBAD系统可以提供对离子能量、温度和沉积过程中源材料到达率等参数的独立控制。此外，与单独的蒸发或溅射技术相比，沉积源材料的内建污点可以减少。IBAD系统也有助于控制和改变基底的微观结构。当沉积反应发生在热衬底表面时，由于衬底和薄膜之间的热膨胀系数不匹配，薄膜会产生内应力。低能或高能离子可以用来轰击涂层，将拉伸应力转变为压缩应力。离子轰击也增加了薄膜的密度，改变了薄膜的晶粒尺寸，并将非晶薄膜改性为多晶薄膜。优选地，低能离子用于处理纺织品1。

在另一实施例中，电子束蒸发方法可用于将源材料加热至所需温度，而不是将源材料引入加热蒸发坩埚或舟。这种蒸发方法可以提供所需的沉积速率，以处理速度为1m/s、2m/s、3m/s、4m/s、5m/s或1m/s至10m/s。

在又一实施例中，系统10可以在PVD蒸发过程之前使用溅射过程。这样，可以在基板1上沉积相对薄的溅射层，然后可以使用蒸发PVD方法来形成所需的基板厚度。同时使用溅射和蒸发PVD方法可用于改善键合，特别是如果在沉积之前没有激活衬底沉积表面。虽然溅射沉积不能以1m/s到10m/s的处理速度应用于所需厚度，但是可以在1nm到5nm之间的层上应用相对更均匀的沉积到基底上，蒸发源材料可以结合到基底上以增加沉积层的厚度。

如上所述，系统10可用于两级处理方法。参考图3，给出了两阶段处理方法的流程图。通常，两阶段方法包括一个或多个脱气阶段和随后的PVD处理阶段。处理的每个阶段都可以在系统内进行，在处理完成之前不必再对系统进行再加压。然而，在一些实施例中，系统可以在阶段之间被抑制。

系统10装有一卷待加工的纺织物152。然后，将系统密封，并将154从真空室22中除去。当从腔室22中除去大气时，腔室中的其他部件可以被加热或冷却到所需的温度。例如，可将冷却系统冷却至约-100℃且可将涂布滚筒120加热至约10℃156。通常，涂层鼓120保持在-1℃的温度以帮助蒸发源材料的冷凝。然而，根据本发明的方法，希望提高涂层鼓120的温度以允许脱气。

一旦系统的所有部件都达到所需温度，并且在真空室22中达到所需压力，辊就可以开始脱气过程158。在处理结束时，系统将纺织品1从卷2拉过处理线，朝着复卷机132移动。纺织品1首先通过预处理模块160，朝着PVD室。在这一处理的初始阶段，系统激活了蒸发器装置，但是没有向系统10提供PVD源材料，并且涂层滚筒也可以被加热162。来自滚筒120和蒸发器装置116的热量使纺织品1的温度升高，从而使所述纺织品1中的水分脱气。脱气滚筒温度可在0℃至30℃、1℃至20℃、2℃至10℃或5℃左右。脱气过程中处理纺织品的首选速度可在0.5m/s至10m/s、0.5m/s至8m/s、或0.5m/s至5m/s之间，或可能为0.5m/s至3m/s。应注意，暴露在热源下的时间越短，脱气效果越差，PVD室内的压力也越高，超过所需阈值。涂层滚筒120的温度优选尽可能高，同时还保持低于关闭压力的压力，但优选低于可损坏基板的温度。应当理解，每个纺织品1可以具有不同的温度阈值，并且可以对系统进行编程，以确保不超过引入系统的预定纺织品1的涂布滚筒120的安全工作温度。使用PVD室和预处理模块104使得纺织品可以作为衬底1而不是辊2脱气。

通常，在PVD处理之前，可以使用加热室或其他干燥机部分干燥第2卷基底膜。然而，由于纺织品1的比表面积比纸基材或薄膜基材(如PP或PET)更大，通常通过PVD工艺涂覆，因此干燥时间更耗时，成本更高，并且可能无法达到PVD处理所需的含水量。织物1的较大表面积是由于织物基材的编织、编织或未编织性质形成的孔和结构。脱气作为基质1而不是整个卷2更有效地脱气具有多孔结构的纺织品，这可以提高PVD处理的质量。此外，在期望的PVD处理时间干燥和处理基板比用一个或多个辊加热干燥室更具成本效益，在干燥后和PVD处理之前，这些辊可能再次暴露在大气条件下。

在PVD室164之后可提供进一步的处理模块，其可允许在离开PVD室之后和复卷之前对纺织品1进行等离子处理。可选地，可在PVD室的任一侧提供冷却系统，以捕获脱气污染物。在基板上完成所有处理后，基板在复卷机166上重新缠绕。此时，将基底脱气至足够的水分含量，这将适合于PVD处理。如果含水量仍不在理想水平，则系统可使基材再经过系统一段时间，以使纺织品1进一步脱气。

优选地，对正在处理的基板进行脱气，使基板的含水量在6％到0.1％(按重量或体积计)之间，或在5％到0.2％(按重量或体积计)之间，或在4％到0.3％(按重量或体积计)之间，或在3％到0.4％(按重量或体积计)之间，或在2％到0.5％(按重量或体积计)之间。优选地，将水分含量降低到预定百分比，以便能够实现期望的处理速度。可以理解，纺织速度越慢，沉积在基板上的沉积物就越厚。因此，可以以更快的速度获得100nm到50nm之间的涂层，这两个阶段的过程可以实现。优选地，该系统可适于沉积厚度在1nm至1000nm之间的源材料，但更优选地在10nm至200nm范围内，或甚至更优选30nm至100nm范围内。

一旦纺织品1具有用于PVD处理的合适的水分含量，则涂层滚筒120的温度降低到大约-1℃到-10℃168，但更优选地是大约-5℃，并且纺织品1可以经历期望的PVD处理过程，或第二阶段。

在本实施例中，系统10的复卷机也可以用作退卷机，退卷机102也可以用作退卷机。这样，织物1可以从系统10的一端返回到系统10的起始端。因此，系统10适于保留纺织品1的尾端，该尾端可固定在退卷机102的卷上，并将其用作用于PVD处理的第二阶段处理的先导部分。通常，纺织品可以固定在退卷机102和复卷机132上的卷上，并且纺织品可以在卷之间进行处理。当基板1从复卷机170解卷时，纺织品1优选地通过预处理模块172以激活纺织品的表面或对纺织品进行消毒。预处理模块104可以是能够产生适于预处理过程的等离子体的等离子体模块104。

由于纺织物1正在处理以应用PVD涂层，因此不能超过PVD室110内部的最大压力。因此，降低压力阈值174以确保在腔室110内不超过最大压力。当基板1进入PVD室时，PVD源材料可蒸发176，蒸汽被引导至基板1并沉积在178上。

任选地，可以在PVD室110之后提供后处理模块104，其可以用期望的处理过程180再次处理基板。优选的处理工艺是等离子处理，其可增强沉积物与织物1的结合。然后，纺织品1可以在退卷机102(其也用作退卷机)182上重新卷绕。然后，压力可以恢复到腔室22的184，处理后的辊2'移除186，并在稍后的时间检查188。

任选地，在步骤178的PVD处理之后或在后处理180之后，基板可进行CVD处理(包括PECVD处理)，其可将功能性涂层施加到纺织品1上。CVD处理也可以在PVD处理步骤之前应用，以将功能性涂层或粘合剂应用于纺织品1。可提供多个CVD处理以将功能性处理应用于PVD涂层纺织品1。可选地，该系统适于将CVD涂层施涂到纺织品1的两侧，这可能需要一个或多个CVD处理站。通过CVD工艺应用的功能涂层可以包括：疏水涂层、亲水涂层、保护涂层、透明涂层、UV涂层或任何其它预定功能涂层中的至少一种。如果采用CVD工艺，则可提供单独的腔室，以便进行CVD工艺。

在另一个实施例中，纺织品可以在沉积处理之前进行预涂层。预涂层可包括底漆或功能涂层。功能涂层可用于改善织物与沉积源材料之间的粘合性。底漆可用于密封纱线或纤维，以减少油或其他残余物被放气，或密封底漆下的油或其他残余物，从而提高沉积涂层的沉积质量和耐久性。底漆通常是看不见的或通常是透明的，因此，如果要将纺织品用作可视材料(例如用作服装的面料)，纺织品的表面几乎没有变化。底漆可以在纱线和/或纤维上形成外壳或涂层。纱线和纤维上的油或其他残留物可能来自染色工艺或制造工艺，并可能在沉积过程中导致压力增加，这些油或残留物的存在也可能通过充当沉积源材料之间的界面而降低纺织品和沉积源材料之间的粘附力还有纺织品。在一些实施例中，油只需要在沉积期间被包含，并且底漆可以被允许降解、破裂，或者以其他方式允许油在沉积后的转变。

此外，系统10可使用多个沉积室(PVD、PEPVD、CVD、PECVD)或同一个沉积室内的多个沉积站，这可允许执行多个涂层并整体提高处理速度。如果该系统使用多个腔室或沉积站，则该系统可适用于在单个处理阶段对纺织品1进行多种处理，或对纺织品1的两侧进行处理。任选地，如果系统卷绕和展开织物1以使织物侧被处理，则系统10可以允许交换织物侧。

由于纺织物1已采用所需的工艺处理，因此卷2可能不需要像PVD涂层之前那样储存在严格的湿度控制条件下。然而，覆盖基板使基板不暴露于污染物(例如污垢、水或天气条件)可能是有利的。

上述工艺对于纺织1加工可能具有显著的效益。值得注意的是，使用系统外的标准脱气，然后使用系统10处理基板，处理速度可在0.5m/s到0.8m/s范围内。但是，使用如上所述的两阶段方法，纺织品1可在1m/s到6m/s的速度下处理，与现有方法和系统相比，这是一个显著的优势。

在另一实施例中，系统10可以连接到真空储存室(未示出)，该真空储存室可用于储存部分真空压力以减少真空时间。真空存储室优选与绕组室128和PVD室110相同或更大的尺寸。真空储存室可以连接到系统10，使得当在系统的真空室22中完成处理时，可以打开一个阀门来平衡真空储存室和系统10的真空室22之间的压力，从而可以存储一部分真空以用于随后的批处理。一旦腔室压力相等，就可以关闭储存腔室和腔室101、110之间的阀门。然后可以将缠绕室128和PVD室110恢复到大气压，并且可以移除其中的基板。在此期间，如果系统10还有一批要处理，则可以任选地激活泵以在处理后的基板被卸下并且新基板被加载到系统10中时从真空存储室除去大气。一旦新基板加载到系统中，真空室阀可能再次打开以平衡压力。压力平衡后，可以再次关闭阀门，并且可以泵送PVD室110和绕组室128以除去空气，开始下一批处理。这是一个显著的优势，因为该系统可以通过为后续批次存储部分真空压力来节省能源和时间。与传统系统相比，这种类型的系统还可以减少重新压缩PVD室110和绕组室128所需的时间。

腔室101、110和存储腔室之间的阀门最好是一个流体密封阀，这样压力可以存储一段时间，并为随后的批处理保存。或者，真空储存室有一个紧急通风口，当真空压力恢复到大气压力时，该通风口适于打开。

如果两阶段工艺要与传统系统一起使用，则在第一处理阶段后可以重新加压，以便从卷取机132上卸下辊2，并在进一步处理阶段之前安装在退卷机102上。虽然与能够在退卷机102和退卷机132之间多次卷绕和退卷的系统相比，使用传统系统可能具有整体更长的处理时间，但是可以将期望的PVD源材料的沉积成功地应用于纺织品1，用已知系统的已知处理方法不能很容易或有效地实现。

加工线湿度控制装置

在纺织品1到达PVD处理系统之前，纺织品可能已经经历了至少一种涂层处理、染色处理或功能处理。然后，纺织品将被运输到PVD处理系统，该系统可能在同一个制造工厂内，也可能不在同一个制造工厂内。无论同一设备是否用于这些其他处理过程，纺织品1很可能在PVD处理开始之前排队或存储一段时间。这可能是几天、几周或几个月，在此期间，纺织品1暴露在环境空气、湿度条件下，甚至暴露在外部天气条件下。如果纺织品暴露在外界条件下，通常在进一步加工前使用清洁化学品处理纺织品1。这些化学品可能会对环境造成危险或不利影响，减少使用这些化学品可能是可取的。此外，纺织品储存场所可能有或可能没有安全的环境，也可能是没有污染物或不清洁条件的环境。

鉴于上述情况，纺织品1可能会接触到许多杂质和污染物。以下装置可改善用于PVD和/或CVD处理的纺织品1的整体质量，并且还可有益于将纺织品1储存起来以供日后使用。应当认识到，PVD或CVD处理通常可以在纺织物变成最终产品(例如服装)之前接近处理过程的结束。

控制纺织卷2曝光的第一个设备可以是装袋系统。织物1通常由拉幅机(染色后)干燥，该拉幅机可用于除去织物1内的大量水分并将染料固定在所述织物内。织物经拉幅机加工后，一般会存放在手推车上，移到检验设备上。手推车可包括垃圾箱、浴缸、塑料手推车、平台手推车、配料手推车、木制平台手推车、行李车、垃圾手推车、横梁手推车或任何其他适合移动纺织品的可移动容器。通常，从放入手推车到检查织物1之间的时间可能在退出拉幅机后3到24小时内，尽管也可能遇到更长的时间。在此期间，纺织品1将暴露在开放的大气条件下，纺织品1将开始吸收当地大气中的水分，直到纺织品达到自然含水量，或根据当地的温度和湿度达到其附近的含水量。最好尽快检查织物1，以使织物上的折痕最小化，并且限制水分进入织物1，然而，由于检查时间可能并不总是适合时间表系统，因此应准备好有助于减少水分。

小车200可以是由带有多个轮子208的平台和至少一个壁构成的，该壁可以有助于所需的织物放置并将织物保持在小车200内。优选地，小车200包括至少三个轮子208，但更优选地，至少四个轮子208。

小车200的平台202的尺寸等于或大于纺织品1的宽度时，可以使用至少四个壁204来保持纺织品1。小车200的壁204优选地在边缘处会合(示为上边缘206)，该边缘限定小车200的开口208，用于接收其中的纺织品1或基材。边缘206可以相对地比壁宽，并且凸缘210可以从中延伸，当小车被加载时，凸缘210可以用于加固壁或保持期望的壁204形状，其是要沉积在其中的基板、液体或其他材料。壁204可以具有加强装置，例如可以改善小车200的完整性的花键或肋。花键或肋可以与壁204整体形成。

可选地，小车壁可以是一个金属笼(如图5所示)，其中可以容纳一个柔性袋201，可用于容纳纺织品1。柔性袋可以由壁204支撑，并且在纺织品1沉积在其中之后被覆盖或密封。

封闭小车

参考图6，有一个封闭的小车系统。封闭式小车系统包括用于小车的盖子或天花板，以减少大气进入小车。盖最好装有垫圈或其他密封装置，以提供对外部大气的良好密封。盖子的垫圈通常应符合小车上缘的形状。可选地，可提供多个同心或同轴垫圈，其有助于在盖和小车之间形成密封。在另一个实施例中，垫圈可以是不规则的或波浪形的，其可以覆盖小车轮辋的较大部分。

每个垫圈最好位于凹陷或凹槽内，该凹陷或凹槽可将垫圈保持在所需形状，并有助于用小车形成液体密封、气密或气密密封。

小车200的壁204可以是双层壁，双层壁204之间有空隙。可选地，小车可以是真空壁204容器，使得湿气或冷凝不太可能在小车200的壁204上形成。此外，具有真空壁可允许热量保持较长时间，这可有助于基板(优选纺织品1)的放气。再次，由于热通常提高基板的放气速率，因此可以进一步控制纺织品1的含水量。

盖子220可以是透明的盖子，允许在不需要移除盖子的情况下查看小车的内部。优选地，所述覆盖物由聚合物材料形成，例如有机玻璃、聚氯乙烯、ABS、LDPE、HDPE、PP、PS、PET、TPU或任何其它期望的聚合物。优选地，所述盖形成为刚性结构，所述刚性结构可以跨越由所述轮辋限定的所述小车的开口。

由于纺织品的湿度控制通常不是纺织品用途的主要关注点，因此如上所述的手推车系统是对现有手推车运输系统的新改进，因为可以获得湿度控制，这也可能有助于减少外部污染物与纺织品的不正当接触。

此外，应了解，在检查阶段，纺织品1可直接从小车200安装到检查装置上，并安装到卷绕机上。卷绕机可用于形成一卷纺织物或基材，然后可密封在真空袋或防水或防潮袋400(下文讨论)中。

由于盖子通常适合形成密封，盖子中可设置单向泄压阀，以便在基板冷却时，在所需时间可以拆卸盖子，因此小车的内部压力可能不同于可能导致抽吸的环境局部大气的内部压力。如果需要的话，也可以在盖子上使用其他平衡压力的方法。

行李系统推车

在另一个实施例中，小车200可以安装可密封的小车袋201。小车袋201的密封装置布置在开口附近，可用于提供流体密封以防止湿气或其他污染物进入。密封方式可能类似于拉链^TM一种袋子密封，其中一个突出物(或舌)被安装到一个凹槽中，在凹槽之间形成一个密封。袋系统小车200也可以使用其他合适的舌槽密封。另一个合适的密封可以是热压密封，热压密封可以由夹紧小车袋201的加热元件形成。如果使用热压密封件，则优选密封件是牺牲性密封件，以便可以多次重复使用手推车袋201。

在另一个实施例中，可以使用拉绳系统来形成手推车袋201的阻塞点，使用夹紧密封来密封袋子以形成所述流体密封。可选地，代替流体密封，小车袋201可以配备液体密封。应当理解，在一些实施例中的密封可以在不降低袋子密封的完整性的情况下打开和关闭多次。

在又一实施例中，手推车袋201的动作可以类似于膜，并且可以允许在袋被密封后水分从袋内排出到外部大气中。

用于形成袋的合适聚合物包括：PVC、PP、PET、ABS、LDPE、HDPE、PS、TPU或任何其它所需聚合物中的至少一种。优选地，所选择的聚合物是防潮蒸汽不渗透材料，使得湿气不能进入密封的手推车袋201或大大减少。例如，手推车袋201可以由金属层或类似于应用于食品包装的金属膜形成。由于手推车袋201适于覆盖或封闭纺织品1，因此手推车袋201优选地由柔性聚合物形成，使得手推车袋201可以包裹在纺织品1上，并且随后抽真空以去除手推车袋201内部的空气。除气系统可能类似于传统的旅行真空袋，在无轨电车袋的外部有一个单向阀。该阀门可采用真空或其他常规抽气或抽吸方式，用于清除密封的手推车袋内的空气。一旦清除了所需的空气量，就可以密封阀门，并在检查前将纺织品1储存一段所需的时间。

手推车袋201最好是可重复使用的，并且可以选择是可清洗的、可高压灭菌的或以其他方式清洁的。手推车袋也可以用不透明的涂层形成，以减少紫外线照射对辊的影响，这可能导致纺织品1脱色或变弱。

还可以在小车200上提供用于小车包201的适当安装装置，使得小车包201可以在装载纺织品1的同时安装到上边缘206。适当的安装装置可包括环和钩、钩和环紧固件、粘合剂、夹具或任何其他所需装置。

吸湿小车

在另一个实施例中，所述盖包括吸湿物品。过滤器或水分捕捉装置可安装在小车的盖子上，以便捕捉小车内的水分。

合适的吸湿装置可包括氯化钙或其他吸湿或吸湿材料。最好在小车200的开口附近设置吸湿装置，使得进入小车200的水分在与小车200内的基板相互作用之前更有可能被捕捉。

在另一个实施例中，可以提供过滤器来捕获水分，而不是一袋袋的水分捕获装置。过滤器可在预定时间后更换，以确保水分捕获有效。

或者，盖子可以安装冷却系统，例如低温冷凝存水弯。如果基底在检查前可能有很长的等待时间，通常超过12小时，这些类型的陷阱通常是有用的。这些装置的功率要求可能相当高，因此，尽管这些系统可能有助于减少水分，但最好使用本文所讨论的其他系统来降低能耗，并允许小车易于移动。可以理解，在使用带有台车的低温冷凝存水弯系统方面存在实用性。

加热小车

在另一个实施例中，小车可以连接到保持小车200内部最低温度的加热系统。内部台车温度仅需在20℃至60℃的范围内，以便在离开拉幅机并等待检查期间达到足够的脱附率，以减少基质内的水分。

如果手推车配备有加热系统，则最好在手推车的至少一面墙壁和地板上提供加热手推车的元件。可选地，取而代之，加热装置可布置在装置的盖上。由于加热元件需要能源，小车可以连接到电源插座，以便加热元件通电。

辊架

在另一个实施例中，当基板离开支架时，可以检查基板，使得基板在离开支架后可以立即缠绕到辊上，从而减少或消除将基板1沉积到台车中的需要。然后，可使用如下所述的袋子保护伤口基质免受外部条件的影响，或将其放入湿度控制室等待检查。如果在离开拉幅机后立即轧制基板，则可以使用辊架移动辊。尽管如此，当检查后已轧制基板时，通常会使用辊架。

使用卷绕机或其他类似设备卷绕织物或基材，形成卷2。卷轴2是存储和运输纺织品1和柔性基材的常用方法，因为这降低了纺织品1中形成褶皱的可能性，并且通常还提供了纺织品1的紧密压实，以便能够存储更大体积的基材，昆虫和其他不受欢迎的生物不太可能在第二卷的各层之间移动。卷绕机装置在本领域中是常见的，并且本领域技术人员将容易理解为卷绕或卷绕基板或纺织品1的装置。一旦纺织物1卷绕成卷2，则卷2可放置在托架300中。图7中示出了这种托架300的一个实施例，其上安装有辊。托架300的尺寸和形状允许安装辊2以便于运输。

如图所示的支架300包括多个适于支撑辊2的臂302。在未上光的实施例中，摇篮包括可接收辊2的新月形或半圆形。提供支撑结构304以支撑臂302及其上的辊2。臂302的形状可以如图所示与辊2的直径一致，或者可以允许在其中安装任何尺寸的辊。如图所示的臂302是圆形的，使得臂302基本上符合辊形。

如图所示的支撑结构304具有多个可用于推动或移动托架300的脚轮310或轮子310。可为摇架300的轮子提供锁定装置(未示出)或夹具，以减少在加载或使用摇架临时存储辊2时不需要的摇架移动。支撑结构304可以是管状框架结构，或者可以承受100kg到3000kg或更大的载荷的其他结构。

臂302可适于相对于关节312处的支撑结构旋转(见图8)。接头312可以锁定在适当的位置或自由旋转，并且可以帮助托架300在倾斜或倾斜的表面上移动，还可以帮助在紧密的拐角处移动辊。

多个托架300可用于支撑辊2。如图7所示，使用两个托架300支撑辊2。可选地，多个托架300可连接在一起以支撑任意长度的辊2。在一个实施例中，臂302可以相对地彼此移动并锁定在期望的位置以支撑具有更大直径的辊2。这个实施例可以在图7中看到，在图中，臂可以沿着轮子310上方的轨道314移动并锁定到所需的位置。此外，臂302的高度可以改变以支撑辊2。臂的高度可以通过液压方式、千斤顶系统、曲柄或任何其他需要的方式来改变。

虽然优选每个摇篮300具有两对或更多臂，但如图8的实施例所示，可以使用一对臂。在本实施例中，两个托架300可用于支撑辊2。可选地，辊支架可以安装在臂302上，臂302是一个纵向支撑构件，其形状通常为半圆形，允许辊的底部静止在其中。皮带和/或系紧装置可用于在移动过程中固定辊，并有助于降低倾倒的可能性。

支架300最好在支架300的安装臂(或纵向支撑构件)上有一个真空袋400、不透水柔性膜或柔性袋，以便将辊2安装在支架300上的袋子400上并密封在其中。当基板被储存和运输时，袋400可在外部环境和大气之间提供屏障。这有助于保持更理想的含水量，并在蒸汽沉积处理前保持辊2清洁。用于形成袋400的合适聚合物包括：PVC、PP、PET、ABS、LDPE、HDPE、PS、TPU或任何其它所需聚合物中的至少一种。优选地，所选择的聚合物是不透湿蒸汽的材料，使得水分不能进入密封袋400或显著减少。袋400中可提供内衬，其可类似于用于食品包装的内衬，其中提供金属层或金属膜。袋400的其它衬里也可根据袋的用途和将在其中接收的辊2而使用。袋400还可包括可为疏水性或亲水性的膜，以协助控制袋400中的水分。

传统的卷运输系统不提供允许应用薄膜或其他袋子装置的方法，因为卷通常通过将提升臂插入纺织物1的空心3来运输。这是因为袋子将覆盖辊芯3，并且不允许提升装置提升/移动辊2，所以本发明的托架300比本领域的已知装置提供了显著的优势。

支承结构304优选地包括允许插入叉车叉以升高和降低安装在其上的辊的空心部分。在支撑结构中还可以提供其他提升装置，使得传统提升设备可以与托架300一起使用，例如托盘千斤顶。

参考图9的实施例，示出了托架300的另一个实施例。该托架更类似于可用于移动辊2的托盘。托架300包括可在其中沉积辊的通道315。如图示所示，信道可以具有弓形侧或线性侧。侧边316的倾斜角度将取决于辊的尺寸和/或托架300的尺寸。可选地，侧倾角可由托架300内部的千斤顶系统操纵，该千斤顶系统可用于增大或减小托架的倾角以容纳所需的辊2。托架下侧的一对凹陷320可用于安装在叉车臂上，以便可以移动托架。优选地，凹陷320通常垂直于沟315的槽形成。或者，凹陷320可以是隧道320或通过支架300形成的导管，其优选地适于容纳叉车臂。

在图9的实施例中，由于支架主要通过叉车运输，因此不提供车轮310。然而，轮子310可选择性地安装到靠近凹陷320的托架300底面。

摇篮300可以形成为空心带肋结构或具有内部肋骨或支柱的结构或框架结构，其允许在摇篮300上无故障地加载辊。形成本实施例摇篮的合适材料可以是聚合物、木材、金属、金属合金、复合材料和纤维增强塑料或树脂。可选地，可在托架300上设置固定点322，其允许将皮带、扎带或任何其他固定装置安装到托架300上，其可用于更安全地运输辊，并降低辊在运输期间移动的可能性。固定点322可以包括挂钩、凹槽、负载杆或任何其他允许安装固定装置的适当特征。

在又一个实施例中，框架部分适于定位在安装在托架300上的辊2上。框架部分可适于紧靠辊2的上表面，使得辊2夹持在托架通道和框架部分之间。框架部分可以可释放地连接到支架300，并且框架部分可以允许在其上安装另一个支架300。通过帧部分，可以更有效地堆叠和存储多个卷2。安装在托架300上的辊2最好用袋子400装袋，以减少水分和/或外部污染物的进入。如果框架部分具有安装在其上的另一托架300，则另一托架300和框架部分可以可释放地固定在一起，使得框架部分和另一托架300可以作为单个结构移动。

与已知的系统相比，使用袋400是一个显著的优势，因为基质或辊2在大气中暴露于湿气和/或污染物的时间可能较长。因此，这些曝光时间可能需要额外的清洁或脱气过程，然后才能对基材或辊进行进一步的处理。

优选地，袋400适于沿着限定开口402的袋的长度形成密封。这样，袋子400可以绕着卷2圆周包裹。袋400的前端、后端和长度可以包括用于密封袋的单个密封装置。优选地，袋400可以被抽真空或至少去除一部分大气。

图10A至10D中示出了将袋子400安装在托架300上(类似于图9所示)的方法。该方法示出了将袋子400安装在所述托架300上并将卷2安装在袋子400中。如图所示，袋子400由折叠并固定在侧面的一片材料制成。开口402被定义在第四侧并且适于接收卷。袋开口402可以手动展开，或者可以安装在展开配置中的托架300上。扩展配置如10B所示，并且可以通过在袋子400的外部或偏置装置412上的扎带(未示出)更可靠地保持。扎带可以固定在袋子400的外部，并且可以用于将袋子配置成适于接收卷2的扩展配置(开放配置)。当袋子是空的时，领带也可以用来携带袋子400。可通过起重机、叉车或任何其他适当的方式将辊2降到打开的袋子400中。当袋子400处于展开配置时，卷2可以降到袋子400中并密封在其中。扎带可以通过粘合剂、焊接、超声波焊接、熔化、熔化或其他方式将扎带固定在袋子上。最好不要使用缝合来将扎带固定到袋子400上，因为这可能会导致漏点。

可以提供磁铁，而不是领带，磁铁可以被磁化到支架300上。磁铁可安装在袋子上，以保持袋子打开，并在装入卷2后移除。磁铁也可以设置在支架300中，并且是可以打开和关闭以允许释放保留的袋子的电磁铁。

一旦袋子400被密封，袋子400内的空气和其它液体至少可以部分地除去。可以使用传统的流体去除装置，例如真空装置。该袋可被视为真空包装的一种形式，并可安装单向阀或方向选择阀。或者，可以在袋子(未示出)上提供端口，其可以选择性地打开和关闭。可提供多个阀门或端口，以帮助更有效地从袋400中去除液体。

在又一实施例中，袋子400的开口包括偏置装置412(如图11所示)，其可用于暂时偏置展开配置中的袋子开口402或偏置处于闭合或密封位置的袋子400。袋400的展开配置如图10B和10C所示。袋400的闭合配置如图10D所示，在此步骤中，卷可以移动到存储位置或装载到托架300上的车辆上。这样，托架300可用于存储和移动辊2。摇篮300优选地适于允许摇篮并排或近距离地存储。摇篮300的长度，例如图9中的托盘式摇篮，可以足以容纳辊的长度，使得辊2在摇篮300上时没有悬垂。

开口处设有密封装置，可用于形成流体密封。任选地，在开口处或其附近提供两个或更多流体密封。流体密封可以是限制或防止流体进入袋400或容器的任何常规密封装置。

在另一个实施例中，袋400可以形成两个半圆形的部分，可以固定在一起形成密封袋。同样，可以提供任何合适的密封装置来将两半固定在一起。可选地，这些半部分可以整体地形成在一起，或者可以是分开的半部分。使用半圆形部分来形成袋子，可以使袋子具有较少的悬垂，或者在密封后可能存在水分的区域。

在另一个实施例中，可以为允许常规提升装置(如图11所示的袋子)的辊2提供具有端部开口402的纵向袋子400。图11的实施例示出了一种柔性袋400，其包括具有开口402的袋壁408和开口402处的密封装置404。密封装置404可以是能够限制湿气进入袋400的任何合适的密封装置。如上所述，由于辊2通常由其芯部提升，因此袋400可安装管状延伸件410(虚线所示)，该延伸件可穿过辊2的芯部3，使得其中的袋和辊2仍可提升。在将管状延伸部分正确安装到辊2上之后，也可以在开口处使用密封装置404进行密封。

可密封管状延伸段的一侧，使密封件无需关闭延伸段的开口端。优选地，所述管状延伸包括加强件，例如网或聚合物网。可选地，所述袋子包括加固区域，所述加固区域有助于在移动或储存时抵抗撕裂和对所述袋子的损坏。

袋子400的壁408优选地由具有弹性、柔性且可包括加固装置的聚合物材料形成。加固装置可以是嵌入在袋壁408内的网格或纤维，或者可以是靠近袋的应力位置(例如在拐角、接缝、焊缝或连接位置)的较厚材料的附加部分。可选地，袋400可以具有多个壁，使得如果外部袋壁损坏，内部袋壁仍然适合于保护卷免受大气的影响。

在辊2周围应用该袋子400可能需要将袋子400安装到提升装置上，以便提升装置的臂部安装有管状延伸件。然后，卷2可通过带有袋子的臂提起，袋子400的外壁可用于覆盖和密封卷2。可以理解，这样，只有辊的单侧可以将臂插入芯3中。

参考图11和12，示出了由纵向保护袋400装袋的辊2的实施例。可以看到辊2的芯3，并且可以从袋400的后侧406接近，芯3在其中接收袋的管状延伸410。密封后，袋400可以用真空吸尘或填充所需的气体，例如氮气、臭氧或其他有助于减少袋内水分的合适干燥气体。

虽然袋子400可以由柔性聚合物材料制成，但管状延伸件410可以由更刚性的结构制成，以更均匀地填充辊的空心，并减少在移动或插入提升装置期间撕裂或损坏的可能性。

因此，如上所述的小车200和/或托架300和/或袋系统400提供了改进的质量控制和湿度控制系统，该系统可在蒸汽沉积处理后产生优质的最终产品。应理解，如本文所讨论的，通过使用小车200、托架300和/或袋子系统400中的至少一个，其它处理过程也可以有利地改进。

尽管本发明已经参考具体实例进行了描述，但是本领域技术人员将理解，根据本文所述的本发明的广泛原理和精神，本发明可以以许多其他形式实施。

本发明和所描述的优选实施例具体地包括至少一个工业上适用的特征。

Claims (20)

1.用于处理基板的系统，该系统包括：

一种退卷机，适于接收和退卷一卷基板；

复卷机，适于从复卷机上复卷基板；

物理气相沉积(PVD)装置；

真空室，其中放卷机、PVD设备和复卷机被放置；和

其中，PVD装置的涂布滚筒的温度在0℃到10℃之间，并且适于增加基板的解吸速率。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，纺织品可以从退卷机上解卷并在退卷机上卷绕，也可以在退卷机上解卷并在退卷机上卷绕。

3.如权利要求1和2所述的系统，其特征在于，真空室包括具有第一压力的绕组室和具有第二压力的PVD室。

4.如上述权利要求中任一权利要求所述的系统，其特征在于，退卷机也是另一个退卷机。

5.如上述权利要求中任一权利要求所述的系统，其特征在于，复卷机是另一个复卷机。

6.如上述权利要求中任一权利要求所述的系统，其特征在于，所述系统包括至少一个等离子体处理模块，所述等离子体处理模块定位适于产生等离子体。

7.如上述权利要求中任一权利要求所述的系统，其特征在于，滚筒的温度是动态可调的。

8.如上述权利要求中任一权利要求所述的系统，其特征在于，所述系统适于通过将所述基板暴露于所述PVD装置的加热舟中至少部分地脱气所述基板。

9.如上述权利要求中任一权利要求所述的系统，其特征在于，所述系统还包括测量辊。

10.如上述权利要求中任一权利要求所述的系统，其特征在于，所述系统还包括厚度测量单元。

11.如上述权利要求中任一权利要求所述的系统，其特征在于，所述系统可以在真空室中保持真空的同时，在退卷机和络筒机之间多次通过基板。

12.如上述权利要求中任一权利要求所述的系统，其特征在于，第一进料器设置在退卷机处，第二进料器设置在退卷机处，每个进料器适于保持基板的一部分以反转基板的处理方向。

13.如上述权利要求中任一权利要求所述的系统，还包括用于捕获脱气污染物的冷却系统。

14.如上述权利要求中任一权利要求所述的系统，其特征在于，所述系统连接到真空存储器，所述真空存储器能够存储来自真空室的真空的至少一部分。

15.使用系统对基底进行脱气和PVD处理的方法，该方法包括脱气阶段和物理气相沉积(PVD)阶段；

脱气阶段包括以下步骤：；

在真空室中的退卷机上安装一卷基板；

密封真空室并将真空室中的空气排出至预定压力；

将物理气相沉积(PVD)设备的涂层滚筒加热至10℃并激活加热船；

将基板辊穿过系统，使基板被涂布滚筒和加热船加热以使基板脱气；

加热后复卷基板

PVD级包括以下步骤：

展开基板并将基板传回系统，蒸发PVD源材料，使PVD源材料沉积在基板上；以及

将基板卷绕成卷。

16.如权利要求15所述的方法，其特征在于，所述衬底在PVD阶段沉积到PVD源之前通过预处理模块。

17.如权利要求15或16所述的方法，其特征在于，系统中的压力在PVD阶段降低。

18.如权利要求15至17中任一权利要求所述的方法，其特征在于，所述方法还包括测量沉积层的厚度。

19.如权利要求15至18中任一权利要求所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包括将所述基板通过后处理模块以提供对所述基板上的沉积的光洁度的步骤。

20.如权利要求15至19中任一权利要求所述的方法，其特征在于，所述系统适于执行两个脱气阶段。

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